JP7116668B2 - 測量システム、測量システムの測量方法及び取り付け器具 - Google Patents
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Description
本発明の第1実施形態に係る測量システム1は、図1に示すように、トータルステーション2と、レーザスキャナ3と、第1ターゲット4と、第2ターゲット5とを備える。トータルステーション2は、基準点(既知点)の上方に設置される。第1ターゲット4は、例えば反射板であり、第2ターゲット5は、例えば反射プリズム(360度反射プリズム)である。
本発明の第2実施形態に係る測量システム101は、図5に示すように、トータルステーション2と、レーザスキャナ3と、第1ターゲット4と、第2ターゲット5とを備える。トータルステーション2は、基準点(既知点)の上方に設置される。第1ターゲット4は、例えば反射板であり、第2ターゲット5は、例えば反射プリズム(360度反射プリズム)である。
2 トータルステーション
3 レーザスキャナ
4 第1ターゲット
5 第2ターゲット
10 取り付け器具
Claims (4)
- 既知点に設置されたトータルステーションと、レーザ光を出射してスキャニングを行い、測定対象物の3次元形状を測量可能なレーザスキャナとを備えた測量システムであって、
前記トータルステーションは、2箇所に設置された第1ターゲット及び第2ターゲットに対して、測距光をそれぞれ出射し、各ターゲットにおいて反射した反射光を受光して、前記既知点に対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標を測定し、
前記レーザスキャナは、前記第2ターゲットを有しており、前記第1ターゲットに対して、レーザ光を出射してスキャニングを行い、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲットの座標を測定するものであって、
前記レーザスキャナと前記第2ターゲットとの距離に基づいて、前記レーザスキャナに対する前記第2ターゲットの座標が取得されると共に、
前記既知点に対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標と、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標とに基づいて、前記既知点に対する前記レーザスキャナの座標が取得されることを特徴とする測量システム。 - 前記第2ターゲットは、前記レーザスキャナの中心位置の上方に所定距離だけ離れて配置されることを特徴とする請求項1に記載の測量システム。
- 既知点に設置されたトータルステーションにより、2箇所に設置された第1ターゲット及び第2ターゲットに対して、測距光をそれぞれ出射し、各ターゲットにおいて反射した反射光を受光して、前記既知点に対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標を測定する第1ステップと、
前記第2ターゲットを有するレーザスキャナにより、前記第1ターゲットに対して、レーザ光を出射してスキャニングを行い、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲットの座標を測定する第2ステップと、
前記レーザスキャナと前記第2ターゲットとの距離に基づいて、前記レーザスキャナに対する前記第2ターゲットの座標を取得する第3ステップと、
前記既知点に対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標と、前記レーザスキャナに対する前記第1ターゲット及び前記第2ターゲットの座標とに基づいて、前記既知点に対する前記レーザスキャナの座標を取得する第4ステップと、
前記レーザスキャナにより、レーザ光を出射してスキャニングを行い、測定対象物の3次元形状を測量する第5ステップとを備えることを特徴とする測量システムの測量方法。 - 前記第2ターゲットは、前記レーザスキャナの中心位置の上方に所定距離だけ離れて配置されることを特徴とする請求項3に記載の測量システムの測量方法。
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