JP2019075413A5 - - Google Patents

Description

この発明は、水平姿勢に保持されている基板の上面に設定された液滴供給位置に向けて液滴ノズルから処理液液滴を噴射して、前記基板の上面を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程に続いて、前記基板の上面の予め定める着液位置に向けてリンス液ノズルから連続流状のリンス液を吐出して、前記基板の上面をリンス液で洗い流すリンス工程と、前記洗浄工程から前記リンス工程への移行において、前記着液位置に着液するリンス液が前記液滴供給位置に到達する前のタイミングで、前記液滴ノズルからの前記処理液液滴の吐出を停止させる液滴吐出停止工程とを含む、基板処理方法を提供する。

この発明の一実施形態では、前記液滴ノズルが、処理液に気体を混合して前記処理液液滴を生成し、生成された前記処理液液滴を前記液滴供給位置に吐出する複数流体ノズルを含む。そして、前記液滴吐出停止工程が、前記着液位置に着液するリンス液が前記液滴供給位置に到達する前のタイミングで、前記複数流体ノズルへの前記気体の供給を停止させる気体供給停止工程を含む。

この方法によれば、複数流体ノズルを液滴ノズルとして用いる場合には、複数流体ノズルへの気体の供給を停止させることによって、液滴ノズルからの処理液液滴の吐出停止を実現することができる。
この発明の一実施形態では、前記液滴吐出停止工程が、前記リンス液ノズルからリンス液が吐出される前のタイミング、または前記リンス液ノズルからリンス液が吐出されるのと同時のタイミングで、前記液滴ノズルからの前記処理液液滴の吐出を停止させる工程を含む。

この発明の一実施形態では、前記着液位置が、前記基板の上面の中央部に設けられている。そして、前記液滴供給位置が前記基板の周縁領域に配置されている状態で、前記リンス工程が開始する。
この方法によれば、リンス工程の開始時において、液滴供給位置が基板の周縁領域に配置されている。リンス工程においては、基板の上面の中央部に向けて連続流状のリンス液が供給される。このような場合において、液跳ねの発生を抑制または防止できる。

この発明の一実施形態では、前記洗浄工程が、前記リンス工程における前記リンス液ノズルからのリンス液の吐出流量よりも少ない吐出流量で、保護液ノズルから保護液を吐出する工程を含む。
この方法によれば、洗浄工程において、保護液ノズルから保護液が吐出される。液滴供給位置をこの保護液が覆うことにより、洗浄工程において、液滴供給位置に処理液液滴が直接噴射されることを防止することができる。また、保護液ノズルから保護液の吐出流量が小流量であるので、保護液ノズルから供給される保護液に処理液液滴が噴射されることに伴っては、液跳ねはそれほど発生しない。これにより、液跳ねの発生を抑制または防止しながら、基板の上面（表面）のダメージを低減できる。

さらには、洗浄工程において保護液を供給するので、基板の上面の液切れを防止することができる。これにより、洗浄工程において、基板の上面の全域を液膜で覆った状態（カバレッジ）に保ち続けることが可能である。
この発明の一実施形態では、前記保護液ノズルが、前記液滴供給位置の移動に同伴移動可能に設けられている。

この方法によれば、液滴供給位置の移動に同伴して、保護液ノズルが移動する。これにより、液滴供給位置が基板の上面のいずれに位置しているかに拘わらず、保護液ノズルから吐出される保護液によって液滴供給位置を覆わせることが可能である。
この発明の一実施形態では、前記保護液ノズルが、鉛直下方に向けて保護液を吐出する鉛直ノズルを含む。そして、前記リンス液ノズルが、鉛直方向に対して傾斜する方向に向けてリンス液を吐出する傾斜ノズルを含む。

この発明の一実施形態では、前記基板処理方法が、前記リンス工程の後に、前記基板を静止状態とさせ、または前記基板の中央部を通る所定の鉛直軸線回りにパドル速度で前記基板を回転させることにより、前記基板の上面を覆うパドル状の液膜を形成させるパドル工程と、前記パドル工程の後に、前記液膜を前記基板の上面から排除させる排除工程であって、前記液膜に穴を形成させる穴形成工程と、前記穴を拡大させる工程とを有する排除工程とをさらに含む。そして、前記パドル工程が、前記リンス液ノズルからのリンス液の吐出を停止しながら、前記保護液ノズルから保護液を吐出させる工程を含む。

とくに、本方法は、前記保護液ノズルが前記鉛直ノズルを含みかつ前記リンス液ノズルが前記傾斜ノズルを含む構成と組み合わされることが望ましい。この場合、保護液ノズルが鉛直ノズルを含むので、保護液ノズルからの保護液が基板の上面に鉛直方向に入射する。そのため、保護液を良好に液盛りすることができ、これにより、パドル状の液膜を良好に形成することができる。
この発明の一実施形態では、前記基板の上面が疎水性を呈している。

この発明は、チャンバと、前記チャンバの内部において、基板を水平姿勢で保持する基板保持ユニットと、前記基板保持ユニットに保持されている基板を、当該基板の中央部を通る鉛直軸線回りに回転させる回転ユニットと、前記基板保持ユニットに保持されている基板の上面に設定された液滴供給位置に向けて処理液液滴を噴射する液滴ノズルを有し、前記基板保持ユニットによって保持されている基板の上面に前記処理液液滴を供給する液滴供給ユニットと、前記チャンバの内部に固定された、前記基板の上面の予め定める着液位置に向けて連続流状のリンス液を吐出するリンス液ノズルを有し、前記基板の上面にリンス液を供給するリンス液供給ユニットと、前記液滴供給ユニットおよび前記リンス液供給ユニットを制御する制御装置とを含み、前記制御装置が、前記液滴供給ユニットにより前記液滴ノズルから前記処理液液滴を前記液滴供給位置に向けて吐出して、前記基板の上面を洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程に続いて、前記リンス液供給ユニットにより前記リンス液ノズルから前記基板の上面に連続流状のリンス液を吐出して、前記基板の上面をリンス液で洗い流すリンス工程と、前記洗浄工程から前記リンス工程への移行において、前記着液位置に着液するリンス液が前記液滴供給位置に到達する前のタイミングで、前記液滴ノズルからの前記処理液液滴の吐出を停止させる液滴吐出停止工程とを実行する、基板処理装置を提供する。

この発明の一実施形態では、前記液滴ノズルが、処理液に気体を混合して前記処理液液滴を生成し、生成された前記処理液液滴を前記液滴供給位置に吐出する複数流体ノズルを含む。そして、前記制御装置が、前記液滴吐出停止工程において、前記着液位置に着液するリンス液が前記液滴供給位置に到達する前のタイミングで、前記複数流体ノズルへの前記気体の供給を停止させる気体供給停止工程を実行する。

この構成によれば、複数流体ノズルを液滴ノズルとして用いる場合には、複数流体ノズルへの気体の供給を停止させることによって、液滴ノズルからの処理液液滴の吐出停止を実現することができる。
この発明の一実施形態では、前記制御装置が、前記液滴吐出停止工程において、前記リンス液ノズルからリンス液が吐出される前のタイミング、または前記リンス液ノズルからリンス液が吐出されるのと同時のタイミングで、前記液滴ノズルからの前記処理液液滴の吐出を停止させる工程を実行する。

この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記液滴供給位置を、前記基板の上面内で移動させるための供給位置移動ユニットをさらに含む。そして、前記着液位置が、前記基板の上面の中央部に設けられている。そして、前記制御装置が、さらに前記供給位置移動ユニットを制御している。そして、前記制御装置が、前記供給位置移動ユニットによって前記液滴供給位置が前記基板の周縁領域に配置されている状態で、前記リンス工程を開始させる。

この構成によれば、リンス工程の開始時において、液滴供給位置が基板の周縁領域に配置されている。リンス工程においては、基板の上面の中央部に向けて連続流状のリンス液が供給される。このような場合において、液跳ねの発生を抑制または防止できる。
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記基板の上面に向けて保護液を吐出する保護液ノズルを有し、前記基板の上面に保護液を供給する保護液供給ユニットをさらに含む。そして、前記制御装置が、さらに前記保護液供給ユニットを制御している。そして、前記制御装置が、前記洗浄工程において、前記リンス工程における前記リンス液ノズルからのリンス液の吐出流量よりも少ない吐出流量で、前記保護液ノズルから保護液を吐出する工程を実行する。

さらには、洗浄工程において保護液を供給するので、基板の上面の液切れを防止することができる。これにより、洗浄工程において、基板の上面の全域を液膜で覆った状態（カバレッジ）に保ち続けることが可能である。
この発明の一実施形態では、前記基板処理装置が、前記液滴供給位置を、前記基板の上面内で移動させるための供給位置移動ユニットをさらに含む。そして、前記保護液ノズルが、前記供給位置移動ユニットによる前記液滴供給位置の移動に同伴移動可能に設けられている。

この構成によれば、液滴供給位置の移動に同伴して、保護液ノズルが移動する。これにより、液滴供給位置が基板の上面のいずれに位置しているかに拘わらず、保護液ノズルから吐出される保護液によって液滴供給位置を覆わせることが可能である。
この発明の一実施形態では、前記保護液ノズルが、鉛直下方に向けて保護液を吐出する鉛直ノズルを含む。そして、前記リンス液ノズルが、鉛直方向に対して傾斜する方向に向けてリンス液を吐出する傾斜ノズルを含む。

この発明の一実施形態では、前記制御装置が、少なくとも前記回転ユニットを制御して、前記リンス工程の後に、前記基板を静止状態とさせ、または前記鉛直軸線回りにパドル速度で前記基板を回転させることにより、前記基板の上面を覆うパドル状の液膜を形成させるパドル工程と、少なくとも前記回転ユニットを制御して、前記パドル工程の後に、前記液膜を前記基板の上面から排除させる排除工程であって、前記液膜に穴を形成させる穴形成工程と、前記穴を拡大させる工程とを有する排除工程とをさらに実行する。そして、前記制御装置が、前記パドル工程において、前記リンス液ノズルからのリンス液の吐出を停止しながら、前記保護液ノズルから保護液を吐出させる工程を実行する。

とくに、本構成は、前記保護液ノズルが前記鉛直ノズルを含みかつ前記リンス液ノズルが前記傾斜ノズルを含む構成と組み合わされることが望ましい。この場合、保護液ノズルが鉛直ノズルを含むので、保護液ノズルからの保護液が、基板の上面に鉛直方向に入射する。そのため、保護液を良好に液盛りすることができ、これにより、パドル状の液膜を良好に形成することができる。
この発明の一実施形態では、前記基板の上面が疎水性を呈している。

処理液配管２５には、処理液配管２５から液滴ノズル１９への処理液の吐出および供給停止を切り換える処理液バルブ２７が介装されている。
気体配管２６には、気体配管２６から液滴ノズル１９への気体の吐出および供給停止を切り換える液滴用気体バルブ２９が介装されている。液滴ノズル１９に供給される気体としては、一例として窒素ガス（Ｎ_２）を例示できるが、窒素ガス以外の不活性ガス、たとえば乾燥空気や清浄空気などを採用することもできる。

図２に示すように、リンス液供給ユニット７は、リンス液ノズル４４を含む。リンス液ノズル４４は、たとえば連続流の状態で液を吐出するストレートノズルであり、スピンチャック５の上方で、その吐出口を基板Ｗの上面中央部に向けて固定的に配置されている。リンス液ノズル４４は、鉛直方向に対して傾斜する方向に向けてリンス液を吐出する傾斜ノズルである。すなわち、着液位置Ｐ１に入射する入射方向Ｄ１は、鉛直方向に対して傾斜している。入射方向Ｄ１の鉛直方向に対する傾斜角度は、たとえば、２０〜３０度の範囲内における所定の角度に設定されている。リンス液ノズル４４には、リンス液供給源からのリンス液が、リンス液バルブ４５を介して供給される。リンス液バルブ４５が開かれると、リンス液ノズル４４に供給された連続流のリンス液が、リンス液ノズル４４の先端に設定された吐出口から吐出される。また、リンス液バルブ４５が閉じられると、リンス液ノズル４４からのリンス液の吐出が停止される。

リンス液ノズル４４から吐出されるリンス液は、水である。すなわち、リンス液ノズル４４から吐出される液種は、液滴ノズル１９から吐出される処理液と同じ液種であってもよいし、異なっていてもよい。
図２に示すように、保護液供給ユニット８は、保護液ノズル４６を含む。保護液ノズル４６は、たとえば連続流の状態で液を吐出するストレートノズルである。保護液ノズル４６は、鉛直下方に向けて保護液を吐出する鉛直ノズルである。すなわち、保護液ノズル４６は、鉛直下方に向く吐出口４６ａを先端に有している。保護液ノズル４６には、保護液供給源からの保護液が、保護液バルブ４７を介して供給される。保護液バルブ４７が開かれると、保護液ノズル４６に供給された連続流の保護液が、保護液ノズル４６の吐出口４６ａから吐出される。また、保護液バルブ４７が閉じられると、保護液ノズル４６からの処理液の吐出が停止される。この実施形態では、保護液ノズル４６から吐出される保護液は、たとえば水である。

カバー工程Ｓ３の開始（すなわち、リンス液ノズル４４によるリンス液の吐出開始）から所定の時間が経過すると、制御装置３はリンス液バルブ４５を閉じ、基板Ｗの上面へのリンス液の供給が停止される。これにより、カバー工程Ｓ３が終了する。
次いで、制御装置３が、図７Ｂに示す洗浄工程（図５のステップＳ４）を実行する。洗浄工程Ｓ４は、液滴ノズル１９から処理液液滴を基板Ｗの上面に供給することにより基板Ｗの上面を洗浄する工程である。具体的には、制御装置３は、処理液バルブ２７および液滴用気体バルブ２９を開く。これにより、液滴ノズル１９に処理液および気体の一例である窒素ガスが同時に供給され、供給された処理液および窒素ガスは、液滴ノズル１９の外部の吐出口（処理液吐出口４１（図２参照））近傍で混合される。これにより、処理液の微小な液滴の噴流が形成され、液滴ノズル１９から処理液液滴の噴流が吐出される。そのため、基板Ｗの上面に円形の液滴供給位置ＤＡが形成される。液滴供給位置ＤＡに、液滴ノズル１９からの多数の処理液液滴が吹き付けられるので、処理液液滴の衝突によって、液滴供給位置ＤＡに付着している異物（パーティクルなど）を物理的に除去できる（物理洗浄）。

洗浄工程Ｓ４からリンス工程Ｓ５への移行において、図６に実線で示すように、リンス液ノズル４４から着液位置Ｐ１に向けてリンス液が吐出される前のタイミングで、液滴供給位置ＤＡへの液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出が停止させられる。また、洗浄工程Ｓ４からリンス工程Ｓ５への移行において、図６に一点鎖線で示すように、リンス液ノズル４４から着液位置Ｐ１に向けてリンス液が吐出されると同時のタイミングで、液滴供給位置ＤＡへの液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出が停止させられるようになっていてもよい。

また、リンス工程Ｓ５において、制御装置３は、液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出を停止しながら、液滴ノズル１９および保護液ノズル４６を、周縁位置Ｐｅから中央位置Ｐｃに向けて移動させる。中央位置Ｐｃに達した液滴ノズル１９および保護液ノズル４６は、中央位置Ｐｃにおいて静止させられる。
これにより、洗浄工程において、基板の上面の全域を液膜で覆った状態（カバレッジ）に保ち続けることが可能である。リンス工程Ｓ５においても、基板Ｗの上面の全域を液膜で覆う液膜６１が形成されている。リンス工程Ｓ５の開始から予め定める期間が経過すると、制御装置３は、リンス液バルブ４５を閉じて、リンス液ノズル４４からのリンス液の吐出を停止させる。

以上によりこの実施形態によれば、処理液液滴が液滴供給位置ＤＡに供給される洗浄工程Ｓ４から連続流のリンス液が供給されるリンス工程Ｓ５への移行において、リンス液ノズル４４から着液位置Ｐ１に向けてリンス液が吐出される前のタイミングで、液滴供給位置ＤＡへの液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出が停止させられる。
仮に、リンス液ノズル４４からリンス液が吐出された後のタイミングで処理液液滴の吐出が停止させられるとすると、処理液液滴の吐出停止に先立って、液滴供給位置ＤＡにリンス液が到達するおそれがある。この場合、リンス液の供給に伴って分厚くなった液膜に対して処理液液滴が吹き付けられる結果、液跳ねが発生するおそれがある。

これに対し、本実施形態では、リンス液ノズル４４からリンス液が吐出される前のタイミングで、またはリンス液ノズル４４からリンス液が吐出されると同時のタイミングで液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出が停止させられるので、分厚い液膜に対して処理液液滴が吐出されることを回避することができる。これにより、洗浄工程Ｓ４からリンス工程Ｓ５への移行における液跳ねの発生を抑制または防止できる。したがって、基板Ｗの上面における液滴供給位置ＤＡに、液跳ねに起因するミストが付着することを抑制または防止できる。したがって、基板Ｗの上面における液滴供給位置ＤＡにミストが付着することを抑制または防止できる。これにより、基板Ｗの上面が疎水性を呈している場合であっても、基板Ｗの上面（表面）におけるウォーターマークの発生を抑制または防止できる。

以上、この発明の一実施形態について説明したが、この発明は他の形態で実施することもできる。
たとえば、洗浄工程Ｓ４からリンス工程Ｓ５への移行において、液滴ノズル１９への処理液の供給および液滴ノズル１９への気体の供給の双方を停止することにより、液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出を停止させるとして説明した。しかしながら、液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出を停止させるべく、液滴ノズル１９への気体の供給のみを停止するようにしてもよい。この場合、液滴ノズル１９からの連続流状の処理液の吐出は継続される。しかしながら、処理液の種類によっては（たとえば処理液がリンス液と同様の水である場合等）、液滴ノズル１９からの連続流状の処理液を吐出しても、リンス工程Ｓ５を阻害することにはならない。むしろ、基板Ｗの上面をカバレッジする観点からは、液滴ノズル１９からの処理液の液滴の吐出停止後も、液滴ノズル１９から連続流状の処理液を吐出することが望ましい。

洗浄工程Ｓ４からリンス工程Ｓ５への移行において、図６に破線で示すように、リンス液ノズル４４から着液位置Ｐ１に向けてリンス液が吐出された後のタイミングで、液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出が停止されてもよい（すなわち、液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出停止前に、リンス液ノズル４４からのリンス液吐出が開始されてもよい）。但し、基板Ｗの中心部の着液位置Ｐ１に供給されたリンス液が、液滴供給位置ＤＡが配置されている基板Ｗの周縁領域Ｒｅに到達する前のタイミングで、したがって、基板Ｗの液処理速度において、基板Ｗの中心部に供給されたリンス液が基板Ｗの周縁領域Ｒｅに到達するのに要する到達所要期間を測定しておき、リンス液ノズル４４からのリンス液の吐出開始後、この到達所要期間未満において、液滴ノズル１９からの処理液液滴の吐出を停止するようにしてもよい。この場合、リンス液が液滴供給位置に到達する前のタイミングで処理液液滴の吐出が停止されるので、分厚い液膜に対して処理液液滴が吐出されることを回避することができる。

Claims (18)

1. 水平姿勢に保持されている基板の上面に設定された液滴供給位置に向けて液滴ノズルから処理液液滴を噴射して、前記基板の上面を洗浄する洗浄工程と、
   前記洗浄工程に続いて、前記基板の上面の予め定める着液位置に向けてリンス液ノズルから連続流状のリンス液を吐出して、前記基板の上面をリンス液で洗い流すリンス工程と、
   前記洗浄工程から前記リンス工程への移行において、前記着液位置に着液するリンス液が前記液滴供給位置に到達する前のタイミングで、前記液滴ノズルからの前記処理液液滴の吐出を停止させる液滴吐出停止工程とを含む、基板処理方法。
2. 前記液滴ノズルが、処理液に気体を混合して前記処理液液滴を生成し、生成された前記処理液液滴を前記液滴供給位置に吐出する複数流体ノズルを含み、
   前記液滴吐出停止工程が、前記着液位置に着液するリンス液が前記液滴供給位置に到達する前のタイミングで、前記複数流体ノズルへの前記気体の供給を停止させる気体供給停止工程を含む、請求項１に記載の基板処理方法。
3. 前記液滴吐出停止工程が、前記リンス液ノズルからリンス液が吐出される前のタイミング、または前記リンス液ノズルからリンス液が吐出されるのと同時のタイミングで、前記液滴ノズルからの前記処理液液滴の吐出を停止させる工程を含む、請求項１または２に記載の基板処理方法。
4. 前記着液位置が、前記基板の上面の中央部に設けられており、
   前記液滴供給位置が前記基板の周縁領域に配置されている状態で、前記リンス工程が開始する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理方法。
5. 前記洗浄工程が、前記リンス工程における前記リンス液ノズルからのリンス液の吐出流量よりも少ない吐出流量で、保護液ノズルから保護液を吐出する工程を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理方法。
6. 前記保護液ノズルが、前記液滴供給位置の移動に同伴移動可能に設けられている、請求項５に記載の基板処理方法。
7. 前記保護液ノズルが、鉛直下方に向けて保護液を吐出する鉛直ノズルを含み、
   前記リンス液ノズルが、鉛直方向に対して傾斜する方向に向けてリンス液を吐出する傾斜ノズルを含む、請求項５または６に記載の基板処理方法。
8. 前記リンス工程の後に、前記基板を静止状態とさせ、または前記基板の中央部を通る所定の鉛直軸線回りにパドル速度で前記基板を回転させることにより、前記基板の上面を覆うパドル状の液膜を形成させるパドル工程と、
   前記パドル工程の後に、前記液膜を前記基板の上面から排除させる排除工程であって、前記液膜に穴を形成させる穴形成工程と、前記穴を拡大させる工程とを有する排除工程とをさらに含み、
   前記パドル工程が、前記リンス液ノズルからのリンス液の吐出を停止しながら、前記保護液ノズルから保護液を吐出させる工程を含む、請求項５〜７のいずれか一項に記載の基板処理方法。
9. 前記基板の上面が疎水性を呈している、請求項１〜８のいずれか一項に記載の基板処理方法。
10. チャンバと、
    前記チャンバの内部において、基板を水平姿勢で保持する基板保持ユニットと、
    前記基板保持ユニットに保持されている基板を、当該基板の中央部を通る鉛直軸線回りに回転させる回転ユニットと、
    前記基板保持ユニットに保持されている基板の上面に設定された液滴供給位置に向けて処理液液滴を噴射する液滴ノズルを有し、前記基板保持ユニットによって保持されている基板の上面に前記処理液液滴を供給する液滴供給ユニットと、
    前記チャンバの内部に固定された、前記基板の上面の予め定める着液位置に向けて連続流状のリンス液を吐出するリンス液ノズルを有し、前記基板の上面にリンス液を供給するリンス液供給ユニットと、
    前記液滴供給ユニットおよび前記リンス液供給ユニットを制御する制御装置とを含み、
    前記制御装置が、
    前記液滴供給ユニットにより前記液滴ノズルから前記処理液液滴を前記液滴供給位置に向けて吐出して、前記基板の上面を洗浄する洗浄工程と、
    前記洗浄工程に続いて、前記リンス液供給ユニットにより前記リンス液ノズルから前記基板の上面に連続流状のリンス液を吐出して、前記基板の上面をリンス液で洗い流すリンス工程と、
    前記洗浄工程から前記リンス工程への移行において、前記着液位置に着液するリンス液が前記液滴供給位置に到達する前のタイミングで、前記液滴ノズルからの前記処理液液滴の吐出を停止させる液滴吐出停止工程とを実行する、基板処理装置。
11. 前記液滴ノズルが、処理液に気体を混合して前記処理液液滴を生成し、生成された前記処理液液滴を前記液滴供給位置に吐出する複数流体ノズルを含み、
    前記制御装置が、前記液滴吐出停止工程において、前記着液位置に着液するリンス液が前記液滴供給位置に到達する前のタイミングで、前記複数流体ノズルへの前記気体の供給を停止させる気体供給停止工程を実行する、請求項１０に記載の基板処理装置。
12. 前記制御装置が、前記液滴吐出停止工程において、前記リンス液ノズルからリンス液が吐出される前のタイミング、または前記リンス液ノズルからリンス液が吐出されるのと同時のタイミングで、前記液滴ノズルからの前記処理液液滴の吐出を停止させる工程を実行する、請求項１０または１１に記載の基板処理装置。
13. 前記液滴供給位置を、前記基板の上面内で移動させるための供給位置移動ユニットをさらに含み、
    前記着液位置が、前記基板の上面の中央部に設けられており、
    前記制御装置が、さらに前記供給位置移動ユニットを制御しており、
    前記制御装置が、前記供給位置移動ユニットによって前記液滴供給位置が前記基板の周縁領域に配置されている状態で、前記リンス工程を開始させる、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の基板処理装置。
14. 前記基板の上面に向けて保護液を吐出する保護液ノズルを有し、前記基板の上面に保護液を供給する保護液供給ユニットをさらに含み、
    前記制御装置が、さらに前記保護液供給ユニットを制御しており、
    前記制御装置が、前記洗浄工程において、前記リンス工程における前記リンス液ノズルからのリンス液の吐出流量よりも少ない吐出流量で、前記保護液ノズルから保護液を吐出する工程をさらに実行する、請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
15. 前記液滴供給位置を、前記基板の上面内で移動させるための供給位置移動ユニットをさらに含み、
    前記保護液ノズルが、前記供給位置移動ユニットによる前記液滴供給位置の移動に同伴移動可能に設けられている、請求項１４に記載の基板処理装置。
16. 前記保護液ノズルが、鉛直下方に向けて保護液を吐出する鉛直ノズルを含み、
    前記リンス液ノズルが、鉛直方向に対して傾斜する方向に向けてリンス液を吐出する傾斜ノズルを含む、請求項１４または１５に記載の基板処理装置。
17. 前記制御装置が、少なくとも前記回転ユニットを制御して、前記リンス工程の後に、前記基板を静止状態とさせ、または前記鉛直軸線回りにパドル速度で前記基板を回転させることにより、前記基板の上面を覆うパドル状の液膜を形成させるパドル工程と、少なくとも前記回転ユニットを制御して、前記パドル工程の後に、前記液膜を前記基板の上面から排除させる排除工程であって、前記液膜に穴を形成させる穴形成工程と、前記穴を拡大させる工程とを有する排除工程とをさらに実行し、
    前記制御装置が、前記パドル工程において、前記リンス液ノズルからのリンス液の吐出を停止しながら、前記保護液ノズルから保護液を吐出させる工程を実行する、請求項１４〜１６のいずれか一項に記載の基板処理装置。
18. 前記基板の上面が疎水性を呈している、請求項１０〜１７のいずれか一項に記載の基板処理装置。