JP2018176730A - Method for manufacturing optical laminate and method for manufacturing laminate bundle - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an optical laminate, by which high work efficiency and fast manufacturing processes are achieved and a problem of feeding laminates stuck to each other can be decreased or suppressed without performing a complicated process.SOLUTION: A method for manufacturing an optical laminate having at least an optical layer, an adhesive layer and a separate film, in this order, is provided, and the method includes: (a) stacking the optical layer, the adhesive layer and the separate film; and (b) subjecting a surface of the separate film opposite to the adhesive layer side to a surface modification treatment. The surface modification treatment is at least one treatment selected from a corona treatment, a plasma treatment, a glow treatment and an ozone treatment.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学積層体の製造方法及び積層束の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing an optical laminate and a method of manufacturing a laminated bundle.

少なくとも、光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとをこの順で有する光学積層体が製造されている。通常、光学積層体を液晶セルなどに積層するまでの間、光学積層体は、複数枚重ね合わせた積層束として保管されている。このとき、例えば、1の光学積層体のセパレートフィルムにおける粘着剤層とは反対側の面と、別の光学積層体の光学層における粘着剤層側とは反対側の面とを重ね合わせることが、製造工程の観点から効率的である。   The optical laminated body which has an optical layer, an adhesive layer, and a separate film at least in this order is manufactured. Usually, the optical laminate is stored as a laminated bundle of a plurality of sheets until the optical laminate is laminated on a liquid crystal cell or the like. At this time, for example, it is possible to overlap the surface of the separate film of the optical laminate of 1 opposite to the adhesive layer with the surface of the optical layer of another optical laminate opposite to the adhesive layer side. It is efficient in terms of the manufacturing process.

複数枚の光学積層体を重ね合わせた積層束から、1セットの光学積層体を取り出し、必要に応じて更なる工程を経て、光学積層体は液晶セルなどに積層される。
ここで、積層束から1セットの光学積層体を取り出す工程において、静電気力などにより、複数の光学積層体が密着した状態で取り出されること(以下、「多重取り」とも言う)があり、作業効率の観点から望ましくない。
また、近年においては、光学積層体全体の厚さが薄くなっており、例えば、積層束から1セットの光学積層体を取り出す工程において、光学積層体に傷が生じたり、割れが生じたりすることを防がなければならない。
One set of optical laminates is taken out from the laminated bundle in which a plurality of optical laminates are laminated, and the optical laminates are laminated on a liquid crystal cell or the like through further steps as necessary.
Here, in the process of taking out one set of optical laminates from the laminated bundle, there are cases where the plurality of optical laminates are taken out in close contact with each other by electrostatic force or the like (hereinafter also referred to as “multiplexing”). Undesirable from the point of view of
Further, in recent years, the thickness of the entire optical laminate has become thin, and for example, in the process of taking out one set of optical laminates from the laminate bundle, the optical laminate may be damaged or cracked. Must be prevented.

光学積層体の多重取りを解消するために、セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、耐電防止剤を塗布して静電気が帯びることを抑制すること、又は離型剤などを塗布して離型性を向上することが一般的に行われている。   In order to eliminate multiple removal of the optical laminate, an anti-static agent is applied on the surface of the separate film opposite to the adhesive layer side to suppress static buildup, or a release agent is applied. It is a common practice to improve releasability.

特許文献1において、積層体の離型性を向上させるために、離型剤による離型処理の施されていない基材層と粘着剤層とが積層された表面保護フィルムの粘着剤層表面に、コロナ放電処理又はプラズマ放電処理を施すことが開示されている。   In Patent Document 1, in order to improve the releasability of the laminate, on the pressure-sensitive adhesive layer surface of a surface protective film in which a base material layer not subjected to release treatment with a release agent and a pressure-sensitive adhesive layer are laminated. It is disclosed to perform corona discharge treatment or plasma discharge treatment.

特許文献2には、多重取りを低減するための光学シートの供給装置が開示されている。   Patent Document 2 discloses an optical sheet supply device for reducing multiplexing.

特開2009−191208号公報JP, 2009-191208, A 特開2006−308912号公報JP, 2006-308912, A

少なくとも、光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとをこの順で有する光学積層体において、セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、帯電防止剤又は離型剤などを塗布する場合、光学積層体毎にこれらの薬剤を塗布し乾燥させる工程が必要となり、作業の効率が悪く、製造工程の高速化を図ることが妨げられている。また、塗布のムラ、汚れなどが塗布面に発生するという問題が生じ得る。   In an optical laminate having at least an optical layer, an adhesive layer, and a separate film in this order, an antistatic agent or a release agent is applied to the surface of the separate film opposite to the adhesive layer side. In this case, a step of applying and drying these agents for each optical laminate is required, the operation efficiency is poor, and the speeding up of the manufacturing process is hindered. Moreover, the problem that the nonuniformity of application | coating and stain | pollution | contamination generate | occur | produce on an application surface may arise.

特許文献1に開示された発明は、粘着剤層の表面に、コロナ放電処理又はプラズマ放電処理が施されている。しかし、粘着剤層の表面にコロナ放電処理等を施すと、粘着剤層の粘着力がより強くなるおそれがあり、積層体の離型性を向上させることが困難となる場合がある。   In the invention disclosed in Patent Document 1, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is subjected to corona discharge treatment or plasma discharge treatment. However, when the surface of the pressure-sensitive adhesive layer is subjected to corona discharge treatment or the like, the pressure-sensitive adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer may be stronger, which may make it difficult to improve the releasability of the laminate.

また、特許文献2に開示された発明については、光学積層体の製造工程において、特許文献2に係る供給装置を組込むことで多重取りを低減することが必要となり、作業の効率が悪く、製造工程の高速化を妨げるおそれがある。さらに、薄型化された光学積層体に傷、欠けなどが生じることを避けるためには、可能な限り光学積層体の製造工程を簡潔にすることが望ましい。   Further, with regard to the invention disclosed in Patent Document 2, in the manufacturing process of the optical laminate, it is necessary to reduce the number of multiplexes by incorporating the supply device according to Patent Document 2, and the efficiency of the operation is poor. Speed may be impeded. Furthermore, it is desirable to simplify the manufacturing process of the optical laminate as much as possible in order to avoid the occurrence of scratches, chips and the like in the thinned optical laminate.

そこで、本発明は、作業効率がよく、製造工程の高速化をもたらすことができ、さらに、複雑な工程を経なくても、多重取りを低減又は抑制できる光学積層体の製造方法を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、多重取りを低減又は抑制できる光学積層体を複数枚重ね合わせた積層束の製造方法を提供する。
Therefore, the present invention provides a method of manufacturing an optical laminate capable of achieving high working efficiency and speeding-up of a manufacturing process, and further reducing or suppressing multiple removal without passing through complicated steps. With the goal.
Furthermore, the present invention provides a method for producing a laminated bundle in which a plurality of optical laminates can be reduced or reduced, which can reduce or prevent multiple removal.

本発明は、以下を含む。
[1]少なくとも、光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとをこの順で有する光学積層体の製造方法であって、
(a)光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとを積層すること、
(b)セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施すことを含み、
前記表面改質処理は、コロナ処理、プラズマ処理、グロー処理及びオゾン処理から選ばれる少なくとも1種である、光学積層体の製造方法。
[2]前記セパレートフィルムの表面改質処理が施された改質面における表面抵抗値が5.0×1014Ω/□(Ω/スクエア)以下である、[1]に記載の光学積層体の製造方法。
[3]前記表面改質処理は、コロナ処理であり、前記コロナ処理におけるエネルギー密度は、10〜700W・分/mである、[1]又は[2]に記載の光学積層体の製造方法。
[4]光学積層体を複数枚重ね合わせた積層束の製造方法であって、
前記光学積層体は、[1]から[3]のいずれか1に記載の製造方法により製造された光学積層体であり、
1の光学積層体のセパレートフィルムにおける表面改質処理が施された改質面と、
別の光学積層体の光学層における粘着剤層側とは反対側の面とを重ね合わせることを含む、積層束の製造方法。
The present invention includes the following.
[1] A method for producing an optical laminate having at least an optical layer, an adhesive layer, and a separate film in this order,
(A) laminating an optical layer, an adhesive layer, and a separate film,
(B) including surface modification treatment on the side of the separate film opposite to the adhesive layer side,
The method for producing an optical laminate, wherein the surface modification treatment is at least one selected from corona treatment, plasma treatment, glow treatment and ozone treatment.
[2] The optical laminate according to [1], which has a surface resistance value of 5.0 × 10 14 Ω / □ (Ω / square) or less on the modified surface of the separate film on which the surface modification treatment has been performed. Manufacturing method.
[3] The method for producing an optical laminate according to [1] or [2], wherein the surface modification treatment is corona treatment, and the energy density in the corona treatment is 10 to 700 W · minute / m 2. .
[4] A method for producing a laminated bundle in which a plurality of optical laminates are stacked,
The optical laminate is an optical laminate produced by the method according to any one of [1] to [3],
The modified surface of the separate film of the optical laminate of (1) is subjected to a surface modification treatment,
A method for producing a laminated bundle, comprising: overlapping a surface opposite to the adhesive layer side of an optical layer of another optical laminate with one another.

本発明によれば、多重取りを低減又は抑制できる光学積層体を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain an optical laminate capable of reducing or suppressing multiplexing.

本発明の製造方法により得られる光学積層体の一態様についての概略断面図である。It is a schematic sectional drawing about the one aspect | mode of the optical laminated body obtained by the manufacturing method of this invention.

以下、本発明により得られる光学積層体について適宜図を用いて説明するが、本発明はこれらの態様に限定されるものではない。   Hereinafter, although the optical laminated body obtained by this invention is demonstrated suitably using figures, this invention is not limited to these aspects.

本発明によると、少なくとも、光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとをこの順で有する光学積層体の製造方法であって、
(a)光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとを積層すること、
(b)セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施すことを含み、
前記表面改質処理は、コロナ処理、プラズマ処理、グロー処理及びオゾン処理から選ばれる少なくとも1種である、光学積層体の製造方法が提供される。
According to the present invention, there is provided a method of producing an optical laminate having at least an optical layer, an adhesive layer and a separate film in this order,
(A) laminating an optical layer, an adhesive layer, and a separate film,
(B) including surface modification treatment on the side of the separate film opposite to the adhesive layer side,
The method for producing an optical laminate is provided, wherein the surface modification treatment is at least one selected from corona treatment, plasma treatment, glow treatment and ozone treatment.

以上の製造方法により、光学積層体を得ることができ、例えば、図1は、本発明の製造方法において得られる光学積層体の一態様についての概略断面図である。
図1において、光学積層体1は、少なくとも光学層10と、粘着剤層20と、セパレートフィルム30とをこの順で有する。また、セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面40に、表面改質処理が施されている。
例えば、光学層10は、図1に示すように、光学フィルム11と表面保護フィルム12とを積層した積層体であってもよい。
An optical laminate can be obtained by the above manufacturing method. For example, FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of one aspect of the optical laminate obtained in the manufacturing method of the present invention.
In FIG. 1, the optical laminate 1 has at least an optical layer 10, an adhesive layer 20, and a separate film 30 in this order. Moreover, the surface modification process is performed to the surface 40 on the opposite side to the adhesive layer side in a separate film.
For example, as shown in FIG. 1, the optical layer 10 may be a laminate in which the optical film 11 and the surface protective film 12 are laminated.

(光学層)
本発明における光学層は、液晶表示装置などに用いることができ、光線を透過又は反射吸収し、様々な効果を与えることを目的とした層であればよい。
光学層は、例えば、位相差フィルム、偏光フィルム、反射防止フィルム、視野角向上フィルム、輝度向上フィルムなどから選択される少なくとも1の光学フィルムを有することができる。光学層は、これらの光学フィルムの単層構造であってもよく、少なくとも光学フィルムを含む、複数のフィルムを積層した複層構造(積層体)であってもよい。
光学層の厚さは、特に限定されず、例えば10〜500μm、例えば100〜300μmの範囲内である。
(Optical layer)
The optical layer in the present invention can be used in a liquid crystal display device or the like, as long as it is a layer intended to transmit or reflect and absorb light and to provide various effects.
The optical layer can have, for example, at least one optical film selected from a retardation film, a polarizing film, an antireflective film, a viewing angle improving film, a brightness improving film and the like. The optical layer may have a single layer structure of these optical films, or may have a multilayer structure (laminate) in which a plurality of films are laminated, including at least the optical film.
The thickness of the optical layer is not particularly limited, and is, for example, in the range of 10 to 500 μm, for example, 100 to 300 μm.

例えば、位相差フィルムは、偏光フィルムの吸収軸に対して所定の方位角を持つフィルムであり、主に、液晶ディスプレイの液晶層による着色を補償するためや、視野角による位相差の変化を補償するために用いられる。位相差フィルムとしては、一軸又は二軸延伸等の加工を施された光学用フィルム、又は液晶性の化合物等を基材に塗布し、配向、固定化の加工をした光学用フィルムなどが挙げられ、これらは、三次元屈折率の大小関係(屈折率楕円体)を使用条件に合わせて制御されている。位相差フィルムの例は、例えば、λ/2板及びλ/4板である。
位相差フィルムの厚みは、例えば10μm〜100μmであり、ある態様においては10μm〜30μmである。
For example, the retardation film is a film having a predetermined azimuth angle with respect to the absorption axis of the polarizing film, and mainly compensates for the coloration of the liquid crystal layer of the liquid crystal display or compensates for the change in retardation due to the viewing angle. Used to As a retardation film, an optical film which has been subjected to processing such as uniaxial or biaxial stretching, a liquid crystalline compound or the like is applied to a substrate, and an optical film which is processed to be oriented or fixed is mentioned. These are controlled in accordance with usage conditions of the magnitude relationship (refractive index ellipsoid) of the three-dimensional refractive index. Examples of retardation films are, for example, λ / 2 plates and λ / 4 plates.
The thickness of the retardation film is, for example, 10 μm to 100 μm, and in one embodiment, 10 μm to 30 μm.

本発明で用いられる位相差フィルムに特に限定はないが、その基材としてのフィルムの素材としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ポリオレフィンのようなポリオレフィンや、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリアリレート、ポリアミドなどが例示できる。延伸等の加工を施された光学用フィルムの具体例としては、帝人株式会社製「ピュアエース」(商品名)、株式会社カネカ製「エルメック」(商品名)、日本ゼオン株式会社製「ゼオノア」(商品名)、JSR株式会社製「アートン」(商品名)などが挙げられる。また、液晶性化合物などを基材に塗布し、配向、固定化の加工をした光学用フィルムの具体例としては、富士フイルム株式会社製「WVフィルム」(商品名)、新日本石油株式会社製「LCフィルム」、「NHフィルム」(何れも商品名)などが挙げられる。   There is no particular limitation on the retardation film used in the present invention, and as a material of the film as the substrate, polyethylene, polypropylene, polyolefin such as cyclic polyolefin, polycarbonate, polyvinyl alcohol, polystyrene, polymethyl methacrylate, poly Alilate, polyamide and the like can be exemplified. Specific examples of optical films subjected to processing such as stretching include “Pure Ace” (trade name) manufactured by Teijin Limited, “Elmec” (trade name) manufactured by Kaneka Co., Ltd., “Zeonor” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd. (Trade name), "Arton" (trade name) manufactured by JSR Corporation, and the like. In addition, as a specific example of an optical film obtained by applying a liquid crystal compound or the like to a substrate and processing for orientation and fixation, “WV film” (trade name) manufactured by Fujifilm Corporation, manufactured by Shin Nippon Oil Co., Ltd. "LC film", "NH film" (all are trade names), etc. are mentioned.

偏光フィルム(偏光子と称する場合もある)は、所定方向に振動する光を選択的に透過する層であり、一軸延伸されると共に、その延伸方向に二色性色素が吸着配向された樹脂フィルムから構成されていてもよい。
偏光フィルムとして用いることができる樹脂フィルムの例として、ポリビニルアルコール(以下「PVA」と称す場合もある)系樹脂フィルムが挙げられる。PVA系樹脂フィルムの例は、PVAフィルムである。二色性色素の例は、ヨウ素及び二色性有機染料である。偏光子の厚さの例は、1μm〜30μmであり、ある態様においては7μm〜30μmであり、別の態様においては10μm〜30μmである。
A polarizing film (sometimes referred to as a polarizer) is a layer that selectively transmits light oscillating in a predetermined direction, and is uniaxially stretched and a resin film in which a dichroic dye is adsorbed and oriented in the stretching direction. It may be composed of
As an example of the resin film which can be used as a polarizing film, a polyvinyl alcohol (it may also be called "PVA" hereafter) type | system | group resin film is mentioned. An example of a PVA-based resin film is a PVA film. Examples of dichroic dyes are iodine and dichroic organic dyes. Examples of polarizer thickness are 1 μm to 30 μm, in one embodiment 7 μm to 30 μm, and in another embodiment 10 μm to 30 μm.

偏光フィルム(偏光子)は、少なくとも一方の面に、偏光子保護フィルムを有してもよい。ある態様においては、偏光フィルムは、少なくとも一方の面に、位相差フィルムを有してもよい。また、偏光フィルムは、少なくとも一方の面に、偏光子保護フィルムを有し、他方に位相差フィルムを有してもよい。以下、このような態様の積層体は、偏光板と称されることがある。   The polarizing film (polarizer) may have a polarizer protective film on at least one surface. In one aspect, the polarizing film may have a retardation film on at least one side. The polarizing film may have a polarizer protective film on at least one surface and a retardation film on the other. Hereinafter, the laminate of such an embodiment may be referred to as a polarizing plate.

偏光子保護フィルムは、一般的に樹脂フィルムから構成されている。偏光子保護フィルムを構成する樹脂フィルムの例として、トリアセチルセルロース(TAC)、セルロースアセテートプロピオネート(CAP)フィルム等のセルロース樹脂フィルム、ポリノルボルネン樹脂フィルム、ポリカーボネート樹脂フィルム、ポリエステル樹脂フィルム、ポリエーテルスルホン樹脂フィルム、ポリスルホン樹脂フィルム、ポリアミド樹脂フィルム、ポリイミド樹脂フィルム、ポリオレフィン樹脂フィルム、ポリアリレート樹脂フィルム、ポリビニルアルコール樹脂フィルム、ポリ塩化ビニル樹脂フィルム、ポリ塩化ビニリデン樹脂フィルムなどが挙げられる。ある態様において、セルロース樹脂フィルムが用いられる。ある態様において、偏光子保護フィルムは、セルロース樹脂フィルムなどの透明樹脂フィルムと、ハードコート層などの機能層との積層体であってもよい。
なお、偏光フィルム(偏光子)が両面に偏光子保護フィルムを有する態様において、各偏光子保護フィルムは同一であってもよく、相違していてもよい。
The polarizer protective film is generally composed of a resin film. Examples of resin films constituting a polarizer protective film include cellulose resin films such as triacetyl cellulose (TAC) and cellulose acetate propionate (CAP) film, polynorbornene resin film, polycarbonate resin film, polyester resin film, polyether Sulfone resin film, polysulfone resin film, polyamide resin film, polyimide resin film, polyolefin resin film, polyarylate resin film, polyvinyl alcohol resin film, polyvinyl chloride resin film, polyvinylidene chloride resin film, etc. may be mentioned. In one aspect, a cellulose resin film is used. In one aspect, the polarizer protective film may be a laminate of a transparent resin film such as a cellulose resin film and a functional layer such as a hard coat layer.
In the embodiment in which the polarizing film (polarizer) has a polarizer protective film on both sides, each polarizer protective film may be the same or different.

ある態様において、偏光子保護フィルムの厚さの例は、10μm〜200μmである。偏光子保護フィルムは、通常、偏光子の少なくとも片面に接着剤層を介して積層される。   In an aspect, an example of the thickness of the polarizer protective film is 10 μm to 200 μm. The polarizer protective film is usually laminated on at least one side of the polarizer via an adhesive layer.

ある態様において、光学層は、光学フィルムの少なくとも一方の面に表面保護フィルム(或いはプロテクトフィルムとも称される)を有してもよい。例えば、位相差フィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面保護フィルムを有してもよく、表面保護フィルムは剥離可能に積層されてもよい。   In one aspect, the optical layer may have a surface protective film (also referred to as a protective film) on at least one surface of the optical film. For example, a surface protective film may be provided on the surface of the retardation film opposite to the adhesive layer side, and the surface protective film may be peelably laminated.

ある態様において、光学層は、偏光子及び偏光子保護フィルムを有し、さらに、偏光子保護フィルムにおける偏光子側とは反対側の面に、表面保護フィルム(プロテクトフィルム)を有してもよい。この場合において、偏光子保護フィルムと表面保護フィルムは剥離可能に積層されてもよい。   In one aspect, the optical layer may have a polarizer and a polarizer protective film, and may further have a surface protective film (protect film) on the surface of the polarizer protective film opposite to the polarizer side. . In this case, the polarizer protective film and the surface protective film may be peelably laminated.

表面保護フィルムの厚さは、例えば、30μm〜100μmである。表面保護フィルムの材料の例は、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリエステルである。   The thickness of the surface protective film is, for example, 30 μm to 100 μm. Examples of surface protective film materials are polyethylene, polypropylene and polyester.

表面保護フィルムは、液晶セルに光学積層体を貼合せた後に、光学フィルムから剥離される場合がある。このため、表面保護フィルムは、光学層の光学特性に影響を与えない透明樹脂フィルムであってもよい。一方、表面保護フィルムは、光学特性を有するフィルムであってもよく、この場合、表面保護フィルムを剥離することなく使用してもよい。   The surface protective film may be peeled from the optical film after laminating the optical laminate to the liquid crystal cell. For this reason, the surface protective film may be a transparent resin film which does not affect the optical properties of the optical layer. On the other hand, the surface protective film may be a film having optical properties, and in this case, the surface protective film may be used without peeling.

(粘着剤層)
粘着剤層は、光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムがこの順になるように積層される。一般に、本発明の製造方法により得られる光学積層体からセパレートフィルムを剥離し、次いで、粘着剤層を介して、光学層を、液晶セル等の他の部材に貼り合わせてもよい。
(Pressure-sensitive adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive layer is laminated such that the optical layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the separate film are in this order. In general, the separate film may be peeled off from the optical laminate obtained by the production method of the present invention, and then the optical layer may be bonded to another member such as a liquid crystal cell via an adhesive layer.

粘着剤層を構成する粘着剤として、例えば、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル等をベースポリマーとする粘着剤が挙げられる。これら粘着剤のなかでも、アクリル系ポリマー等をベースポリマーとする粘着剤を使用できる。このような粘着剤は、光学的な透明性、接着性に優れ、適度な濡れ性及び/又は凝集力を保持し、さらに耐候性及び/又は耐熱性等を有し、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等の剥離に係る問題を生じ得ないので好ましい。   As an adhesive which comprises an adhesive layer, the adhesive which makes an acrylic polymer, a silicone type polymer, polyester, a polyurethane, a polyether etc. a base polymer is mentioned, for example. Among these pressure-sensitive adhesives, pressure-sensitive adhesives having an acrylic polymer or the like as a base polymer can be used. Such a pressure-sensitive adhesive is excellent in optical transparency, adhesiveness, maintains appropriate wettability and / or cohesion, has weatherability and / or heat resistance, etc., and is under conditions of heating and humidification. It is preferable because problems with peeling such as floating and peeling can not occur.

ベースポリマーであるアクリル系ポリマーとしては、メチル基やエチル基、ブチル基等の炭素数が20以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸のアルキルエステルと、(メタ)アクリル酸や(メタ)アクリル酸ヒドロキシエチル等からなる官能基含有アクリル系モノマーとを、ガラス転移温度が好ましくは25℃以下、より好ましくは0℃以下となるように配合した、重量平均分子量が100,000以上のアクリル系共重合体が有用である。   As an acryl-type polymer which is a base polymer, The alkyl ester of (meth) acrylic acid which has C20 or less alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, and a butyl group, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid Acrylic group copolymer having a weight average molecular weight of 100,000 or more, which is blended with a functional group-containing acrylic monomer such as hydroxyethyl acid so that the glass transition temperature is preferably 25 ° C. or less, more preferably 0 ° C. or less Polymers are useful.

粘着剤に含まれる上記ベースポリマーの他に、通常、ベースポリマーを架橋させる架橋剤が配合されている。上記架橋剤は、ベースポリマーを架橋させることができる化合物であればよく、特に限定されない。また、本発明により得られる光学積層体を液晶セルに貼り合わせる場合には、粘着剤にシランカップリング剤が配合されていてもよい。   In addition to the above-mentioned base polymer contained in the pressure-sensitive adhesive, a crosslinking agent for crosslinking the base polymer is usually blended. The crosslinking agent is not particularly limited as long as it is a compound capable of crosslinking the base polymer. Moreover, when bonding the optical laminated body obtained by this invention together to a liquid crystal cell, the silane coupling agent may be mix | blended with the adhesive.

粘着剤層の形成方法は、特に限定されない。例えば、粘着剤層は、上記ベースポリマーを含む粘着剤組成物をトルエンや酢酸エチル等の有機溶剤に溶解又は分散させて、粘着剤組成物全体に対して10〜40重量%の溶液(又は分散液)を調製し、適当なプロテクトフィルム上に当該溶液(又は分散液)を塗工し、乾燥させて粘着剤層を形成した後、この粘着剤層を光学層に移着することにより、形成することができる。   The method for forming the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited. For example, a pressure-sensitive adhesive layer is prepared by dissolving or dispersing a pressure-sensitive adhesive composition containing the above-mentioned base polymer in an organic solvent such as toluene or ethyl acetate, and using 10 to 40% by weight solution (or dispersion) Solution), the solution (or dispersion) is coated on a suitable protect film, and dried to form a pressure-sensitive adhesive layer, and then the pressure-sensitive adhesive layer is transferred to an optical layer to form a pressure-sensitive adhesive layer. can do.

粘着剤層には、必要に応じて、ガラス繊維、ガラスビーズ、樹脂ビーズ、金属粉等の無機粉末等からなる充填剤、或いは、顔料、着色剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等が配合されていてもよい。上記紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、及びニッケル錯塩系化合物等が挙げられる。   In the pressure-sensitive adhesive layer, if necessary, a filler made of an inorganic powder such as glass fiber, glass bead, resin bead, metal powder or the like, or a pigment, a colorant, an antioxidant, an ultraviolet light absorber, etc. It may be Examples of the UV absorber include salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, benzotriazole compounds, cyanoacrylate compounds, and nickel complex compounds.

ある態様において、粘着剤層を構成する粘着剤組成物は、活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物であってもよい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線や電子線のような活性エネルギー線の照射を受けて硬化する性質を有しており、活性エネルギー線照射前においても粘着性を有してフィルム等の被着体に密着させることができ、活性エネルギー線の照射によって硬化して密着力の調整ができる性質を有する粘着剤組成物である。   In one aspect, the pressure-sensitive adhesive composition constituting the pressure-sensitive adhesive layer may be an active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition. The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition has the property of being cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and has adhesiveness even before the active energy ray irradiation, so that the film etc. The adhesive composition has the property of being able to be in intimate contact with the adherend, and cured by irradiation with active energy rays to adjust the adhesion.

活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、紫外線硬化型であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物は、ベースポリマー、架橋剤に加えて、活性エネルギー線重合性化合物をさらに含有する。さらに必要に応じて、光重合開始剤や光増感剤等を含有させることもある。   The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition is preferably ultraviolet-curable. The active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive composition further contains an active energy ray-polymerizable compound in addition to the base polymer and the crosslinking agent. Furthermore, if necessary, a photopolymerization initiator, a photosensitizer, etc. may be contained.

粘着剤層の厚みは、30μm以下であり得る。例えば、25μm以下、ある態様においては20μm以下、別の態様においては15μm以下である。第1粘着剤層の厚みがこのような範囲にあることにより、良好な加工性を保つことができ、さらに、光学層の寸法変化を抑制できる。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer may be 30 μm or less. For example, 25 μm or less, in one embodiment 20 μm or less, and in another embodiment 15 μm or less. When the thickness of the first pressure-sensitive adhesive layer is in such a range, good processability can be maintained, and further, dimensional change of the optical layer can be suppressed.

(セパレートフィルム)
本発明における光学積層体は、粘着剤層における光学層側とは反対側の面に、セパレートフィルムが積層されてもよい。セパレートフィルムを有することにより、粘着剤層への異物付着を防止できるなど、粘着剤層を保護できる。
また、複数の光学積層体を重ね合わせた光学積層体の積層束を製造する場合、1の光学積層体のセパレートフィルムにおける表面改質処理が施された改質面と、別の光学積層体の光学層における粘着剤層側とは反対側の面とを重ね合わせることができる。
(Separate film)
In the optical laminate in the present invention, a separate film may be laminated on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the optical layer side. By having a separate film, it is possible to protect the pressure-sensitive adhesive layer, such as preventing foreign matter from adhering to the pressure-sensitive adhesive layer.
In addition, in the case of producing a laminated bundle of optical laminates in which a plurality of optical laminates are laminated, the modified surface of the separate film of the optical laminate of 1 is subjected to the surface modification treatment, and another optical laminate. The surface opposite to the adhesive layer side of the optical layer can be superposed.

ある態様において、例えば、光学層を、粘着剤層を介して液晶セルなどに積層する場合、光学層を液晶セルに積層する前に、セパレートフィルムを粘着剤層から剥離する。   In one embodiment, for example, when the optical layer is laminated to a liquid crystal cell or the like via an adhesive layer, the separate film is peeled from the adhesive layer before laminating the optical layer to the liquid crystal cell.

本発明においては、セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、後述するように、表面改質処理が施される。表面改質処理は、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、グロー処理及びオゾン処理から選ばれる少なくとも1種である。
本発明の製造方法により得られる光学積層体であれば、セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面において、例えば、耐電防止剤、離型剤などの薬品を塗布しなくても、多重取りを大きく低減又は抑制できる。
In the present invention, the surface modification treatment is applied to the surface of the separate film opposite to the adhesive layer side as described later. The surface modification treatment is, for example, at least one selected from corona treatment, plasma treatment, glow treatment, and ozone treatment.
In the case of an optical laminate obtained by the production method of the present invention, multiple layers can be obtained without applying chemicals such as anti-static agents and release agents on the side opposite to the pressure-sensitive adhesive layer side of the separate film. Can be greatly reduced or suppressed.

セパレートフィルムの材料は、例えば、酢酸セルロース系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。例えば、セパレートフィルムの材料は、ポリエチレンテレフタレート(PET)及びポリエチレンから選択される少なくとも1つを含む。また、市販のセパレートフィルムを用いてもよい。
ある態様において、セパレートフィルムの材料は、ポリエチレンテレフタレート(PET)を含む。ポリエチレンテレフタレート(PET)を含むことで、多重取りをより効果的に低減又は抑制できる。また、光学積層体の反りを抑制できる。さらに、表面改質処理を効率的に行える。
Examples of the material of the separate film include cellulose acetate based resins, cycloolefin based resins, polyolefin based resins, acrylic based resins, polyimide based resins, polycarbonate based resins, polyester based resins and the like. For example, the material of the separate film includes at least one selected from polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene. Alternatively, commercially available separate films may be used.
In one aspect, the material of the separate film comprises polyethylene terephthalate (PET). By including polyethylene terephthalate (PET), multiple removal can be reduced or suppressed more effectively. Moreover, the curvature of an optical laminated body can be suppressed. Furthermore, surface modification processing can be performed efficiently.

セパレートフィルムは、より薄い方が好ましい。セパレートフィルムの厚さは、例えば、5〜100μmの範囲であり、ある態様では10〜80μmの範囲であり、別の態様では10〜50μmの範囲である。セパレートフィルムの厚さがこのような範囲内であることにより、強度が低下することなく、加工性に優れ、また、光学積層体の重量が重くなることを抑制できる。   The separate film is preferably thinner. The thickness of the separate film is, for example, in the range of 5 to 100 μm, in one embodiment in the range of 10 to 80 μm, and in another embodiment in the range of 10 to 50 μm. When the thickness of the separate film is in such a range, the strength is not reduced, the processability is excellent, and the increase in the weight of the optical laminate can be suppressed.

<光学積層体の製造方法>
本発明によると、少なくとも、光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとをこの順で有する光学積層体の製造方法であって、
(a)光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとを積層すること、
(b)セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施すことを含み、
前記表面改質処理は、コロナ処理、プラズマ処理、グロー処理及びオゾン処理から選ばれる少なくとも1種である、光学積層体の製造方法が提供される。
<Method of Manufacturing Optical Laminate>
According to the present invention, there is provided a method of producing an optical laminate having at least an optical layer, an adhesive layer and a separate film in this order,
(A) laminating an optical layer, an adhesive layer, and a separate film,
(B) including surface modification treatment on the side of the separate film opposite to the adhesive layer side,
The method for producing an optical laminate is provided, wherein the surface modification treatment is at least one selected from corona treatment, plasma treatment, glow treatment and ozone treatment.

本発明においては、(a)光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとを積層すること及び(b)セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施すことの順序は特に限定されない。
例えば、(a)光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムを積層し、次いで、(b)セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施してもよい。一方、(b)セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施し、次いで(a)光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムを積層してもよい。
In the present invention, (a) laminating the optical layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the separate film, and (b) applying a surface modification treatment to the surface of the separate film opposite to the pressure-sensitive adhesive layer side. The order of is not particularly limited.
For example, (a) the optical layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the separate film may be laminated, and then the surface modification treatment may be performed on the side of the separate film opposite to the pressure-sensitive adhesive layer side. On the other hand, the surface modification treatment may be applied to the surface of the separate film opposite to the adhesive layer side of (b), and then the (a) optical layer, the adhesive layer and the separate film may be laminated.

本発明の製造方法においては、例えば、セパレートフィルムがチップ状の場合、ベルトコンベアにより光学積層体又はセパレートフィルムを搬送する際に、表面改質処理を行ってもよい。例えば、セパレートフィルムが長尺の場合、セパレートフィルムの製造後、得られた長尺のセパレートフィルムを巻き取る際に表面改質処理を行ってもよく、ロール状のセパレートフィルムを、光学積層体の製造ラインに搬送する直前、搬送中に表面改質処理を行ってもよい。また、複数回に分けて表面改質処理を行ってもよい。   In the production method of the present invention, for example, when the separate film is in the form of a chip, the surface modification treatment may be performed when the optical laminate or the separate film is transported by the belt conveyor. For example, when the separate film is long, surface modification treatment may be performed when winding the obtained long separate film after producing the separate film, and the roll-like separate film is used as an optical laminate. The surface modification treatment may be performed just before the transportation to the manufacturing line or during the transportation. In addition, surface modification treatment may be performed in plural times.

<(a)光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムの積層>
本発明の製造方法において、光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとを積層する順は特に限定されない。ある態様においては、光学層と粘着剤層とを積層し、次いで、粘着剤層における光学層側とは反対側の面に、セパレートフィルムを積層してもよい。また、セパレートフィルムに粘着剤層を積層し、次いで、粘着剤層におけるセパレートフィルム側とは反対側の面に光学層を積層してもよい。あるいは、これら全てを同時に積層してもよい。
<(A) Lamination of Optical Layer, Pressure-Sensitive Adhesive Layer, and Separate Film>
In the manufacturing method of the present invention, the order of laminating the optical layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the separate film is not particularly limited. In one aspect, the optical layer and the pressure-sensitive adhesive layer may be laminated, and then a separate film may be laminated on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the optical layer side. Alternatively, the pressure-sensitive adhesive layer may be laminated on a separate film, and then an optical layer may be laminated on the side of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the side of the separate film. Alternatively, all of them may be laminated simultaneously.

光学層については、例えば、光学フィルムと表面保護フィルムとを公知の手段により予め積層したものを用いてもよい。また、光学層が、光学フィルムと表面保護フィルムを有する場合、所望により、光学フィルムと表面保護フィルムを、貼合、接着、粘着、融着、圧着、熱圧着などから選択される少なくとも1の手段により、光学フィルムと表面保護フィルムを密着させてもよい。
貼合の一例として、粘着剤をロールで圧着する貼合方法が挙げられる。また、接着剤又は粘着剤を用いた積層の場合、常温あるいは加熱しながらの圧着、活性エネルギー線を照射することによる処理を行ってもよい。
As the optical layer, for example, one in which an optical film and a surface protective film are previously laminated by a known means may be used. In addition, when the optical layer has an optical film and a surface protective film, at least one means selected from bonding, adhesion, adhesion, fusion, pressure bonding, thermocompression bonding, etc., as desired. The optical film and the surface protective film may be in close contact with each other.
As an example of bonding, the bonding method which crimps an adhesive with a roll is mentioned. In the case of lamination using an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, pressure-sensitive bonding at normal temperature or while heating, or treatment by irradiation with an active energy ray may be performed.

光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとを積層する場合、光学層、粘着剤層、セパレートフィルムの少なくとも1つは、ロールに巻き取られた長尺状の形態であってもよく、例えば、光学層及びセパレートフィルムの少なくとも1つは、ロールに巻き取られた長尺状のシート又はフィルムであってもよい。
光学層、粘着剤層、セパレートフィルムの少なくとも1つが長尺状の形態であった場合、積層後に、所望の寸法(例えば、横2cm〜30cm及び縦2cm〜30cmの範囲)となるように切断し、光学積層体としてもよい。
また、光学層、粘着剤層、セパレートフィルムの全てが、所望のサイズに切断されたチップ状の形態であってもよい。例えば、チップ状の形態である場合、各チップの寸法は、例えば、横2cm〜30cm及び縦2cm〜30cmの範囲内である。
In the case of laminating the optical layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the separate film, at least one of the optical layer, the pressure-sensitive adhesive layer and the separate film may be in the form of a long film wound on a roll, for example The at least one of the optical layer and the separate film may be a long sheet or film wound on a roll.
When at least one of the optical layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the separate film is in the form of a long film, it is cut after lamination so as to have desired dimensions (for example, in the range of 2 cm to 30 cm wide and 2 cm to 30 cm long) Or as an optical laminate.
In addition, all of the optical layer, the pressure-sensitive adhesive layer, and the separate film may be in the form of chips cut into desired sizes. For example, in the case of a chip-like form, the dimensions of each chip are, for example, in the range of 2 cm to 30 cm wide and 2 cm to 30 cm long.

<(b)表面改質処理>
本発明の光学積層体の製造方法は、(b)セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施すことを含み、表面改質処理は、コロナ処理、プラズマ処理、グロー処理及びオゾン処理から選ばれる少なくとも1種である。
<(B) Surface modification treatment>
The method for producing an optical laminate of the present invention includes (b) surface modification treatment on the surface of the separate film opposite to the adhesive layer side, and the surface modification treatment is corona treatment or plasma treatment. At least one selected from glow treatment and ozone treatment.

例えば、1の光学積層体のセパレートフィルムにおいて表面改質処理が施された面と、別の光学積層体の光学層における粘着剤層とは反対側の面とを重ね合わせて、複数の光学積層体を重ね合せる場合、本発明に係る表面改質処理を施すことにより、1の光学積層体と他の光学積層体を積層後、光学積層体の構造を破壊することなく、1の光学積層体と他の光学積層体を容易に剥離できる。
特定の理論に限定して解釈されるべきではないが、このような現象は、例えば、本発明に係る表面改質処理を施すことにより、1の光学積層体のセパレートフィルムにおいて表面改質処理が施された面と、別の光学積層体の光学層における粘着剤層とは反対側の面との間におけるクリープ力(滑り性)が下がることによるものと推定される。
For example, a plurality of optical laminates are obtained by overlapping the surface of the separate film of the optical laminate of 1 subjected to the surface modification treatment with the surface of the optical layer of another optical laminate opposite to the adhesive layer. When superposing the bodies, by applying the surface modification treatment according to the present invention, after laminating one optical laminate and another optical laminate, without destroying the structure of the optical laminate, the one optical laminate And other optical laminates can be easily peeled off.
Although not to be interpreted as being limited to a specific theory, such a phenomenon is, for example, a surface modification treatment in a separate film of an optical laminate of 1 by applying the surface modification treatment according to the present invention It is presumed that the creep force (slip) between the applied surface and the surface of the optical layer of another optical laminate opposite to the adhesive layer is reduced.

ある態様においては、光学層が表面保護フィルムと光学フィルムと粘着剤層とセパレートフィルムとをこの順で有する場合、1の光学積層体のセパレートフィルムにおいて表面改質処理が施された面と、別の光学積層体の表面保護フィルムにおける光学フィルム側とは反対側の面とを重ね合わせることができる。このような態様において、本発明の製造方法により得られた光学積層体であれば、1の光学積層体と他の光学積層体を容易に剥離できる。   In one aspect, when the optical layer has a surface protective film, an optical film, an adhesive layer and a separate film in this order, the surface of the separate film of the optical laminate of 1 is subjected to the surface modification treatment, The optical film side of the surface protective film of the optical laminate can be superimposed on the surface opposite to the optical film side. In such an embodiment, if it is an optical laminate obtained by the manufacturing method of the present invention, it is possible to easily peel off one optical laminate and another optical laminate.

本発明において、1の光学積層体と他の光学積層体を容易に剥離できるとは、例えば、光学積層体を複数枚重ね合わせた積層束における最表層を手で触れ、僅かな力を加えることにより、最表層側に位置する1の光学積層体を、積層束から取り出すことができ、多重取りが生じていない状態を意味する。   In the present invention, being able to easily peel off one optical laminate and another optical laminate means, for example, touching the outermost layer of a laminated bundle in which a plurality of optical laminates are laminated, and applying a slight force. This means that one optical laminated body located on the outermost layer side can be taken out from the laminated bundle, which means that no multiple removal has occurred.

表面改質処理は、コロナ処理、プラズマ処理、グロー処理及びオゾン処理から選ばれる少なくとも1種である。   The surface modification treatment is at least one selected from corona treatment, plasma treatment, glow treatment and ozone treatment.

表面改質処理は、セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に施される。セパレートフィルムは、ロールに巻き取られた長尺状の形態であってもよく、所望のサイズに切断されたチップ状の形態であってもよい。例えば、チップ状の形態である場合、各チップの寸法は、例えば、横2cm〜30cm及び縦2cm〜30cmの範囲内である。
また、表面改質処理は、セパレートフィルムの粘着剤層側とは反対側の面における全面に施してもよく、一部の領域に施してもよい。
本発明の製造方法によると、薄型の光学積層体であっても多重取りを回避できる。さらに、本発明における製造方法により製造した光学積層体であれば、例えば、光学積層体の積層束から1の光学積層体を取り出す際に、傷、割れが生じることを抑制できる。
The surface modification treatment is applied to the surface of the separate film opposite to the adhesive layer side. The separate film may be in the form of a long film wound on a roll, or may be in the form of chips cut into a desired size. For example, in the case of a chip-like form, the dimensions of each chip are, for example, in the range of 2 cm to 30 cm wide and 2 cm to 30 cm long.
The surface modification treatment may be performed on the entire surface of the separate film opposite to the adhesive layer side, or may be performed on a partial region.
According to the manufacturing method of the present invention, multiplexing can be avoided even in a thin optical laminate. Furthermore, if it is an optical layered product manufactured by a manufacturing method in the present invention, for example, when taking out an optical layered product of 1 from a layered bundle of an optical layered product, it can control that a crack and a crack arise.

本発明における表面改質処理を行うことにより、セパレートフィルムの表面改質処理が施された改質面における表面抵抗値を5.0×1014Ω/□以下に調整でき、例えば3.0×1014Ω/□以下、ある態様においては2.0×1014Ω/□以下、に調整できる。このような範囲に表面抵抗値を調整することにより、表面改質処理を施したセパレートフィルム面における帯電量を十分な程度まで低減できるので、1の光学積層体と他の光学積層体を、例えば積層束から容易に剥離でき、その上多重取りを大きく低減又は抑制できる。また、表面改質処理を施されたセパレートフィルムの改質面の表面抵抗値の下限は、通常、1.0×1012Ω/□である。
更に、このような範囲に表面抵抗値を有することにより、1の光学積層体と他の光学積層体を剥離する際に、静電気が発生することを低減でき、例えば、剥離面におけるダストの付着を低減できる。また、静電気の発生による液晶セルに対する悪影響を抑制できる。
By performing the surface modification treatment in the present invention, the surface resistance value on the modified surface of the separate film subjected to the surface modification treatment can be adjusted to 5.0 × 10 14 Ω / □ or less, for example, 3.0 × It can be adjusted to 10 14 Ω / sq or less, and in some embodiments to 2.0 × 10 14 Ω / sq or less. By adjusting the surface resistance value to such a range, the charge amount on the surface of the separate film subjected to the surface modification treatment can be reduced to a sufficient degree, so that the optical laminate of 1 and other optical laminates can be It can be easily peeled off from the laminated bundle, and moreover, multiple removal can be greatly reduced or suppressed. The lower limit of the surface resistance value of the modified surface of the separate film subjected to the surface modification treatment is usually 1.0 × 10 12 Ω / □.
Furthermore, by having a surface resistance value in such a range, it is possible to reduce the occurrence of static electricity when peeling off one optical laminate and another optical laminate, for example, adhesion of dust on the peeling surface It can be reduced. Further, the adverse effect on the liquid crystal cell due to the generation of static electricity can be suppressed.

一方、表面抵抗値が5.0×1014Ω/□を超過すると、1の光学積層体と他の光学積層体が密着するおそれがあり、光学積層体の多重取りが生じ得る。その結果、光学積層体を製造する作業効率が悪くなり、製造工程の高速化をもたらすことができなくなる場合がある。 On the other hand, when the surface resistance value exceeds 5.0 × 10 14 Ω / □, the optical laminate of 1 and the other optical laminate may be in close contact with each other, and multiple removal of the optical laminate may occur. As a result, the working efficiency of manufacturing the optical laminate may be degraded, and the speed of the manufacturing process may not be increased.

例えば、本発明により、表面抵抗値を5.0×1014Ω/□以下に調整した光学積層体を複数枚重ね合わせて、積層束を製造した場合、概ね30日程度、本発明による表面改質処理の効果を持続できる。これにより、積層束を養生し、保管することができ、光学特性に優れた光学積層体を必要な時に提供できる。 For example, when a plurality of optical laminates whose surface resistance is adjusted to 5.0 × 10 14 Ω / □ or less are stacked according to the present invention to produce a laminated bundle, the surface modification according to the present invention is performed for about 30 days. Can sustain the effects of quality treatment. Thereby, the laminated bundle can be cured and stored, and an optical laminate excellent in optical characteristics can be provided when necessary.

(コロナ処理)
コロナ処理の条件としては、コロナ処理1回当たりのエネルギー密度が、10〜700W・分/mであってもよく、例えば、100〜550W・分/mであってもよく、ある態様においては200〜520W・分/mであってもよい。
別の態様においては、コロナ処理を複数回行う場合、各コロナ処理におけるエネルギー密度の合計が10〜700W・分/mであってもよく、例えば、100〜550W・分/mであってもよく、ある態様においては200〜520W・分/mであってもよい。コロナ処理を複数回行う場合、各コロナ処理におけるエネルギー密度は、順に増加してもよく、順に減少してもよい。
エネルギー密度が、このような範囲であることにより、積層束における多重取りを大きく低減又は抑制できる。さらに、積層束から1枚の光学積層体を容易に取り出すことができ、多重取りを低減又は抑制でき、その上、小さな力で取り出すことが出来るので、光学積層体の光学特性を損なうことがなく、また、光学積層体の表面に小さな傷が生じることを抑制できる。このため、本発明の光学積層体の製造方法は、光学層が極めて薄い、例えば厚さが100〜300μmである光学積層体においても、適用できる。
(Corona treatment)
As the conditions for corona treatment, the energy density per corona treatment may be 10 to 700 W · min / m 2 , for example, 100 to 550 W · min / m 2 , and in certain embodiments May be 200 to 520 W · min / m 2 .
In another embodiment, when the corona treatment is performed multiple times, the total of the energy density in each corona treatment may be 10 to 700 W · min / m 2 , for example, 100 to 550 W · min / m 2 and In one embodiment, it may be 200 to 520 W · min / m 2 . When the corona treatment is performed multiple times, the energy density in each corona treatment may increase or decrease in order.
When the energy density is in such a range, multiplexing in the laminated bundle can be greatly reduced or suppressed. Furthermore, one optical laminate can be easily taken out of the laminated bundle, and multiple taking can be reduced or suppressed, and moreover, since it can be taken out with a small force, optical characteristics of the optical laminate are not impaired. Also, it is possible to suppress the occurrence of small scratches on the surface of the optical laminate. For this reason, the method for producing an optical laminate of the present invention can also be applied to an optical laminate having an extremely thin optical layer, for example, a thickness of 100 to 300 μm.

一方、エネルギー密度が10W・分/mよりも小さいと、セパレートフィルム表面の改質処理が不十分となる傾向があり、多重取りの問題が生じ得る。一方、700W・分/mより大きいと、セパレートフィルム表面に粘着性が生じ、積層束から1枚の光学積層体を取り出す際の力が大きくなるおそれがある。これにより、薄膜化された光学積層体の構造を破壊するおそれがあり、光学積層体に要求される光学特性を発揮できなくなる場合がある。 On the other hand, if the energy density is less than 10 W · min / m 2 , the modification treatment on the surface of the separate film tends to be insufficient, which may cause a problem of multiple removal. On the other hand, if it is greater than 700 W · min / m 2 , the surface of the separate film will be tacky, and the force at the time of taking out one optical laminate from the laminate bundle may be increased. As a result, the structure of the thin-filmed optical laminate may be broken, and the optical characteristics required for the optical laminate may not be exhibited.

コロナ処理の各種条件は、上記エネルギー密度を満たすように、適宜設定できる。例えば、チップを固定した条件でコロナ処理を行うことができる。当板の厚みを0.5〜2.5mmの範囲内、ギャップを1〜5mmの範囲内、ライン速度を1〜10m/分の範囲内、コロナ出力を300〜1000Wの範囲内、電極長さを0.2〜0.5mの範囲内に設定できる。用いるセパレートフィルムの種類、コロナ処理時の温度、湿度などに基づき、上記条件を適宜選択することができる。
なお、所望のエネルギー密度を得られる限り、これらの処理条件は、上記範囲外であってもよい。また、光学積層体のカール、光学積層体の搬送時における波打ちなどを考慮して、条件を適宜選択できる。さらに、例えば、コロナ処理を複数回行う場合、コロナ処理毎に処理条件を変更できる。
Various conditions of the corona treatment can be appropriately set so as to satisfy the above energy density. For example, corona treatment can be performed under the conditions in which the chip is fixed. The thickness of the plate is in the range of 0.5 to 2.5 mm, the gap is in the range of 1 to 5 mm, the line speed is in the range of 1 to 10 m / min, the corona output is in the range of 300 to 1000 W, the electrode length Can be set in the range of 0.2 to 0.5 m. The above conditions can be appropriately selected based on the type of separate film to be used, the temperature at the time of corona treatment, the humidity and the like.
In addition, as long as a desired energy density can be obtained, these process conditions may be out of the said range. Further, the conditions can be appropriately selected in consideration of curling of the optical laminate, waving during transport of the optical laminate, and the like. Furthermore, for example, when the corona treatment is performed multiple times, the treatment conditions can be changed for each corona treatment.

コロナ処理は、空気、窒素、酸素、水素、二酸化炭素、アルゴン等又はこれらのうち、2種以上の混合ガス雰囲気中で行うことができる。経済性、安全性の観点からは、空気中又は窒素を送風した空気中で行うことが好ましい。   The corona treatment can be performed in an atmosphere of air, nitrogen, oxygen, hydrogen, carbon dioxide, argon or the like, or a mixed gas of two or more of these. From the viewpoint of economy and safety, it is preferable to carry out in air or air blown with nitrogen.

(プラズマ処理)
表面改質処理は、プラズマ処理であってもよい。プラズマ処理は、減圧下又は大気圧下で発生させた不活性ガス又は酸素ガス等のプラズマを、セパレートフィルム表面に照射して、その表面を活性化する処理である。作業の簡便さ及び処理装置のコスト面からは、大気圧下にてプラズマ放電する方法が望ましい。
プラズマ処理においては、様々なガス雰囲気下でプラズマ放電を起こさせることにより、セパレートフィルム表面を種々に改質することができる。
(Plasma treatment)
The surface modification treatment may be plasma treatment. Plasma processing is processing which irradiates plasmas, such as an inert gas or oxygen gas generated under reduced pressure or under atmospheric pressure, on the surface of a separate film to activate the surface. From the viewpoint of simplicity of operation and cost of the processing apparatus, a method of performing plasma discharge under atmospheric pressure is desirable.
In plasma treatment, the surface of the separate film can be variously modified by causing plasma discharge under various gas atmospheres.

プラズマでセパレートフィルムの表面改質処理を行う方法としては、
大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間にセパレートフィルムを設置し、プラズマを発生させて、セパレートフィルムの表面処理を行う方法、
対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスをセパレートフィルムに吹付ける方法、及び、
低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、セパレートフィルムの表面改質処理を行う方法が挙げられる。
As a method of performing surface modification processing of a separate film with plasma,
A method of placing a separate film between opposed electrodes under a pressure near atmospheric pressure, generating plasma and performing surface treatment of the separate film,
A method of flowing a gas between opposed electrodes, plasmatizing the gas between the electrodes, and spraying the plasmatized gas onto a separate film;
There is a method of generating glow discharge plasma under low pressure conditions and performing surface modification treatment of a separate film.

中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間にセパレートフィルムを設置し、プラズマを発生させて、セパレートフィルムの表面処理を行う方法、又は、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスをセパレートフィルムに吹付ける方法が好ましい。かかるプラズマによる表面処理は、通常、市販のプラズマ表面処理装置により行われる。   Among them, a method of installing a separate film between opposed electrodes under pressure near atmospheric pressure to generate plasma and performing surface treatment of the separate film, or flowing a gas between the opposed electrodes, and Preferably, the gas is plasmatized and the plasmatized gas is sprayed to the separate film. Such surface treatment with plasma is usually performed by a commercially available plasma surface treatment apparatus.

特に、窒素及び酸素を含む雰囲気下、200mJ/cm以下のエネルギーで、セパレートフィルムの表面をプラズマ処理することが好ましい。セパレートフィルムを表面処理する際の処理エネルギーは、プラズマを発生させる際の電力、電極の放電幅及びセパレートフィルムのライン速度から算出することができる。セパレートフィルムの密着性の観点から、基材を120mJ/cm以下のエネルギーで処理することが好ましく、100mJ/cm以下のエネルギーで処理することがより好ましい。また、基材を30mJ/cm以上のエネルギーで処理することが好ましい。
このような範囲のエネルギーで処理することにより、積層束における多重取りを大きく低減又は抑制できる。さらに、積層束から1枚の光学積層体を容易に取り出すことができ、多重取りを低減又は抑制できる。その上、小さな力で取り出すことが出来るので、光学積層体の光学特性を損なうことがなく、また、光学積層体の表面に小さな傷が生じることを抑制できる。
In particular, it is preferable to plasma treat the surface of the separate film with an energy of 200 mJ / cm 2 or less in an atmosphere containing nitrogen and oxygen. The processing energy at the time of surface treatment of the separate film can be calculated from the power at the time of generating the plasma, the discharge width of the electrode and the line speed of the separate film. From the viewpoint of adhesion of the separate film, the substrate is preferably treated with an energy of 120 mJ / cm 2 or less, more preferably 100 mJ / cm 2 or less. Moreover, it is preferable to process a base material with the energy of 30 mJ / cm < 2 > or more.
By processing with such a range of energy, it is possible to greatly reduce or suppress multiple removal in the laminated bundle. Furthermore, it is possible to easily take out one optical laminate from the laminate bundle, and it is possible to reduce or suppress multiple taking. Moreover, since the light can be taken out with a small force, the optical properties of the optical laminate are not impaired, and the occurrence of small scratches on the surface of the optical laminate can be suppressed.

なお、所望のエネルギーで処理できる限り、光学積層体のカール、光学積層体の搬送時における波打ちなどを考慮して、プラズマ処理の条件を適宜選択できる。さらに、例えば、1回の処理でエネルギー密度が所望の範囲内に含まれない場合、プラズマ処理を複数回おこなってもよい。   In addition, the conditions of the plasma processing can be appropriately selected in consideration of the curl of the optical laminated body, the waving at the time of conveyance of the optical laminated body, and the like as long as the process can be performed with a desired energy. Furthermore, for example, when the energy density is not included in the desired range in one treatment, plasma treatment may be performed multiple times.

窒素及び酸素を含む雰囲気中の窒素に対する酸素の体積含有比(酸素:窒素)は、例えば、0.01:99.99〜15:85であり、ある態様では0.05:99.95〜10:90であり、別の態様では0.05:99.95〜5:95であり、さらに別の態様では0.05:99.95〜1:99の範囲である。   The volume ratio of oxygen to nitrogen in the atmosphere containing nitrogen and oxygen (oxygen: nitrogen) is, for example, 0.01: 99.99 to 15:85, and in one embodiment 0.05: 99.95 to 10 : 90, in another embodiment 0.05: 99.95 to 5: 95, and in still another embodiment in the range of 0.05: 99.95 to 1: 99.

(グロー処理)
表面改質処理は、グロー処理(グロー放電処理)であってもよい。グロー放電は、チャンバー内の環境の酸素濃度を、例えば0.1%重量以上、1重量%以下の環境下で行われ、加えて、必要に応じ、セパレートフィルムと電極との距離、及び電極に付与する電力を適宜調節することにより発生させることができる。条件によって異なるが、一般的な傾向として、電極とセパレートフィルムとの間の距離が近いほうが、グロー放電が発生し易く、また、電力が大きいほうが、グロー放電が発生し易い。
(Glow processing)
The surface modification treatment may be glow treatment (glow discharge treatment). Glow discharge is performed under an environment oxygen concentration of, for example, 0.1% by weight or more and 1% by weight or less in the chamber, and additionally, if necessary, the distance between the separate film and the electrode and the electrode It can be generated by appropriately adjusting the power to be applied. Although it differs depending on the conditions, as a general tendency, when the distance between the electrode and the separate film is short, glow discharge is likely to occur, and when the power is large, glow discharge is likely to occur.

電極に印加する電力は、良好なグロー放電が形成されるよう適宜調整でき、例えば0.1kw〜10kWの範囲内であることができる。また、電力と処理時間との積としての電力量は、良好なグロー放電処理を達成できるよう適宜調整し、通常2〜10000W・s、例えば5〜100W・sの範囲内に設定できる。
電極に印加する電流は、周波数10kHz〜500kHz、例えば、20kHz〜100kHzの高周波の交流電流である。また、かかる電流の波形は、パルス波でもサイン波でもよい。
The power applied to the electrodes can be appropriately adjusted to form a good glow discharge, and can be, for example, in the range of 0.1 kw to 10 kW. In addition, the amount of power as the product of the power and the processing time is appropriately adjusted so as to achieve good glow discharge treatment, and can be usually set in the range of 2 to 10000 W · s, for example 5 to 100 W · s.
The current applied to the electrode is a high frequency alternating current with a frequency of 10 kHz to 500 kHz, for example, 20 kHz to 100 kHz. Also, the waveform of the current may be a pulse wave or a sine wave.

放電処理工程において、セパレートフィルムにグロー放電処理を行う時間は、例えば、は0.02秒以上、別の例では0.05秒以上であり、一方、例えば1.0秒以下、ある態様においては0.5秒以下である。グロー放電処理を行う時間を前記下限以上とすることにより、セパレートフィルムに十分な表面改質を施すことができる。また、グロー放電処理を行う時間を前記上限以下とすることにより、セパレートフィルムの過熱による劣化を防止でき、効率的な処理を行うことができる。
グロー放電処理を行う時間は、セパレートフィルムの搬送速度、及びセパレートフィルムの搬送方向における放電空間の大きさを適宜調節することにより行いうる。放電空間の大きさは、例えば、電極を設ける数、及び複数の電極の配置の間隔を適宜調整することにより調整できる。
In the discharge treatment step, the time for performing the glow discharge treatment on the separate film is, for example, 0.02 seconds or more, in another example, 0.05 seconds or more, while, for example, 1.0 seconds or less, in an embodiment, 0.5 seconds or less. By setting the time for performing the glow discharge treatment to the above lower limit or more, the separate film can be subjected to sufficient surface modification. Further, by setting the time for performing the glow discharge treatment to the upper limit or less, deterioration of the separate film due to overheating can be prevented, and efficient treatment can be performed.
The time for performing the glow discharge treatment can be performed by appropriately adjusting the transport speed of the separate film and the size of the discharge space in the transport direction of the separate film. The size of the discharge space can be adjusted, for example, by appropriately adjusting the number of the electrodes and the distance between the plurality of electrodes.

このような条件で処理することにより、積層束における多重取りを大きく低減又は抑制できる。さらに、積層束から1枚の光学積層体を容易に取り出すことができ、多重取りを低減又は抑制でき、その上、小さな力で取り出すことが出来るので、光学積層体の光学特性を損なうことがなく、また、光学積層体の表面に小さな傷が生じることを抑制できる。   By treating under such conditions, it is possible to greatly reduce or suppress multiple removal in the laminated bundle. Furthermore, one optical laminate can be easily taken out of the laminated bundle, and multiple taking can be reduced or suppressed, and moreover, since it can be taken out with a small force, optical characteristics of the optical laminate are not impaired. Also, it is possible to suppress the occurrence of small scratches on the surface of the optical laminate.

(オゾン処理)
表面改質処理は、オゾン処理であってもよい。
オゾン処理は、オゾンをセパレートフィルム表面に吹き付け、オゾンが分解して発生する活性酸素原子による表面処理である。オゾンの発生方法には、制限はないが、UV/オゾン処理が好ましい。UV/オゾン処理は、低圧水銀ランプ、Xeエキシマランプ等の紫外線を発生させる光源が使用され、セパレートフィルム表面に照射される光源のエネルギーと、光源の照射で発生するオゾンの相乗効果が得られるからである。
240nm以下の波長の紫外光は、酸素を分解してオゾンを発生させ、低圧水銀ランプを使用する場合は、185nm線がオゾンの発生に用いられる。
UV/オゾン処理では、セパレートフィルム表面の改質と洗浄に効果があるとされているが、照射する光源のエネルギーが樹脂化合物の分子結合エネルギーよりも高い場合は、分子結合が切れて分解反応生成物が生じることも考えられるので、処理する樹脂フィルムによって調整することが好ましい。
(Ozone treatment)
The surface modification treatment may be ozone treatment.
The ozone treatment is a surface treatment with active oxygen atoms generated by spraying ozone onto the surface of the separate film and decomposing the ozone. The method of generating ozone is not limited, but UV / ozone treatment is preferred. The UV / ozone treatment uses a light source that generates ultraviolet light, such as a low-pressure mercury lamp or a Xe excimer lamp, and the synergistic effect of the energy of the light source irradiated on the separate film surface and the ozone generated by the irradiation of the light source is obtained It is.
Ultraviolet light having a wavelength of 240 nm or less decomposes oxygen to generate ozone, and when a low pressure mercury lamp is used, a 185 nm line is used to generate ozone.
UV / ozone treatment is said to be effective for modification and cleaning of the surface of the separate film, but if the energy of the light source to be irradiated is higher than the molecular bond energy of the resin compound, the molecular bond is broken and the decomposition reaction is generated It is preferable to adjust with the resin film to be processed, as it is also conceivable that a product is produced.

<積層束の製造方法>
本発明の一態様において、光学積層体を複数枚重ね合わせた積層束の製造方法が提供され、この方法における光学積層体は、上記方法により製造されたものである。
より詳細には、例えば、積層束の製造方法は、1の光学積層体のセパレートフィルムにおける表面改質処理が施された改質面と、別の光学積層体の光学層における粘着剤層側とは反対側の面とを重ね合わせることを含む、積層束の製造方法である。光学積層体を複数枚重ね合わせる方法は、特に限定されない。
<Method of manufacturing laminated bundle>
In one aspect of the present invention, there is provided a method of producing a laminated bundle in which a plurality of optical laminates are stacked, and the optical laminate in this method is produced by the above method.
More specifically, for example, in a method of producing a laminated bundle, a modified surface of a separate film of an optical laminate of 1 subjected to a surface modification treatment, and a pressure-sensitive adhesive layer side of an optical layer of another optical laminate Is a method of making a laminated bundle comprising overlapping with the opposite side. The method of stacking a plurality of optical laminates is not particularly limited.

本発明における積層束の製造方法によると、1の光学積層体のセパレートフィルムにおいて表面改質処理が施された面と、別の光学積層体の光学層における粘着剤層とは反対側の面との間におけるクリープ力(滑り性)を低下させることができる。このため、光学積層体を複数枚重ね合わせた積層束における最表層側を手で触れ、僅かな力を加えることにより、最表層側に位置する1の光学積層体を、積層束から取り出すことができ、多重取りを大きく低減又は抑制できる。   According to the method for producing a laminated bundle in the present invention, the surface of the separate film of the optical laminate of 1 subjected to the surface modification treatment, and the surface of the other optical laminate opposite to the adhesive layer in the optical layer The creep force (slip) can be reduced. For this reason, by touching the outermost layer side of the laminated bundle in which a plurality of optical laminated bodies are stacked by hand and applying a slight force, it is possible to take out one optical laminated body positioned on the outermost layer side from the laminated bundle. It is possible to greatly reduce or suppress multiple acquisition.

光学積層体を重ね合わせる枚数は、特に限定されない。例えば、2枚〜2000枚程度である。   The number of the optical laminates to be stacked is not particularly limited. For example, about two to 2,000.

本発明の製造方法により製造された光学積層体は、多重取りを低減又は抑制できる。また、積層束から取り出す際に、光学積層体に変形、傷などが生じないので、設計された光学特性を維持した状態で使用できる。さらに、例えば、30日間保管した状態であっても、多重取りを低減又は抑制できる。   The optical laminate manufactured by the manufacturing method of the present invention can reduce or suppress multiplexing. Moreover, since it does not produce a deformation | transformation, a flaw, etc. in an optical laminated body when taking out from a lamination | stacking bundle, it can be used in the state which maintained the designed optical characteristic. Furthermore, even if stored for 30 days, for example, multiplexing can be reduced or suppressed.

本発明の光学積層体のセパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面の表面抵抗値に対する光学層における粘着剤層側とは反対側の面の表面抵抗値の比は、1〜120000の範囲であり、通常、1000〜100000の範囲である。セパレートフィルムと光学層の表面抵抗値の比が、この範囲であるため、多重取りを低減又は抑制でき、積層束から取り出す際に、光学積層体に変形、傷などが生じないので、設計された光学特性を維持した状態で使用できる。   The ratio of the surface resistance value of the surface on the opposite side to the pressure-sensitive adhesive layer side in the optical layer to the surface resistance value on the side opposite to the pressure-sensitive adhesive layer side in the separate film of the optical laminate of the present invention is 1 to 120000. The range is usually in the range of 1000 to 100,000. Since the ratio of the surface resistance value of the separate film to the optical layer is within this range, multiple taking can be reduced or suppressed, and when taking out from the laminated bundle, the optical laminated body is designed without deformation or scratching. It can be used while maintaining the optical properties.

本発明における一形態では、図1に示される光学積層体のセパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の表面に表面改質処理を行うことを説明した。別の形態において、セパレートフィルムへの表面改質処理に加え、必要に応じ表面保護フィルムにおける光学フィルム側とは反対側の表面に表面改質処理を行うことができる。光学積層体におけるセパレートフィルム側および表面保護フィルム側に表面改質処理を行うことにより、この光学積層体を複数枚重ね合わせて積層束を製造する際に、それぞれ表面改質処理を施したセパレートフィルム表面と表面保護フィルム表面同士が重なり合わせることができるため積層束からより容易に光学積層体を取り出すことができ、更に高い多重取り抑制効果が期待できる。
セパレートフィルムへの表面改質処理条件と、表面保護フィルムにおける光学フィルム側とは反対側の表面への表面改質処理条件は、同一であってもよく異なっていてもよい。表面保護フィルムへの表面改質処理条件は、本明細書に記載の内容を、適宜選択できる。また、セパレートフィルムの表面改質処理が施された改質面における表面抵抗値と、表面保護フィルムの表面改質処理が施された改質面における表面抵抗値との値は、同一であってもよく、相違していてもよい。表面保護フィルムの改質面における表面抵抗値は、本明細書に記載の範囲内で、適宜選択できる。
In one form in the present invention, it has been described that the surface modification treatment is performed on the surface of the separate film of the optical laminate shown in FIG. 1 opposite to the adhesive layer side. In another embodiment, in addition to the surface modification treatment to the separate film, the surface modification treatment can be performed on the surface of the surface protective film opposite to the optical film side, if necessary. A separate film which has been subjected to surface modification treatment when a plurality of optical laminates are laminated to produce a laminated bundle by performing surface modification treatment on the separate film side and the surface protective film side in the optical laminate. Since the surfaces and the surfaces of the surface protective films can be overlapped with each other, the optical laminate can be more easily taken out of the laminate bundle, and a higher multiple removal suppressing effect can be expected.
The surface modification treatment conditions for the separate film and the surface modification treatment conditions for the surface of the surface protective film opposite to the optical film side may be the same or different. The surface modification treatment conditions for the surface protective film can be appropriately selected from the contents described in the present specification. In addition, the surface resistance value on the modified surface of the separate film subjected to the surface modification treatment and the surface resistance value on the modified surface of the surface protection film subjected to the surface modification treatment are the same. Also, they may be different. The surface resistance value on the modified surface of the surface protective film can be appropriately selected within the range described herein.

以下、実施例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be more specifically described by way of examples, but the present invention is not limited by these examples.

以下の実施例及び比較例において用いた材料は、以下のとおりである。
(光学層)
光学層として、表面保護フィルム(厚さ53μm)と、偏光子保護フィルム(厚さ44μm)と、偏光子(厚さ28μm)と、位相差フィルム(厚さ23μm)とを順に有する積層体を用いた。光学層の厚さは148μmであった。
上記偏光子保護フィルムは、ハードコート層とTAC層とを有する多層構造を有し、位相差フィルムは、「ゼオノア」(日本ゼオン株式会社製)を用いた。
The materials used in the following examples and comparative examples are as follows.
(Optical layer)
As an optical layer, use is made of a laminate having a surface protective film (thickness 53 μm), a polarizer protective film (thickness 44 μm), a polarizer (thickness 28 μm), and a retardation film (thickness 23 μm) in this order It was. The thickness of the optical layer was 148 μm.
The polarizer protective film had a multilayer structure having a hard coat layer and a TAC layer, and as the retardation film, “Zeonor” (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was used.

(粘着剤層およびセパレートフィルム)
厚さ25μmの粘着剤層(新タック化成株式会社製)と、厚さ38μmのセパレートフィルム(PET樹脂製)とを用いた。
(Pressure-sensitive adhesive layer and separate film)
A 25 μm-thick pressure-sensitive adhesive layer (manufactured by Shin Tuck Chemical Co., Ltd.) and a 38 μm-thick separate film (manufactured by PET resin) were used.

実施例1
光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとを積層した。ここで、光学層における位相差フィルムと粘着剤層とセパレートフィルムとがこの順になるように積層した。
セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施した。
表面処理は、コロナ処理装置(春日電機株式会社製、装置名:高周波電源ワイヤー放電処理装置)を用いて、コロナ処理を行った。コロナ処理の条件は、表1に示した通りである。
Example 1
An optical layer, an adhesive layer, and a separate film were laminated. Here, the retardation film, the pressure-sensitive adhesive layer, and the separate film in the optical layer were laminated in this order.
The surface modification process was performed to the surface on the opposite side to the adhesive layer side in a separate film.
The surface treatment was carried out using a corona treatment apparatus (made by Kasuga Denki Co., Ltd., apparatus name: high frequency power wire discharge treatment apparatus). The conditions for corona treatment are as shown in Table 1.

(多重取り発生率)
実施例1により得られた光学積層体を20枚用意し、1の光学積層体のセパレートフィルムにおける表面改質処理が施された改質面と、別の光学積層体の光学層における粘着剤層側とは反対側の面とを重ね合わせることにより、20枚の光学積層体からなる積層束を製造した。
得られた積層束の最表層側に位置する光学積層体の長手方向に沿って、手で僅かな力を光学積層体に加え、積層束から最表層側に位置する1の光学積層体を滑らすようにして取り出すことを試みた。複数枚の光学積層体が重ね合わされることなく、1セットの光学積層体を取り出せた場合、多重取りは発生していないと判断した。
この結果に基づき、以下の式から多重取り発生率を算出した。結果を表1に示す。
多重取り発生率=(多重取りが発生した回数/積層束における光学積層体の積層枚数)
(Multiple incidence rate)
A pressure-sensitive adhesive layer in a modification surface of a separate film of the optical laminate of 1 prepared by preparing 20 sheets of the optical laminate obtained in Example 1 and an adhesive layer in the optical layer of another optical laminate A laminated bundle consisting of 20 optical laminates was manufactured by superposing the side and the surface opposite to the side.
A slight force is applied to the optical laminate by hand along the longitudinal direction of the optical laminate located on the outermost layer side of the obtained laminated bundle, and one optical laminate positioned on the outermost layer side is slid from the laminated bundle It tried to take out like that. When one set of optical laminates could be taken out without overlapping a plurality of optical laminates, it was judged that no multiplexing had occurred.
Based on this result, the multiple take incidence was calculated from the following equation. The results are shown in Table 1.
Multiple acquisition rate = (number of times multiple acquisition occurred / number of laminated optical stacks in laminated bundle)

実施例2〜4及び比較例1
実施例2〜4については、表1に示すコロナ処理条件を変更した以外は、実施例1と同様にして、光学積層体を製造した。
比較例1は、セパレートフィルムに対して表面改質処理を施さなかった以外は、実施例1と同様にして光学積層体を製造した。
Examples 2 to 4 and Comparative Example 1
For Examples 2 to 4, an optical laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that the corona treatment conditions shown in Table 1 were changed.
In Comparative Example 1, an optical laminate was produced in the same manner as Example 1, except that the surface modification treatment was not performed on the separate film.

Figure 2018176730
Figure 2018176730

実施例1〜4は、多重取りの発生率を抑制できることが分かる。一方、比較例1は、セパレートフィルムに対して表面改質処理を施さなかったため、多重取り発生率が極めて高くなった。   It is understood that Examples 1 to 4 can suppress the occurrence rate of multiplexing. On the other hand, in Comparative Example 1, since the surface modification treatment was not performed on the separate film, the incidence of multiple removal was extremely high.

本発明によれば、多重取りを低減又は抑制できる光学積層体を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain an optical laminate capable of reducing or suppressing multiplexing.

1 光学積層体
10 光学層
11 光学フィルム
12 表面保護フィルム
20 粘着剤層
30 セパレートフィルム
40 セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 optical laminated body 10 optical layer 11 optical film 12 surface protective film 20 adhesive layer 30 separate film 40 the surface on the opposite side to the adhesive layer side in a separate film

Claims (4)

少なくとも、光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとをこの順で有する光学積層体の製造方法であって、
(a)光学層と、粘着剤層と、セパレートフィルムとを積層すること、
(b)セパレートフィルムにおける粘着剤層側とは反対側の面に、表面改質処理を施すことを含み、
前記表面改質処理は、コロナ処理、プラズマ処理、グロー処理及びオゾン処理から選ばれる少なくとも1種である、光学積層体の製造方法。
What is claimed is: 1. A method of producing an optical laminate comprising at least an optical layer, an adhesive layer and a separate film in this order,
(A) laminating an optical layer, an adhesive layer, and a separate film,
(B) including surface modification treatment on the side of the separate film opposite to the adhesive layer side,
The method for producing an optical laminate, wherein the surface modification treatment is at least one selected from corona treatment, plasma treatment, glow treatment and ozone treatment.
前記セパレートフィルムの表面改質処理が施された改質面における表面抵抗値が5.0×1014Ω/□以下である、請求項1に記載の光学積層体の製造方法。 The manufacturing method of the optical laminated body of Claim 1 whose surface resistance value in the modification surface where the surface modification process of the said separate film was performed is 5.0 * 10 < 14 > ohms / square or less. 前記表面改質処理は、コロナ処理であり、前記コロナ処理におけるエネルギー密度は、10〜700W・分/mである、請求項1又は2に記載の光学積層体の製造方法。 The method of manufacturing an optical laminate according to claim 1, wherein the surface modification treatment is a corona treatment, and an energy density in the corona treatment is 10 to 700 W · min / m 2 . 光学積層体を複数枚重ね合わせた積層束の製造方法であって、
前記光学積層体は、請求項1から3のいずれか1項に記載の製造方法により製造された光学積層体であり、
1の光学積層体のセパレートフィルムにおける表面改質処理が施された改質面と、
別の光学積層体の光学層における粘着剤層側とは反対側の面とを重ね合わせることを含む、積層束の製造方法。
A manufacturing method of a laminated bundle in which a plurality of optical laminated bodies are laminated,
The optical laminate is an optical laminate produced by the method according to any one of claims 1 to 3,
The modified surface of the separate film of the optical laminate of (1) is subjected to a surface modification treatment,
A method for producing a laminated bundle, comprising: overlapping a surface opposite to the adhesive layer side of an optical layer of another optical laminate with one another.
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