JP2019152647A - 測量システム、測量システムの測量方法及び取り付け器具 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の第1実施形態に係る測量システム1は、図1に示すように、トータルステーション2と、レーザスキャナ3と、第1ターゲット4と、第2ターゲット5とを備える。トータルステーション2は、基準点(既知点)の上方に設置される。第1ターゲット4は、例えば反射板であり、第2ターゲット5は、例えば反射プリズム(360度反射プリズム)である。
本発明の第2実施形態に係る測量システム101は、図5に示すように、トータルステーション2と、レーザスキャナ3と、第1ターゲット4と、第2ターゲット5とを備える。トータルステーション2は、基準点(既知点)の上方に設置される。第1ターゲット4は、例えば反射板であり、第2ターゲット5は、例えば反射プリズム(360度反射プリズム)である。
2 トータルステーション
3 レーザスキャナ
4 第1ターゲット
5 第2ターゲット
10 取り付け器具
Claims (10)
- 既知点に設置されたトータルステーションと、レーザ光を出射してスキャニングを行い、測定対象物の3次元形状を測量可能なレーザスキャナとを備えた測量システムであって、
前記トータルステーションは、第1ターゲットを有しており、第2ターゲットに対して、測距光を出射し、前記第2ターゲットにおいて反射した反射光を受光して、前記既知点に対する前記第2ターゲットの座標を測定し、
前記レーザスキャナは、2箇所に設置された前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットに対して、レーザ光をそれぞれ出射してスキャニングを行い、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標を測定するものであって、
前記トータルステーションと前記第1ターゲットとの距離に基づいて、前記既知点に対する前記第1ターゲットの座標が取得されると共に、
前記既知点に対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標と、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標とに基づいて、前記既知点に対する前記レーザスキャナの座標が取得されることを特徴とする測量システム。 - 前記第1ターゲットは、前記トータルステーションの中心位置の上方に所定距離だけ離れて配置されることを特徴とする請求項1に記載の測量システム。
- 既知点に設置されたトータルステーションと、レーザ光を出射してスキャニングを行い、測定対象物の3次元形状を測量可能なレーザスキャナとを備えた測量システムであって、
前記トータルステーションは、第1ターゲットを有しており、第2ターゲットに対して、測距光を出射し、前記第2ターゲットにおいて反射した反射光を受光して、前記既知点に対する前記第2ターゲットの座標を測定し、
前記レーザスキャナは、前記第2ターゲットを有しており、前記第1ターゲットに対して、レーザ光を出射してスキャニングを行い、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲットの座標を測定するものであって、
前記トータルステーションと前記第1ターゲットとの距離に基づいて、前記既知点に対する前記第1ターゲットの座標が取得され、
前記レーザスキャナと前記第2ターゲットとの距離に基づいて、前記レーザスキャナに対する前記第2ターゲットの座標が取得されると共に、
前記既知点に対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標と、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標とに基づいて、前記既知点に対する前記レーザスキャナの座標が取得されることを特徴とする測量システム。 - 前記第1ターゲットは、前記トータルステーションの中心位置の上方に所定距離だけ離れて配置されると共に、
前記第2ターゲットは、前記レーザスキャナの中心位置の上方に所定距離だけ離れて配置されることを特徴とする請求項3に記載の測量システム。 - 請求項1〜4のいずれかに記載の測量システムに使用される取り付け器具であり、
前記第1ターゲットを前記トータルステーションに取り付け可能に構成されたことを特徴とする取り付け器具。 - 既知点に設置され且つ第1ターゲットを有するトータルステーションにより、第2ターゲットに対して、測距光を出射し、前記第2ターゲットにおいて反射した反射光を受光して、前記既知点に対する前記第2ターゲットの座標を測定する第1ステップと、
前記トータルステーションと前記第1ターゲットとの距離に基づいて、前記既知点に対する前記第1ターゲットの座標を取得する第2ステップと、
レーザスキャナにより、2箇所に設置された前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットに対して、レーザ光をそれぞれ出射してスキャニングを行い、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標を測定する第3ステップと、
前記既知点に対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標と、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標とに基づいて、前記基準点に対する前記レーザスキャナの座標を取得する第4ステップと、
前記レーザスキャナにより、レーザ光を出射してスキャニングを行い、測定対象物の3次元形状を測量する第5ステップとを備えることを特徴とする測量システムの測量方法。 - 前記第1ターゲットは、前記トータルステーションの中心位置の上方に所定距離だけ離れて配置されることを特徴とする請求項6に記載の測量システムの測量方法。
- 既知点に設置され且つ第1ターゲットを有するトータルステーションと前記第1ターゲットとの距離に基づいて、前記既知点に対する前記第1ターゲットの座標を取得する第1ステップと、
前記トータルステーションにより、第2ターゲットに対して、測距光を出射し、前記第2ターゲットにおいて反射した反射光を受光して、前記既知点に対する前記第2ターゲットの座標を測定する第2ステップと、
レーザスキャナにより、前記第1ターゲットに対して、レーザ光を出射してスキャニングを行い、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲットの座標を測定する第3ステップと、
前記レーザスキャナと前記第2ターゲットとの距離に基づいて、前記レーザスキャナに対する前記第2ターゲットの座標を取得する第4ステップと、
前記既知点に対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標と、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標とに基づいて、前記基準点に対する前記レーザスキャナの座標を取得する第5ステップと、
前記レーザスキャナにより、レーザ光を出射してスキャニングを行い、測定対象物の3次元形状を測量する第6ステップとを備えることを特徴とする測量システムの測量方法。 - 前記第1ターゲットは、前記トータルステーションの中心位置の上方に所定距離だけ離れて配置されると共に、
前記第2ターゲットは、前記レーザスキャナの中心位置の上方に所定距離だけ離れて配置されることを特徴とする請求項8に記載の測量システムの測量方法。 - 請求項6〜9のいずれかに記載の測量システムの測量方法に使用される取り付け器具であり、
前記第1ターゲットを前記トータルステーションに取り付け可能に構成されたことを特徴とする取り付け器具。
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