JP2018173438A - 光走査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】ポリゴンミラーの回転に伴う振動を抑制する【解決手段】光走査装置において、偏向器50は、底板51と、回転軸SXが底板51に直交する回転子52と、回転子52に固定されたポリゴンミラー55とを有し、ポリゴンミラー55の複数の反射面Rが回転軸に対し所定角度αで傾いて配置される。フレーム100の底面S上から突出した複数の突出部11,12の先端部にそれぞれ複数の座面11F,12Fが設けられ、底板51に接触する。底面Sは、複数の突出部11,12のうちの少なくとも一つの第1突出部11が配置された第1領域S1のfθレンズ60の各副走査断面における光軸を通る平面PLからの距離H1が、第1突出部11以外の第2突出部12が配置された第2領域S2の平面PLからの距離H2と異なっている。【選択図】図6
Description
本発明は、ポリゴンミラーを備えた光走査装置に関する。
光走査装置において、複数の反射面が回転軸に対し所定の角度で傾いて配置されたポリゴンミラーが用いられることがある。たとえば、特許文献1に記載されている樹脂製のポリゴンミラーは、その成形時の抜き勾配を考慮して、回転軸を含む断面形状が台形となるように設計されている。
このような従来のポリゴンミラーを光走査装置で使用する場合、副走査断面において、反射面が光軸と直交するように、ポリゴンミラーの回転軸を光軸と直交する方向に対して傾ける必要がある。ポリゴンミラーの回転軸を傾けるために、ポリゴンミラーの底板を支持する複数のボスの一部について長さを変更した場合、複数のボスの長さの差が大きくなると、ポリゴンミラーの回転に伴って振動が発生する虞がある。
複数の反射面が回転軸に対し所定の角度で傾いて配置されたポリゴンミラーの底板を固定するための、振動を発生させにくいフレーム構造を提供することが望まれる。
以下に開示する光走査装置は、光ビームを出射する光源と、光源から出射された光ビームを主走査方向に偏向する偏向器と、偏向器により偏向された光ビームを被走査面上に結像する走査レンズと、光源、偏向器および走査レンズが固定されるフレームとを備える。
偏向器は、底板と、回転軸が前記底板に直交する回転子と、回転子に固定されたポリゴンミラーとを有する。ポリゴンミラーは、複数の反射面を有し、複数の反射面が前記回転軸に対し所定角度で傾いて配置されている。フレームは、底面と、底面上から突出した複数の突出部と、複数の突出部の先端部にそれぞれ設けられ、底板に接触する複数の座面とを有する。そして、底面は、複数の突出部のうちの少なくとも一つの第1突出部が配置された第1領域の走査レンズの各副走査断面における光軸を通る平面からの距離が、第1突出部以外の第2突出部が配置された第2領域の前記平面からの距離と異なっている。
このように、フレームの底面における、ポリゴンミラーの底板に接触する座面を先端に有する突出部が配置された領域から前記光軸を通る平面までの距離を異ならしめることで、突出部の長さ(フレームの底面から座面までの距離)の差を小さくすることができる。
前記のように構成された光走査装置によれば、突出部の長さのばらつきを抑制しつつポリゴンミラーの回転軸を傾けることができるので、ポリゴンミラーの回転に伴う振動を抑制することができる。
次に、一実施形態に係る光走査装置について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。以下の説明では、まず、光走査装置が搭載される画像形成装置の一例としてのレーザプリンタの全体構成について簡単に説明した後、光走査装置の詳細な構成について説明する。
図1に示すように、レーザプリンタLPは、本体筐体120内に、用紙Pを給紙するためのフィーダ部130と、用紙Pに画像を形成するための画像形成部140とを備えている。
フィーダ部130は、給紙トレイ131と、搬送機構132とを備えている。給紙トレイ131は、本体筐体120の下部に着脱可能に装着される。搬送機構132は、給紙トレイ131内の用紙Pを後述する転写ローラ183に向けて搬送する。画像形成部140は、光走査装置1と、プロセスユニット160と、定着装置170とを備えている。
光走査装置1は、本体筐体120内の上部に設けられ、レーザビームを、後述する感光ドラム181の表面(被走査面)上に高速走査にて照射する。光走査装置1の詳細な構成については、後述する。
プロセスユニット160は、感光ドラム181と、帯電器182と、転写ローラ183と、プロセスカートリッジPCとを備えている。プロセスカートリッジPCは、本体筐体120の前壁に回動可能に設けられたフロントカバー123で開閉される開口122を通して、本体筐体120に着脱可能となっている。
プロセスカートリッジPCは、現像カートリッジ151と、トナーカートリッジ152とを備えている。現像カートリッジ151は、現像ローラ153と、供給ローラ154とを備えている。トナーカートリッジ152内には、トナー(現像剤)が収容されている。そして、トナーカートリッジ152は、現像カートリッジ151に着脱可能となっている。
供給ローラ154は、プロセスカートリッジPC内のトナーを現像ローラ153に供給するローラである。現像ローラ153は、供給ローラ154から供給されたトナーを、感光ドラム181に形成される静電潜像に対して供給するローラである。
プロセスユニット160では、回転する感光ドラム181の表面が、帯電器182により一様に帯電された後、光走査装置1からのレーザビームの高速走査により露光される。これにより、感光ドラム181の表面に画像データに基づく静電潜像が形成される。
次いで、プロセスカートリッジPC内のトナーが感光ドラム181の静電潜像に供給されて、感光ドラム181の表面上にトナー像が形成される。その後、感光ドラム181と転写ローラ183の間で用紙Pが搬送されることで、感光ドラム181の表面に担持されているトナー像が用紙P上に転写される。
定着装置170は、加熱ローラ171と、加熱ローラ171に押圧される加圧ローラ172とを備えている。そして、この定着装置170では、用紙P上に転写されたトナーを、用紙Pが加熱ローラ171と加圧ローラ172との間を通過する間に熱定着している。
定着装置170で熱定着された用紙Pは、定着装置170の下流側に配設される排紙ローラERに搬送され、この排紙ローラERから排紙トレイ121上に送り出される。
図2および図3に示すように、光走査装置1は、樹脂製のフレーム100と、半導体レーザ20、開口絞りプレート30、カップリングレンズ40、偏向器50、走査レンズの一例としてのfθレンズ60、折り返しミラー70、BD(Beam Detect)センサ80、BD集光レンズ90などの光学部品や、回路基板CBなどを備える。
フレーム100は、図2〜6に示すように、第1フレームF1と第2フレームF2からなる。図2〜4に示すような上部が開口した箱型の第1フレームF1に前記した各種光学部品および回路基板CBが固定されている。図5および図6に一部を示す第2フレームF2が、第1フレームF1の上部を覆う蓋となっている。なお、図2において回路基板CBは図示省略し第1フレームF1の外壁FW2が露出した状態を示している。
半導体レーザ20は、拡散するレーザ光を発する素子である。半導体レーザ20の発光素子は、図示しない制御装置により、被走査面に露光すべき画像に対応して明滅される。図5に示すように、半導体レーザ20の端子部は、回路基板CBから突出しているが、第2フレームF2により覆われている。
開口絞りプレート30は、半導体レーザ20からのレーザ光の主走査方向、および副走査方向の大きさを規定する開口A2を有する部材である。開口絞りプレート30は、略矩形の金属板を直角に折り曲げた形状を有し、第1フレームF1の底面Sに位置決めされ、ネジBで固定されている。
カップリングレンズ40は、半導体レーザ20と偏向器50の間に設けられ、半導体レーザ20から出射され、開口絞りプレート30の開口A2を通過した光を光ビームに変換し、後述する偏向器50の反射面Rの近傍で主走査方向(偏向器50により偏向される方向)に直交する副走査方向に結像させるレンズである。カップリングレンズ40は、直接、接着剤CMで第1フレームF1に接着されている。半導体レーザ20と、開口絞りプレート30と、カップリングレンズ40によって、光ビームを出射する光源が構成される。
半導体レーザ20の出射側の面および開口絞りプレート30は、図2〜5に示すように、フレーム100の内側で、他の光学部品が配置された区画から隔離されている。具体的には、半導体レーザ20と開口絞りプレート30の配置された区画は、第1フレームF1の底面Sに設けられ、略L字型に延びて第1フレームF1の隣接する外壁FW1,FW2を連結する壁W1により仕切られている。
壁W1は、第1フレームF1の底面Sから、その先端が第2フレームF2に接触する高さまで延出している(図5参照)。したがって、第2フレームF2を第1フレームF1に組み付けた状態で、半導体レーザ20の配置された区画への埃等の侵入を防ぐことができる。
壁W1は、開口絞りプレート30の開口A2を通過してカップリングレンズ40に入射する光ビームが通過可能な開口A1を有する。開口A1の口径D1は、開口A2の口径D2よりも大きい。開口A1は、光ビームの通過を妨げない限りにおいて形状、寸法、位置に制約はないが、開口A1からの埃等の侵入を防ぐため、開口面積が最小となるよう設計される。
また、壁W1とカップリングレンズ40の設置位置の間に、壁W1と第2フレームF2との接触部分に隣接して、第2フレームF2側から突出するリブ状の壁W2が設けられている。第1フレームF1と第2フレームF2の製造誤差や組み付け精度や経時的な変形等で、壁W1と第2フレームF2との間に隙間が生じた場合でも、壁W2によって、その隙間を空気が通流するのを妨げ、半導体レーザ20の配置された区画への埃等の侵入をより確実に防ぐことができる。壁W2は、図5に示すように、第2フレームF2の内面から、カップリングレンズ40への光ビームの入射を妨げない位置まで延出している。
上述の構成によれば、フレーム100と一体に成形された壁W1が外壁FW1,FW2とともに半導体レーザ20と開口絞りプレート30を囲んでいるので、半導体レーザ20の設置部分の強度が向上する。また、開口絞りをフレームと一体の壁に成形する形態に比べると、金属板からなる開口絞りプレート30は、光学的な開口絞りとしての開口A2を、高精度かつ容易に形成することができる。さらに、開口絞りがフレーム100とは別部品の開口絞りプレート30として設けられており交換可能なので、フレーム規格が標準化(共用化)できるとともに、光源などの仕様の変更に柔軟に対応可能である。
図6に示すように、偏向器50は、金属製の底板51と、モータMと、ポリゴンミラー55とを備えている。モータMは、回転子52と軸受部53とシャフト54とを有する。モータMは、回転軸SXが底板51に直交するように、軸受部53が底板51に保持されている。そして、ポリゴンミラー55は、回転子52に固定されており、回転子52とシャフト54とポリゴンミラー55とは回転軸SXを中心に一体に回転する。底板51上には、モータMの励磁コイルや制御回路が形成されている。
ポリゴンミラー55は、複数の反射面Rが、回転軸SXから等距離に配置された部材であり、図2では、4つ反射面Rを有するものを例示している。ポリゴンミラー55は、樹脂成形により形成され、表面にアルミニウム等の反射膜を蒸着させることで反射面Rが設けられている。
図6に示すように、ポリゴンミラー55の複数の反射面Rは、回転軸SXに対して所定角度α(たとえば、2°)で傾いて配置されている。図6には、反射面Rと平行な直線RL、および直線RLbを示した。偏向器50は、ポリゴンミラー55の複数の反射面Rのうち、半導体レーザ20からの光ビームをfθレンズ60の主走査方向の光軸AXM(図3参照)に向けて(すなわち、主走査方向の走査範囲の中央に向けて)反射する反射面Rが、fθレンズ60の各副走査断面における光軸を通る平面PLと直交するように、同じ所定角度αだけ傾けて配置されている。具体的には、直交する底板51が平面PLに対して所定角度α傾けて配置されている。図6には、平面PLと平行な直線PLbを示した。
ポリゴンミラー55は、回転軸SXを中心に図2の矢印方向に一定速度で回転され、カップリングレンズ40を通過した光ビームを主走査方向に偏向する。偏向器50の詳細な構成と配置については後述する。
fθレンズ60は、長尺状に形成され、ポリゴンミラー55で反射されることで偏向された光ビームを被走査面上に点状に結像させ、かつ、ポリゴンミラー55の反射面Rの面倒れを補正している。また、fθレンズ60は、ポリゴンミラー55により等角速度で偏向された光ビームを、被走査面上に等速で走査するようなfθ特性を有している。
折り返しミラー70は、光ビームを反射する反射鏡であり、たとえば、ガラス板の表面にアルミニウムなどの反射率が高い材料を蒸着することにより形成されている。折り返しミラー70は、長尺状に形成され、fθレンズ60を通過した光ビームを被走査面に向けて反射する。
ここで、折り返しミラー70の両端部を第1フレームF1に位置決めし固定するための構造について説明する。図3に示すように、折り返しミラー70は、両端部を第1フレームF1の外壁FW3に、側部を第1フレームF1の外壁FW4に、それぞれ隣接させて配置されている。第1フレームF1の内部には、折り返しミラー70を位置決めし固定するための一対の壁W4が設けられている。壁W4は、それぞれ外壁FW4に平行に(すなわち、折り返しミラー70の長手方向に)延びている。
折り返しミラー70の両端部は、それぞれ、押圧部材SSにより、第1フレームF1の壁W4に固定されている。折り返しミラー70は、その両端部におけるfθレンズ60側を向く面が壁W4に当接することで光軸方向の位置決めがなされる。押圧部材SSは、板ばねからなるクリップ状の部材であり、壁W4と折り返しミラー70の端部を挟持することにより、折り返しミラー70を位置決め保持する。
第1フレームF1は、折り返しミラー70の端部近傍に位置する外壁FW3の内側には、前記した壁W4のほかに、第1フレームF1の底面Sから延びる壁W3,W5を有する。
壁W3は、第1フレームF1の外壁FW4から折り返しミラー70の長手方向に直交する方向に外壁FW3に沿って延び、外壁FW3とともに二重壁構造を形成している。壁W3は、第1フレームF1の底面Sから、副走査方向において、その先端が外壁FW3と同じ高さ(つまり第2フレームF2に接触する高さ)まで延出している(図2参照)。
壁W5は、第1フレームF1の折り返しミラー70の長手方向における壁W3の内側に位置し、壁W3と平行に延びるリブ状の壁である。壁W4は、第1フレームF1の底面Sから、副走査方向において、その先端が折り返しミラー70と面一になる高さまで延出している(図2参照)。壁W4は、壁W3と壁W5とを接続している。
このように、折り返しミラー70が固定される壁W4は、壁W3および壁W5により補強されているので、安定的に折り返しミラー70を支持することができる。
BDセンサ80は、偏向器50で偏向された光ビームの走査方向上流側において光ビームを受光して検出信号を発生するセンサであり、回路基板CB上に設けられている。
BD集光レンズ90は、偏向器50により変更された光ビームをBDセンサ80に導くためのレンズである。
回路基板CBは、半導体レーザ20に電力を供給するための図示しない回路が設けられ、BDセンサ80が装着された基板であり、第1フレームF1の外壁FW2にネジBで固定されている。
図3のM1〜M4で示されている開口は、光走査装置1のフレーム100を、被走査面を含む装置に据え付ける際に利用される固定部である。M1〜M4は、それぞれ、折り返しミラー70を挟んで、第1フレームF1の外壁FW4の反対側に位置するとともに、折り返しミラー70の長手方向における端縁よりも内側に配置されている。図示せぬネジなどを固定部M1〜M4に挿通することで、光走査装置1を据え付けることができる。
図2に戻ると、第1フレームF1の外壁FW4に、一対のビーム検出孔Cが設けられている。ビーム検出孔Cは、折り返しミラー70を装着しない状態で、偏向器50により偏向された光ビームが通過するように構成されており、製造時の検査において、走査端部の光ビームを検出するため利用される開口である。
以上説明した光走査装置1では、半導体レーザ20から出射された光ビームが、開口絞りプレート30の開口A2、カップリングレンズ40、偏向器50、fθレンズ60、折り返しミラー70の順に通過して被走査面で高速走査される。
次に、フレーム100(第1フレームF1)への偏向器50の取付構造について説明する。
図4に示すように、第1フレームF1の底面Sは、領域S1,S2,S6を含む。領域S1,S2,S6は、fθレンズ60の各副走査断面における光軸を通る平面PL(図6参照)に平行な面である。領域S2は、偏向器50が配置される領域50Sの一部からfθレンズ60の下部にまで拡がっている。領域S2を基準面とすると、偏向器50が配置される領域50Sの一部に重なる領域S1は、一段低くなっている。領域S2と領域S1との間には、領域S2と領域S1とをなだらかに接続する段差部S3が設けられている。
また、偏向器50が配置される領域50Sよりも半導体レーザ20側には、領域S2よりも一段高い領域S6が設けられている。領域S2と領域S6との間には、傾斜部S4および傾斜部S5が設けられている。傾斜部S4は、領域S2の偏向器50が配置される部分の半導体レーザ20側の端部の外側に、傾斜部S5は、領域S2のfθレンズ60が配置される部分の偏向器50で偏向された光ビームの走査方向上流側の端部近傍に、それぞれ設けられている。
傾斜部S5は、傾斜部S4よりも、回路基板CBが固定されている第1フレームF1の外壁FW2の近くに配置されている。
また、領域S2のポリゴンミラー55の軸受部53が配置される位置に対応する領域には、凹部S7が設けられている。凹部S7は、偏向器50のモータMの軸受部53の下方への突出部分を収容するための空間を提供するものであり、軸受部53が接触しない形状と寸法を有する(図6参照)。
前述のように、ポリゴンミラー55が固定されている回転子52は、回転軸SXが底板51に直交し、ポリゴンミラー55の反射面Rが回転軸SXに対して所定角度αで傾いている。したがって、光ビームが入射するときの反射面Rをfθレンズ60の各副走査断面における光軸を通る平面PLに直交する配置とするために、底板51は、図6に示すように平面PLに対して角度αで傾くように配置される。
底板51は、第1フレームF1の底面Sから突出した4つの突出部11,12,13,14の先端にそれぞれ設けられた座面11F,12F,13F,14Fに接触させることで、副走査方向における位置決め(底板51の固定箇所の、平面PLからの距離の決定)がなされる。すなわち、座面11F,12F,13F,14Fの副走査方向における平面PLからの距離を変えることで、底板51を傾けることができる。
なお、図4に示すように、座面11F,12F,13F,14Fには、それぞれ、ネジ穴11H,12H,13H,14Hが設けられており、底板51には、対応する位置に、挿通孔P1,P2,P3,P4が設けられている。底板51には、さらに、第1フレームF1の底面から突出する位置決めボス15,16と係合可能な位置決め孔P5,P6が設けられている。位置決め孔P6は、底板51の端縁において開口した切欠き形状となっている。なお、位置決め孔P6は切欠きではなく、長孔でもよい。
位置決めボス15,16は、位置決め精度を確保する上で、回転軸SXを挟んで2箇所に配置されるのが好ましい。もっとも、回転軸SXに対して正確に点対称の位置にある必要はない。本実施形態では、図3に示すように、位置決めボス15,16は、それぞれの中心と回転軸SXとを結ぶ2本の直線がなす角度βが、鈍角をなす(90°以上180°以下となる)よう配置されている。このように配置することで、精確な位置決めが可能である。
偏向器50を第1フレームF1に取り付ける際には、まず、図7に示すように、底板51の位置決め孔P5,P6を、第1フレームF1の位置決めボス15,16に挿通して主走査平面内の位置決めがなされる。そして、座面11F,12F,13F,14Fのネジ穴11H,12H,13H,14Hに、ネジBで固定する。このとき副走査方向(平面PLに垂直な方向)における位置決めがなされる。
このように、本実施形態では、ポリゴンミラー55の傾いたシャフト54(軸受部53)を位置決めに用いる必要がないので、精確な位置決めが可能である。
図6に示すように、座面11F,12F,13F,14Fは、底板51の傾きに合わせて、平面PLに対して角度αで傾いている。したがって、座面11F,12F,13F,14Fの端縁が底板51の下面に当たることがなく、底板51を平面で安定的に支持することができる。
なお、ネジ穴11H,12H,13H,14Hは、座面11F,12F,13F,14Fの傾きに合わせて斜めに形成することもできるが、底面Sに対して垂直に形成するのが製造上簡便である。その場合、図8に示すように、ネジBの軸線BAが、平面PLに直交しているので、ネジBの軸部BSをネジ穴11H,12H,13H,14Hにねじ込んだときに、平面PLに対して傾いた底板51の上面に当たるネジBの頭部BHの片側が浮いた状態になり、底板51が受ける荷重が狭い範囲に偏る。
そこで、図8に示すように、ネジBの頭部BHからの荷重を、底板51の上面が、広い範囲の面で受けられるにするために、ネジBの頭部BHと底板51の間に樹脂製のスペーサWSを配置するとよい。
ネジBの頭部BHと底板51の間に樹脂製のスペーサWSを配置すると、樹脂製のスペーサWSが、ネジBの締め付けにより変形し、ネジBの頭部BHとスペーサWSが密着する。したがって、頭部BHの締め付け荷重が、底板51上面の狭い範囲に集中することが抑制できる。
図6に示すように、第1突出部11の座面11Fの中心の平面PLからの距離L1は、第2突出部12の座面12Fの中心の平面PLからの距離L2よりも長い(L1>L2)。
一方、4つの突出部11,12,13,14のうちの一つ(第1突出部11)が、底面Sの領域S1に配置されている。そして、第1突出部11以外の突出部(第2突出部12、第3突出部13、第4突出部14)は、底面Sの領域S2に配置されている。領域S1および領域S2には、前述のように高低差が設けられているので、領域S1の平面PLからの距離H1は、領域S2の平面PLからの距離H2よりも長い(H1>H2)。
このように構成することで、突出部11の基端(領域S1)から先端(座面11F)までの距離(すなわち、突出部11の長さ=H1−L1)と突出部12の基端(領域S2)から先端(座面12F)までの距離(すなわち、突出部12の長さ=H2−L2)との差が、突出部を配置する底面Sに高低差を設けなかった場合に比べ小さくなる。
特に、突出部11,12,13,14のうち、平面PLから最も遠い位置にある座面11Fを有する突出部11を領域S1に配置し、平面PLから最も近い位置にある座面12Fを有する突出部12を領域S2に配置することで、座面の高低差の最も大きい突出部11と突出部12の長さの差を小さくしている。
以上によれば、本実施形態において以下のような効果を得ることができる。
モータMの回転軸SXに対して所定角度αで傾いた反射面を有するポリゴンミラーを採用しているので、樹脂製のポリゴンミラーが選択可能であり、成形時の抜き勾配を設けることができる。ポリゴンミラーを樹脂製とすることで、製造が容易であり、金属製のポリゴンミラーを採用する場合に比較してコスト面でも有利である。
モータMの回転軸SXに対して所定角度αで傾いた反射面を有するポリゴンミラーを採用しているので、樹脂製のポリゴンミラーが選択可能であり、成形時の抜き勾配を設けることができる。ポリゴンミラーを樹脂製とすることで、製造が容易であり、金属製のポリゴンミラーを採用する場合に比較してコスト面でも有利である。
先端部に設けられた座面11F,12F,13F,14Fに底板51が載置される複数の突出部11,12,13,14の長さのばらつきを抑制しつつポリゴンミラー55の回転軸SXを傾けることができるので、ポリゴンミラー55の回転に伴う振動を抑制することができる。
なお、前記実施形態では、第1突出部11が配置された領域S1の平面PLからの距離と、第2突出部12が配置された領域S2の平面PLからの距離を異なるものとするために、平面PLに対して平行な領域S1と領域S1の間に段差(段差部S3)を設けているので、フレーム100の、特に、回転駆動されるポリゴンミラー55が設置される部分が構造的に補強される。
複数の突出部が配置される領域に高低差をつけるための構造は、前述したような段差を設ける形態に限定されない。図9に示すように、底面Sの複数の突出部が配置される領域を段差のない傾斜面S8としてもよい。図9に示す実施形態では、第1突出部11と第2突出部12とが配置されている領域の、平面PLからの距離を、それぞれH3、H4とすると、H3>H4の関係にある。
この形態においても、第1突出部11の座面11Fの平面PLからの距離L3は、第2突出部12の座面12Fの平面PLからの距離L4よりも長い(L3>L4)。そして、底面S(傾斜面S8)における第1突出部11が配置された領域の平面PLからの距離H3は、第2突出部12が配置された領域の平面PLからの距離H4よりも長い(H3>H4)。
したがって、突出部11の長さ(=H3−L3)と突出部12の長さ(=H4−L4)との差が、第1突出部11および第2突出部を配置する底面を傾斜面S8としなかった場合に比べ小さくなる。そして、傾斜面S8を底板51と同じ所定角度αで傾くものとすれば、すべての突出部11,12,13,14の長さを等しくすることができる。
前記実施形態では、複数の突出部を4つ配置した例を示したが、突出部の数は4つに限定されない。精確な位置決めと安定した固定のため、突出部は3つ以上配置するのが好ましい。なお、複数の突出部は、その中心を結んだ多角形内にポリゴンミラーの回転軸が位置するように配置されるのが好ましい。
また、前記実施形態では、複数の突出部のうちの1つ(第1突出部11)について、それが配置された第1領域S1の平面PLからの距離L1が、第1突出部11以外のすべての突出部12,13,14が配置された第2領域S2の平面PLからの距離と異なるものとしたが、複数の突出部の配置に応じて、2つ以上の突出部を、それ以外の突出部と異なる領域に配置してもよく、すべての突出部をそれぞれ、光ビームを反射する反射面Rに対する位置に応じて、平面PLからの距離の異なる領域に配置してもよい、
前記実施形態では、ポリゴンミラー55として、4つの反射面Rを有するものを例示したが、反射面の数は、特に限定されない。たとえば、6つの反射面を有するポリゴンミラーであってもよい。
また、前記した実施形態で説明した各要素を、任意に組み合わせて実施してもよい。
1 光走査装置
11 第1突出部
11F 座面
12 第2突出部
12F 座面
20 半導体レーザ
50 偏向器
51 底板
52 回転子
55 ポリゴンミラー
60 fθレンズ
100 フレーム
PL 平面
R 反射面
S 底面
S1,S2 領域
SX 回転軸
11 第1突出部
11F 座面
12 第2突出部
12F 座面
20 半導体レーザ
50 偏向器
51 底板
52 回転子
55 ポリゴンミラー
60 fθレンズ
100 フレーム
PL 平面
R 反射面
S 底面
S1,S2 領域
SX 回転軸
Claims (9)
- 光ビームを出射する光源と、前記光源から出射された光ビームを主走査方向に偏向する偏向器と、前記偏向器により偏向された光ビームを被走査面上に結像する走査レンズと、前記光源、前記偏向器および前記走査レンズが固定されるフレームとを備えた光走査装置であって、
前記偏向器は、底板と、回転軸が前記底板に直交する回転子と、前記回転子に固定されたポリゴンミラーとを有し、
前記ポリゴンミラーは、複数の反射面を有し、当該複数の反射面が前記回転軸に対し所定角度で傾いて配置され、
前記フレームは、底面と、当該底面上から突出した複数の突出部と、当該複数の突出部の先端部にそれぞれ設けられ、前記底板に接触する複数の座面を有し、
前記底面は、前記複数の突出部のうちの少なくとも一つの第1突出部が配置された第1領域の前記走査レンズの各副走査断面における光軸を通る平面からの距離が、前記第1突出部以外の第2突出部が配置された第2領域の前記平面からの距離と異なっていることを特徴とする光走査装置。 - 前記複数の座面は、前記平面に対して傾いていることを特徴とする請求項1に記載の光走査装置。
- 前記底面における少なくとも前記複数の突出部が配置された領域は、前記平面に対して平行な面であり、前記底面における前記第1領域と前記第2領域との間に段差が設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の光走査装置。
- 前記底板を前記複数の座面にそれぞれ固定する複数のネジをさらに有し、
前記複数のネジの軸線が、それぞれ前記平面に直交していることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の光走査装置。 - 前記複数のネジは、それぞれ頭部と軸部を有し、当該頭部と前記底板の間に樹脂製のスペーサが配置されていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の光走査装置。
- 前記フレームは、前記底面上から突出した複数のボスを有し、
前記底板は、前記ボスが貫通する複数の位置決め孔を有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載の光走査装置。 - 前記複数のボスのうち2つのボスのそれぞれの中心と前記回転軸とを結ぶ2本の直線がなす角度が90°以上180°以下であることを特徴とする請求項6に記載の光走査装置。
- 前記複数の反射面の1つが、前記光源からの光ビームを前記走査レンズの主走査方向の走査範囲の中央に向けて反射するとき、当該反射面は、前記走査レンズの副走査断面において光軸と直交することを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の光走査装置。
- 前記ポリゴンミラーは樹脂により形成されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の光走査装置。
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