JPH0938671A

JPH0938671A - 水処理方法及び水処理装置

Info

Publication number: JPH0938671A
Application number: JP21521795A
Authority: JP
Inventors: Kazuhiko Kawada; 和彦川田; Jun Tanaka; 順田中
Original assignee: Organo Corp; Japan Organo Co Ltd
Current assignee: Organo Corp
Priority date: 1995-07-31
Filing date: 1995-07-31
Publication date: 1997-02-10

Abstract

(57)【要約】【目的】オゾンガスの使用効率を格段に高めることが
できると共に、大流量の被処理水を処理する場合であっ
ても従来より小容量の、あるいは少ない台数の渦流ポン
プによって所望濃度のオゾンを確実に且つ低コストで溶
解させることができ、しかも、省スペース化を達成する
ことができる水処理方法を提供する。【構成】本水処理方法は、被処理水が流れる主配管１
９からその一部を抜き出して迂回配管２１へ分流させ、
この迂回配管２１を流れる被処理水中に渦流ポンプ２３
を用いてオゾンを溶解させた後、このオゾン水を迂回配
管２１から主配管１９を流れる被処理水の本流と合流さ
せることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、被処理水中に存在
する不純物を処理するために、被処理水中にオゾンを効
率良く溶解させる水処理方法及び水処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】オゾンは酸化能及び殺菌能に優れている
ため、例えば上水道の殺菌や廃水処理等の水処理時に使
用され、更に電子工業分野では超純水製造時の水処理時
に使用されている。前者の場合には微生物の殺菌処理用
として、あるいは有機物の酸化、分解処理用としてオゾ
ンが用いられている。また、後者の場合にも前者の場合
と同様の目的でオゾンが用いられている。オゾンは一般
にオゾン発生器によって作ったオゾンガスを被処理水中
に溶解させて被処理水中の不純物と反応させるのが一般
的である。オゾンを被処理水中に溶解させる従来の方法
としては、オゾン発生器において発生したオゾンガスを
被処理水を収容した反応塔内の散気管から被処理水中へ
バブリングさせ、オゾンを被処理水中へ溶解させる曝気
槽方式や、エゼクタを用いて被処理水のジェット水流を
作り、このジェット水流によりオゾンガスを吸引し、ジ
ェット水流へオゾンガスを溶解させるエゼクタ方式など
が検討されている。

【０００３】一方、例えば特開平３−１４６１２３号公
報（特公平４−７４０４９号公報）においてオゾンを水
中に効率良く溶解させるオゾン水製造装置が提案されて
いる。この装置は、水の流通途中に渦流ポンプを設け、
この渦流ポンプの吸込側にオゾンを導入し、渦流ポンプ
内で羽根車によりオゾンガスが混入した水を加圧、攪拌
することにより、高濃度のオゾン水を製造するようにし
たものである。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
水処理方法及び水処理装置における前者のオゾン溶解方
式の場合には、バブリングやエゼクタによるオゾンの溶
解効率が悪く、逸散するオゾンガスが多いため、オゾン
の使用効率が悪くコスト高になり、しかも逸散したオゾ
ンガスを分解処理して無害化する装置を別途設けなくて
はならないという課題があった。また、後者の渦流ポン
プを用いた溶解方式の場合には、前者の課題を解決でき
てオゾンガスの使用効率が高まり、高濃度のオゾン水を
得ることができる反面、単位時間当たりに処理すべき被
処理水の量が大容量化するとこれに伴ってその容量を確
保するために渦流ポンプを大型化したり、複数台の渦流
ポンプを使用しなくてはならないため、かえって渦流ポ
ンプのコストが格段に高くなり、しかも渦流ポンプ専用
のスペースを広く確保しなくてはならず、省スペース化
傾向に逆行するという課題があった。

【０００５】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、オゾンガスの使用効率を格段に高めること
ができると共に、大流量の被処理水に対して所望濃度の
オゾンを確実に且つ低コストで溶解させることができ、
しかも、省スペース化を達成することができる水処理方
法及び水処理装置を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、水処理工
程において被処理水中にオゾンを効率良く溶解させる方
法について種々検討した結果、単位時間当たりの被処理
水量が大容量になっても、渦流ポンプを特定の条件下で
使用することによりオゾンを所望濃度に溶解させること
ができる水処理方法及び水処理装置が得られることを知
見した。

【０００７】即ち、本発明の請求項１に記載の水処理方
法は、被処理水が流れる主流路からその一部を抜き出し
て分岐流路へ分流させ、この分岐流路を流れる被処理水
中に渦流ポンプを用いてオゾンを溶解させた後、このオ
ゾン溶解被処理水を上記分岐流路から上記主流路を流れ
る被処理水の本流と合流させることを特徴とするもので
ある。

【０００８】また、本発明の請求項２に記載の水処理装
置は、被処理水が流れる主流路と、この主流路を流れる
被処理水の一部を分流させた後上記被処理水の本流と合
流させる分岐流路と、この分岐流路に配設され且つオゾ
ンをこの分岐流路を流れる被処理水中に溶解させる渦流
ポンプとを備えたことを特徴とするものである。

【０００９】また、本発明の請求項３に記載の水処理方
法は、イオン交換及び／または膜処理により製造された
純水が被処理水として流れる主流路からその一部を抜き
出して分岐流路へ分流させ、この分岐流路を流れる被処
理水中に渦流ポンプを用いてオゾンを溶解させた後、こ
のオゾン溶解被処理水を上記分岐流路から上記主流路を
流れる被処理水の本流と合流させることを特徴とするも
のである。

【００１０】また、本発明の請求項４に記載の水処理装
置は、イオン交換及び／または膜処理により製造された
純水が被処理水として流れる主流路と、この主流路を流
れる被処理水の一部を分流させた後上記被処理水の本流
と合流させる分岐流路と、この分岐流路に配設され且つ
オゾンをこの分岐流路を流れる被処理水中に溶解させる
渦流ポンプとを備えたことを特徴とするものである。

【００１１】また、本発明の請求項５に記載の水処理方
法は、半導体ウエハ、半導体デバイス、その他の電子部
品等の被洗浄物を洗浄した後の排水が被処理水として流
れる主流路からその一部を抜き出して分岐流路へ分流さ
せ、この分岐流路を流れる被処理水中に渦流ポンプを用
いてオゾンを溶解させた後、このオゾン溶解被処理水を
上記分岐流路から上記主流路を流れる被処理水の本流と
合流させることを特徴とするものである。

【００１２】また、本発明の請求項６に記載の水処理装
置は、半導体ウエハ、半導体デバイス、その他の電子部
品等の被洗浄物を洗浄した後の排水が被処理水として流
れる主流路と、この主流路を流れる被処理水の一部を分
流させた後上記被処理水の本流と合流させる分岐流路
と、この分岐流路に配設され且つオゾンをこの分岐流路
を流れる被処理水中に溶解させる渦流ポンプとを備えた
ことを特徴とするものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１及び請求項２に
記載の発明によれば、渦流ポンプの送水能力に見合った
被処理水をその主流路から一部抜き出して分岐流路へ分
流させた後、この渦流ポンプを用いて分岐流路を流れる
被処理水中にオゾンを溶解させて高濃度のオゾン溶解被
処理水（オゾン水）を作り、このオゾン水を分岐流路か
ら主流路を流れる被処理水の本流と合流させることで所
望濃度のオゾンを被処理水中へ溶解させることができ
る。

【００１４】また、本発明の請求項３及び請求項４に記
載の発明によれば、例えば超純水を製造する場合におい
て、イオン交換及び／または膜処理により製造された純
水が被処理水として流れる主流路からその一部を渦流ポ
ンプの送水能力に見合った流量として抜き出して分岐流
路へ分流させた後、この渦流ポンプを用いて分岐流路を
流れる被処理水中にオゾンを溶解させて高濃度のオゾン
溶解被処理水（オゾン水）を作り、このオゾン水を分岐
流路から主流路を流れる被処理水の本流と合流させるこ
とで所望濃度のオゾンを被処理水中へ溶解させることが
できる。

【００１５】また、本発明の請求項５及び請求項６に記
載の発明によれば、半導体ウエハ、半導体デバイス等の
被洗浄物を洗浄した後の排水が被処理水として流れる主
流路からその一部を渦流ポンプの送水能力に見合った流
量として抜き出して分岐流路へ分流させた後、この分岐
流路を流れる被処理水中に渦流ポンプを用いてオゾンを
溶解させて高濃度のオゾン溶解被処理水（オゾン水）を
作り、このオゾン水を分岐流路から主流路を流れる被処
理水の本流と合流させることで所望濃度のオゾンを被処
理水中へ溶解させることができる。

【００１６】

【実施例】以下、図１〜図３に示す実施例に基づいて本
発明を説明する。尚、各図中、図１は本発明の水処理装
置の一実施例を適用した超純水製造装置の一例を示すフ
ロー図、図２は図１に示す超純水製造装置の一次純水系
の要部を取り出して示すフロー図、図３は図１に示す超
純水製造装置の排水回収システムのフロー図である。

【００１７】本実施例の水処理装置を適用した超純水製
造装置は、図１に示すように、工業用水、河川水あるい
は地下水等の原水を被処理水として前処理する前処理系
１と、この前処理系１において処理された処理水を貯留
するタンク２と、このタンク２内の水を処理して純水を
製造する、一点鎖線で囲んだ一次純水系３と、この一次
純水系３からの純水を更に精製して超純水を製造する二
次純水系（サブシステム）４とを備えて構成されてい
る。この超純水製造装置によって製造された超純水は、
半導体製造工程における半導体ウエハあるいは半導体デ
バイス等の洗浄を行うユースポイントＵへ供給され、そ
れぞれの洗浄水として用いられると共にユースポイント
Ｕへ供給された超純水の一部が循環配管５０によって常
にタンク１２に循環するようにしてある。また、近年、
工業用水の使用制限や河川水、地下水の汲み上げ制限な
どからユースポイントＵからの排水は極力再使用するよ
うにしているため、本実施例の超純水製造装置にはユー
スポイントＵからの排水を回収する排水回収システム５
が付帯している。この排水回収システム５では６〜７割
の排水を超純水の原水として回収し使用するようにして
ある。

【００１８】次に、上記各システムについて更に詳述す
る。前処理系１は、通常、凝集沈澱装置及び濾過器等を
備え、これらの構成機器を用いて原水中に含まれている
濁質成分や有機コロイド物質を除去し、後段の一次純水
系３での汚染物質による負荷を軽減するようにしてあ
る。そして、この前処理系１による処理水は一旦タンク
２内に貯留するようにしてある。また、一次純水系３は
後述の構成を有し、イオン、微粒子、微生物、有機物及
び溶存ガスを除去するようにしてある。この後段のサブ
システム４は、一次純水系３の処理水中の微量のイオン
を更に除去してポリッシングすると共に微粒子、有機物
等を除去するために、紫外線酸化装置、非再生式カート
リッジポリッシャー、限外濾過器等（いずれも図示せ
ず）を備えている。

【００１９】ところで、上記一次純水系３は、タンク２
から供給される被処理水中の有機物や残留塩素の除去を
行うカーボンフィルター（ＣＦ）６と、カーボンフィル
ター６を流出した処理水からナトリウムイオン、カルシ
ウムイオン、マグネシウムイオン等のカチオン類を除去
するカチオン交換塔（ＣＥＲ）７と、カチオン交換塔７
を流出した処理水の溶存炭酸ガスを脱気する脱炭酸塔
（Ｄ）８と、脱炭酸塔８を流出した処理水から硫酸イオ
ン、塩素イオン等のアニオン類を除去するアニオン交換
塔（ＡＥＲ）９と、これらの処理後の水を貯留するタン
ク１４とを備えている。

【００２０】更に、一次純水系３は、オゾン及び紫外線
を用いて被処理水中に残留する微量のシリカ成分のイオ
ン化あるいは有機成分等の酸化を行う酸化装置（Ｏ₃-Ｕ
Ｖ）１５と、酸化装置１５を流出した処理水中の溶存酸
素などの溶存ガスを真空脱気する真空脱気塔（ＶＤ）１
６と、真空脱気塔１６を流出した処理水からカチオン類
及びアニオン類を更に除去する混床式イオン交換塔（Ｍ
ＢＰ）１７と、逆浸透装置（ＲＯ）１８と、これらの処
理後の一次純水を貯留するタンク１２とを備えている。
尚、超純水製造装置を構成する各機器はいずれも主配管
１９によって連結され、配管の要所には送水ポンプが配
設されている。

【００２１】ここで、本実施例の要部を構成する酸化装
置１５について詳述する。この酸化装置１５は、図２に
示すように、タンク１４から供給される被処理水中に残
留するシリカ、有機物等を溶解オゾンと紫外線照射によ
りイオン化若しくは酸化、分解する装置で、被処理水の
主流路としての主配管１９と、主配管１９内で被処理水
を流す送水ポンプ２０と、送水ポンプ２０の下流側のＡ
点で分岐し、主配管１９を流れる被処理水の一部が分
流、迂回し、その後被処理水の本流とＡ点より下流側の
Ｂ点の主配管１９において合流する分岐流路としての迂
回配管２１と、迂回配管２１に配設され且つオゾン発生
器２２において作ったオゾンガスを迂回配管２１を流れ
る被処理水中に溶解させると共にオゾンを溶解させた被
処理水を主配管１９のＢ点まで移送する渦流ポンプ２３
とを備えている。本実施例では、図２で示す主配管１９
内では被処理水の本流が流れ、迂回配管２１内では本流
の一部例えば１／１０の被処理水が分流し、渦流ポンプ
２３によってオゾンガスを被処理水中へ溶解させて高濃
度（例えば１０ｐｐｍ程度）のオゾン水を製造すると共
に製造されたオゾン水を迂回配管２１の下流側へ流すよ
うにしてある。更に、このオゾン水が渦流ポンプ２３の
下流側のＢ点で本流と合流し、合流点以降では元の流量
に戻ると共にオゾン水は１／１０の濃度、つまり本流の
被処理水により１ｐｐｍの濃度に希釈されて、換言すれ
ば被処理水中に１ｐｐｍのオゾンが添加されて次工程へ
流れるようにしてある。

【００２２】尚、渦流ポンプ２３は、ケーシングと、こ
のケーシング内に回転可能に軸支された羽根車とを有
し、ケーシングの内周面と羽根車の外周間に昇圧通路が
形成されている。そして、渦流ポンプの吸入口（図２に
おいて主配管１９のＡ点と接続されている側）から被処
理水と共にオゾンガスが吸入されると、これら両者が昇
圧通路を通過する間に羽根車の攪拌作用と昇圧通路の昇
圧作用とが相俟って被処理水中にオゾンガスが溶解して
高濃度（例えば１０ｐｐｍ程度）のオゾン水を作り、吐
出口（図２において主配管１９のＢ点と接続されている
側）からオゾン水を吐出するようにしてある。

【００２３】更に、この酸化装置１５は、オゾン添加後
の被処理水中の残留ガスを除去する気液分離装置２４
と、気液分離装置２４を流出するオゾン含有の被処理水
に紫外線を照射する流通型の紫外線照射装置２５とを備
え、後工程の混床式イオン交換塔１７においてポリッシ
ングできる状態、即ち、紫外線とオゾンの作用で被処理
水中に残留するシリカをイオン化すると共に、有機物等
を酸化、分解するようにしてある。尚、オゾンガスの溶
解及び紫外線照射により被処理水中では過酸化水素が生
成しており、これが後工程のイオン交換樹脂等を劣化さ
せる虞があるため、この酸化装置１５にはカーボンフィ
ルター（ＣＦ）２６が設けられており、このカーボンフ
ィルター２６により過酸化水素を分解除去するようにし
てある。

【００２４】また、ユースポイントＵに接続された排水
回収システム５は、主としてユースポイントＵから排出
される洗浄排水中に含まれているフッ酸や硫酸等の酸を
イオン交換により除去すると共にシリカ、有機物等を溶
解オゾンと紫外線照射によりイオン化若しくは酸化、分
解し、除去するシステムで、ここで浄化された処理水を
超純水の原水として図１に示すように一次純水系３中の
適所、例えばタンク１４に配管５１を介して戻すように
してある。この排水回収システム５は、図３に示すよう
に、排水が被処理水として流れる主流路としての主配管
１９と、この主配管１９の被処理水を送る送水ポンプ２
７と、この送水ポンプ２７の下流側のＣ点で分岐し、主
配管１９を流れる被処理水の一部が分流し、その後被処
理水の本流と、上記Ｃ点より上流側であって上記送水ポ
ンプ２７の下流側の主配管１９において合流する分岐流
路としての戻し配管２８と、この戻し配管２８に配設さ
れ且つオゾン発生器２２において作ったオゾンガスを戻
し配管２８を流れる被処理水中に溶解させてオゾン水を
作ると共に製造したオゾン水を戻し配管２８を介してＣ
点より上流側のＤ点まで移送する渦流ポンプ２９とを備
えている。従って、図３における渦流ポンプ２９は、吸
入口及び吐出口の向きが図２の場合とは逆になってい
る。

【００２５】更に、この排水回収システム５は、上記オ
ゾン添加位置（Ｄ点）より上流側に配設され且つ排水中
に含まれているフッ素イオン等のアニオンを除去する弱
塩基性アニオン交換塔（ＷＡＥＲ）３０を備え、また、
Ｄ点より下流側に配設された、弱塩基性アニオン交換塔
３０では除去できない有機物をオゾンと協働して酸化、
分解する紫外線照射装置３１と、紫外線照射装置３１に
おいて生成した微量の過酸化水素を除去するカーボンフ
ィルター（ＣＦ）３２及び残留する不純物イオンを除去
する混床式イオン交換塔（ＭＢＰ）３３とを備えてい
る。弱塩基性アニオン交換塔３０は紫外線照射装置３１
内の紫外線照射灯３５の石英ガラス管を腐食するフッ酸
を除去することを主目的に設置されている。尚、図３に
示した紫外線照射装置３１は、密閉式の反応槽３６内の
被処理水中に紫外線照射灯３５を浸漬してなる浸漬型の
ものであり、反応槽３６の頂部にはガス抜き管３７が付
設されている。

【００２６】次に動作について説明する。超純水を製造
するために工業用水等の原水を取水して前処理系１へ送
水すると、前処理系１では原水中に含まれている濁質成
分や有機コロイド物質等を除去し、その処理水をタンク
２で次工程での被処理水として一時的に貯留する。タン
ク２内の被処理水を一次純水系３へ送水すると、一次純
水系３では２床３塔型のイオン交換装置（図１の符号７
〜９）、真空脱気塔１６、混床式イオン交換塔１７、逆
浸透装置１８等により被処理水からイオン、微粒子、微
生物、有機物、溶存酸素等を除去して純水を作り、この
純水をタンク１２内に一時的に貯留する。次いで、サブ
システム４では一次純水系３からの純水を被処理水とし
て最終的にポリッシングし、純水中に含まれている微量
のイオン、微粒子、生菌等を除去して超純水としてユー
スポイントＵへ供給し、この超純水を半導体ウエハや半
導体デバイス等の洗浄水として使用する。

【００２７】ところで、一次純水系３の酸化装置１５で
は以下のような水処理が行われる。即ち、タンク１４内
の被処理水を送水ポンプ２０により主配管１９を介して
下流側へ例えば１０ｍ³／ｈの流量で送水すると共に、
主配管１９のＡ点から渦流ポンプ２３により被処理水の
一部を抜き出して迂回配管２１へ１ｍ³／ｈの流量で分
流、分岐させる。渦流ポンプ２３では抜き出した被処理
水とオゾン発生器２２から供給されるオゾンガスとを加
圧、攪拌して高濃度（例えば１０ｐｐｍ程度）のオゾン
水を作り、このオゾン水を迂回配管２１から主配管１９
内の被処理水の本流とＢ点で合流させてオゾン水を１ｐ
ｐｍに希釈した後、送水ポンプ２０の作用と相俟って合
流点から主配管１９を経由して気液分離装置２４へ流入
させる。

【００２８】気液分離装置２４ではオゾン水中の残留ガ
スを除去する。気液分離後のオゾン水を紫外線照射装置
２５へ流入させると、ここでオゾンと紫外線の作用によ
りオゾン水中に残留するシリカがイオン化されたり、有
機物が酸化、分解され、その後カーボンフィルター２６
へ流入する。カーボンフィルター２６では処理後の水中
に残留する過酸化水素を分解除去し、後工程にある混床
式イオン交換塔内に充填されているイオン交換樹脂等の
損傷を防止する。

【００２９】また、ユースポイントＵからの排水中には
半導体ウエハや半導体デバイスの洗浄により生成した金
属イオンや洗浄に使用されたフッ酸や硫酸等の酸、ある
いは低分子アルコール等の有機物等が混入している。そ
こで、排水回収システム５を使って排水を浄化する。こ
の排水回収システム５では、排水を送水ポンプ２７によ
りまず、弱塩基性アニオン交換塔３０に通水して排水中
のフッ酸、硫酸等の酸を除去する。次いで、その処理水
を主配管１９を介して更に下流側の紫外線照射装置３１
に送水するが、その途中のＤ点において戻し配管２８Ａ
から後述のようにして製造した高濃度（例えば１０ｐｐ
ｍ程度）のオゾン水を注入し、主配管１９内において例
えば１ｐｐｍ程度に希釈する（但し、戻し配管２８Ａか
ら注入される高濃度オゾン水の流量が主配管１９内を流
れる被処理水の流量の１／１０の場合）。

【００３０】Ｄ点においてオゾンを添加した被処理水を
更に下流に送水するが、その途中のＣ点においてこの被
処理水の一部を渦流ポンプ２９の作用によって抜き出し
て戻し配管２８Ａへ分流させる。渦流ポンプ２９では上
述したようにオゾン発生器２２からのオゾンガスを排水
中へ溶解させてオゾン水を作り、このオゾン水を上述の
ように戻し配管２８Ａから主配管１９内の排水の本流と
Ｄ点において合流させてオゾン水を１／１０程度の濃度
に希釈する。

【００３１】その後、オゾン水を１ｐｐｍ程度溶解させ
た被処理水を紫外線照射装置３１へ送水し、紫外線照射
装置３１により反応槽３６内にて紫外線を被処理水へ照
射して被処理水中に混入した有機物や細菌等をオゾンと
紫外線の作用によって酸化、分解あるいは殺菌した後、
カーボンフィルター３２へ流入する。尚、反応槽３６で
は被処理水中の残留ガスはガス抜き管３７から排出さ
れ、これにより図２に示したような気液分離装置は不要
である。カーボンフィルター３２において酸化、分解処
理後の排水中に残留する過酸化水素を分解、除去した
後、その処理水を混床式イオン交換塔３３に通水して酸
化分解処理時に生成したイオンやもともと含まれていた
金属イオン等の不純物イオンを除去して純水を得、得ら
れた純水を一次処理系のタンク１４へ戻す。尚、図３に
示した酸化装置においては、浸漬型の紫外線照射装置３
１の代わりに図２に示したものと同様の流通型の紫外線
照射装置を用いることもでき、その場合には気液分離装
置を図３におけるＤ点とＣ点との間に配置する構成にし
ても良い。

【００３２】以上説明したように本実施例によれば、例
えば超純水の一次純水を作る過程でオゾンガスを被処理
水に溶解させる方法として、イオン等を除去した後の被
処理水が流れる主配管１９からその１／１０を抜き出し
て迂回配管２１へ分流させ、この迂回配管２１を流れる
被処理水中に渦流ポンプ２３を用いてオゾンガスを溶解
させて高濃度（１０ｐｐｍ）のオゾン水を作った後、こ
のオゾン水を迂回配管２１から主配管１９を流れる被処
理水の本流と合流させて高濃度のオゾン水を希釈して所
望のオゾン濃度（１ｐｐｍ）を得るようにしたため、オ
ゾンガスの使用効率を高め、大流量の被処理水であって
も小容量の、あるいは少ない台数の渦流ポンプ２３によ
って所望濃度のオゾンを確実に且つ低コストで溶解させ
ることができる。

【００３３】尚、上記実施例では超純水を製造する場合
の水処理方法及び装置について説明したが、本発明の水
処理方法及び装置は、上記実施例に何等制限されるもの
ではなく、オゾンガスを利用した水処理（例えば、上水
道の脱臭や殺菌処理、下水処理のＣＯＤ除去処理等）の
全てについて本発明を適用することができる。

【００３４】

【発明の効果】本発明の請求項１〜６項に記載の発明に
よれば、オゾンガスの使用効率を格段に高めることがで
きると共に、大流量の被処理水を処理する場合であって
も従来より小容量の、あるいは少ない台数の渦流ポンプ
によって所望濃度のオゾンを確実に且つ低コストで溶解
させることができ、しかも、省スペース化を達成するこ
とができる水処理方法及び水処理装置を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の水処理装置の一実施例を適用した超純
水製造装置の一例を示すフロー図である。

【図２】図１に示す超純水製造装置の一次純水系の要部
を取り出して示すフロー図である。

【図３】図１に示す超純水製造装置の排水回収システム
のフロー図である。

【符号の説明】

７カチオン交換塔８脱炭酸塔９アニオン交換塔１８逆浸透装置（膜処理）１９主配管（主流路）２１迂回配管（分岐流路）２３渦流ポンプ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１Ｈ０１Ｌ 21/304 ３４１Ｌ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理水が流れる主流路からその一部を
抜き出して分岐流路へ分流させ、この分岐流路を流れる
被処理水中に渦流ポンプを用いてオゾンを溶解させた
後、このオゾン溶解被処理水を上記分岐流路から上記主
流路を流れる被処理水の本流と合流させることを特徴と
する水処理方法。
【請求項２】被処理水が流れる主流路と、この主流路
を流れる被処理水の一部を分流させた後上記被処理水の
本流と合流させる分岐流路と、この分岐流路に配設され
且つオゾンをこの分岐流路を流れる被処理水中に溶解さ
せる渦流ポンプとを備えたことを特徴とする水処理装
置。
【請求項３】イオン交換及び／または膜処理により製
造された純水が被処理水として流れる主流路からその一
部を抜き出して分岐流路へ分流させ、この分岐流路を流
れる被処理水中に渦流ポンプを用いてオゾンを溶解させ
た後、このオゾン溶解被処理水を上記分岐流路から上記
主流路を流れる被処理水の本流と合流させることを特徴
とする水処理方法。
【請求項４】イオン交換及び／または膜処理により製
造された純水が被処理水として流れる主流路と、この主
流路を流れる被処理水の一部を分流させた後上記被処理
水の本流と合流させる分岐流路と、この分岐流路に配設
され且つオゾンをこの分岐流路を流れる被処理水中に溶
解させる渦流ポンプとを備えたことを特徴とする水処理
装置。
【請求項５】半導体ウエハ、半導体デバイス、その他
の電子部品等の被洗浄物を洗浄した後の排水が被処理水
として流れる主流路からその一部を抜き出して分岐流路
へ分流させ、この分岐流路を流れる被処理水中に渦流ポ
ンプを用いてオゾンを溶解させた後、このオゾン溶解被
処理水を上記分岐流路から上記主流路を流れる被処理水
の本流と合流させることを特徴とする水処理方法。
【請求項６】半導体ウエハ、半導体デバイス、その他
の電子部品等の被洗浄物を洗浄した後の排水が被処理水
として流れる主流路と、この主流路を流れる被処理水の
一部を分流させた後上記被処理水の本流と合流させる分
岐流路と、この分岐流路に配設され且つオゾンをこの分
岐流路を流れる被処理水中に溶解させる渦流ポンプとを
備えたことを特徴とする水処理装置。