JP2019098245A - 光触媒の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】添加剤を添加する必要がないため添加剤由来の不純物が混入することがなく、またpHを調整する必要がなく、極めて簡便な手法でSn3O4粉末を含む光触媒を製造できる、光触媒の製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、錫と酸素とがモル比で3:4であるSn3O4粉末を含む光触媒を製造する方法である。本発明の特徴ある構成は、出発原料としてのSnO粉末の平均粒径が0.1μm〜30μmであり、このSnO粉末を大気雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で、3℃/分〜15℃/分の速度で450℃〜550℃の範囲内の所定温度まで昇温し、この温度に0.5時間〜12時間保持した後に、0.5℃/分〜3℃/分の速度で室温まで降温して焼成する出発原料としてのSnO粉末を大気雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で450℃〜550℃の温度に保持して焼成するところにある。【選択図】図1

Description

本発明は、Sn34粉末を含む可視光応答型の光触媒を製造する方法に関するものである。
従来、先ず原料と界面活性剤を水中に分散して分散液を調製し、次にこの分散液中にNaOH水溶液を加えてアルカリ性分散液を調製し、更にこのアルカリ性分散液を加熱して光触媒を水熱合成する、光触媒の製造方法が開示されている(例えば、特許文献1参照。)。この光触媒の製造方法では、原料がSnCl2・2H2Oである。
このように構成された光触媒の製造方法では、原料のSnCl2・2H2Oと界面活性剤を水中に分散して分散液を調製し、この分散液中にNaOH水溶液を加えてアルカリ性分散液を調製し、更にこのアルカリ性分散液を加熱して光触媒を水熱合成するので、毒性がなく、年生産量も高い材料であるSnを主成分とし、可視光を吸収可能なバンドギャップと、バレンスバンドとコンダクションバンドのエネルギ値の間にアルコール水溶液中のH+を効率的にH2に変える基準電位を存在させることができる。この結果、可視光の照射でアルコール水溶液から水素を発生できる光触媒を容易にかつ大量に製造できる。
特開2015−157282号公報(請求項3及び4、段落[0011])
しかし、上記従来の特許文献1に示された光触媒の製造方法では、原料のSnCl2・2H2Oに添加剤(界面活性剤)を添加し、かつ分散液のpHを調整する必要があるため、工数が増大し、また光触媒に添加物由来の不純物が混入するおそれがあった。また、合成法として用いられている「水熱合成法」は、量産化対応として、設備の大型化に困難が伴うことが予想される。
本発明の目的は、添加剤を添加する必要がないため添加剤由来の不純物が混入することがなく、またpHを調整する必要がなく、極めて簡便な手法でSn34粉末を含む光触媒を製造できる、光触媒の製造方法を提供することにある。
本発明の第1の観点は、錫と酸素とがモル比で3:4であるSn34粉末を含む光触媒の製造方法において、出発原料としてのSnO粉末の平均粒径が0.1μm〜30μmであり、このSnO粉末を大気雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で、3℃/分〜15℃/分の速度で450℃〜550℃の範囲内の所定温度まで昇温し、この温度に0.5時間〜12時間保持した後に、0.5℃/分〜3℃/分の速度で室温まで降温して焼成することを特徴とする。
本発明の第1の観点の光触媒の製造方法では、SnO粉末を大気雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で3℃/分〜15℃/分の速度で450℃〜550℃まで昇温し、この温度に0.5時間〜12時間保持した後に、0.5℃/分〜3℃/分の速度で室温まで降温して焼成することにより、Sn34粉末を含む光触媒を製造したので、極めて簡便な手法でSn34粉末を含む光触媒を製造できる。即ち、原料のSnCl2・2H2Oに添加剤(界面活性剤)を添加し、かつ分散液のpHを調整する必要があるため、工数が増大し、また光触媒に添加物由来の不純物が混入するおそれがあった従来の光触媒の製造方法と比較して、本発明では、添加剤を添加する必要がないため添加剤由来の不純物が混入することがなく、またpHを調整する必要がなく、極めて簡便な手法でSn34粉末を含む光触媒を製造できる。また、出発原料のSnO粉末や製品のSn34粉末は、安全かつ無害であり、しかも比較的安価であるので、Sn34粉末を含む光触媒を極めて容易に製造できる。この結果、Sn34粉末を含む光触媒の量産化を極めて簡便に行うことができる。更に、Sn34粉末を含む光触媒は可視光応答型の光触媒であるため、この光触媒が大気浄化、脱臭、浄水、抗菌、防汚等の機能を発揮するときに、太陽光や室内照明等を利用できる。この結果、エネルギの消費が全くないか或いは僅かで済む。
実施例1〜3の焼成粉末を粉末X線回折法で測定したときの回折角度(2θ)と回折強度との関係を示す図である。
次に本発明を実施するための形態を説明する。光触媒は、錫と酸素とがモル比で3:4であるSn34粉末を含む。この光触媒を製造するには、先ず、出発原料としてSnO粉末(酸化第一錫粉末)を用意する。次に、このSnO粉末を大気雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で450℃〜550℃、好ましくは475℃〜525℃の温度に保持して焼成する。ここで、SnO粉末の焼成温度を450℃〜550℃の範囲内に限定したのは、450℃未満ではSn34粉末の生成できず、550℃を超えると酸化が進んで全てSnO2粉末になってしまうからである。なお、不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス、又はこれらの混合ガス等が挙げられる。
また、上記焼成時の昇温速度が3℃/分〜15℃/分であり、8℃/分〜10℃/分であることが好ましく、焼成時の降温速度が0.5℃/分〜3℃/分であり、1℃/分〜2℃/分であることが好ましい。更に、SnO粉末の平均粒径が0.1μm〜30μmであり、1μm〜15μmであることが好ましく、焼成温度に保持する時間が0.5時間〜12時間であり、4時間〜8時間であることが好ましい。なお、SnO粉末の平均粒径は、粒度分布測定装置(堀場製作所製LA−950)を用いて測定した粒径であり、体積基準平均粒径である。
ここで、焼成時の昇温速度を3℃/分〜15℃/分の範囲内に限定したのは、3℃/分未満では、Sn34粉末を生成するための時間が必要以上に掛かり過ぎて生産効率が低下し、15℃/分を超えると、SnO粉末が急激な表面温度上昇により焼結してしまうおそれがあるからである。また、焼成時の降温速度を0.5℃/分〜3℃/分の範囲内に限定したのは、0.5℃/分未満では、Sn34粉末を生成するための時間が必要以上に掛かり過ぎて生産効率が低下し、3℃/分を超えると、急速な冷却のために冷却設備の増強及びその運用電力に多大なコストの増加が生じるからである。また、SnO粉末の平均粒径を0.1μm〜30μmの範囲内に限定したのは、0.1μm未満では、SnO粉末のハンドリングが困難になり、30μmを超えると、相対的に酸化反応が可能となる表面積が小さくなるため、Sn34粉末の収率が低下してしまうからである。更に、焼成温度に保持する時間を0.5時間〜12時間の範囲内に限定したのは、0.5時間未満では、酸化反応が不十分であるため、Sn34粉末の収率が低下してしまい、12時間を超えると、一旦生成されたSn34粉末がSnO2粉末になってしまうからである。
このようにSnO粉末を大気雰囲気中で450℃〜550℃の温度に保持して焼成するだけでSn34粉末を含む光触媒を製造できるので、添加剤を添加する必要がないため添加剤由来の不純物が混入することがなく、またpHを調整する必要がなく、極めて簡便な手法でSn34粉末を含む光触媒を製造できる。また、出発原料のSnO粉末や製品のSn34粉末は、安全かつ無害であり、しかも比較的安価であるので、Sn34粉末を含む光触媒を極めて容易に製造できる。この結果、Sn34粉末を含む光触媒の量産化を極めて簡便に行うことができる。
更に、Sn34粉末を含む光触媒は、次の大気浄化、脱臭、浄水、抗菌、防汚等の機能を発揮できる。
(1) 大気浄化機能
Sn34粉末を含む光触媒を建物の外壁、道路遮音壁等に塗布して外壁等の表面に分散した状態で固定されると、この外壁等に太陽光が照射されたときに、外壁等に塗布された光触媒が大気中のNOx、SOx、ホルムアルデヒド等と反応してこれらの有害物質を分解して除去する。
(2) 脱臭機能
Sn34粉末を含む光触媒を壁紙、カーテン、空気清浄機のフィルタ等の表面に塗布して壁紙等に分散した状態で固定されると、これらに室内灯等が照射されたときに、壁紙等に塗布された光触媒が室内等で発生するアセトアルデヒド、アンモニア、硫化水素等と反応してこれらの悪臭の発生物質を分解して除去する。
(3) 浄水機能
Sn34粉末を含む光触媒を浄水器のフィルタ、排水処理のフィルタ等の表面に塗布してフィルタ等に分散した状態で固定されると、これらのフィルタに所定の可視光が照射されたときに、フィルタ等に塗布された光触媒が水中に溶解した汚染物質であるテトラクロロエチレン、トリクロロエチレンなどの揮発性有機塩素化合物を分解して除去する。
(4) 抗菌機能
Sn34粉末を含む光触媒をタイル、トイレ、台所用品等に塗布してタイル等の表面に分散した状態で固定されると、これらに室内灯等が照射されたときに、タイル等に塗布された光触媒がタイル等に付着した菌を分解して除去する。
(5) 防汚機能
Sn34粉末を含む光触媒を建物の外壁、窓ガラス等に塗布して外壁等の表面に分散した状態で固定されると、外壁等に太陽光が照射されると、外壁等に塗布された光触媒が外壁等に付着した油分等を分解して除去する。
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
<実施例1>
先ず、平均粒径10μmのSnO(酸化第一錫)粉末を用意した。次いで、このSnO粉末1gを、アルミナ製の焼成ボートの凹部に全体に均一になるように広げて入れた。次に、このボートを大気雰囲気のまま汎用焼成炉内に入れて、室温から500℃まで8℃/分の速度で昇温した後、500℃(焼成温度)に12時間保持して、SnOを焼成した。更に、12時間経過後に加熱を終了し、1℃/分の速度で室温まで降温して、炉内からボートを取り出した。このボート内の焼成粉末を実施例1とした。
<実施例2〜10及び比較例1〜8>
実施例2〜10及び比較例1〜8の焼成粉末は、表1に示すように、SnO粉末の平均粒径、焼成時の昇温速度、降温速度、雰囲気ガスの種類及び焼成時間をそれぞれ変えて作製した。
<比較試験1及び評価>
実施例1〜10及び比較例1〜8の焼成粉末の同定を、粉末X線回折装置(PANalytical社製:Empyrean)を用いて行った。その結果を表1及び図1に示す。また、実施例1〜10及び比較例1〜8の焼成粉末を光学顕微鏡で観察して、Sn34粉末の生成を示すオレンジ色の粉末があるか否かを調べた。その結果を表1に示す。
Figure 2019098245
<評価>
表1から明らかなように、原料の焼成温度が425℃と低すぎた比較例1の焼成粉末では、SnO粉末に基づく回折ピークを確認できたけれども、Sn34粉末に基づく回折ピーク及びSnO2に基づく回折ピークを確認できず、またSn34粉末の生成を示すオレンジ色の粉末も確認できなかった。また、原料の焼成温度が575℃と高すぎた比較例2の焼成粉末では、SnO2粉末に基づく回折ピークを確認できたけれども、Sn34粉末に基づく回折ピーク及びSnO粉末に基づく回折ピークを確認できず、またSn34粉末の生成を示すオレンジ色の粉末も確認できなかった。
これらに対し、原料の焼成温度が450℃、500℃及び550℃と適切な範囲(450℃〜550℃)内である実施例1〜3の焼成粉末では、Sn34粉末に基づく回折ピークを確認でき、またSn34粉末の生成を示すオレンジ色の粉末も確認できた。また、図1から明らかなように、原料の焼成温度が450℃、500℃及び550℃と適切な範囲(450℃〜550℃)内である実施例1〜3の焼成粉末では、Sn34粉末に基づく回折ピークを確認できた、即ち回折角度2θが約30.6度、約31.6度又は約32.0度近辺であるときに回折強度がピーク値を示すことを確認できた。なお、原料の焼成温度が450℃である実施例2の焼成粉末では、未反応のSnOに基づく回折ピークが強いことが確認され、原料の焼成温度が550℃である実施例3の焼成粉末では、より酸化の進んだSnO2に基づく回折ピークが強いことが確認された。また、水を入れたフラスコを5個用意し、これらのフラスコに実施例1〜3、比較例1及び比較例2の焼成粉末をそれぞれ入れた後にメタノール(犠牲剤:光触媒と反応することで自ら分解しつつ、反応を促進させる化合物)を入れて撹拌しながら可視光を照射したところ、比較例1及び比較例2の焼成粉末では水素ガスが発生しなかったのに対し、実施例1〜3の焼成粉末では水素ガスが発生したことを、熱伝導度検出器(TCD)付きガスクロマトグラフ装置(島津製作所社製:GC-8A)により確認できた。
一方、焼成時の昇温速度が2.5℃/分と適切な範囲より僅かに下回った比較例3では、昇温速度が遅く所定の焼成温度に到達するまでに時間が掛ったため酸化が進みSnO2のみが生成しており、焼成時の昇温速度が16℃/分と適切な範囲より僅かに上回った比較例4では、昇温速度が速すぎたために、原料粉末表面の酸化が進み、内部は原料SnOが残留し、表層付近はSnO2まで酸化が進んだ。これらに対し、焼成時の昇温速度が3℃/分と適切な範囲の下限値であった実施例4では、目的とするSn34の生成を確認でき、焼成時の昇温速度が15℃/分と適切な範囲の上限値であった実施例5では、酸化の進んだSnO2の存在量も多かったけれども、Sn34の生成を確認できた。
また、焼成時の降温速度が0.4℃/分と適切な範囲より僅かに下回った比較例5では、降温速度が遅いために高温域での酸化も進むため、SnO2の生成が顕著となり、焼成時の降温速度が3.5℃/分と適切な範囲より僅かに上回った比較例6では、急冷によりSn34の不均化反応と推察されるSnO2の生成が見られた。これらに対し、焼成時の降温速度が0.5℃/分と適切な範囲の下限値であった実施例6では、Sn34及びSnO2が確認され、焼成時の降温速度が3℃/分と適切な範囲の上限値であった実施例7では、実施例6と同様にSn34及びSnO2が確認された。
また、焼成温度に保持する時間が0.4時間と適切な範囲より僅かに下回った比較例7では、焼成不十分のために未反応の原料SnOのみが確認され、焼成温度に保持する時間が13時間と適切な範囲より僅かに上回った比較例8では、焼成が進みすぎるためにSnO2のみが確認された。これらに対し、焼成温度に保持する時間が0.5時間と適切な範囲の下限値であった実施例8では、Sn34の生成を確認でき、焼成温度に保持する時間が12時間と適切な範囲の上限値であった実施例9では、原料SnO粉末の粒径が1μmと比較的小さくてもSn34の生成を確認できた。
更に、焼成時の雰囲気ガスを窒素ガスとした実施例10では、原料SnOの酸化に必要な酸素量が不十分であったため、SnO2の生成は見られなかったけれども、不均化反応によると思われるSn34の生成が確認された。
本発明の方法で製造された光触媒は、大気中の汚染物質を無害化するため、或いは異臭を発生する有機物を分解するために壁等に塗布されて、可視光の照射により触媒機能を発揮する光触媒として利用できる。
更に、Sn34粉末を含む光触媒は、次の大気浄化、脱臭、浄水、抗菌、防汚等の機能を発揮できる。
(1) 大気浄化機能
Sn34粉末を含む光触媒を建物の外壁、道路遮音壁等に塗布して外壁等の表面に分散した状態で固定されると、この外壁等に太陽光が照射されたときに、外壁等に塗布された光触媒が大気中のNOx、SOx、ホルムアルデヒド等と反応してこれらの有害物質を分解して除去する。
(2) 脱臭機能
Sn34粉末を含む光触媒を壁紙、カーテン、空気清浄機のフィルタ等の表面に塗布して壁紙等に分散した状態で固定されると、これらに室内灯等が照射されたときに、壁紙等に塗布された光触媒が室内等で発生するアセトアルデヒド、アンモニア、硫化水素等と反応してこれらの悪臭の発生物質を分解して除去する。
(3) 浄水機能
Sn34粉末を含む光触媒を浄水器のフィルタ、排水処理のフィルタ等の表面に塗布してフィルタ等に分散した状態で固定されると、これらのフィルタに所定の可視光が照射されたときに、フィルタ等に塗布された光触媒が水中に溶解した汚染物質であるテトラクロロエチレン、トリクロロエチレンなどの揮発性有機塩素化合物を分解して除去する。
(4) 抗菌機能
Sn34粉末を含む光触媒をタイル、トイレ、台所用品等に塗布してタイル等の表面に分散した状態で固定されると、これらに室内灯等が照射されたときに、タイル等に塗布された光触媒がタイル等に付着した菌を分解して除去する。
(5) 防汚機能
Sn34粉末を含む光触媒を建物の外壁、窓ガラス等に塗布して外壁等の表面に分散した状態で固定されると、外壁等に太陽光が照射されたときに、外壁等に塗布された光触媒が外壁等に付着した油分等を分解して除去する。

Claims (1)

  1. 錫と酸素とがモル比で3:4であるSn34粉末を含む光触媒の製造方法において、
    出発原料としてのSnO粉末の平均粒径が0.1μm〜30μmであり、
    前記SnO粉末を大気雰囲気又は不活性ガス雰囲気中で、3℃/分〜15℃/分の速度で450℃〜550℃の範囲内の所定温度まで昇温し、この温度に0.5時間〜12時間保持した後に、0.5℃/分〜3℃/分の速度で室温まで降温して焼成することを特徴とする光触媒の製造方法。
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