JP2018504760A - アークを処理する装置およびアークを処理する方法 - Google Patents

アークを処理する装置およびアークを処理する方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2018504760A
JP2018504760A JP2017541035A JP2017541035A JP2018504760A JP 2018504760 A JP2018504760 A JP 2018504760A JP 2017541035 A JP2017541035 A JP 2017541035A JP 2017541035 A JP2017541035 A JP 2017541035A JP 2018504760 A JP2018504760 A JP 2018504760A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arc
plasma chamber
interruption time
time
power supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017541035A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6682543B2 (ja
Inventor
ラハ ピオトル
ラハ ピオトル
ジェレホフスキ マルツィン
ジェレホフスキ マルツィン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Trumpf Huettinger Sp zoo
Original Assignee
Trumpf Huettinger Sp zoo
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Trumpf Huettinger Sp zoo filed Critical Trumpf Huettinger Sp zoo
Publication of JP2018504760A publication Critical patent/JP2018504760A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6682543B2 publication Critical patent/JP6682543B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32917Plasma diagnostics
    • H01J37/32935Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
    • H01J37/32944Arc detection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3476Testing and control
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/12Testing dielectric strength or breakdown voltage ; Testing or monitoring effectiveness or level of insulation, e.g. of a cable or of an apparatus, for example using partial discharge measurements; Electrostatic testing
    • G01R31/1227Testing dielectric strength or breakdown voltage ; Testing or monitoring effectiveness or level of insulation, e.g. of a cable or of an apparatus, for example using partial discharge measurements; Electrostatic testing of components, parts or materials
    • G01R31/1254Testing dielectric strength or breakdown voltage ; Testing or monitoring effectiveness or level of insulation, e.g. of a cable or of an apparatus, for example using partial discharge measurements; Electrostatic testing of components, parts or materials of gas-insulated power appliances or vacuum gaps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/24Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
    • H01J37/241High voltage power supply or regulation circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3444Associated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/02Details
    • H01J2237/0203Protection arrangements
    • H01J2237/0206Extinguishing, preventing or controlling unwanted discharges
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/245Detection characterised by the variable being measured
    • H01J2237/24564Measurements of electric or magnetic variables, e.g. voltage, current, frequency
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/32Processing objects by plasma generation
    • H01J2237/33Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
    • H01J2237/332Coating
    • H01J2237/3322Problems associated with coating

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Abstract

アーク処理装置(14)は、a.プラズマチャンバ(30)内に存在しているアークを検出する、アーク検出装置(21)と、b.アークがプラズマチャンバ(30)内に存在している間に、プラズマチャンバ(30)に供給されたエネルギに対応する値であるアークエネルギ値を求める、アークエネルギ確定装置(22)と、c.求められたアークエネルギ値から中断時間を決定する中断時間決定装置(24)と、を備えている。

Description

本発明は、プラズマプロセスがプラズマチャンバ内で実行されている間に発生するアークを処理する装置および方法に関する。
プラズマプロセスにおけるカソードスパッタリングによる基板の、例えばガラスのコーティングは周知である。スパッタリングを慣例のように実施することができるか、または反応性ガスを使用して実施することができる。この場合、スパッタリングは、反応性スパッタリングと呼ばれる。このために、電源がプラズマを生成し、このプラズマはターゲットから材料を取り出し、次いでその材料が基板の上に、例えばガラス基板の上にコーティングされる。反応性プロセスが使用される場合、所望のコーティングに応じて、ターゲットの原子をガスの原子または分子と組み合わせることができる。
特に、反応性プロセスが使用されている場合、プラズマプロセスにおいてアークが発生する可能性がある。そのようなアークは、プラズマプロセスにとって有害である可能性があり、それどころかコーティングを破壊する可能性もある。したがって、アークを迅速かつ確実に検出することが必要である。アークは、電源の出力電圧を監視することによって検出されることが多い。出力電圧が急速に低下した場合、アークが検出される。選択的に、電流を監視してもよい。出力電流が瞬間的に上昇した場合、このこともまたアークを示唆している。特に、電源の出力電流および出力電圧を監視し、それぞれを閾値と比較することができる。
アークが検出されると、多くの場合には電源が遮断され、それによってアークが消弧される。電源が遮断された結果、堆積速度は低下する。したがって、電力の遮断は可能な限り短くあるべきであるが、しかしながらさらなるアークの発生を回避するために必要とされる長さも有していなければならない。以下では、電力が再び投入されるまでの遮断時間を中断時間と記す。使用されるプロセスおよびカソードが異なれば、アークが検出された後に必要とされる中断時間も異なる。ユーザによって中断時間が設定されることが公知である。しかしながら、適切な中断時間を設定することは困難である。上記において述べたように、新たなアークの発生を回避するために、ホットスポットを冷却するための中断時間は十分な長さであるべきである。他方、プラズマプロセス中の不必要な電力損失を回避するために、中断時間は可能な限り短くあるべきである。
本発明の課題は、アークの確実な消弧を保証するにもかかわらず、高い堆積速度も保証する、アーク処理装置およびアークを処理する方法を提供することである。
この課題は、以下の特徴を備えているアーク処理装置によって解決される:
a)プラズマチャンバ内に存在しているアークを検出する、アーク検出装置;
b)アークがプラズマチャンバ内に存在している間に、プラズマチャンバに供給されたエネルギに対応する値であるアークエネルギ値を求める、アークエネルギ確定装置;
c)求められたアークエネルギ値から中断時間を決定する中断時間決定装置。
したがって、本発明によれば、プロセス毎に、アークエネルギ値を求めることによって、各アークに対して個別の中断時間を決定することができる。
アークエネルギ値は、アークがプラズマチャンバ内に存在している間に、プラズマチャンバに供給されたエネルギであってよい。選択的に、アークエネルギ値は、アークがプラズマチャンバ内に存在している間にプラズマチャンバに供給されたエネルギおよび他の値に基づいて計算された値であってよい。計算された値は、係数が乗算された、または所定のオフセット分だけ増大/低減された、アークがプラズマチャンバ内に存在している間にプラズマチャンバに供給された総エネルギまたはエネルギの一部であってよい。
アークエネルギ値を、所定の期間中にプラズマチャンバに供給されたエネルギに基づいて求めることができる。この期間は、アーク総持続時間と同じ長さであってもよいし、もしくはそれよりも長くても、または短くてもよい。有利には、アークのその期間内に発生する。
例として以下のことが挙げられる:
−アークの発生からアークの消失までの間の期間中にエネルギが求められる場合には、アークエネルギ値は、アークが存在している間にプラズマチャンバに供給された総エネルギであってよい、または
−エネルギが以下の期間中、すなわち
○アークの検出の時点から、アークの消失の時点までの期間中、または
○アークの検出に応答した時点から、アークの消失の時点までの期間中、または
○アークの検出の時点から、アークエネルギまたはアーク電流が事前に定められた閾値を下回った時点までの期間中、または
○アークの検出に応答した時点から、アークエネルギまたはアーク電流が事前に定められた閾値を下回った時点までの期間中、または
○類似の期間中、
に求められる場合には、アークエネルギ値は、アークが存在している間にプラズマチャンバに供給されたエネルギの一部であってよい。
−期間は、アークが発生する前の所定の期間前に開始されてもよい。
−期間は、アーク消失後の所定の期間後に終了してもよい。
中断時間決定装置を、アークエネルギ値に基づいて中断時間を計算するように構成することができる。
アークエネルギ値毎に、アークを消弧させるためにどれ程の長さの中断時間が必要とされるかを決定することができる。したがって、中断時間はユーザによって設定された中断時間に比べて短くなる可能性がある。何故ならば、ユーザは各アークを消弧させるには十分な長さである中断時間を設定しなければならないからである。したがって、設定される中断時間は、実際に必要とされる中断時間よりも遙かに長くなることが多い。何故ならば、ユーザは、見込まれる最大アーク持続時間または見込まれる最大エネルギを有するアークに基づいて中断時間を選択しなければならないからである。発生したアーク毎に個別の中断時間が計算または決定される場合には、より短い中断時間を実現することができ、これによってより高い堆積速度が得られる。したがって、収量を改善することができる。
アーク処理装置は、プラズマプロセスに関連する信号を受信するための入力端を有することができる。例えば、電流、電圧または電力を、アーク処理装置に入力することができる。しかしながら、アークを検出するために使用することができる光学センサをプラズマチャンバに設けることもでき、そのようなセンサは、アーク処理装置の入力端に信号を供給することができる。
アーク検出信号をアーク検出装置から電源制御装置に伝送するために、データ伝送装置を設けることができる。したがって、アーク検出装置がプラズマチャンバ内に存在しているアークを検出すると、信号を電源制御装置に出力することができ、続けて、電源制御装置は、アーク検出信号の受信に応答して電源を遮断する。他方、電源制御装置は、例えばアーク処理装置から信号を受信し、これによって、中断時間の経過後に電源を再び投入接続することができる。
アークエネルギ値をアーク処理装置から電源制御装置に伝送するために、別のデータ伝送装置を設けることができる。
中断時間情報をアーク処理装置から電源制御装置に伝送するために、付加的なデータ伝送装置を設けることができる。
データ伝送装置、別のデータ伝送装置および付加的なデータ伝送装置は、3つの別個の伝送装置であってもよいし、2つまたは単一の伝送装置に組み込まれてもよい。
アーク処理装置は、電源制御装置の一部であってもよい。
本発明の課題はまた、以下のステップを備えている、プラズマプロセスがプラズマチャンバ内で実行されている間に発生するアークを処理する方法によって解決される:
a)プラズマチャンバ内に存在しているアークを検出するステップ;
b)アークがプラズマチャンバ内に存在している間に、プラズマチャンバに供給されたエネルギに対応する値であるアークエネルギ値を求めるステップ;
c)求められたアークエネルギ値から中断時間を決定するステップ。
この方法によれば、プラズマチャンバ内でアークが確認される度に、個別の中断時間が計算または生成される。中断時間を決定することは、求められたアークエネルギ値から中断時間を計算することを意味していてよい。中断時間中にアークの消弧が保証されるように、中断時間を決定することができる。中断時間の経過後に、電力を再び投入することができる。プラズマチャンバへの電力の遮断および供給は、広い意味で解されるべきである。電力の遮断および停止は、電源装置を遮断すること、電源装置からプラズマチャンバを切断すること、またはプラズマチャンバに供給される電力を逸らし、それによって電源装置によって生成された電力をアークに到達させなくし、アークを維持させなくすること、のうちの少なくとも1つを含むと考えられる。電力の投入または供給は、電源装置を投入接続すること、プラズマチャンバを電源装置に接続すること、または電源装置によって生成された電力をプラズマチャンバに誘導すること、のうちの少なくとも1つを含むと考えられる。
プラズマチャンバ内に存在しているアークの検出は、電源装置からプラズマチャンバに供給された信号の測定および解析に基づくものであってよい。例えば、プラズマチャンバに供給された電圧または電流が、解析される信号であってよい。
中断時間が開始される時点を識別することができる。この時点は、アークが検出された時点であってよい。
また、上記の時点を、アークが存在している間にプラズマチャンバに供給されたエネルギを計算するための開始点として使用することができる。特に、エネルギ値を、識別された時点およびプラズマチャンバに供給された信号に基づいて求めることができる。特に、アークエネルギ値を、アークが検出されたことが識別された時点、電源装置が遮断された時点、および識別された時点から電源装置が遮断された時点までの期間にプラズマチャンバに供給された信号と、に基づいて求めることができ、特に計算することができる。
中断時間を継続的に調整することができる。したがって、プラズマプロセスにおける変化に対して非常にフレキシブルに応答することができる。中断時間の決定が、ディジタル領域で行われる場合には、これを、電源装置に供給されるクロックと同じクロックまたはサイクルで行うことができる。
求められたエネルギ値および所定の係数に基づいて、中断時間を決定することができる。係数を事前に決定することができる。特に、係数をインタフェースから提供することができる。例えば、求められたエネルギ値を係数と乗算することができる。係数は、固定値であってもよいし、顧客によって調整された値であってもよいし、動的な値であってもよいし、出力電力、ターゲットのタイプ、ターゲットの長さ等に基づいて計算された値であってもよい。
選択的に、係数を、以前に発生したアークに関する量に基づいて決定してもよい。例えば、この量を所定の期間内に発生したアークの数に基づいて決定することができる。
実際の中断時間を、決定された中断時間に付加的な値を加算することによって決定することができる。この付加的な値は所定の値であってよく、特に、インタフェースを介して提供することができる。付加的な値を加算することによって、電源装置が再び投入接続される前にアークが実際に消弧することを保証することができる。
決定された中断時間が基準時間よりも短い場合にのみ、付加的な値を、決定された中断時間に加算することができる。したがって、最短の中断時間を達成することができる。
中断時間の開始または実際の中断時間の開始を選択することができる。例えば、中断時間の開始として、アークが存在していることを示す基準値と信号が交差した時点を選択することができる。さらに、中断時間の開始として、アーク検出信号がアーク検出装置から出力された時点を設定することができる。
選択的に、中断時間の開始として、プラズマチャンバのための電源装置が遮断された時点を設定することができる。さらに、中断時間の開始は、プラズマプロセスへの電力供給が実際に終了した時点であってもよい。
プラズマチャンバに供給された電圧における急激な低下が存在するときに、アークを検出することができる。さらに、電圧が最大電圧を上回るか、または最小電圧を下回ると、アークを検出することができる。さらに、電流における急激な上昇が存在すると、または電流が最大電流を上回ると、アークを検出することができる。
例えば、電源装置の制御装置およびアーク処理装置がディジタル論理ユニットに統合される場合には、データ伝送装置は、そのようなディジタル論理ユニットにおける電気的なコネクション、信号経路またはデータ伝送であってよい。
電源装置の制御装置は、アーク処理装置の一部であってもよいし、アーク処理装置とは別個のものであってもよい。
上記において述べた、またそれとは別の本発明の課題、特徴および利点ならびに本発明自体は、以下の例示的な説明を添付の図面を参照しながら読めば、いっそう良く理解される。
上記の課題は、また、上記のアーク処理装置のうちの1つおよび電源制御装置を備えている電源装置によって解決される。
電源装置は、電流調整型および/または電圧調整型および/または電力調整型の電源装置であってよい。例えば、電源装置は双極性のものであってよく、DC電源、または電流駆動型ブリッジインバータを備えたパルス化DC電源であってよい。
この課題は、また、プラズマチャンバに接続されている上記の電源装置のうちの1つおよび上記のアーク処理装置のうちの1つを備えているプラズマシステムによって解決される。
上記のすべてのアーク処理装置を、上記のアークを処理する方法のうちの1つを実行するように構成することができる。
中断時間の決定を説明するためのグラフを示す。 アーク処理装置を有している電源装置を備えたプラズマシステムのブロック図を示す。 代替的なプラズマ電源装置が設けられている図を示す。 プラズマ電源装置の別の例が設けられている図を示す。 プラズマ電源装置の別の例が設けられている図を示す。
図1は、プラズマ電源装置10によって、プラズマチャンバ30内のプラズマプロセスに時間tにわたり供給される電流Iおよび電圧Uのグラフを示す。測定された電圧信号2および電流信号1がグラフに示されている。時点t1において、アークが発生し始め、このことは、電圧信号2が急激に降下し、かつ電流信号1が急激に上昇していることから見て取れる。時点t2では、アークの発生を検出するために使用される電流信号1が、アーク検出閾値3を上回る。時点t2から時点t3までの期間は、アーク検出時間である。この時間は、アーク検出装置21がアークを検出するために必要とする時間である。時点t3では、アーク検出装置21の出力端にアーク検出信号が存在する。時点t4では、電源装置10がプラズマプロセスへの電力供給を停止する。時点t3から時点t4までの期間は、ハードウェア応答時間である。つまり、ハードウェアがアーク検出信号の存在に応答して、プラズマチャンバ30内のプラズマプロセスに供給される電力を遮断するために必要とする時間である。
時点t5では、プラズマプロセスへの電力供給が実際上(現実に)終了する。この時点は、アーク消失時点でもある。図示の例では、時点t3が、中断時間4の開始として選択されている。時点t6では、中断時間4が終了し、電力が再びプラズマプロセスに供給され始める。アークの持続時間は、時点t1から時点t5までの時間である。時点t1から時点t5までの任意の時点を、中断時間4の開始として選択することができる。
中断時間4は、時点t1から時点t5までにプラズマプロセスに供給されたエネルギに基づいて計算される。例えば、エネルギ値を、
Figure 2018504760
として計算することができ、ここでTはサンプリングの時間である。時点t1から時点t3までのいずれかの時点である時点tnから、時点t4からt5までのいずれかの時点である時点tmまでのエネルギ値を計算することも可能である。中断時間4を、E*ncoefとして計算することもでき、但し、ncoefは、固定値、顧客によって調整された値、プラズマチャンバに供給された電力に基づいて計算された動的な値、ターゲットのタイプまたはターゲットの長さであってよい係数である。
図2は、給電網12からの給電電圧を受け取るプラズマ電源装置10を示す。プラズマ電源装置10は、その出力端13において出力信号を生成する。出力信号は、通常の場合、出力電流Ioutおよび出力電圧Uoutである。出力電圧Uoutと出力電流Ioutの乗算によって出力電力Poutが得られ、この出力電力Poutも出力信号とみなされる。
電源装置10は、制御およびアーク処理装置14を含んでおり、この制御およびアーク処理装置14は、入力として、出力電力に関する設定値Pset、出力電圧に関する設定値Usetおよび出力電流に関する設定値Isetを受け取る。さらに、プラズマ電源装置10は、DC源15を含んでいる。DC源15は、通常の場合はブリッジインバータである出力信号発生器16の入力端に接続されている。出力信号発生器16もまた、制御およびアーク処理装置14によって制御される。さらに、出力信号発生器16は、プラズマチャンバ30に接続されており、このプラズマチャンバにはプラズマ電源装置10から電力が供給される。プラズマチャンバ30内では、プラズマプロセスが行われる。プラズマプロセスにおいて、アークが発生する可能性がある。
出力信号発生器16の出力端における信号測定手段18,19は、測定信号を制御およびアーク処理装置14に供給する。
制御およびアーク処理装置14は、プラズマチャンバ30内で発生しているアークを検出するアーク検出装置21を含んでいる。このために、アーク検出装置21は、測定手段18および/または測定手段19から信号を受信する。アーク検出装置21は、測定された信号のうちの1つをアーク検出閾値3と比較する比較器を含むことができる。
さらに、制御およびアーク処理装置14は、アークがプラズマチャンバ30内に存在している間に、プラズマチャンバ30に供給されたエネルギを求めるアークエネルギ確定装置22を含んでいる。求められたアークエネルギ値から中断時間4を決定するための、中断時間決定装置24が設けられている。プラズマプロセスに関連する信号を受信するための入力端23が設けられている。さらに、求められたアークエネルギ値および係数に基づいて中断時間4を計算するために使用することができる係数ncoefを受け取るための入力端25を設けることができる。アーク検出信号をアーク検出装置21から電源制御装置27に伝送するために、データ伝送装置26を設けることができる。プラズマチャンバ30内に存在しているアークの検出に基づいて、電源装置10を遮断することができ、その結果、プラズマチャンバ30にはもはや電力は供給されない。計算された中断時間4の経過後に、電源装置10を再び投入接続することができる。電源制御装置27が、出力信号発生器16を直接的に制御してもよい。
図3、図4および図5は、プラズマ電源装置10およびプラズマチャンバ30の代替的な実施の形態を示し、上記において説明した構成要素に対応する構成要素には同一の参照番号を付している。
図3においては、出力信号発生器16がインバータとして実現されているのではなく、パルスを生成することができるDC信号処理装置として実現されている。
図3および図4においては、出力信号発生器16がアークを消失させるためのユニット31を含んでおり、このユニット31は、アーク検出装置21と接続されている。
図5に示した実施の形態においては、出力信号発生器16がフルブリッジインバータとして実現されており、このフルブリッジインバータは、プラズマプロセスにバイポーラ電力を供給する。
出力信号発生器16は、フルブリッジとしてのインバータであってもよいし、出力トランスまたは付加的な出力共振回路を備えているフルブリッジとしてのインバータであってもよい。この場合、プラズマチャンバ30内のプラズマプロセスを、図2および図5に示したような、中間周波数(MF)電力が給電されるプラズマプロセスとすることができる。
出力信号発生器16は、パルス化ユニットであってもよい。付加的または選択的に、出力信号発生器16は、アークを消失させるためのユニット31を含むことができる。この場合、プラズマチャンバ30内のプラズマプロセスを、図3および図4に示したような、パルス化されたDC電力が給電されるプラズマプロセスとすることができる。
図3、図4および図5に示した制御およびアーク処理装置14は、それらの図面には示していないにもかかわらず、以下のユニットまたは装置21,22,23,24,25,26,27のうちの1つまたは複数を含むこともできる。

Claims (15)

  1. アーク処理装置(14)において、
    a.プラズマチャンバ(30)内に存在しているアークを検出する、アーク検出装置(21)と、
    b.前記アークが前記プラズマチャンバ(30)内に存在している間に、前記プラズマチャンバ(30)に供給されたエネルギに対応する値であるアークエネルギ値を求める、アークエネルギ確定装置(22)と、
    c)求められた前記アークエネルギ値から中断時間(4)を決定する中断時間決定装置(24)と、を備える、アーク処理装置(14)。
  2. プラズマプロセスに関連する信号を受信する入力端(23)が設けられている、請求項1記載のアーク処理装置。
  3. 前記アーク検出装置(21)から電源制御装置(27)にアーク検出信号を伝送するデータ伝送装置(26)が設けられている、請求項1または2記載のアーク処理装置。
  4. プラズマプロセスがプラズマチャンバ(30)内で実行されている間に発生するアークを処理する方法において、
    a.前記プラズマチャンバ(30)内に存在しているアークを検出するステップと、
    b.前記アークが前記プラズマチャンバ(30)内に存在している間に、前記プラズマチャンバ(30)に供給されたエネルギに対応する値であるアークエネルギ値を求めるステップと、
    c.求められた前記アークエネルギ値から中断時間(4)を決定するステップと、
    を備える、方法。
  5. 前記プラズマチャンバ(30)内に存在しているアークの検出は、電源装置(10)から前記プラズマチャンバ(30)に供給された信号の測定および解析に基づく、請求項4記載の方法。
  6. 中断時間(4)が開始される時点(t3)を識別する、請求項4または5に記載の方法。
  7. 前記エネルギ値は、前記識別された時点および前記プラズマチャンバ(30)に供給された信号に基づく、請求項6記載の方法。
  8. 前記中断時間(4)を継続的に調整する、請求項4から7までのいずれか1項記載の方法。
  9. 前記中断時間を、求められた前記エネルギ値および所定の係数(ncoef)に基づいて決定する、請求項4から8までのいずれか1項記載の方法。
  10. 前記係数(ncoef)を、以前に発生したアークに関する量に基づいて決定する、請求項9記載の方法。
  11. 実際の中断時間を、決定された前記中断時間に所定の付加的な値を加算することによって決定する、請求項4から10までのいずれか1項記載の方法。
  12. 決定された前記中断時間(4)が基準時間よりも短い場合にのみ、付加的な値を、決定された前記中断時間(4)に加算する、請求項11記載の方法。
  13. 前記中断時間(4)の開始または前記実際の中断時間の開始を選択する、請求項4から12までのいずれか1項記載の方法。
  14. 請求項1から3までのいずれか1項記載のアーク処理装置(14)および電源制御装置を備えている、電源装置(10)。
  15. プラズマチャンバ(30)に接続されている電源装置(10)および請求項1から3までのいずれか1項記載のアーク処理装置(14)を備えている、プラズマシステム。
JP2017541035A 2015-02-03 2016-01-26 アークを処理する装置およびアークを処理する方法 Active JP6682543B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP15461509.0 2015-02-03
EP15461509.0A EP3054472A1 (en) 2015-02-03 2015-02-03 Arc treatment device and method therefor
PCT/EP2016/051532 WO2016124440A1 (en) 2015-02-03 2016-01-26 Arc treatment device and method therefor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018504760A true JP2018504760A (ja) 2018-02-15
JP6682543B2 JP6682543B2 (ja) 2020-04-15

Family

ID=52598707

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017541035A Active JP6682543B2 (ja) 2015-02-03 2016-01-26 アークを処理する装置およびアークを処理する方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10297431B2 (ja)
EP (2) EP3054472A1 (ja)
JP (1) JP6682543B2 (ja)
KR (1) KR102223497B1 (ja)
CN (1) CN107454978B (ja)
WO (1) WO2016124440A1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021533358A (ja) * 2018-08-02 2021-12-02 トゥルンプフ ヒュッティンガー スプウカ ズ オグラニショナ オドポヴィヂャルノスツィアTRUMPF Huettinger Sp. z o. o. アークを検出するアーク検出器、プラズマシステムおよびアーク検出方法

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013110883B3 (de) 2013-10-01 2015-01-15 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Entladung in einem Plasmaprozess
EP2905801B1 (en) * 2014-02-07 2019-05-22 TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. Method of monitoring the discharge in a plasma process and monitoring device for monitoring the discharge in a plasma
US10555412B2 (en) 2018-05-10 2020-02-04 Applied Materials, Inc. Method of controlling ion energy distribution using a pulse generator with a current-return output stage
DE102018216969A1 (de) * 2018-10-03 2020-04-09 centrotherm international AG Plasma-Behandlungsvorrichtung und Verfahren zum Ausgeben von Pulsen elektischer Leistung an wenigstens eine Prozesskammer
US11476145B2 (en) 2018-11-20 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Automatic ESC bias compensation when using pulsed DC bias
CN113169026B (zh) 2019-01-22 2024-04-26 应用材料公司 用于控制脉冲电压波形的反馈回路
US11508554B2 (en) 2019-01-24 2022-11-22 Applied Materials, Inc. High voltage filter assembly
CN109788624B (zh) * 2019-02-14 2021-08-03 东莞中子科学中心 一种加速器谐振腔自动老练方法、装置和可读存储介质
US11462389B2 (en) 2020-07-31 2022-10-04 Applied Materials, Inc. Pulsed-voltage hardware assembly for use in a plasma processing system
CN111926308B (zh) * 2020-08-24 2022-08-12 湖南红太阳光电科技有限公司 一种等离子体放电异常的处理方法
FR3115180B1 (fr) * 2020-10-14 2022-11-04 Peter Choi Appareil de génération de plasma
US11901157B2 (en) 2020-11-16 2024-02-13 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for controlling ion energy distribution
US11798790B2 (en) 2020-11-16 2023-10-24 Applied Materials, Inc. Apparatus and methods for controlling ion energy distribution
US11495470B1 (en) 2021-04-16 2022-11-08 Applied Materials, Inc. Method of enhancing etching selectivity using a pulsed plasma
US11791138B2 (en) 2021-05-12 2023-10-17 Applied Materials, Inc. Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing
US11948780B2 (en) 2021-05-12 2024-04-02 Applied Materials, Inc. Automatic electrostatic chuck bias compensation during plasma processing
US11967483B2 (en) 2021-06-02 2024-04-23 Applied Materials, Inc. Plasma excitation with ion energy control
US20220399185A1 (en) 2021-06-09 2022-12-15 Applied Materials, Inc. Plasma chamber and chamber component cleaning methods
US11810760B2 (en) 2021-06-16 2023-11-07 Applied Materials, Inc. Apparatus and method of ion current compensation
US11569066B2 (en) 2021-06-23 2023-01-31 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage source for plasma processing applications
EP4113574B1 (en) 2021-07-02 2024-01-03 Comet AG Method for machine learning a detection of at least one irregularity in a plasma system
EP4242904A3 (en) 2021-07-02 2023-11-01 Comet AG Method for machine learning a detection of at least one irregularity in a plasma system
US11476090B1 (en) 2021-08-24 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Voltage pulse time-domain multiplexing
US11694876B2 (en) 2021-12-08 2023-07-04 Applied Materials, Inc. Apparatus and method for delivering a plurality of waveform signals during plasma processing
CN114561619B (zh) * 2022-01-29 2022-09-27 深圳市瀚强科技股份有限公司 电源以及电弧处理方法
US11972924B2 (en) 2022-06-08 2024-04-30 Applied Materials, Inc. Pulsed voltage source for plasma processing applications

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002072912A1 (fr) * 2001-03-12 2002-09-19 Nikko Materials Company, Limited Poudre d'oxyde d'etain destinee a une cible de pulverisation ito, procede de fabrication de cette poudre, cible de pulverisation de corps fritte destinee a la production d'une couche ito, et procede de fabrication de cette cible
JP2008047292A (ja) * 2006-08-10 2008-02-28 Nippon Reliance Kk アーク放電抑止装置および方法
JP2008226839A (ja) * 2007-03-08 2008-09-25 Huettinger Elektronik Gmbh & Co Kg プラズマプロセスの動作の際のアーク放電の抑制のための方法及びプラズマプロセスに対するアーク放電識別装置及びプラズマプロセスの電力供給のための電力源を有するプラズマ電力供給装置
JP2010510633A (ja) * 2006-11-23 2010-04-02 ヒュッティンガー エレクトローニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト プラズマプロセスにおけるアーク放電を識別する方法およびアーク放電識別装置
WO2011064958A1 (ja) * 2009-11-25 2011-06-03 株式会社アルバック 電源装置
JP2011527379A (ja) * 2008-06-17 2011-10-27 シュナイダー エレクトリック ユーエスエイ インコーポレイテッド ウェーハレベルアーク検出のための装置と方法
WO2012023276A1 (ja) * 2010-08-18 2012-02-23 株式会社アルバック 直流電源装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19937859C2 (de) 1999-08-13 2003-06-18 Huettinger Elektronik Gmbh Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen
DE102004015090A1 (de) 2004-03-25 2005-11-03 Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg Bogenentladungserkennungseinrichtung
PL1705687T3 (pl) * 2005-03-26 2007-09-28 Huettinger Elektronik Gmbh Co Kg Sposób wykrywania łuku
US7366622B1 (en) * 2005-10-17 2008-04-29 X-L Synergy Arc fault identification using model reference estimation
CN101473403B (zh) * 2006-03-17 2012-02-08 施耐德自动化公司 用于检测和分类发弧的基于电流的方法和设备
US7445695B2 (en) * 2006-04-28 2008-11-04 Advanced Energy Industries Inc. Method and system for conditioning a vapor deposition target
EP1928009B1 (de) 2006-11-28 2013-04-10 HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen
EP1995818A1 (en) * 2007-05-12 2008-11-26 Huettinger Electronic Sp. z o. o Circuit and method for reducing electrical energy stored in a lead inductance for fast extinction of plasma arcs
SG183056A1 (en) * 2008-03-26 2012-08-30 Kyosan Electric Mfg Abnormal discharge suppressing device for vacuum apparatus
EP2790205B1 (en) * 2009-02-17 2018-04-04 Solvix GmbH A power supply device for plasma processing
DE102009002684B4 (de) 2009-04-28 2013-12-24 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Verfahren zur Leistungsversorgung einer Plasmalast und Plasmaversorgungseinrichtung zu seiner Durchführung
KR101036211B1 (ko) * 2010-06-29 2011-05-20 (주)화백엔지니어링 포토 트랜지스터를 이용한 플라즈마 공정 모니터링 장치
US9263241B2 (en) * 2011-05-10 2016-02-16 Advanced Energy Industries, Inc. Current threshold response mode for arc management
WO2014094738A2 (de) * 2012-12-18 2014-06-26 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Arclöschverfahren und leistungsversorgungssystem mit einem leistungswandler

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002072912A1 (fr) * 2001-03-12 2002-09-19 Nikko Materials Company, Limited Poudre d'oxyde d'etain destinee a une cible de pulverisation ito, procede de fabrication de cette poudre, cible de pulverisation de corps fritte destinee a la production d'une couche ito, et procede de fabrication de cette cible
JP2008047292A (ja) * 2006-08-10 2008-02-28 Nippon Reliance Kk アーク放電抑止装置および方法
JP2010510633A (ja) * 2006-11-23 2010-04-02 ヒュッティンガー エレクトローニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト プラズマプロセスにおけるアーク放電を識別する方法およびアーク放電識別装置
JP2008226839A (ja) * 2007-03-08 2008-09-25 Huettinger Elektronik Gmbh & Co Kg プラズマプロセスの動作の際のアーク放電の抑制のための方法及びプラズマプロセスに対するアーク放電識別装置及びプラズマプロセスの電力供給のための電力源を有するプラズマ電力供給装置
JP2011527379A (ja) * 2008-06-17 2011-10-27 シュナイダー エレクトリック ユーエスエイ インコーポレイテッド ウェーハレベルアーク検出のための装置と方法
WO2011064958A1 (ja) * 2009-11-25 2011-06-03 株式会社アルバック 電源装置
WO2012023276A1 (ja) * 2010-08-18 2012-02-23 株式会社アルバック 直流電源装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021533358A (ja) * 2018-08-02 2021-12-02 トゥルンプフ ヒュッティンガー スプウカ ズ オグラニショナ オドポヴィヂャルノスツィアTRUMPF Huettinger Sp. z o. o. アークを検出するアーク検出器、プラズマシステムおよびアーク検出方法
US11674981B2 (en) 2018-08-02 2023-06-13 Trumpf Huettinger Sp. Z O. O. Arc detector for detecting arcs, plasma system and method of detecting arcs
JP7402219B2 (ja) 2018-08-02 2023-12-20 トゥルンプフ ヒュッティンガー スプウカ ズ オグラニショナ オドポヴィヂャルノスツィア アークを検出するアーク検出器、プラズマシステムおよびアーク検出方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20170330737A1 (en) 2017-11-16
KR102223497B1 (ko) 2021-03-09
EP3054472A1 (en) 2016-08-10
KR20170109047A (ko) 2017-09-27
EP3254295B1 (en) 2018-11-14
CN107454978A (zh) 2017-12-08
US10297431B2 (en) 2019-05-21
JP6682543B2 (ja) 2020-04-15
WO2016124440A1 (en) 2016-08-11
EP3254295A1 (en) 2017-12-13
CN107454978B (zh) 2019-05-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2018504760A (ja) アークを処理する装置およびアークを処理する方法
JP6622311B2 (ja) プラズマプロセスの電力供給中に発生するアークを検出する方法、及び、プラズマ電源
US6967305B2 (en) Control of plasma transitions in sputter processing systems
KR101104778B1 (ko) 증착 타겟을 컨디셔닝하기 위한 방법 및 시스템
JP2006140440A (ja) 電気アークの検出および抑制
JP6538702B2 (ja) プラズマプロセスにおける放電を監視する方法およびプラズマにおける放電を監視する監視装置
WO2003103348A1 (ja) 放電用電源、スパッタリング用電源及びスパッタリング装置
EP2905802B1 (en) Method of detecting arcs in a plasma process and power supply for supplying an output quantity to a plasma process
KR101302158B1 (ko) 플라즈마 처리장치 제어방법
JP2007134336A (ja) 真空プラズマプロセス装置の作動方法および真空プラズマプロセス装置
JP6075703B2 (ja) Dbdプラズマ設備における基板損傷を防止するための装置及びプロセス
JP2009252832A (ja) 異常放電検出方法
JP2006288009A (ja) 高周波電源装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180305

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190129

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190204

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190910

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20200109

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20200117

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200302

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200325

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6682543

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250