JP2018190869A - Transport device, lithographic apparatus, and manufacturing method of material - Google Patents
Transport device, lithographic apparatus, and manufacturing method of material Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018190869A JP2018190869A JP2017093373A JP2017093373A JP2018190869A JP 2018190869 A JP2018190869 A JP 2018190869A JP 2017093373 A JP2017093373 A JP 2017093373A JP 2017093373 A JP2017093373 A JP 2017093373A JP 2018190869 A JP2018190869 A JP 2018190869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- support member
- holding surface
- arm
- lift bar
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
Description
本発明は、搬送装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法に関する。 The present invention relates to a conveying apparatus, a lithographic apparatus, and an article manufacturing method.
液晶表示デバイス（液晶パネル）や半導体デバイスなどは、フォトリソグラフィ工程を経て製造される。フォトリソグラフィ工程では、例えば、走査型露光装置が使用されている。かかる露光装置は、マスク（原版）を保持するマスクステージと、基板を保持する基板ステージとを有し、マスクステージと基板ステージとを移動させながら、投影光学系を介してマスクのパターンを基板に転写するリソグラフィ装置である。１つの基板に対する露光が完了すると、露光された基板をロボットハンドに渡す。そして、新たな基板をロボットハンドから受け取り、かかる基板の露光を開始する。このような基板の搬送（受け渡し）は、基板の大きさや厚さ、周辺部材への干渉、露光装置及び基板に対するダメージの抑制、装置サイズの縮小を考慮して、リフトバーやリフトピンなどの支持部材を含む基板搬送機構を用いて行われる。 A liquid crystal display device (liquid crystal panel), a semiconductor device, etc. are manufactured through a photolithography process. In the photolithography process, for example, a scanning exposure apparatus is used. Such an exposure apparatus has a mask stage for holding a mask (original) and a substrate stage for holding a substrate, and the pattern of the mask is applied to the substrate via the projection optical system while moving the mask stage and the substrate stage. A lithographic apparatus for transferring. When the exposure for one substrate is completed, the exposed substrate is transferred to the robot hand. Then, a new substrate is received from the robot hand, and exposure of the substrate is started. Such substrate transport (delivery) takes into account the support members such as lift bars and lift pins in consideration of the size and thickness of the substrate, interference with peripheral members, suppression of damage to the exposure apparatus and the substrate, and reduction of the apparatus size. This is performed using a substrate transport mechanism that includes the substrate.
そこで、基板搬送機構に関して、駆動源であるモーターや複数のリンクで構成される回転駆動機構又は直動駆動機構によって、基板の搬送を実現する技術が提案されている（特許文献１及び２参照）。例えば、基板チャックからロボットハンドに基板を搬送する際に、基板を支持した支持部材をロボットハンドに向けて回転駆動することで、基板の受け渡し位置までの基板ステージの移動ストロークを短縮することが可能となり、装置サイズの縮小に寄与する。 Therefore, with respect to the substrate transport mechanism, a technique has been proposed in which the substrate is transported by a rotation drive mechanism or a linear motion drive mechanism including a motor as a drive source and a plurality of links (see Patent Documents 1 and 2). . For example, when the substrate is transferred from the substrate chuck to the robot hand, the support stage that supports the substrate is driven to rotate toward the robot hand, thereby shortening the movement stroke of the substrate stage to the substrate delivery position. This contributes to the reduction of the device size.
しかしながら、支持部材で基板を支持した状態では支持部材間に基板の撓みが発生しているため、支持部材を回転駆動する際に基板の裏面と基板チャックとが擦れてしまう。これにより、基板チャックが摩耗し、フォーカス精度が低下してしまうため、十分な露光性能を発揮できない可能性がある。 However, since the substrate is bent between the support members in a state where the substrate is supported by the support member, the back surface of the substrate and the substrate chuck are rubbed when the support member is rotationally driven. As a result, the substrate chuck is worn and the focus accuracy is lowered, so that there is a possibility that sufficient exposure performance cannot be exhibited.
特許文献１には、基板を支持した支持部材を、基板チャックに対して垂直方向に駆動（昇降）する技術が開示されている。特許文献１に開示された技術では、基板の裏面と基板チャックとの擦れは殆ど生じないが、基板の受け渡し位置までの基板ステージの移動ストロークが長くなるため、装置サイズが拡大してしまう。 Patent Document 1 discloses a technique for driving (raising and lowering) a support member that supports a substrate in a direction perpendicular to the substrate chuck. In the technique disclosed in Patent Document 1, the back surface of the substrate and the substrate chuck hardly rub, but the movement stroke of the substrate stage to the substrate transfer position becomes long, so that the apparatus size increases.
また、特許文献２には、基板を支持するリフトピンを、基板チャックに対して斜め方向に駆動する技術が開示されている。但し、特許文献２に開示された技術は、リフトピンに支持された基板の撓みを考慮しておらず、基板の裏面と基板チャックとが擦れてしまう構造である。また、特許文献２に開示された技術では、基板ステージ上にストッパピンが設けられており、リフトピンの駆動とともに基板（の側面）をストッパピンに接触させることで基板の位置決めを行っている。従って、特許文献２では、基板とストッパピンとの間に接触や擦れが生じるため、基板の変形や破損のリスクがある。特に、近年では、基板の大型化及び薄型化が進んでいるため、基板の変形や破損のリスクが増大する傾向にある。 Patent Document 2 discloses a technique for driving a lift pin that supports a substrate in an oblique direction with respect to the substrate chuck. However, the technique disclosed in Patent Document 2 does not consider the bending of the substrate supported by the lift pins, and has a structure in which the back surface of the substrate and the substrate chuck are rubbed. In the technique disclosed in Patent Document 2, stopper pins are provided on the substrate stage, and the substrate is positioned by bringing the substrate (side surfaces) into contact with the stopper pins while driving the lift pins. Therefore, in Patent Document 2, since contact and rubbing occur between the substrate and the stopper pin, there is a risk of deformation or breakage of the substrate. In particular, in recent years, since the substrate is becoming larger and thinner, the risk of deformation and breakage of the substrate tends to increase.
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、基板を搬送するのに有利な搬送装置を提供することを例示的目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a transport device that is advantageous for transporting a substrate.
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての搬送装置は、基板を保持する保持面を含む基板保持部と、前記保持面から斜め上方に離れた第１位置との間で前記基板を搬送する搬送装置であって、前記基板を支持する支持部材と、鉛直方向の位置が前記保持面と前記第１位置との間にある第２位置を経由して前記支持部材を駆動する駆動機構と、を有し、前記駆動機構は、前記保持面の位置と前記第２位置との間では前記支持部材が鉛直方向に軌道を描き、前記第１位置と前記第２位置との間では前記支持部材が円弧状の軌道を描くように、前記支持部材を駆動することを特徴とする。 In order to achieve the above object, a transport apparatus according to one aspect of the present invention includes a substrate holding unit including a holding surface that holds a substrate and a first position that is obliquely separated from the holding surface. A driving device that drives the support member via a support member that supports the substrate and a second position whose vertical position is between the holding surface and the first position. And the drive mechanism has a vertical trajectory between the position of the holding surface and the second position, and between the first position and the second position. The support member is driven so that the support member draws an arcuate track.
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。 Further objects and other aspects of the present invention will become apparent from the preferred embodiments described below with reference to the accompanying drawings.
本発明によれば、例えば、基板を搬送するのに有利な搬送装置を提供することができる。 According to the present invention, for example, it is possible to provide an advantageous transport device for transporting a substrate.
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, preferred embodiments of the invention will be described with reference to the accompanying drawings. In addition, in each figure, the same reference number is attached | subjected about the same member and the overlapping description is abbreviate | omitted.
図１は、本発明の一側面としての露光装置１の構成を示す概略図である。露光装置１は、液晶表示デバイスや半導体デバイスの製造工程であるリソグラフィ工程に採用され、パターンを基板に形成するリソグラフィ装置である。露光装置１は、本実施形態では、ミラープロジェクションタイプ及びステップ・アンド・スキャン方式を採用する走査型露光装置（スキャナー）である。露光装置１は、マスクＭと基板Ｐとを走査（同期走査）しながら、マスクＭに形成されているパターンを、投影光学系４を介して基板Ｐに転写する。 FIG. 1 is a schematic view showing a configuration of an exposure apparatus 1 as one aspect of the present invention. The exposure apparatus 1 is a lithography apparatus that is employed in a lithography process, which is a manufacturing process of a liquid crystal display device or a semiconductor device, and forms a pattern on a substrate. In this embodiment, the exposure apparatus 1 is a scanning exposure apparatus (scanner) that employs a mirror projection type and a step-and-scan method. The exposure apparatus 1 transfers the pattern formed on the mask M to the substrate P via the projection optical system 4 while scanning (synchronous scanning) the mask M and the substrate P.
露光装置１は、照明光学系２と、マスクステージ３と、投影光学系４と、基板ステージ５と、制御部６とを有する。露光装置１は、露光チャンバ２０に収容されている。また、ここでは、鉛直方向であるＺ軸に垂直な平面内で、マスクＭ及び基板Ｐの走査方向をＹ軸とし、Ｙ軸に直交する非走査方向をＸ軸とする。 The exposure apparatus 1 includes an illumination optical system 2, a mask stage 3, a projection optical system 4, a substrate stage 5, and a control unit 6. The exposure apparatus 1 is accommodated in an exposure chamber 20. Here, in the plane perpendicular to the Z axis, which is the vertical direction, the scanning direction of the mask M and the substrate P is the Y axis, and the non-scanning direction orthogonal to the Y axis is the X axis.
照明光学系２は、例えば、超高圧水銀ランプなどの光源からの光を用いて、マスクＭを照明する。照明光学系２は、本実施形態では、マスクＭに対してスリット状に成形された照明光を照射する。 The illumination optical system 2 illuminates the mask M using light from a light source such as an extra-high pressure mercury lamp. In this embodiment, the illumination optical system 2 irradiates the mask M with illumination light shaped like a slit.
マスクＭは、例えば、基板Ｐに転写すべきパターン（例えば、回路パターン）が形成されたガラス製の原版である。マスクステージ３は、マスクＭを保持してＸ及びＹ方向に移動するステージである。 The mask M is, for example, a glass original plate on which a pattern (for example, a circuit pattern) to be transferred to the substrate P is formed. The mask stage 3 is a stage that holds the mask M and moves in the X and Y directions.
投影光学系４は、マスクステージ３に保持されたマスクＭと、チャック７を介して基板ステージ５に保持された基板Ｐとを光学的に共役な関係に維持し、マスクＭの照明領域に存在するパターンの像を基板Ｐに投影する。投影光学系４は、本実施形態では、第１平行平板８と、台形鏡９と、凹面鏡１０と、凸面鏡１１と、第２平行平板１２とを含む。投影光学系４において、マスクＭからの光は、第１平行平板８、台形鏡９、凸面鏡１１、凹面鏡１０、台形鏡９、第２平行平板１２を順に経て、基板Ｐに到達する。基板上における投影光学系４からの光の投影領域（露光領域）は、所定の形状、例えば、円弧形状に設定されている。 The projection optical system 4 maintains the optically conjugate relationship between the mask M held on the mask stage 3 and the substrate P held on the substrate stage 5 via the chuck 7, and exists in the illumination area of the mask M. An image of the pattern to be projected is projected onto the substrate P. In the present embodiment, the projection optical system 4 includes a first parallel plate 8, a trapezoidal mirror 9, a concave mirror 10, a convex mirror 11, and a second parallel plate 12. In the projection optical system 4, the light from the mask M reaches the substrate P through the first parallel plate 8, the trapezoidal mirror 9, the convex mirror 11, the concave mirror 10, the trapezoidal mirror 9, and the second parallel plate 12 in order. The projection area (exposure area) of light from the projection optical system 4 on the substrate is set to a predetermined shape, for example, an arc shape.
基板Ｐは、例えば、表面にレジスト層（感光剤）が形成されたガラス製のプレートである。基板ステージ５は、基板Ｐをチャック７で真空吸着し、例えば、Ｘ、Ｙ及びＺ方向（更には、各軸の回転方向であるθｘ、θｙ及びθｚ方向）に移動するステージである。基板ステージ５の構成については、以下で詳細に説明する。 The substrate P is, for example, a glass plate having a resist layer (photosensitive agent) formed on the surface thereof. The substrate stage 5 is a stage that vacuum-sucks the substrate P with the chuck 7 and moves, for example, in the X, Y, and Z directions (further, in the θx, θy, and θz directions that are the rotation directions of the respective axes). The configuration of the substrate stage 5 will be described in detail below.
制御部６は、ＣＰＵやメモリを含むコンピュータなどで構成され、メモリに格納されたプログラムに従って露光装置１の各部の制御及び演算処理などを行う。また、本実施形態では、制御部６が基板ステージ５を制御するが、基板ステージ５を制御する専用のステージ制御部を設けてもよい。この場合、ステージ制御部は、制御部６からの指令に基づいて、基板ステージ５を制御する。また、制御部６は、露光装置１の他の部分と一体で（共通の筐体内に）構成してもよいし、露光装置１の他の部分とは別体で（別の筐体内に）構成してもよい。 The control unit 6 is configured by a computer including a CPU and a memory, and performs control and arithmetic processing of each unit of the exposure apparatus 1 according to a program stored in the memory. In the present embodiment, the control unit 6 controls the substrate stage 5, but a dedicated stage control unit for controlling the substrate stage 5 may be provided. In this case, the stage control unit controls the substrate stage 5 based on a command from the control unit 6. Further, the control unit 6 may be configured integrally with other parts of the exposure apparatus 1 (in a common casing), or separate from the other parts of the exposure apparatus 1 (in another casing). It may be configured.
露光チャンバ２０には、ロボットハンド２３が収容されたインターフェースチャンバ２２と連通する開口部２１が設けられており、開口部２１を介して、露光装置１とロボットハンド２３との間で基板Ｐの搬送（受け渡し）が行われる。本実施形態では、基板Ｐを保持したロボットハンド２３が開口部２１を介して露光チャンバ２０に進入すると、基板ステージ５を、開口部２１の近傍の所定の位置（基板Ｐの搬送位置）まで移動させる。そして、リフトバー３１をロボットハンド２３の近傍まで駆動（上昇）させて、ロボットハンド２３から基板Ｐを受け取る。 The exposure chamber 20 is provided with an opening 21 communicating with the interface chamber 22 in which the robot hand 23 is accommodated, and the substrate P is transferred between the exposure apparatus 1 and the robot hand 23 through the opening 21. (Delivery) is performed. In the present embodiment, when the robot hand 23 holding the substrate P enters the exposure chamber 20 through the opening 21, the substrate stage 5 is moved to a predetermined position near the opening 21 (the transfer position of the substrate P). Let Then, the lift bar 31 is driven (raised) to the vicinity of the robot hand 23 to receive the substrate P from the robot hand 23.
図２は、基板ステージ５の近傍の構成を示す概略図である。基板ステージ５の上には、図２に示すように、チャック７が配置されている。チャック７は、例えば、基板Ｐの裏面を真空吸着して基板Ｐを保持する保持面７ａを含む基板保持部として機能する。また、基板ステージ５には、チャック７と、開口部２１を介して露光チャンバ２０に進入しているロボットハンド２３との間での基板Ｐの搬送に用いられるリフトバー３１が設けられている。このように、本実施形態では、基板Ｐの搬送には、基板Ｐの大きさや厚さ、周辺部材への干渉、露光装置１及び基板Ｐに対するダメージの抑制、装置サイズの縮小を考慮して、リフトバー３１を用いている。 FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration in the vicinity of the substrate stage 5. A chuck 7 is disposed on the substrate stage 5 as shown in FIG. For example, the chuck 7 functions as a substrate holding portion including a holding surface 7 a that holds the substrate P by vacuum-sucking the back surface of the substrate P. Further, the substrate stage 5 is provided with a lift bar 31 used for transporting the substrate P between the chuck 7 and the robot hand 23 entering the exposure chamber 20 through the opening 21. As described above, in the present embodiment, the size and thickness of the substrate P, interference with peripheral members, suppression of damage to the exposure apparatus 1 and the substrate P, and reduction of the apparatus size are taken into consideration for transporting the substrate P. A lift bar 31 is used.
図３（ａ）及び図３（ｂ）は、チャック７とロボットハンド２３との間でのリフトバー３１を用いた基板Ｐの搬送を説明するための図である。例えば、基板Ｐの搬送時以外では、リフトバー３１は、図３（ａ）に示すように、チャック７の保持面７ａよりも下方の位置に退避（位置）している。そして、基板Ｐの搬送時には、リフトバー３１は、図３（ｂ）に示すように、チャック７の上方（＋Ｚ方向）及びロボットハンド２３に向かう方向（＋Ｙ方向）に突出することでチャック７から基板Ｐを受け取り、かかる基板Ｐをロボットハンド２３に渡す。 FIGS. 3A and 3B are views for explaining the transport of the substrate P using the lift bar 31 between the chuck 7 and the robot hand 23. For example, when the substrate P is not transported, the lift bar 31 is retracted (positioned) to a position below the holding surface 7a of the chuck 7 as shown in FIG. When the substrate P is transported, the lift bar 31 protrudes from the chuck 7 by protruding upward (+ Z direction) and toward the robot hand 23 (+ Y direction) as shown in FIG. 3B. P is received and the substrate P is transferred to the robot hand 23.
以下、チャック７とロボットハンド２３との間で基板Ｐを搬送する搬送装置の具体的な構成を各実施形態で説明する。かかる搬送装置は、基板Ｐを支持する支持部材として機能するリフトバー３１と、リフトバー３１を駆動する駆動機構とを有する。かかる駆動機構は、鉛直方向の位置がチャック７の保持面７ａと保持面７ａから斜め上方に離れた第１位置（ロボットハンド２３の位置）との間にある第２位置を経由してリフトバー３１を駆動する。 Hereinafter, a specific configuration of a transfer device that transfers the substrate P between the chuck 7 and the robot hand 23 will be described in each embodiment. Such a transport apparatus includes a lift bar 31 that functions as a support member that supports the substrate P, and a drive mechanism that drives the lift bar 31. Such a drive mechanism has a lift bar 31 via a second position whose vertical position is between the holding surface 7a of the chuck 7 and a first position (position of the robot hand 23) obliquely upward from the holding surface 7a. Drive.
＜第１実施形態＞
図４は、第１実施形態における搬送装置５０の構成を示す概略図である。図４は、リフトバー３１がチャック７の保持面７ａより下方に位置した状態、即ち、基板Ｐを搬送していない状態を示している。なお、リフトバー３１からロボットハンド２３に基板Ｐを渡す位置、即ち、第１位置は、＋Ｙ方向にある。搬送装置５０は、リフトバー３１を駆動する駆動機構として、アーム駆動部７０と、アーム従動部８０とを有する。
<First Embodiment>
FIG. 4 is a schematic diagram illustrating the configuration of the transfer device 50 according to the first embodiment. FIG. 4 shows a state where the lift bar 31 is positioned below the holding surface 7 a of the chuck 7, that is, a state where the substrate P is not transported. The position where the substrate P is transferred from the lift bar 31 to the robot hand 23, that is, the first position is in the + Y direction. The transport device 50 includes an arm driving unit 70 and an arm driven unit 80 as a driving mechanism for driving the lift bar 31.
リフトバー３１は、ベース９０の上に配置されたアーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれに設けられた支持ブロック６９に支持される。支持ブロック６９は、リフトバー３１の基板Ｐを支持する側の面３１ａとは反対側の面（第１面）３１ｂに固定される。また、ローラー６２は、ベース９０の上に配置されたローラーベース６１に回転可能に支持される。ローラー６２は、リフトバー３１の面３１ｂに固定されたローラーガイド６３に接触可能な接触部材である。ローラーガイド６３は、Ｚ方向（鉛直方向）に延在してローラー６２が接触する接触面６３ａを形成する。 The lift bar 31 is supported by a support block 69 provided in each of the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80 disposed on the base 90. The support block 69 is fixed to a surface (first surface) 31b opposite to the surface 31a on the side of the lift bar 31 that supports the substrate P. The roller 62 is rotatably supported by the roller base 61 disposed on the base 90. The roller 62 is a contact member that can contact the roller guide 63 fixed to the surface 31 b of the lift bar 31. The roller guide 63 extends in the Z direction (vertical direction) and forms a contact surface 63a with which the roller 62 contacts.
アーム駆動部７０において、アーム７３の駆動源として機能するモーター７１は、ベース９０の上に配置されている。アーム７３は、その一端がモーター７１の回転軸７２に回転可能に連結されている。アーム７３は、リフトバー３１を支持し、その一端を回転軸として（回転軸７２を中心として）モーター７１によって回転駆動される。また、アーム７３の他端は、アームブロック７９に連結されている。アームブロック７９は、リニアガイド７７とアーム７３の他端とを、モーター７１の回転軸７２に平行な軸（回転軸）７４を中心として回転可能に連結するブロックである。 In the arm driving unit 70, a motor 71 that functions as a driving source for the arm 73 is disposed on the base 90. One end of the arm 73 is rotatably connected to the rotating shaft 72 of the motor 71. The arm 73 supports the lift bar 31 and is rotationally driven by a motor 71 with one end thereof serving as a rotation axis (centering on the rotation axis 72). The other end of the arm 73 is connected to the arm block 79. The arm block 79 is a block that connects the linear guide 77 and the other end of the arm 73 so as to be rotatable about an axis (rotation axis) 74 parallel to the rotation axis 72 of the motor 71.
アームブロック７９と支持ブロック６９との間には、リニアガイド７７が配置されている。リニアガイド７７は、リフトバー３１の面３１ｂに設けられてＺ方向に直交するＹ方向（水平方向）にスライドするスライド部材である。リニアガイド７７は、本実施形態では、アームブロック７９に設けられたリニア可動子７７ａと、支持ブロック６９に設けられたリニア固定子７７ｂとを含む。リニア可動子７７ａとリニア固定子７７ｂとは、相対的にＹ方向にスライド可能である。なお、リニア可動子７７ａを支持ブロック６９に設け、リニア固定子７７ｂをアームブロック７９に設けてもよい。 A linear guide 77 is disposed between the arm block 79 and the support block 69. The linear guide 77 is a slide member that is provided on the surface 31 b of the lift bar 31 and slides in the Y direction (horizontal direction) orthogonal to the Z direction. In this embodiment, the linear guide 77 includes a linear movable element 77 a provided in the arm block 79 and a linear stator 77 b provided in the support block 69. The linear mover 77a and the linear stator 77b are relatively slidable in the Y direction. The linear movable element 77 a may be provided in the support block 69 and the linear stator 77 b may be provided in the arm block 79.
アームブロック７９には、バネ部材７５が接している。バネ部材７５は、アームブロック７９とバネ受け７６との間に配置されている。このように、バネ部材７５は、一端がアームブロック７９に連結され、他端がバネ受け７６に連結されてＹ方向（水平方向）に伸縮する。バネ受け７６は、バネ部材７５のＹ方向の初期の長さを調整可能なように、支持ブロック６９に設けられている。なお、バネ部材７５は、Ｙ方向に縮められた状態（伸びようとする内部応力を有する状態）で、Ｙ軸方向のみに伸縮可能なように案内される。また、リフトバー３１の面３１ａを水平に維持するため、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれのバネ部材７５の力が同じになるように、各バネ部材のＹ方向の長さが調整されている。なお、バネ部材７５は、本実施形態では、引張バネで構成されているが、圧縮バネ、ゴムなどの弾性部材、エアシリンダ、アクチュエータなどに置き換えることも可能である。 A spring member 75 is in contact with the arm block 79. The spring member 75 is disposed between the arm block 79 and the spring receiver 76. Thus, one end of the spring member 75 is connected to the arm block 79 and the other end is connected to the spring receiver 76 to expand and contract in the Y direction (horizontal direction). The spring receiver 76 is provided on the support block 69 so that the initial length of the spring member 75 in the Y direction can be adjusted. In addition, the spring member 75 is guided so that it can be expanded and contracted only in the Y-axis direction in a state where the spring member 75 is contracted in the Y direction (a state having an internal stress to be extended). Further, in order to keep the surface 31a of the lift bar 31 horizontal, the length of each spring member in the Y direction is adjusted so that the force of each spring member 75 of the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80 is the same. ing. In this embodiment, the spring member 75 is constituted by a tension spring, but it can be replaced with an elastic member such as a compression spring or rubber, an air cylinder, an actuator, or the like.
アーム従動部８０において、アーム７３の一端は、回転軸７２を介して従動軸ブロック７８に回転可能に連結されている。アーム従動部８０の他の構成は、アーム駆動部７０の構成と同様であるため、ここでの詳細な説明は省略する。従って、図３では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれに設けられたバネ部材７５のＹ方向に伸びようとする内部応力によって、ローラーガイド６３（接触面６３ａ）がローラー６２に押し付けられている。このように、バネ部材７５は、ローラーガイド６３をローラー６２に押し付ける押付部材として機能する。 In the arm driven portion 80, one end of the arm 73 is rotatably connected to the driven shaft block 78 via the rotation shaft 72. Since the other structure of the arm driven part 80 is the same as that of the arm drive part 70, detailed description here is abbreviate | omitted. Therefore, in FIG. 3, the roller guide 63 (contact surface 63 a) is pressed against the roller 62 by the internal stress that tends to extend in the Y direction of the spring member 75 provided in each of the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80. ing. Thus, the spring member 75 functions as a pressing member that presses the roller guide 63 against the roller 62.
図５（ａ）、図５（ｂ）及び図５（ｃ）を参照して、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０（駆動機構）によるリフトバー３１の駆動を説明する。図５（ａ）乃至図５（ｃ）は、リフトバー３１の駆動の様子（駆動状態）を示す概略図である。 The drive of the lift bar 31 by the arm drive unit 70 and the arm driven unit 80 (drive mechanism) will be described with reference to FIGS. 5 (a), 5 (b), and 5 (c). FIG. 5A to FIG. 5C are schematic views showing how the lift bar 31 is driven (driving state).
図５（ａ）は、リフトバー３１がチャック７の保持面７ａよりも下方に位置した状態を示している。図５（ｂ）は、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０によってアーム７３を回転駆動することでリフトバー３１が＋Ｚ方向のみに駆動された（即ち、直線駆動された）状態を示している。なお、図５（ｂ）では、リフトバー３１は、鉛直方向の位置がチャック７の保持面７ａと、保持面７ａから斜め上方に離れた第１位置との間にある第２位置に位置している。ここで、第２位置は、チャック７の保持面７ａと第１位置との間の位置であり、且つ、リフトバー３１に支持された基板Ｐが保持面７ａと接触しない位置である。アーム駆動部７０及びアーム従動部８０は、モーター７１を駆動源として、それぞれに設けられた回転軸７２を中心として時計回りにアーム７３を回転駆動する。この際、ローラーガイド６３は、バネ部材７５（のＹ方向の予圧）によって、ローラー６２に押し付けられた状態で＋Ｚ方向に移動する。このように、ローラーガイド６３がローラー６２に接触した状態でＺ方向に移動することで、チャック７の保持面７ａの位置と第２位置との間におけるリフトバー３１のＺ方向への直線駆動を規定する。 FIG. 5A shows a state where the lift bar 31 is positioned below the holding surface 7 a of the chuck 7. FIG. 5B shows a state where the lift bar 31 is driven only in the + Z direction (that is, linearly driven) by rotationally driving the arm 73 by the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80. In FIG. 5B, the lift bar 31 is positioned at a second position where the vertical position is between the holding surface 7a of the chuck 7 and the first position that is obliquely separated from the holding surface 7a. Yes. Here, the second position is a position between the holding surface 7a of the chuck 7 and the first position, and is a position where the substrate P supported by the lift bar 31 does not contact the holding surface 7a. The arm drive unit 70 and the arm follower unit 80 drive the arm 73 in a clockwise direction around a rotation shaft 72 provided on each of the motor 71 as a drive source. At this time, the roller guide 63 moves in the + Z direction while being pressed against the roller 62 by the spring member 75 (preload in the Y direction). In this way, by moving the roller guide 63 in the Z direction in contact with the roller 62, the linear drive in the Z direction of the lift bar 31 between the position of the holding surface 7a of the chuck 7 and the second position is specified. To do.
また、ローラーガイド６３にローラー６２が接触している間は、図５（ｂ）に示すように、バネ部材７５が延伸することで、リフトバー３１が＋Ｙ方向に移動しようとする距離分を吸収するため、リフトバー３１は、＋Ｚ方向のみに駆動されることになる。このように、バネ部材７５は、アームブロック７９と協同して、保持面７ａの位置と第２位置との間でリフトバー３１を駆動する間において、リフトバー３１とアーム７３との間にＹ方向（水平方向）の駆動に関する遊びを形成する変換機構として機能する。 Further, while the roller 62 is in contact with the roller guide 63, as shown in FIG. 5B, the spring member 75 is stretched to absorb the distance the lift bar 31 is about to move in the + Y direction. Therefore, the lift bar 31 is driven only in the + Z direction. In this manner, the spring member 75 cooperates with the arm block 79 to drive the lift bar 31 between the position of the holding surface 7a and the second position, and between the lift bar 31 and the arm 73 in the Y direction ( It functions as a conversion mechanism that forms play relating to driving in the horizontal direction.
図６（ａ）及び図６（ｂ）は、バネ部材７５の近傍の構成を示す概略断面図である。バネ部材７５は、本実施形態では、中空部７５ｂを有するコイルバネ７５ａで構成され、その一端がアームブロック７９に連結され、他端がバネ受け７６に連結されている。ストッパー８１は、アームブロック７９に固定され、コイルバネ７５ａの中空部７５ｂ及びバネ受け７６に設けられた孔７６ａに貫通している。コイルバネ７５ａは、図６（ｂ）に示すように、リフトバー３１の駆動を開始することで延伸する。コイルバネ７５ａの延伸距離は、図６（ａ）に示すように、寸法Ｂによって管理可能である。換言すれば、ストッパー８１は、コイルバネ７５ａの中空部７５ｂに挿入され、コイルバネ７５ａの延伸距離を管理することで、リニアガイド７７のＹ方向への移動量を規制する規制部材として機能する。 FIG. 6A and FIG. 6B are schematic cross-sectional views showing the configuration in the vicinity of the spring member 75. In this embodiment, the spring member 75 is constituted by a coil spring 75 a having a hollow portion 75 b, one end of which is connected to the arm block 79 and the other end is connected to the spring receiver 76. The stopper 81 is fixed to the arm block 79 and penetrates through a hollow portion 75b of the coil spring 75a and a hole 76a provided in the spring receiver 76. As shown in FIG. 6B, the coil spring 75 a extends by starting to drive the lift bar 31. The extension distance of the coil spring 75a can be managed by the dimension B as shown in FIG. In other words, the stopper 81 is inserted into the hollow portion 75b of the coil spring 75a and functions as a regulating member that regulates the amount of movement of the linear guide 77 in the Y direction by managing the extension distance of the coil spring 75a.
なお、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すバネ部材７５の構成は、他の構成に置き換えることも可能である。例えば、ストッパー８１の代わりに、リニア可動子７７ａを別に設けたブロック又はピンなどに突き当ててストッパーとし、コイルバネ７５ａの延伸距離を管理してもよい。また、コイルバネ７５ａの延伸距離は、基板Ｐの撓み量に応じて任意に選択することが可能である。また、コイルバネ７５ａの力は、基板Ｐや周辺部材の重さ、リフトバー３１を駆動する際の加速度などに応じて任意に選択することが可能である。 The configuration of the spring member 75 shown in FIGS. 6A and 6B can be replaced with other configurations. For example, instead of the stopper 81, the linear movable element 77a may be abutted against a separately provided block or pin to form a stopper, and the extension distance of the coil spring 75a may be managed. The extension distance of the coil spring 75a can be arbitrarily selected according to the amount of bending of the substrate P. The force of the coil spring 75a can be arbitrarily selected according to the weight of the substrate P and peripheral members, the acceleration when driving the lift bar 31, and the like.
図５（ｃ）は、ローラーガイド６３の接触面６３ａがローラー６２から離れた状態、例えば、リフトバー３１が基板Ｐをロボットハンド２３に渡す位置である第１位置に位置した状態を示している。バネ部材７５が延伸してストッパー８１がバネ受け７６に突き当たった状態から、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０によってアーム７３を更に駆動すると、ローラーガイド６３がローラー６２から離れる。これにより、リフトバー３１は、円弧状の軌道を描くように駆動されることになる。 FIG. 5C shows a state where the contact surface 63 a of the roller guide 63 is separated from the roller 62, for example, a state where the lift bar 31 is located at a first position where the substrate P is transferred to the robot hand 23. If the arm 73 is further driven by the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80 from the state in which the spring member 75 is extended and the stopper 81 is in contact with the spring receiver 76, the roller guide 63 is separated from the roller 62. Thereby, the lift bar 31 is driven so as to draw an arcuate path.
図７は、図５（ａ）、図５（ｂ）及び図５（ｃ）におけるリフトバー３１の駆動によって描かれるリフトバー３１の軌道を示す図である。本実施形態では、リフトバー３１の駆動を開始してから、バネ部材７５が延伸してストッパー８１がバネ受け７６に突き当たるまで、即ち、第２位置までは、リフトバー３１がＺ方向に軌道（Ｉ−ＩＩ）を描くように、リフトバー３１が駆動される。また、ローラーガイド６３の接触面６３ａがローラー６２から離れてから、基板Ｐをロボットハンド２３に渡す位置まで、即ち、第２位置と第１位置との間では、リフトバー３１が円弧状の軌道（ＩＩ−ＩＩＩ）を描くように、リフトバー３１が駆動される。このように、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０は、第２位置まではリフトバー３１が鉛直方向に軌道を描き、第２位置と第１位置との間ではリフトバー３１が円弧状の軌道を描くように（軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩ）、リフトバー３１を駆動する。一方、従来技術のように、リフトバー３１の回転駆動のみを行う場合には、リフトバー３１は、軌道ＩＶ−ＩＩ−ＩＩＩを描くことになる。 FIG. 7 is a view showing the trajectory of the lift bar 31 drawn by driving the lift bar 31 in FIGS. 5 (a), 5 (b) and 5 (c). In this embodiment, after the drive of the lift bar 31 starts, the lift bar 31 moves in the Z direction (I−) until the spring member 75 extends and the stopper 81 hits the spring receiver 76, that is, up to the second position. The lift bar 31 is driven so as to draw II). In addition, the lift bar 31 has an arc-shaped trajectory (between the second position and the first position) from the time when the contact surface 63a of the roller guide 63 is separated from the roller 62 to the position where the substrate P is transferred to the robot hand 23. The lift bar 31 is driven so as to draw II-III). Thus, in the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80, the lift bar 31 draws a trajectory in the vertical direction up to the second position, and the lift bar 31 draws an arc-shaped trajectory between the second position and the first position. (Track I-II-III), the lift bar 31 is driven. On the other hand, when only the rotational drive of the lift bar 31 is performed as in the prior art, the lift bar 31 draws a track IV-II-III.
図８は、リフトバー３１に支持された基板Ｐの状態を段階的に示す図である。図８では、リフトバー３１の数を５本としているが、実際には、リフトバー３１の数は、基板Ｐのサイズや装置状態に応じて任意に設定することができる。また、リフトバー３１の数に応じて、搬送装置５０は、それぞれ同様に並列に配置される。 FIG. 8 is a diagram showing the state of the substrate P supported by the lift bar 31 step by step. In FIG. 8, the number of lift bars 31 is five, but in practice, the number of lift bars 31 can be arbitrarily set according to the size of the substrate P and the apparatus state. Moreover, according to the number of the lift bars 31, the conveying apparatuses 50 are similarly arranged in parallel.
図８（ａ）は、チャック７の保持面７ａに保持された基板Ｐの裏面にリフトバー３１が接した状態を示している。図８（ｂ）は、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩを描くように駆動している間の基板Ｐの状態を示している。図８（ｃ）は、リフトバー３１が第２位置に位置しているときの基板Ｐの状態を示している。ここで、リフトバー３１を保持面７ａの位置から第２位置に駆動する際のリフトバー３１のＺ方向の駆動距離Ｖは、基板Ｐをリフトバー３１で支持したときにリフトバー３１の間に発生する基板ＰのＺ方向の撓み量Ｔよりも大きくする（Ｖ＞Ｔ）必要がある。換言すれば、リフトバー３１に支持された基板Ｐ（Ｚ方向に撓んだ基板Ｐ）とチャック７の保持面７ａとの間の距離（隙間）ｔを０以上にする必要がある。これにより、基板Ｐの裏面とチャック７（保持面７ａ）とが擦れることなく、チャック７からロボットハンド２３に基板Ｐを搬送することができる。 FIG. 8A shows a state where the lift bar 31 is in contact with the back surface of the substrate P held on the holding surface 7 a of the chuck 7. FIG. 8B shows the state of the substrate P while the lift bar 31 is driven so as to draw the trajectory I-II shown in FIG. FIG. 8C shows the state of the substrate P when the lift bar 31 is located at the second position. Here, the driving distance V in the Z direction of the lift bar 31 when driving the lift bar 31 from the position of the holding surface 7 a to the second position is the substrate P generated between the lift bars 31 when the substrate P is supported by the lift bar 31. Needs to be larger than the amount of deflection T in the Z direction (V> T). In other words, the distance (gap) t between the substrate P supported by the lift bar 31 (substrate P bent in the Z direction) and the holding surface 7a of the chuck 7 needs to be 0 or more. Accordingly, the substrate P can be transferred from the chuck 7 to the robot hand 23 without rubbing the back surface of the substrate P and the chuck 7 (holding surface 7a).
このように、本実施形態では、チャック７からロボットハンド２３に基板Ｐを搬送する際に、まず、基板Ｐを支持するリフトバー３１が鉛直方向に軌道を描き、その後、リフトバー３１が円弧状の軌道を描くように、リフトバー３１を駆動する。これにより、基板Ｐを搬送する際の基板Ｐとチャック７との擦れや基板ステージ５の長ストローク化を抑制することができる。 Thus, in the present embodiment, when the substrate P is transferred from the chuck 7 to the robot hand 23, first, the lift bar 31 supporting the substrate P draws a trajectory in the vertical direction, and then the lift bar 31 is an arc-shaped trajectory. The lift bar 31 is driven so as to draw Thereby, rubbing between the substrate P and the chuck 7 when the substrate P is transported and a long stroke of the substrate stage 5 can be suppressed.
本実施形態では、チャック７からロボットハンド２３に基板Ｐを搬送する場合について説明した。但し、ロボットハンド２３からチャック７に基板Ｐを搬送する場合についても同様に、基板Ｐの裏面とチャック７（保持面７ａ）とが擦れることなく、ロボットハンド２３からチャック７に基板Ｐを搬送することができる。 In the present embodiment, the case where the substrate P is transferred from the chuck 7 to the robot hand 23 has been described. However, when the substrate P is transferred from the robot hand 23 to the chuck 7, similarly, the substrate P is transferred from the robot hand 23 to the chuck 7 without rubbing between the back surface of the substrate P and the chuck 7 (holding surface 7 a). be able to.
＜第２実施形態＞
図９は、第２実施形態における搬送装置５１の構成を示す概略図である。上述したように、第１実施形態では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれのバネ部材７５の力が同じになるように、各バネ部材のＹ方向の長さを調整する必要がある。そこで、第２実施形態では、このような調整を不要とし、装置の組立の容易化及び装置コストの低減を実現する搬送装置５１について説明する。
Second Embodiment
FIG. 9 is a schematic diagram showing the configuration of the transport device 51 in the second embodiment. As described above, in the first embodiment, it is necessary to adjust the length of each spring member in the Y direction so that the forces of the spring members 75 of the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80 are the same. . Therefore, in the second embodiment, a description will be given of a transport device 51 that eliminates the need for such adjustment and that facilitates device assembly and reduces device cost.
搬送装置５１では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれのアームブロック７９に連結ベース９１を接続し、バネ部材７５及びバネ受け７６を１つ設けている。図９では、ローラーベース６１、ローラー６２及びローラーガイド６３をアーム従動部側に配置しているが、この配置に限定されるものではない。リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動することが可能であれば、ローラーベース６１、ローラー６２及びローラーガイド６３は、任意の位置に配置することができる。 In the transport device 51, a coupling base 91 is connected to each arm block 79 of the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80, and one spring member 75 and one spring receiver 76 are provided. In FIG. 9, the roller base 61, the roller 62, and the roller guide 63 are arranged on the arm follower side, but are not limited to this arrangement. If the lift bar 31 can be driven so that the lift bar 31 draws the trajectory I-II-III shown in FIG. 7, the roller base 61, the roller 62, and the roller guide 63 can be arranged at arbitrary positions. .
搬送装置５１では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれのアームブロック７９を連結ベース９１で連結しているため、上述したように、１つのバネ部材７５及びバネ受け７６を設けるだけでよい。また、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれの回転軸７４の間のＹ方向の距離Ｌを一定に維持することで、リフトバー３１の面３１ａを常に水平に維持することが可能となる。 In the transport device 51, the arm blocks 79 of the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80 are coupled by the coupling base 91, so that only one spring member 75 and spring receiver 76 need be provided as described above. . Further, by maintaining the Y-direction distance L between the rotation shafts 74 of the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80 constant, the surface 31a of the lift bar 31 can always be maintained horizontal.
＜第３実施形態＞
図１０は、第３実施形態における搬送装置５２の構成を示す概略図である。搬送装置５２では、アーム駆動部７０及びアーム従動部８０のそれぞれに、アクチュエータ９５及びアクチュエータ伸縮部９６が設けられている。アクチュエータ９５は、電気、油圧、空圧、磁力などを駆動源とする駆動装置を含む。アクチュエータ伸縮部９６は、アームブロック７９に連結してＹ方向に伸縮可能に構成されている。また、アクチュエータ９５及びモーター７１には、それらを制御する制御部６が接続されている。なお、制御部６がアクチュエータ９５及びモーター７１を制御するのではなく、アクチュエータ９５及びモーター７１を制御する専用の制御部を設けてもよい。
<Third Embodiment>
FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a configuration of the transport device 52 according to the third embodiment. In the transport device 52, an actuator 95 and an actuator expansion / contraction unit 96 are provided in each of the arm driving unit 70 and the arm driven unit 80. The actuator 95 includes a driving device that uses electricity, hydraulic pressure, pneumatic pressure, magnetic force, or the like as a driving source. The actuator expansion / contraction part 96 is connected to the arm block 79 and configured to be extendable / contractible in the Y direction. The actuator 95 and the motor 71 are connected to a control unit 6 that controls them. Note that the control unit 6 may provide a dedicated control unit for controlling the actuator 95 and the motor 71 instead of controlling the actuator 95 and the motor 71.
搬送装置５２では、制御部６にて、アクチュエータ伸縮部９６のＹ方向の伸縮量及びタイミングと、モーター７１の回転量及びタイミングとを連動して制御することで、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動する。この際、制御部６は、アーム７３を回転駆動するモーター７１の回転量とアクチュエータ伸縮部９６の伸縮量とを同期させることで、保持面７ａの位置と第２位置との間（軌道Ｉ−ＩＩ）におけるリフトバー３１のＺ方向への直線駆動を規定する。 In the transport device 52, the control unit 6 controls the expansion / contraction amount and timing in the Y direction of the actuator expansion / contraction unit 96 and the rotation amount and timing of the motor 71 in association with each other, so that the lift bar 31 moves as shown in FIG. The lift bar 31 is driven so as to draw I-II-III. At this time, the control unit 6 synchronizes the amount of rotation of the motor 71 that rotationally drives the arm 73 with the amount of expansion / contraction of the actuator expansion / contraction unit 96, so that the position between the position of the holding surface 7a and the second position (track I− The linear drive in the Z direction of the lift bar 31 in II) is defined.
搬送装置５２では、ローラーベース６１、ローラー６２及びローラーガイド６３を設けることなく、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動することができる。このように、搬送装置５２は、簡易な構造を有するため、省スペースに寄与する。 In the transport device 52, the lift bar 31 can be driven so that the lift bar 31 draws the track I-II-III shown in FIG. 7 without providing the roller base 61, the roller 62, and the roller guide 63. Thus, since the conveyance apparatus 52 has a simple structure, it contributes to space saving.
本実施形態では、リフトバー３１の下方又は上方に、リフトバー３１の位置を計測するセンサーなどを配置することも有効である。例えば、センサーで計測されたリフトバー３１の位置を制御部６にフィードバックすることで、外力などによる駆動誤差をリカバーすることが可能となり、露光装置１のダウンタイムを短くすることができる。 In the present embodiment, it is also effective to arrange a sensor for measuring the position of the lift bar 31 below or above the lift bar 31. For example, by feeding back the position of the lift bar 31 measured by the sensor to the control unit 6, it becomes possible to recover a drive error due to an external force or the like, and to reduce the downtime of the exposure apparatus 1.
＜第４実施形態＞
図１１は、第４実施形態における搬送装置５３の構成を示す概略図である。搬送装置５３は、ベース９０の下方（−Ｚ方向）に、アクチュエータ１００、アクチュエータ伸縮部１０１及びベース１０３を設けている。アクチュエータ１００は、電気、油圧、空圧、磁力などを駆動源とする駆動装置を含む。アクチュエータ伸縮部１０１は、Ｚ方向に伸縮可能に構成されている。本実施形態において、アクチュエータ１００やアクチュエータ伸縮部１０１は、チャック７の保持面７ａの位置と第２位置との間においてリフトバー３１をＺ方向に直線駆動する直線駆動部として機能する。一方、モーター７１やアーム７３は、第２位置と第１位置との間においてリフトバー３１を回転駆動する回転駆動部として機能する。また、アクチュエータ１００及びモーター７１には、それらを制御する制御部６が接続されている。なお、制御部６がアクチュエータ１００及びモーター７１を制御するのではなく、アクチュエータ１００及びモーター７１を制御する専用の制御部を設けてもよい。連結ブロック１０４は、アームブロック７９とリフトバー３１とを連結（固定）している。なお、アクチュエータ１００のストロークは、第１実施形態で説明したリフトバー３１のＺ方向の駆動距離Ｖ以上である。
<Fourth embodiment>
FIG. 11 is a schematic diagram illustrating a configuration of the transport device 53 according to the fourth embodiment. The transport device 53 includes an actuator 100, an actuator expansion / contraction part 101, and a base 103 below the base 90 (−Z direction). The actuator 100 includes a drive device that uses electricity, hydraulic pressure, pneumatic pressure, magnetic force, or the like as a drive source. The actuator expansion / contraction part 101 is configured to be extendable / contractible in the Z direction. In this embodiment, the actuator 100 and the actuator expansion / contraction part 101 function as a linear drive part that linearly drives the lift bar 31 in the Z direction between the position of the holding surface 7a of the chuck 7 and the second position. On the other hand, the motor 71 and the arm 73 function as a rotational drive unit that rotationally drives the lift bar 31 between the second position and the first position. The actuator 100 and the motor 71 are connected to a control unit 6 that controls them. Note that the control unit 6 may provide a dedicated control unit for controlling the actuator 100 and the motor 71 instead of controlling the actuator 100 and the motor 71. The connection block 104 connects (fixes) the arm block 79 and the lift bar 31. The stroke of the actuator 100 is equal to or greater than the driving distance V in the Z direction of the lift bar 31 described in the first embodiment.
搬送装置５３では、制御部６にて、アクチュエータ伸縮部１０１のＺ方向の伸縮量及びタイミングと、モーター７１の回転量及びタイミングとを連動して制御することで、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動する。 In the transport device 53, the control unit 6 controls the amount of expansion and contraction in the Z direction of the actuator expansion and contraction unit 101 and the amount of rotation and timing of the motor 71 in conjunction with each other, so that the lift bar 31 moves as shown in FIG. The lift bar 31 is driven so as to draw I-II-III.
搬送装置５３では、ローラーベース６１、ローラー６２及びローラーガイド６３を設けることなく、リフトバー３１が図７に示す軌道Ｉ−ＩＩ−ＩＩＩを描くようにリフトバー３１を駆動することができる。このように、搬送装置５３は、簡易な構造を有するため、省スペースに寄与する。 In the transport device 53, the lift bar 31 can be driven so that the lift bar 31 draws the track I-II-III shown in FIG. 7 without providing the roller base 61, the roller 62, and the roller guide 63. Thus, since the conveyance apparatus 53 has a simple structure, it contributes to space saving.
本実施形態では、リフトバー３１の下方又は上方に、リフトバー３１の位置を計測するセンサーなどを配置することも有効である。例えば、センサーで計測されたリフトバー３１の位置を制御部６にフィードバックすることで、外力などによる駆動誤差をリカバーすることが可能となり、露光装置１のダウンタイムを短くすることができる。 In the present embodiment, it is also effective to arrange a sensor for measuring the position of the lift bar 31 below or above the lift bar 31. For example, by feeding back the position of the lift bar 31 measured by the sensor to the control unit 6, it becomes possible to recover a drive error due to an external force or the like, and to reduce the downtime of the exposure apparatus 1.
本発明の実施形態における物品の製造方法は、例えば、デバイス（半導体素子、磁気記憶媒体、液晶表示素子など）などの物品を製造するのに好適である。かかる製造方法は、露光装置１を用いて、感光剤が塗布された基板を露光する（パターンを基板に形成する）工程と、露光された基板を現像する（基板を処理する）工程を含む。また、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージングなど）を含みうる。本実施形態における物品の製造方法は、従来に比べて、物品の性能、品質、生産性及び生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。 The article manufacturing method in the embodiment of the present invention is suitable for manufacturing articles such as devices (semiconductor elements, magnetic storage media, liquid crystal display elements, etc.), for example. This manufacturing method includes a step of exposing the substrate coated with the photosensitive agent (forming a pattern on the substrate) using the exposure apparatus 1 and a step of developing the exposed substrate (processing the substrate). Such a manufacturing method may include other well-known steps (oxidation, film formation, vapor deposition, doping, planarization, etching, resist stripping, dicing, bonding, packaging, and the like). The method for manufacturing an article in the present embodiment is advantageous in at least one of the performance, quality, productivity, and production cost of the article as compared with the conventional method.
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。例えば、本発明は、リソグラフィ装置を露光装置に限定するものではなく、インプリント装置や描画装置などのリソグラフィ装置にも適用することができる。ここで、インプリント装置は、基板上に供給されたインプリント材とモールドとを接触させ、インプリント材に硬化用のエネルギーを与えることにより、モールドのパターンが転写された硬化物のパターンを形成する。また、描画装置は、荷電粒子線（電子線）やレーザビームで基板に描画を行うことにより基板上にパターン（潜像パターン）を形成する。上述した物品の製造方法は、これらのリソグラフィ装置を用いて行ってもよい。 As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, it cannot be overemphasized that this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary. For example, the present invention is not limited to an exposure apparatus as a lithography apparatus, but can be applied to a lithography apparatus such as an imprint apparatus or a drawing apparatus. Here, the imprint apparatus forms a cured product pattern in which the pattern of the mold is transferred by bringing the imprint material supplied on the substrate into contact with the mold and applying energy for curing to the imprint material. To do. The drawing apparatus forms a pattern (latent image pattern) on the substrate by drawing on the substrate with a charged particle beam (electron beam) or a laser beam. The above-described method for manufacturing an article may be performed using these lithography apparatuses.
１：露光装置 ５：基板ステージ ７：チャック ２３：ロボットハンド ３１：リフトバー ５０、５１、５２、５３：搬送装置 ７０：アーム駆動部 ８０：アーム従動部 1: Exposure device 5: Substrate stage 7: Chuck 23: Robot hand 31: Lift bar 50, 51, 52, 53: Transfer device 70: Arm drive unit 80: Arm driven unit
Claims (12)
前記基板を支持する支持部材と、
鉛直方向の位置が前記保持面と前記第１位置との間にある第２位置を経由して前記支持部材を駆動する駆動機構と、を有し、
前記駆動機構は、前記保持面の位置と前記第２位置との間では前記支持部材が鉛直方向に軌道を描き、前記第１位置と前記第２位置との間では前記支持部材が円弧状の軌道を描くように、前記支持部材を駆動することを特徴とする搬送装置。 A transport device that transports the substrate between a substrate holding portion including a holding surface that holds the substrate and a first position that is obliquely spaced apart from the holding surface;
A support member for supporting the substrate;
A drive mechanism for driving the support member via a second position whose vertical position is between the holding surface and the first position;
In the drive mechanism, the support member draws a trajectory in a vertical direction between the position of the holding surface and the second position, and the support member has an arc shape between the first position and the second position. A transport device that drives the support member to draw a trajectory.
前記支持部材を支持し、一端を回転軸として回転駆動されるアームと、
前記保持面の位置と前記第２位置との間で前記支持部材を駆動する間において、前記支持部材と前記アームとの間に水平方向の駆動に関する遊びを形成する変換機構と、
を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送装置。 The drive mechanism is
An arm that supports the support member and is rotationally driven with one end as a rotation axis;
A conversion mechanism that forms play relating to horizontal driving between the support member and the arm during driving of the support member between the position of the holding surface and the second position;
The conveying apparatus according to claim 1 or 2, characterized by comprising:
前記支持部材の前記基板を支持する側の面とは反対側の第１面に設けられ、前記支持部材に対して水平方向にスライドするスライド部材と、
前記スライド部材と前記アームの他端とを、前記回転軸に平行な軸を中心として回転可能に連結するブロックと、
を含み、
前記アームの回転駆動に応じて前記スライド部材を前記水平方向にスライドさせることで前記保持面の位置と前記第２位置との間で前記支持部材を前記鉛直方向に直線駆動し、且つ、前記スライド部材を前記水平方向にスライドさせずに前記アームの回転駆動を前記支持部材に伝えることで前記第１位置と前記第２位置との間で前記支持部材を回転駆動することを特徴とする請求項３に記載の搬送装置。 The conversion mechanism is
A slide member that is provided on a first surface opposite to a surface of the support member that supports the substrate, and slides in a horizontal direction with respect to the support member;
A block that rotatably connects the slide member and the other end of the arm around an axis parallel to the rotation axis;
Including
The support member is linearly driven in the vertical direction between the position of the holding surface and the second position by sliding the slide member in the horizontal direction according to the rotational drive of the arm, and the slide The rotation of the arm is transmitted to the support member without sliding the member in the horizontal direction, thereby rotating the support member between the first position and the second position. 3. The transfer device according to 3.
前記支持部材の前記第１面に固定されて前記鉛直方向に延在するガイドと、
前記ガイドに接触可能な接触部材と、
前記ガイドを前記接触部材に押し付ける押付部材と、
を含み、
前記ガイドは、前記押付部材により前記接触部材に接触した状態で前記鉛直方向に移動することで、前記保持面の位置と前記第２位置との間における前記支持部材の前記鉛直方向への直線駆動を規定することを特徴とする請求項４に記載の搬送装置。 The conversion mechanism is
A guide fixed to the first surface of the support member and extending in the vertical direction;
A contact member capable of contacting the guide;
A pressing member that presses the guide against the contact member;
Including
The guide is linearly driven in the vertical direction of the support member between the position of the holding surface and the second position by moving in the vertical direction while being in contact with the contact member by the pressing member. The conveying apparatus according to claim 4, wherein:
一端が前記ブロックに連結され、他端がバネ受けに連結されて前記水平方向に伸縮するコイルバネと、
前記コイルバネの中空部に挿入され、前記スライド部材の前記水平方向への移動量を規制する規制部材と、
を含むことを特徴とする請求項５に記載の搬送装置。 The pressing member is
A coil spring having one end connected to the block and the other end connected to a spring receiver and extending or contracting in the horizontal direction;
A regulating member that is inserted into the hollow portion of the coil spring and regulates the amount of movement of the slide member in the horizontal direction;
The transport apparatus according to claim 5, comprising:
前記ブロックに連結して前記水平方向に伸縮するアクチュエータと、
前記アームを回転駆動するモーターの回転量と前記アクチュエータの伸縮量とを同期させることで、前記保持面の位置と前記第２位置との間における前記支持部材の前記鉛直方向への直線駆動を規定する制御部と、
を含むことを特徴とする請求項４に記載の搬送装置。 The conversion mechanism is
An actuator connected to the block and extending and contracting in the horizontal direction;
Synchronizing the amount of rotation of the motor that rotationally drives the arm with the amount of expansion and contraction of the actuator defines the linear drive of the support member in the vertical direction between the position of the holding surface and the second position. A control unit,
The transport apparatus according to claim 4, comprising:
前記保持面の位置と前記第２位置との間において前記支持部材を前記鉛直方向に直線駆動する直線駆動部と、
前記第１位置と前記第２位置との間において前記支持部材を回転駆動する回転駆動部と、
を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の搬送装置。 The drive mechanism is
A linear drive unit that linearly drives the support member in the vertical direction between the position of the holding surface and the second position;
A rotational drive unit that rotationally drives the support member between the first position and the second position;
The conveying apparatus according to claim 1 or 2, characterized by comprising:
前記直線駆動部は、前記アームを前記鉛直方向に駆動するアクチュエータを含むことを特徴とする請求項８に記載の搬送装置。 The rotation drive unit includes an arm that supports the support member and is driven to rotate about one end as a rotation axis.
The transport apparatus according to claim 8, wherein the linear drive unit includes an actuator that drives the arm in the vertical direction.
前記基板を保持する保持面を含む基板保持部と、
前記基板保持部と、前記保持面から斜め上方に離れた第１位置との間で前記基板を搬送する請求項１乃至９のうちいずれか１項に記載の搬送装置と、
を有することを特徴とするリソグラフィ装置。 A lithographic apparatus for forming a pattern on a substrate,
A substrate holding part including a holding surface for holding the substrate;
The transfer apparatus according to any one of claims 1 to 9, wherein the transfer unit transfers the substrate between the substrate holding unit and a first position that is diagonally upward from the holding surface.
A lithographic apparatus comprising:
前記基板と前記マスクとを走査しながら前記投影光学系を介して前記基板を露光して前記パターンを前記基板に形成することを特徴とする請求項１０に記載のリソグラフィ装置。 A projection optical system for projecting a mask pattern onto the substrate held by the substrate holder;
The lithographic apparatus according to claim 10, wherein the substrate is exposed through the projection optical system while scanning the substrate and the mask to form the pattern on the substrate.
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
処理された前記基板から物品を製造する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 Forming a pattern on a substrate using the lithographic apparatus according to claim 10 or 11,
Processing the substrate on which the pattern is formed in the step;
Producing an article from the treated substrate;
A method for producing an article comprising:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017093373A JP6858071B2 (en) | 2017-05-09 | 2017-05-09 | Manufacturing method for transport equipment, lithography equipment and articles |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2017093373A JP6858071B2 (en) | 2017-05-09 | 2017-05-09 | Manufacturing method for transport equipment, lithography equipment and articles |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018190869A true JP2018190869A (en) | 2018-11-29 |
| JP6858071B2 JP6858071B2 (en) | 2021-04-14 |
Family
ID=64478869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2017093373A Active JP6858071B2 (en) | 2017-05-09 | 2017-05-09 | Manufacturing method for transport equipment, lithography equipment and articles |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6858071B2 (en) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05178479A (en) * | 1991-12-26 | 1993-07-20 | Tokyo Kakoki Kk | Delivery device |
| JP2001180822A (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-03 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Method and device for delivering substrate |
| JP2002373928A (en) * | 2001-04-16 | 2002-12-26 | Samsung Electronics Co Ltd | Transfer apparatus of body to be transferred and method therefor |
| JP2005353811A (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Mounting device and mounting pedestal |
| WO2011052683A1 (en) * | 2009-10-28 | 2011-05-05 | 株式会社ニコン | Substrate conveying apparatus, exposure apparatus, substrate supporting apparatus, and method for manufacturing device |
| JP2011138844A (en) * | 2009-12-26 | 2011-07-14 | Canon Anelva Corp | Vacuum processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device |
-
2017
- 2017-05-09 JP JP2017093373A patent/JP6858071B2/en active Active
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05178479A (en) * | 1991-12-26 | 1993-07-20 | Tokyo Kakoki Kk | Delivery device |
| JP2001180822A (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-03 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | Method and device for delivering substrate |
| JP2002373928A (en) * | 2001-04-16 | 2002-12-26 | Samsung Electronics Co Ltd | Transfer apparatus of body to be transferred and method therefor |
| JP2005353811A (en) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Dainippon Printing Co Ltd | Mounting device and mounting pedestal |
| WO2011052683A1 (en) * | 2009-10-28 | 2011-05-05 | 株式会社ニコン | Substrate conveying apparatus, exposure apparatus, substrate supporting apparatus, and method for manufacturing device |
| JP2011138844A (en) * | 2009-12-26 | 2011-07-14 | Canon Anelva Corp | Vacuum processing apparatus, and method of manufacturing semiconductor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6858071B2 (en) | 2021-04-14 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101232234B1 (en) | Clamping device and object loading method | |
| JP5741834B2 (en) | Object carry-out method, object exchange method, object holding apparatus, exposure apparatus, flat panel display manufacturing method, and device manufacturing method | |
| KR20180117221A (en) | Movable body apparatus, object processing device, exposure apparatus, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method | |
| KR102193251B1 (en) | Substrate-replacement device | |
| JP2020112695A (en) | Exposure apparatus, exposure method and method for manufacturing article | |
| KR101670314B1 (en) | Patterning device manipulating system and lithographic apparatuses | |
| JP6981513B2 (en) | Mask holding device, exposure device, mask holding method, and exposure method | |
| JP6858071B2 (en) | Manufacturing method for transport equipment, lithography equipment and articles | |
| JP2011100917A (en) | Substrate delivery apparatus, exposure apparatus, device manufacturing method, and substrate delivery method | |
| JP2021190490A (en) | Transport device, exposure device, and article manufacturing method | |
| JP2004356415A (en) | Aligner and method for exposure | |
| JP2022011045A (en) | Conveyance apparatus, substrate processing apparatus, and article manufacturing method | |
| TWI793403B (en) | Optical device, exposure device, and article manufacturing method | |
| TWI837434B (en) | Illumination optical system, exposure device, and article manufacturing method | |
| JP6015984B2 (en) | Object carrying-out method, object exchange method, object holding device, object exchange system, exposure apparatus, flat panel display manufacturing method, and device manufacturing method | |
| TWI770414B (en) | Substrate holding device, exposure device, and manufacturing method of articles | |
| JP7446096B2 (en) | Illumination optical system and article manufacturing method | |
| JP7033997B2 (en) | Exposure equipment and manufacturing method of articles | |
| JP7025165B2 (en) | Manufacturing method of exposure equipment, transport equipment and articles | |
| JP2008060402A (en) | Substrate support apparatus and method, substrate treating apparatus, aligner, and device manufacturing method | |
| JP2024040937A (en) | Substrate conveying mechanism, lithographic apparatus, and method for manufacturing article | |
| KR102679765B1 (en) | Object holding device, exposure device, flat panel display manufacturing method, device manufacturing method, object holding method, and exposure method | |
| JP2023055503A (en) | Positioning device, lithography device, and article production method | |
| KR20240002927A (en) | Substrate stage, substrate carrying-out method, exposure apparatus, and article manufacturing method | |
| JP2024010507A (en) | Holding device, exposure apparatus, and method for manufacturing article |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200402 |
|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20210103 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210113 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210218 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210222 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210323 |
|
| R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6858071 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |