JP2018089587A - 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法 - Google Patents

超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2018089587A
JP2018089587A JP2016236235A JP2016236235A JP2018089587A JP 2018089587 A JP2018089587 A JP 2018089587A JP 2016236235 A JP2016236235 A JP 2016236235A JP 2016236235 A JP2016236235 A JP 2016236235A JP 2018089587 A JP2018089587 A JP 2018089587A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group metal
platinum group
metal catalyst
water
pure water
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016236235A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6439777B2 (ja
Inventor
康晴 港
Yasuharu Minato
康晴 港
中馬 高明
Takaaki Chuma
高明 中馬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kurita Water Industries Ltd filed Critical Kurita Water Industries Ltd
Priority to JP2016236235A priority Critical patent/JP6439777B2/ja
Priority to PCT/JP2017/032788 priority patent/WO2018105188A1/ja
Priority to CN201780076079.8A priority patent/CN110049952A/zh
Priority to KR1020197014908A priority patent/KR102497591B1/ko
Priority to TW106131337A priority patent/TW201821375A/zh
Publication of JP2018089587A publication Critical patent/JP2018089587A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6439777B2 publication Critical patent/JP6439777B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/58Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/42Electrodialysis; Electro-osmosis ; Electro-ultrafiltration; Membrane capacitive deionization
    • B01D61/44Ion-selective electrodialysis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/20Treatment of water, waste water, or sewage by degassing, i.e. liberation of dissolved gases
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/30Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
    • C02F1/32Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
    • C02F1/325Irradiation devices or lamp constructions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/42Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/44Treatment of water, waste water, or sewage by dialysis, osmosis or reverse osmosis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/469Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/46Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods
    • C02F1/469Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis
    • C02F1/4693Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis electrodialysis
    • C02F1/4695Treatment of water, waste water, or sewage by electrochemical methods by electrochemical separation, e.g. by electro-osmosis, electrodialysis, electrophoresis electrodialysis electrodeionisation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/725Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/02Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply
    • C02F2103/04Non-contaminated water, e.g. for industrial water supply for obtaining ultra-pure water

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Urology & Nephrology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Physical Water Treatments (AREA)
  • Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
  • Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
  • Removal Of Specific Substances (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
  • Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Abstract

【課題】 サブシステムに紫外線酸化装置と白金族金属触媒樹脂塔とを有し、過酸化水素除去能力の低下を抑制した超純水製造装置を提供する。
【解決手段】 一次純水製造装置3は、タンク5と紫外線酸化装置6と白金族金属触媒樹脂塔7と再生型イオン交換装置8と膜式脱気装置9とを有する。サブシステム4は、サブタンク11とこのサブタンク11から送給される一次純水を処理する紫外線酸化装置12と白金族金属触媒樹脂塔13と膜式脱気装置14と非再生型混床式イオン交換装置15と限外濾過(UF)膜16とで構成されている。白金族金属触媒樹脂は、担体樹脂に白金族金属を担持させたものであり、 特に担体樹脂に白金族の金属のナノオーダーの粒径の粒子を担持させたものが好ましい。
【選択図】 図1

Description

本発明は一次純水装置とサブシステムとを備えた超純水製造装置及びこの超純水製造装置の運転方法に関し、特にサブシステムに紫外線酸化装置と白金族金属触媒樹脂塔とを有する超純水製造装置及びこの超純水製造装置の運転方法に関する。
従来、半導体等の電子産業分野で用いられている超純水は、前処理システム、一次純水装置及び一次純水を処理するサブシステムで構成される超純水製造装置で原水を処理することにより製造されている。
図2に示すように従来の超純水製造装置21は、一般に前処理装置22、一次純水製造装置23、及び二次純水製造装置(サブシステム)24といった3段の装置で構成されている。このような超純水製造装置21の前処理装置22では、原水Wの濾過、凝集沈殿、精密濾過膜などによる前処理が施され、主に懸濁物質が除去される。
一次純水製造装置23は、前処理水W1のタンク25と紫外線(UV)酸化装置26と再生型イオン交換装置(混床式又は4床5塔式など)27と膜式脱気装置28とを有し、その他必要に応じてRO膜分離装置や電気脱イオン装置等を備えていてもよい。ここで前処理水W1中の大半の電解質、微粒子、生菌等の除去を行うとともに有機物を分解する。
サブシステム24は、前述した一次純水製造装置23で製造された一次純水W2を貯留するサブタンク31とこのサブタンク31から図示しないポンプを介して送給される一次純水W2を処理する紫外線酸化装置32と白金族金属触媒樹脂塔33と膜式脱気装置34と非再生型混床式イオン交換装置35と膜濾過装置としての限外濾過(UF)膜36とで構成され、さらに必要に応じてRO膜分離装置等が設けられている場合もある。このサブシステム24では、紫外線酸化装置32で一次純水W2中に含まれる微量の有機物(TOC成分)を紫外線により酸化分解し、この紫外線の照射により生じた過酸化水素を白金族金属触媒樹脂塔33で分解し、その後段の膜式脱気装置34で混入しているDO(溶存酸素)などの溶存ガスを除去する。続いて非再生型混床式イオン交換装置35で処理することで、残留した炭酸イオン、有機酸類、アニオン性物質、さらには金属イオンやカチオン性物質をイオン交換によって除去する。そして、限外濾過(UF)膜36で微粒子を除去して超純水W3とし、これをユースポイント37に供給して、未使用の超純水はサブタンク31に還流する。
上述したような従来の超純水製造装置21では、紫外線酸化装置32におけるTOC成分の酸化分解機構は、水を酸化分解してOHラジカルを生成させ、このOHラジカルによりTOC成分を酸化分解するものであり、通常、この紫外線酸化装置32における紫外線は、水中のTOCを十分に酸化分解できるような過剰量が照射される。このように紫外線酸化装置32の紫外線照射量が多いと、水の分解で生成したOHラジカルが過剰となるため、余剰のOHラジカルが会合することで過酸化水素となる。発生した過酸化水素は後段の白金族金属触媒樹脂塔33と接触することで分解される。
しかしながら、本発明者らの検討の結果、サブシステム24の紫外線酸化装置32が長期間の過酸化水素の分解を行うと過酸化水素の除去能力が低下することがあることがわかった。この結果、超純水W3中に過酸化水素が残存すると水質低下の原因となるだけでなく、非再生型混床式イオン交換装置35や後段の限外濾過(UF)膜36を劣化させるおそれがある。さらに、過酸化水素が分解すると酸素を生成することで水中のDOが増加する原因ともなる。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、一次純水装置とサブシステムとを備え、このサブシステムに紫外線酸化装置と白金族金属触媒樹脂塔とを有する超純水製造装置における白金族金属触媒樹脂塔の過酸化水素除去能力の低下を抑制した超純水製造装置及びこの超純水製造装置の運転方法を提供することを目的とする。
本発明は第一に、紫外線酸化装置、再生型混床式イオン交換塔又は電気脱イオン装置及び膜式脱気装置を有する一次純水装置と、紫外線酸化装置、白金族金属触媒樹脂塔及び膜式脱気装置を有し、該一次純水装置から得られた一次純水を処理するサブシステムとを備える超純水製造装置において、前記一次純水装置の紫外線酸化装置の後段に白金族金属触媒樹脂塔を設けた、超純水製造装置を提供する(発明1)。
かかる発明(発明1)によれば、一次純水装置の紫外線酸化装置の後段に白金族金属触媒樹脂塔を設けることにより、サブシステムの紫外線酸化装置の後段の白金族金属触媒樹脂塔の過酸化水素除去能力の低下を抑制することができる。これは以下のような理由による。すなわち、サブシステムの紫外線酸化装置の後段の白金族金属触媒樹脂塔の過酸化水素除去能力の低下は、被処理水中の過酸化水素に対して水素が当量未満であり、白金族金属触媒が酸化するためであると考えられる。次に過酸化水素に対して水素が不足する原因について本発明者らが検討した結果、一次純水装置の紫外線酸化装置において、有機物の分解に伴い過酸化水素と水素が生じ、水素は膜式脱気装置で除去される一方、過酸化水素はサブシステムに流入することが原因であることがわかった。そこで、一次純水装置の紫外線酸化装置の後段に白金族金属触媒樹脂塔を設けて、一次純水装置の紫外線酸化装置で生じる過酸化水素を分解してやれば、サブシステムの紫外線酸化装置の後段での被処理水中の過酸化水素が減少し、水素が過酸化水素に対して当量に近づき、白金族金属触媒の劣化を防止することができる。
上記発明(発明1)においては、前記サブシステムが非再生型混床式イオン交換塔をさらに有することが好ましい(発明2)。
かかる発明(発明2)によれば、被処理水中に含まれる微量の有機物が紫外線酸化装置によって分解され、残留した炭酸イオン、有機酸類、アニオン性物質や前段より流入してくる金属イオンやカチオン性物質をイオン交換によって除去することができる。
上記発明(発明1,2)においては、前記一次純水装置の白金族金属触媒樹脂塔及び前記サブシステムの白金族金属触媒樹脂塔における白金族金属が白金、パラジウム又は白金/パラジウム合金であることが好ましい(発明3)。
かかる発明(発明3)によれば、処理水中に含まれる微量の過酸化水素を効率的に分解除去することができる。
上記発明(発明1〜3)においては、前記白金族金属が平均粒子径1〜50nmの白金族の金属の粒子であることが好ましい(発明4)。
かかる発明(発明4)によれば、処理水中に含まれる過酸化水素を特に効率的に分解除去することができる。
本発明は第二に、紫外線酸化装置、白金族金属触媒樹脂塔、再生型混床式イオン交換塔又は電気脱イオン装置、及び膜式脱気装置を有する一次純水装置と、紫外線酸化装置、白金族金属触媒樹脂塔及び膜式脱気装置を有し、該一次純水装置から得られた一次純水を処理するサブシステムとを備える超純水製造装置の運転方法であって、被処理水を前記一次純水装置及び前記サブシステムに連続して通水して超純水を製造する、超純水製造装置の運転方法を提供する(発明5)。
かかる発明(発明5)によれば、一次純水装置の前記紫外線酸化装置の後段に白金族金属触媒樹脂塔を設けることにより、一次純水装置の紫外線酸化装置で生じる過酸化水素を分解することができるので、サブシステムの紫外線酸化装置の後段での被処理水中の過酸化水素が減少し、水素が過酸化水素に対して当量に近づくため、白金族金属触媒の劣化を防止しながら超純水を製造することができる。
上記発明(発明5)においては、前記一次純水装置の白金族金属触媒樹脂塔及び前記サブシステムの白金族金属触媒樹脂塔における白金族金属が白金、パラジウム又は白金/パラジウム合金であることが好ましい(発明6)。
かかる発明(発明6)によれば、処理水中に含まれる微量の過酸化水素を効率的に分解除去することができる。
上記発明(発明5又は6)においては、前記白金族金属が平均粒子径1〜50nmの白金族の金属の粒子であることが好ましい(発明7)。
かかる発明(発明7)によれば、処理水中に含まれる過酸化水素を特に効率的に分解除去することができる。
上記発明(発明5〜7)においては、前記サブシステムの紫外線酸化装置の処理水のH濃度が10〜100μg/Lであり、該サブシステムの白金族金属触媒樹脂塔の処理水のH濃度が0.1〜10μg/Lであることが好ましい(発明8)。
かかる発明(発明8)によれば、サブシステムの紫外線酸化装置及び白金族金属触媒樹脂塔の処理水のH濃度が上記範囲内となるように紫外線酸化装置及び白金族金属触媒樹脂塔での処理条件を制御することにより、該白金族金属触媒樹脂塔の後段の膜式脱気装置などへの悪影響を最小限に抑制するとともに、得られる超純水の過酸化水素濃度及び溶存酸素濃度を極めて低いレベルとすることができる。
本発明によれば、紫外線酸化装置で生じた過酸化水素を分解した一次純水をサブシステムに供給しており、随伴してくる過酸化水素が少ないため、該サブシステムの紫外線酸化装置の後段での処理水中の過酸化水素濃度が減少し、相対的に水素が過酸化水素に対して当量に近づくので、白金族金属触媒の劣化を防止しながら超純水を製造することができる。
本発明の一実施形態による超純水製造装置を示すフロー図である。 従来の超純水製造装置を示すフロー図である。
以下、本発明の一実施形態による超純水製造装置及びこの装置の運転方法について図1を参照して詳細に説明する。
図1は本発明の一実施形態による超純水製造装置を示すフロー図であり、図1において、超純水製造装置1は、前処理装置2と一次純水製造装置3と二次純水製造装置(サブシステム)4との3段の装置で構成されていて、前処理装置2は、工水、井水、市水などの原水Wの濾過、凝集沈殿、精密濾過膜などにより構成されている。
一次純水製造装置3は、被処理水としての前処理水W1のタンク5と紫外線(UV)酸化装置6と白金族金属触媒樹脂塔7と再生型イオン交換装置(混床式又は4床5塔式など)8と膜式脱気装置9とを備える。
サブシステム4は、前述した一次純水製造装置3で製造された一次純水W2を貯留するサブタンク11とこのサブタンク11から送給される一次純水を処理する紫外線酸化装置12と白金族金属触媒樹脂塔13と膜式脱気装置14と非再生型混床式イオン交換装置15と膜濾過装置としての限外濾過(UF)膜16とを備えており、限外濾過(UF)膜16を通過した超純水W3がユースポイント17に供給された後、未使用の超純水W3がサブタンク11に還流するように構成されている。
上述したような超純水製造装置1において、白金族金属触媒樹脂塔7及び白金族金属触媒樹脂塔13に充填する白金族金属触媒樹脂は、担体樹脂に白金族金属を担持させたものである。
この白金族金属を担持させる担体樹脂としては、イオン交換樹脂を用いることができ、特にアニオン交換樹脂を好適に用いることができる。本実施形態において用いるアニオン交換樹脂は、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体を母体とした強塩基性アニオン交換樹脂であることが好ましく、特にゲル型樹脂であることが好ましい。白金族金属は、負に帯電しているので、アニオン交換樹脂に安定に担持されて剥離しにくいものとなる。アニオン交換樹脂の交換基は、OH形であることが好ましい。OH形アニオン交換樹脂は、樹脂表面がアルカリ性となり、過酸化水素の分解を促進する。
また、担持する白金族金属は、超純水に対する溶出性が低くかつ触媒活性が高いため、高い通水速度で通水できるので何らかの溶出が起こったとしても溶出物濃度が抑制され、早期の水質悪化が抑制される点において好ましい。この白金族金属としては、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム及び白金を挙げることができる。これらの白金族金属は、1種を単独で用いることができ、2種以上を組み合わせて用いることもでき、2種以上の合金として用いることもでき、あるいは、天然に産出される混合物の精製品を単体に分離することなく用いることもできる。これらの中で白金、パラジウム、白金/パラジウム合金の単独又はこれらの2種以上の混合物は、触媒活性が高いので特に好適に用いることができる。
特に白金族金属触媒樹脂として、前述した担体樹脂に白金族の金属のナノオーダーの粒径の粒子を担持させたものを好適に用いることができる。
白金族の金属ナノ粒子を製造する方法に特に制限はなく、例えば、金属塩還元反応法、燃焼法などを挙げることができる。これらの中で、金属塩還元反応法は、製造が容易であり、安定した品質の金属ナノ粒子を得ることができるので好適に用いることができる。金属塩還元反応法であれば、例えば、白金などの塩化物、硝酸塩、硫酸塩、金属錯化物などの0.1〜0.4mmol/L水溶液に、アルコール、クエン酸又はその塩、ギ酸、アセトン、アセトアルデヒドなどの還元剤を4〜20当量倍添加し、1〜3時間煮沸することにより、金属ナノ粒子を製造することができる。また、例えば、ポリビニルピロリドン水溶液に、ヘキサクロロ白金酸、ヘキサクロロ白金酸カリウムなどを1〜2mmol/L溶解し、エタノールなどの還元剤を加え、窒素雰囲気下で2〜3時間加熱還流することにより、白金ナノコロイド粒子を製造することもできる。
白金族の金属ナノ粒子の平均粒子径は1〜50nmが好ましく、より好ましくは1.2〜20nmであり、更に好ましくは1.4〜5nmである。金属ナノ粒子の平均粒子径が50nmを超えると、ナノ粒子の比表面積が小さくなって、過酸化水素の分解除去に対する触媒活性が低下するおそれがある。一方、金属ナノ粒子の平均粒子径が1nm未満であると、過酸化水素の分解除去に対する触媒活性がかえって低下するおそれがある。
上述したようなアニオン交換樹脂への白金族の金属ナノ粒子の担持量は、0.01〜0.2重量%であることが好ましく、特に0.04〜0.1重量%であることが好ましい。金属ナノ粒子の担持量が0.01重量%未満であると、過酸化水素の分解除去に対する触媒活性が不足するおそれがある。金属ナノ粒子の担持量は0.2重量%以下で過酸化水素の分解除去に対して十分な触媒活性が発現し、通常は0.2重量%を超える金属ナノ粒子を担持させる必要はなく、かえって経済的でない。また、金属ナノ粒子の担持量が増加すると、水中への金属の溶出のおそれも大きくなる。
次に上述したような構成を有する本実施形態の超純水製造装置1の運転方法について説明する。
まず、原水Wを前処理装置2で凝集沈殿、凝集ろ過、凝集加圧浮上などの操作により処理することで、主として原水W中の濁質を除去する。この前処理水W1は一旦タンク5に貯留され、図示しないポンプにより一次純水装置3に送給される。
一次純水装置3において、紫外線(UV)酸化装置6で前処理水W1中の有機物(TOC)が酸化されて有機酸となり、さらに二酸化炭素となる。また、紫外線酸化処理装置6で過剰に照射された紫外線により、前処理水W1の水分の分解によりOHラジカルと水素とが発生し、余剰のOHラジカルが会合することで過酸化水素となる。この結果、紫外線酸化装置6の処理水のH濃度は10〜100μg/Lとなる。さらに、水素は後述する膜式脱気装置9で除去される。この結果、従来は過酸化水素濃度が高く水素が減少した処理水が、一次純水としてサブシステム4に供給され、これがサブシステム側の白金族金属触媒樹脂塔13の機能の低下の原因となっていた。
そこで、本実施形態においては、この紫外線酸化装置6の後段に白金族金属触媒樹脂塔7を設けることにより、発生した過酸化水素を分解する。これによりH濃度は0.1〜10μg/L程度、特に白金族の金属ナノ粒子を用いた場合には、H濃度は0.1〜1μg/L程度で、紫外線酸化装置6の処理水より低減する。そして、再生型イオン交換装置(混床式又は4床5塔式など)8で前処理水W1中の大半の電解質(イオン性成分)を除去し、さらに膜式脱気装置9で溶存酸素等の溶存ガスを除去して、有機物(TOC)2ppb以下、H濃度0.1〜10μg/Lの一次純水W2を得る。この一次純水W2は、一旦サブタンク11に貯留されたのち、図示しないポンプによりサブシステム4に送られる。
次にサブシステム4では、紫外線(UV)酸化装置12において一次純水W2中に残存する微量の有機物が酸化されて有機酸となり、さらに二酸化炭素となる。このとき有機物を極限まで除去するために紫外線酸化処理装置12では過剰に紫外線が照射されるので、一次純水W2の水分の分解で生成したOHラジカルが過剰となるため、余剰のOHラジカルが会合することで過酸化水素が発生する。これにより一次純水W2中のH濃度は0.1〜10μg/L程度から10〜100μg/L程度となり、一次純水W2よりも増加する。
そして、発生した過酸化水素は後段の白金族金属触媒樹脂塔13で分解され、H濃度は10μg/L以下程度、特に白金族の金属ナノ粒子を用いた場合には、H濃度は5μg/L以下、特に1μg/L以下で、紫外線酸化処理装置12の処理水よりも低下する。
一方、過酸化水素の分解により酸素も発生し、これに起因して溶存酸素が増加するので、後段に設けられた膜式脱気装置14で溶存酸素を除去する。そして、微量残留している炭酸イオン、有機酸類、アニオン性物質や前段より流入してくる金属イオンやカチオン性物質を非再生型混床式イオン交換装置15で除去し、さらに限外濾過(UF)膜16で微粒子を除去して超純水W3を製造することができる。この、この超純水W3をユースポイント17に供給して、未使用の超純水W3はサブタンク11に還流する。
なお、本実施形態における超純水W3は、例えば、抵抗率:18.1MΩ・cm以上、微粒子:粒径50nm以上で1000個/L以下、生菌:1個/L以下、TOC(Total Organic Carbon):1μg/L以下、全シリカ:0.1μg/L以下、金属類:1ng/L以下、イオン類:10ng/L以下の性状を有するものである。
特に白金族金属触媒樹脂塔13の白金族金属触媒樹脂として、白金族の金属ナノ粒子をアニオン交換樹脂に担持したものを用いた場合、この白金族の金属ナノ粒子を担持したアニオン交換樹脂は、比表面積が大きいので、過酸化水素分解の反応速度が非常に速く、通水空間速度を高くすることができる。触媒の量に比べて通水量が多いために、触媒から処理水に溶出する金属の影響を非常に小さくすることができる。さらに水中の過酸化水素は、アニオン交換樹脂に担持された白金族の金属ナノコロイド粒子と接触して速やかに分解し、アニオン交換樹脂に作用することがないので、アニオン交換樹脂が過酸化水素に侵されて有機体炭素(TOC)が溶出するおそれもない。
以上、本発明の一実施形態について添付図面を参照して説明してきたが、本発明は前記実施形態に限定されず、一次純水装置3の紫外線(UV)酸化装置6の後段に白金族金属触媒樹脂塔7を設ければよく、種々の変形実施が可能である。例えば、サブシステム4の白金族金属触媒樹脂塔13の白金族金属触媒樹脂としては、白金族の金属ナノ粒子を担持したアニオン交換樹脂を用いるのが好ましいが、この場合一次純水装置3の紫外線(UV)酸化装置6の後段の白金族金属触媒樹脂塔7としては、同様に白金族の金属ナノ粒子を担持したアニオン交換樹脂を用いてもよいし、あるいは汎用的な白金族金属触媒樹脂を用いて、両者を異ならせてもよい。また、一次純水装置3及びサブシステム4には必要に応じRO膜分離装置や電気脱イオン装置等の脱塩手段や他の各種エレメントを設けてもよいし、一次純水装置3の前段にさらに純水製造装置を設けて純水製造装置を3段構成としてもよい。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
[実施例1]
平均粒子径3.5nmの白金ナノコロイド粒子を、0.07重量%の担持量で強塩基性ゲル型アニオン交換樹脂に担持させ、白金族金属触媒樹脂として、白金族の金属ナノ粒子を担持したアニオン交換樹脂を調製した。
図1に示す装置構成の超純水製造装置1において、上述した白金族金属触媒樹脂を用いて白金族金属触媒樹脂塔7、13を構成して超純水W3を製造し、サブシステム4の白金族金属触媒樹脂塔13の入口水及び出口水の過酸化水素濃度(初期)を測定した。結果を表1に示す。また、この超純水製造装置1の運転を長期間継続した後の白金族金属触媒樹脂塔13の出口水の過酸化水素濃度(末期)を測定した。結果を表1にあわせて示す。なお、過酸化水素濃度は、フェノールフタレイン4.8mg、硫酸銅(無水)8mg及び水酸化ナトリウム48mgに硫酸ナトリウム(無水)を添加して10gとし、微量過酸化水素濃度定量用試薬を調製する。試験水10mLに該試薬0.5gを添加、溶解し、室温で10分間静置したのちの552nmにおける吸光度の測定値に基づき算定した。
[比較例1]
実施例1において、一次純水装置3の紫外線酸化装置6の後段に白金族金属触媒樹脂塔7を設けなかった以外は同様にして超純水製造装置を構成して超純水W3を製造し、サブシステム4の白金族金属触媒樹脂塔13の入口水及び出口水の過酸化水素濃度(初期)を測定した結果を表1に示す。また、この超純水製造装置1の運転を長期間継続した後の白金族金属触媒樹脂塔13の出口水の過酸化水素濃度(末期)を測定した。結果を表1にあわせて示す。
Figure 2018089587
表1から明らかな通り、一次純水装置3の紫外線酸化装置6の後段に白金族金属触媒樹脂塔7を有しない比較例1では長期間運転後の超純水W3の過酸化水素濃度の上昇が顕著であるのに対し、実施例1ではほとんど変化がなかった。
[比較例2、3及び参考例]
比較例1において、長期間運転後の白金族金属触媒樹脂塔13の樹脂を表層部、中部、下部の3領域に分別して取り出し、表層部及び中部の樹脂をそれぞれの試験用のカラムに充填し、試験用の白金族金属触媒樹脂塔とした。また、参考例として新品の樹脂を同様に試験用のカラムに充填し、白金族金属触媒樹脂塔とした。
超純水(過酸化水素1μg/L未満)に過酸化水素をそれぞれ300μg/L及び1000μg/L添加して試験用入口水を調製し、この試験用入口水を上述した試験用カラムに通水速度(SV) 300hr−1で下向流通水した後の出口水の過酸化水素濃度を測定した。結果を表2に示す。
Figure 2018089587
表2から明らかなとおり、長期間運転後の白金族金属触媒樹脂塔13の表層部の樹脂をカラムに充填した比較例2の方が中部の樹脂をカラムに充填した比較例3よりも処理水の過酸化水素の濃度が低かった。これにより中部の樹脂の方が過酸化水素分解能の低下が大きいことがわかる。白金族金属触媒樹脂塔13に下向流で通水した場合には、表層部から下方に行くにしたがい過酸化水素濃度は低くなる一方、溶存水素濃度は低減していくことから、過酸化水素分解能の低下は、水素不足に起因する酸化劣化によるものと推測される。
1 超純水製造装置
3 一次純水製造装置
4 サブシステム(二次純水製造装置)
6 紫外線酸化装置
7 白金族金属触媒樹脂塔
8 再生型イオン交換装置
9 膜式脱気装置
12 紫外線酸化装置
13 白金族金属触媒樹脂塔
14 膜式脱気装置
15 非再生型混床式イオン交換装置
W 原水
W1 前処理水
W2 一次純水
W3 超純水(二次純水)

Claims (8)

  1. 紫外線酸化装置、再生型混床式イオン交換塔又は電気脱イオン装置及び膜式脱気装置を有する一次純水装置と、紫外線酸化装置、白金族金属触媒樹脂塔及び膜式脱気装置を有し、該一次純水装置から得られた一次純水を処理するサブシステムとを備える超純水製造装置において、
    前記一次純水装置の紫外線酸化装置の後段に白金族金属触媒樹脂塔を設けた、超純水製造装置。
  2. 前記サブシステムが非再生型混床式イオン交換塔をさらに有する、請求項1に記載の超純水製造装置。
  3. 前記一次純水装置の白金族金属触媒樹脂塔及び前記サブシステムの白金族金属触媒樹脂塔における白金族金属が白金、パラジウム又は白金/パラジウム合金である、請求項1又は2に記載の超純水製造装置。
  4. 前記白金族金属が平均粒子径1〜50nmの白金族の金属の粒子である、請求項1〜3のいずれかに記載の超純水製造装置。
  5. 紫外線酸化装置、白金族金属触媒樹脂塔、再生型混床式イオン交換塔又は電気脱イオン装置、及び膜式脱気装置を有する一次純水装置と、紫外線酸化装置、白金族金属触媒樹脂塔及び膜式脱気装置を有し、該一次純水装置から得られた一次純水を処理するサブシステムとを備える超純水製造装置の運転方法であって、被処理水を前記一次純水装置及び前記サブシステムに連続して通水して超純水を製造する、超純水製造装置の運転方法。
  6. 前記一次純水装置の白金族金属触媒樹脂塔及び前記サブシステムの白金族金属触媒樹脂塔における白金族金属が白金、パラジウム又は白金/パラジウム合金である、請求項5に記載の超純水製造装置の運転方法。
  7. 前記白金族金属が平均粒子径1〜50nmの白金族の金属の粒子である、請求項5又は6に記載の超純水製造装置の運転方法。
  8. 前記サブシステムの紫外線酸化装置の処理水のH濃度が10〜100μg/Lであり、該サブシステムの白金族金属触媒樹脂塔の処理水のH濃度が0.1〜10μg/Lである、請求項5〜7のいずれかに記載の超純水製造装置の運転方法。
JP2016236235A 2016-12-05 2016-12-05 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法 Active JP6439777B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016236235A JP6439777B2 (ja) 2016-12-05 2016-12-05 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
PCT/JP2017/032788 WO2018105188A1 (ja) 2016-12-05 2017-09-12 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
CN201780076079.8A CN110049952A (zh) 2016-12-05 2017-09-12 超纯水制造装置以及超纯水制造装置的运转方法
KR1020197014908A KR102497591B1 (ko) 2016-12-05 2017-09-12 초순수 제조 장치 및 초순수 제조 장치의 운전 방법
TW106131337A TW201821375A (zh) 2016-12-05 2017-09-13 超純水製造裝置及超純水製造裝置的運轉方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016236235A JP6439777B2 (ja) 2016-12-05 2016-12-05 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018089587A true JP2018089587A (ja) 2018-06-14
JP6439777B2 JP6439777B2 (ja) 2018-12-19

Family

ID=62490905

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016236235A Active JP6439777B2 (ja) 2016-12-05 2016-12-05 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6439777B2 (ja)
KR (1) KR102497591B1 (ja)
CN (1) CN110049952A (ja)
TW (1) TW201821375A (ja)
WO (1) WO2018105188A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020179426A1 (ja) * 2019-03-05 2020-09-10 栗田工業株式会社 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法
WO2021261144A1 (ja) * 2020-06-23 2021-12-30 オルガノ株式会社 水処理装置、超純水製造装置及び水処理方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7368310B2 (ja) * 2020-05-20 2023-10-24 オルガノ株式会社 ホウ素除去装置及びホウ素除去方法、並びに、純水製造装置及び純水の製造方法
WO2024014218A1 (ja) * 2022-07-14 2024-01-18 栗田工業株式会社 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
CN115893769B (zh) * 2023-01-09 2023-06-20 中国电子工程设计院有限公司 一种精处理回路提纯水的***

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61101292A (ja) * 1984-10-24 1986-05-20 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JPH0639366A (ja) * 1992-07-22 1994-02-15 Japan Organo Co Ltd 超純水製造方法、及びその装置
JPH0775780A (ja) * 1993-09-07 1995-03-20 Nomura Micro Sci Co Ltd 超純水製造装置
JPH07241598A (ja) * 1994-03-04 1995-09-19 Nomura Micro Sci Co Ltd 水処理装置
JPH0938671A (ja) * 1995-07-31 1997-02-10 Japan Organo Co Ltd 水処理方法及び水処理装置
JP2000015272A (ja) * 1998-07-03 2000-01-18 Japan Organo Co Ltd オゾン水製造方法及び装置
JP2003266097A (ja) * 2002-03-13 2003-09-24 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造装置
WO2005095280A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Kurita Water Industries Ltd. 超純水製造装置
JP2007185587A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Kurita Water Ind Ltd 過酸化水素の除去方法及び除去装置
WO2009122884A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 栗田工業株式会社 純水製造方法及び純水製造装置
JP5512357B2 (ja) * 2010-04-05 2014-06-04 オルガノ株式会社 純水製造方法及び装置
JP2015178107A (ja) * 2015-06-08 2015-10-08 栗田工業株式会社 超純水の製造方法及び超純水製造設備
JP2016107249A (ja) * 2014-12-10 2016-06-20 野村マイクロ・サイエンス株式会社 超純水製造システム及び超純水製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4552327B2 (ja) * 2001-01-18 2010-09-29 栗田工業株式会社 超純水製造装置
JP4920019B2 (ja) * 2008-09-22 2012-04-18 オルガノ株式会社 過酸化水素低減方法、過酸化水素低減装置及び超純水製造装置並びに洗浄方法
JP2015093226A (ja) * 2013-11-11 2015-05-18 栗田工業株式会社 純水製造方法及び装置

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61101292A (ja) * 1984-10-24 1986-05-20 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置
JPH0639366A (ja) * 1992-07-22 1994-02-15 Japan Organo Co Ltd 超純水製造方法、及びその装置
JPH0775780A (ja) * 1993-09-07 1995-03-20 Nomura Micro Sci Co Ltd 超純水製造装置
JPH07241598A (ja) * 1994-03-04 1995-09-19 Nomura Micro Sci Co Ltd 水処理装置
JPH0938671A (ja) * 1995-07-31 1997-02-10 Japan Organo Co Ltd 水処理方法及び水処理装置
JP2000015272A (ja) * 1998-07-03 2000-01-18 Japan Organo Co Ltd オゾン水製造方法及び装置
JP2003266097A (ja) * 2002-03-13 2003-09-24 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造装置
WO2005095280A1 (ja) * 2004-03-31 2005-10-13 Kurita Water Industries Ltd. 超純水製造装置
JP2007185587A (ja) * 2006-01-12 2007-07-26 Kurita Water Ind Ltd 過酸化水素の除去方法及び除去装置
WO2009122884A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 栗田工業株式会社 純水製造方法及び純水製造装置
JP5512357B2 (ja) * 2010-04-05 2014-06-04 オルガノ株式会社 純水製造方法及び装置
JP2016107249A (ja) * 2014-12-10 2016-06-20 野村マイクロ・サイエンス株式会社 超純水製造システム及び超純水製造方法
JP2015178107A (ja) * 2015-06-08 2015-10-08 栗田工業株式会社 超純水の製造方法及び超純水製造設備

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020179426A1 (ja) * 2019-03-05 2020-09-10 栗田工業株式会社 純水製造装置及び純水製造装置の運転方法
JP2020142178A (ja) * 2019-03-05 2020-09-10 栗田工業株式会社 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
WO2021261144A1 (ja) * 2020-06-23 2021-12-30 オルガノ株式会社 水処理装置、超純水製造装置及び水処理方法
JP7012196B1 (ja) * 2020-06-23 2022-01-27 オルガノ株式会社 水処理装置、超純水製造装置、水処理方法及び再生型イオン交換塔
JP2022036290A (ja) * 2020-06-23 2022-03-04 オルガノ株式会社 水処理装置、純水製造装置、超純水製造装置及び水処理方法
JP7109691B2 (ja) 2020-06-23 2022-07-29 オルガノ株式会社 水処理装置、純水製造装置、超純水製造装置及び水処理方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR102497591B1 (ko) 2023-02-07
CN110049952A (zh) 2019-07-23
JP6439777B2 (ja) 2018-12-19
WO2018105188A1 (ja) 2018-06-14
KR20190089877A (ko) 2019-07-31
TW201821375A (zh) 2018-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5454468B2 (ja) 純水製造方法及び純水製造装置
JP5124946B2 (ja) 超純水製造装置における超純水中の過酸化水素の除去方法
JP6439777B2 (ja) 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
KR101978080B1 (ko) 순수의 제조 방법 및 장치
JP4978144B2 (ja) 水中の溶存酸素除去方法及び装置
JP4920019B2 (ja) 過酸化水素低減方法、過酸化水素低減装置及び超純水製造装置並びに洗浄方法
TWI820042B (zh) 過氧化氫去除方法及裝置
JP5854163B2 (ja) 超純水の製造方法及び超純水製造設備
JP6848415B2 (ja) 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
JP2013208557A (ja) 有機物含有水の処理方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180604

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181023

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181105

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6439777

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250