JP2019106409A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下、図面を参照しながら実施の形態1の半導体装置について詳細に説明する。本実施の形態1の半導体装置は、GGEE型構造を基本構造として開発された新しい構造のIE型IGBTを備えた半導体装置である。
図1は、本実施の形態の半導体装置である半導体チップCHPの平面図である。図1では、理解を簡単にするために、保護膜PIQ(図3参照)を透過した状態を示し、平面図であるが、ゲート電位電極GEおよびエミッタ電位電極EEにハッチングを付している。
実施の形態1の変形例の半導体装置を、図5および図6を用いて以下に説明する。
以下に、図7〜図14を用いて、実施の形態1の半導体装置の製造方法について説明する。図7〜図14は、図3に示されるA−A断面の製造工程である。なお、上述の変形例の半導体装置の製造方法は、ゲート電極G2の平面形状を除き、実施の形態1と同様である。
以下に、図24〜図29を用いて、本願発明者が検討した検討例の半導体装置を説明する。
式(1)から、入力容量Ciesの増加は、容量Cgeの増加による影響が大きいことが判る。
以下に、本実施の形態の半導体装置の主な特徴および効果を、図15〜図17などを用いて、上述の検討例と比較して説明する。
実施の形態2の半導体装置を、図18〜図21を用いて以下に説明する。
実施の形態3の半導体装置を、図22および図23を用いて以下に説明する。
10、10H、10L IGBTモジュール
11 ダイオードモジュール
12 IGBTチップ
13 ダイオード
AC アクティブセル領域
AS 交流信号源
CE コレクタ電位電極
Cgc、Cge、Cec、Cefp、Cfpc 容量
CH1〜CH3 コンタクトホール
CHP 半導体チップ
CTC1、CTC2 制御回路
Di ボディダイオード
FG 導電性膜
EE エミッタ電位電極
EP エミッタパッド
G1、G2 ゲート電極
G2a ゲート引き出し部
G2b 接続部
GE ゲート電位電極
GF ゲート絶縁膜
GND 接地電位
GP ゲートパッド
HEC、HECa ホール排出セル領域
HEC1 第1箇所(ホール排出セル領域)
HEC2 第2箇所(ホール排出セル領域)
IAC インアクティブセル領域
IL 層間絶縁膜
INV インバータ
L1、L2 距離
MOT モータ
NB 不純物領域
ND ドリフト領域
NE エミッタ領域
NHB ホールバリア領域
NS フィールドストップ領域
PB ベース領域
PF フローティング領域
PH1 U相
PH2 V相
PH3 W相
PIQ 保護膜
PM1、PM2 パワーモジュール
PR ボディ領域
Rb、Rce、Rg 抵抗
SB 半導体基板
T1、T2 トレンチ
TM1、TM2 入力端子
Vcc 電源電圧(コレクタ電圧)
Claims (20)
- 第1領域、および、前記第1領域とは異なる領域である第2領域を有する半導体装置であって、
前記第1領域および前記第2領域において、半導体基板に形成された第1導電型の第1不純物領域と、
前記第1領域および前記第2領域において、前記第1不純物領域に形成され、且つ、前記第1導電型とは反対の導電型である第2導電型の第2不純物領域と、
前記第1領域において、前記第2不純物領域に形成された前記第1導電型の第3不純物領域と、
前記第1領域および前記第2領域において、前記第1不純物領域よりも下部の前記半導体基板に形成された前記第2導電型の第4不純物領域と、
前記第1領域において、前記第2不純物領域および前記第3不純物領域を貫通し、前記第1不純物領域に達する第1トレンチと、
前記第1トレンチの内壁に形成された第1ゲート絶縁膜と、
前記第1トレンチ内に埋め込まれるように、前記第1ゲート絶縁膜上に形成された第1ゲート電極と、
ゲート電位を供給するためのゲート電位電極と、
エミッタ電位を供給するためのエミッタ電位電極と、
コレクタ電位を供給するためのコレクタ電位電極と、
を有し、
平面視において、前記第1ゲート電極は、第1方向に延在しており、
平面視において、前記第3不純物領域は、前記第2不純物領域によって前記第1方向で互いに分離されるように、複数形成されており、
前記第2領域は、
前記第2不純物領域を貫通し、前記第1不純物領域に達する第2トレンチと、
前記第2トレンチの内壁に形成された第2ゲート絶縁膜と、
前記第2トレンチ内に埋め込まれるように、前記第2ゲート絶縁膜上に形成され、且つ、平面視において、前記第2領域の前記第2不純物領域の一部を囲むように形成された環状の第2ゲート電極と、
を有する第3領域を複数含み、
平面視において、前記複数の第3領域は、前記第1方向に沿って、互いに離間して配置されており、
前記複数の第3領域の前記第2不純物領域には、それぞれ前記第3不純物領域が形成されておらず、
前記第1ゲート電極は、前記ゲート電位電極と電気的に接続し、
前記第4不純物領域は、前記コレクタ電位電極と電気的に接続し、
前記第1領域の前記第2不純物領域および前記複数の第3不純物領域、前記複数の第3領域の各々の前記第2不純物領域、並びに、前記第2ゲート電極は、前記エミッタ電位電極と電気的に接続している、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記複数の第3領域の前記半導体基板上には、層間絶縁膜が形成され、
前記層間絶縁膜には、複数の第1コンタクトホールが形成され、
前記複数の第1コンタクトホールは、それぞれ、前記第2ゲート電極に囲まれた前記第2不純物領域に到達し、
前記エミッタ電位電極は、前記複数の第1コンタクトホール内を埋め込むように形成されている、半導体装置。 - 請求項2記載の半導体装置において、
前記第2ゲート電極の一部は、前記第2トレンチの外部に引き出され、ゲート引き出し部を構成しており、
前記層間絶縁膜は、前記ゲート引き出し部を覆うように形成されており、
前記層間絶縁膜には、前記ゲート引き出し部に到達する第2コンタクトホールが形成されており、
前記エミッタ電位電極は、前記第2コンタクトホール内を埋め込むように形成されている、半導体装置。 - 請求項3記載の半導体装置において、
前記複数の第3領域の各々は、第1箇所と第2箇所とに分けられ、
前記第1箇所および前記第2箇所は、それぞれ環状の前記第2ゲート電極を有し、
前記第1箇所の前記第2ゲート電極、および、前記第2箇所の前記第2ゲート電極は、前記ゲート引き出し部を介して接続している、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第2領域の前記第1不純物領域には、平面視で、前記第1方向と直交する第2方向で隣接する前記第1領域と前記第3領域との間、および、平面視で、前記第1方向で互いに隣接する前記第3領域間に、前記第2不純物領域よりも低い不純物濃度を有し、且つ、前記第1トレンチの底部および前記第2トレンチの底部よりも深い位置まで達する、前記第2導電型の第5不純物領域が形成されている、半導体装置。 - 請求項5記載の半導体装置において、
平面視において、前記第2方向で隣接する前記第1領域と前記第3領域との間に形成されている前記第5不純物領域を分断するように、前記第1不純物領域よりも高い不純物濃度を有する前記第1導電型の第6不純物領域が形成されている、半導体装置。 - 請求項5記載の半導体装置において、
前記第1領域において、前記第1ゲート電極は2つ形成されており、
平面視において、前記第1領域の前記第2不純物領域および前記複数の第3不純物領域は、2つの前記第1ゲート電極間に形成されている、半導体装置。 - 請求項7記載の半導体装置において、
平面視において、前記第1方向で互いに隣接する前記第3領域間の距離をL2とし、前記第2方向で隣接する前記第1領域と前記第3領域との間の距離をL1としたとき、L2はL1よりも大きい、半導体装置。 - 請求項8記載の半導体装置において、
前記第2方向において、前記第1領域の幅をW1とし、前記第3領域の幅をW3としたとき、W3はW1以上である、半導体装置。 - 請求項8記載の半導体装置において、
前記第2方向において、前記第1領域の幅をW1とし、前記第2領域の幅をW2としたとき、W1:W2は、1:5〜1:9の範囲内である、半導体装置。 - 請求項10記載の半導体装置において、更に、
前記第1領域を2つ有し、
前記第2方向において、前記第2領域の幅であるW2は、一方の前記第1領域と前記第3領域との間に形成された前記第5不純物領域の幅であるW4、前記第3領域の幅であるW3、および、他方の前記第1領域と前記第3領域との間に形成された前記第5不純物領域の幅であるW5によって構成され、
W1:W4:W3:W5は、1:2:1:2〜1:4:1:4の範囲内である、半導体装置。 - 請求項8記載の半導体装置において、
L1:L2は、1:6〜1:11の範囲内である、半導体装置。 - 請求項8記載の半導体装置において、
前記第1領域の単位面積に対する前記半導体装置の入力容量は、140pF/mm2以下である、半導体装置。 - 請求項5記載の半導体装置において、
前記第1領域における2つの前記第1ゲート電極間の前記第1不純物領域、および、前記第3領域において、前記第2ゲート電極に囲まれた前記第1不純物領域には、前記第2不純物領域よりも下部に位置し、前記第1不純物領域よりも高い不純物濃度を有し、且つ、前記第3不純物領域よりも低い不純物濃度を有する前記第2導電型の第7不純物領域が、それぞれ形成されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1導電型は、n型であり、
前記第2導電型は、p型である、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記半導体装置からなる半導体チップを複数備え、
前記複数の半導体チップの各々の前記エミッタ電位電極は、互いに電気的に接続され、
前記複数の半導体チップの各々の前記コレクタ電位電極は、互いに電気的に接続されている、半導体装置。 - 第1領域と、前記第1領域とは異なる領域であり、且つ、複数の第3領域を含む第2領域とを有する半導体装置の製造方法であって、
(a)前記第1領域および前記第2領域において、半導体基板に、第1導電型の第1不純物領域を形成する工程、
(b)前記第1領域の前記第1不純物領域に、平面視において第1方向に延在する第1トレンチを形成し、前記複数の第3領域の前記第1不純物領域の各々に、平面視において環状の第2トレンチを形成する工程、
(c)前記第1トレンチの内壁に、第1ゲート絶縁膜を形成し、前記第2トレンチの内壁に、第2ゲート絶縁膜を形成する工程、
(d)前記第1トレンチ内を埋め込むように、前記第1ゲート絶縁膜上に第1ゲート電極を形成し、前記第2トレンチ内を埋め込むように、前記第2ゲート絶縁膜上に第2ゲート電極を形成する工程、
(e)前記第1領域、前記第2領域および前記第3領域において、前記第1不純物領域に、前記第1導電型とは反対の導電型である第2導電型の第2不純物領域を形成する工程、
(f)前記第1領域の前記第2不純物領域内に、前記第1導電型であり、且つ、前記第1不純物領域よりも高い不純物濃度を有する複数の第3不純物領域を形成する工程、
(g)前記第1不純物領域よりも下部の前記半導体基板に、前記第2導電型の第4不純物領域を形成する工程、
(h)前記第1ゲート電極と電気的に接続するゲート電位電極を形成する工程、
(i)前記第1領域の前記第2不純物領域および前記複数の第3不純物領域、前記第3領域の前記第2不純物領域、並びに、前記第2ゲート電極と電気的に接続するエミッタ電位電極を形成する工程、
(j)前記第4不純物領域と電気的に接続するコレクタ電位電極を形成する工程、
を有し、
前記複数の第3不純物領域は、前記第2不純物領域によって前記第1方向で互いに分離されるように形成され、
平面視において、前記複数の第3領域は、前記第1方向に沿って、互いに離間して配置される、半導体装置の製造方法。 - 請求項17記載の半導体装置の製造方法において、
前記第3領域は、第1箇所と第2箇所とに分けられ、
前記第1箇所および前記第2箇所は、それぞれ環状の前記第2ゲート電極を有し、
前記第1箇所の前記第2ゲート電極、および、前記第2箇所の前記第2ゲート電極は、前記第2トレンチの外部に形成され、且つ、前記第2ゲート電極と一体化しているゲート引き出し部を介して接続している、半導体装置の製造方法。 - 請求項17記載の半導体装置の製造方法において、更に、
(k)前記(e)工程前に、前記第2領域において、平面視で、前記第1方向と直交する第2方向で隣接する前記第1領域と前記第3領域との間、および、平面視で、前記第1方向で互いに隣接する前記第3領域間に形成されている前記第1不純物領域に、前記第2導電型であり、前記第2不純物領域よりも低い不純物濃度を有し、且つ、前記第1トレンチの底部および前記第2トレンチの底部よりも深い位置まで達する第5不純物領域を形成する工程、
(l)平面視において、前記第2方向で隣接する前記第1領域と前記第3領域との間に形成されている前記第5不純物領域を分断するように、前記第1不純物領域に、前記第1導電型であり、且つ、前記第1不純物領域よりも高い不純物濃度を有する第6不純物領域を形成する工程、
を有し、
前記(e)工程において、前記第2領域の前記第2不純物領域は、前記第5不純物領域の上部、および、前記第6不純物領域の上部に形成される、半導体装置の製造方法。 - 請求項17記載の半導体装置の製造方法において、
平面視において、前記第1方向で互いに隣接する前記第3領域間の距離をL2とし、前記第1方向と直交する第2方向で隣接する前記第1領域と前記第3領域との間の距離をL1とするとき、L2はL1よりも大きい、半導体装置の製造方法。
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