JP2018086041A - 液体噴射装置 - Google Patents
液体噴射装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018086041A JP2018086041A JP2016229736A JP2016229736A JP2018086041A JP 2018086041 A JP2018086041 A JP 2018086041A JP 2016229736 A JP2016229736 A JP 2016229736A JP 2016229736 A JP2016229736 A JP 2016229736A JP 2018086041 A JP2018086041 A JP 2018086041A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- piezoelectric element
- voltage
- drive
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Surgical Instruments (AREA)
Abstract
【課題】液体噴射装置の噴射対象物の視認性の悪化を抑制する。【解決手段】液体噴射装置は、液体を噴射する噴射管と、噴射管と連通する液体室と、液体室に液体を供給する液体供給部と、液体室の容積を変更する圧電素子と、圧電素子に周期性パルス電圧を印加する圧電素子制御部であって、周期性パルス電圧の最大電圧が大きい程、周期性パルス電圧の周波数が低くなるように、周期性パルス電圧の波形を変更する圧電素子制御部と、を備える。【選択図】図1
Description
本明細書において開示する技術は、液体の噴射に関する。
液体を間欠的に噴射する液体噴射装置として、圧電素子を備え、圧電素子に周期性パルス電圧を印加することにより、液体が収容された液体室の容積を変更し、液体を間欠的に噴射する液体噴射装置が開示されている(例えば、特許文献1参照)。
液体噴射装置を対象物の切削に用いる場合、1発の液体噴射量および噴射速度が大きい程切削エネルギーが高く、また、液体噴射の周波数が高い程切削速度が大きい(単位時間に切削可能な距離が長い)ため、切削対象物が硬い場合には、圧電素子に印加される駆動電圧の最大値を大きくすると共に、駆動周波数を高くすることが考えられる。しかしながら、圧電素子に印加される駆動電圧の最大値を大きくすると共に、駆動周波数を高くすると、液体の噴射量が多くなり切削対象物の視認性が悪くなるという課題があった。なお、このような課題は、液体噴射装置を切削に用いる場合に限らず、洗浄に用いる場合等、種々の用途に共通の課題であった。
本明細書に開示される技術は、上述の課題を解決するためになされたものであり、以下の形態として実現することが可能である。
(1)本明細書に開示される技術の一形態によれば、液体噴射装置が提供される。この液体噴射装置は、液体を噴射する噴射管と、前記噴射管と連通する液体室と、前記液体室に前記液体を供給する液体供給部と、前記液体室の容積を変更する圧電素子と、前記圧電素子に周期性パルス電圧を印加する圧電素子制御部であって、前記周期性パルス電圧の最大電圧が大きい程、前記周期性パルス電圧の周波数が低くなるように、前記周期性パルス電圧の波形を変更する圧電素子制御部と、を備える。
この形態の液体噴射装置によれば、圧電素子に印加される周期性パルス電圧の最大電圧が大きい程、その周波数が低いため、周期性パルス電圧の印加に伴い間欠的に噴射される液体の単位時間当たりの総量の増加を抑制することができる。そのため、液体噴射の対象物の視認性の悪化が抑制される。例えば、液体噴射装置を手術具として用いる場合に、術野の確保を容易にすることができる。液体噴射装置を用いて切削等を行う場合、周期性パルス電圧の最大電圧を大きくすることにより、噴射される1発の液体(ジェット)の噴射量および速度を大きくして、噴射される液体の運動エネルギーを大きくすることができるため、硬い切削対象物の切削を可能にする。一方、駆動周波数を低くすると、液体の噴射間隔が大きくなるものの、液体噴射装置の移動速度を調節することにより、適切に切削可能である。
(2)上記形態の液体噴射装置において、前記圧電素子制御部は、前記最大電圧と前記周波数とを含む前記圧電素子の駆動条件であって、複数の前記駆動条件のうち1の前記駆動条件に従って前記周期性パルス電圧を印加し、前記駆動条は、複数の前記最大電圧に対して、同一の前記周波数が対応づけられていてもよい。このようにすると、圧電素子の制御に係る処理負荷を抑制することができる。また、複数の最大電圧に対して同一の周波数が対応づけられているため、複数の最大電圧に対して互いに異なる周波数が対応づけられている場合と比較して、周波数が変化する頻度が少なくなるため、液体噴射装置の周波数変更に伴う使用者の違和感を抑制することができる。
(3)上記形態の液体噴射装置において、前記液体供給部から供給される前記液体の液体供給流量は一定でもよい。このようにすると、液体供給部の制御に係る処理負荷を抑制することができる。
本明細書に開示される技術は、液体噴射装置以外の種々の形態で実現することも可能である。例えば、液体噴射装置を備えるシステム、液体噴射方法、液体噴射装置の制御方法、これらの方法を実現するためのコンピュータープログラム、そのコンピュータプログラムを記録した一時的でない記録媒体(non-transitory storage medium)等の様々な形態で実現することができる。
A.実施形態:
図1は、本実施形態における液体噴射装置1の全体構成を示す説明図である。液体噴射装置1は、外科手術に用いられる。具体的には、液体噴射装置1は、生体組織としての患部の切開、切除、又は破砕(以下、包括して「切削」という)を実行するための装置である。
図1は、本実施形態における液体噴射装置1の全体構成を示す説明図である。液体噴射装置1は、外科手術に用いられる。具体的には、液体噴射装置1は、生体組織としての患部の切開、切除、又は破砕(以下、包括して「切削」という)を実行するための装置である。
液体噴射装置1は、液体を収容する容器10と、送液ポンプ20と、切削対象物(本実施形態では生体組織)に向けて液体を噴射するためのハンドピース30と、制御装置70とを備える。
制御装置70は、ハンドピース30への液体の供給、およびハンドピース30からの液体の噴射を制御する。制御装置70は、ユーザーが手術の際に操作する操作パネル80と、液体の噴射をユーザーが指示するためのペダルスイッチ83と、を備える。図1では、操作パネル80を拡大して図示している。操作パネル80には、電源のON/OFFを切り替えるためのボタンスイッチ811と、噴射される液体の量、噴射速度、噴射周期を調整するためのレバースイッチ813と、モニター82とが設けられている。レバースイッチ813は、「1」〜「10」の目盛りが付された10段階のレバー位置を選択可能に構成されている。制御装置70の詳細は、後述する。
容器10は、液体(具体的には生理食塩水)を収容する。送液ポンプ20は、容器10に収容された液体を、接続チューブ91,93を介して、一定の流量でハンドピース30に供給する。
ハンドピース30は、手術に際してユーザーが手に持って操作するモジュールである。ハンドピース30は、送液ポンプ20から供給される液体に脈動を付与してパルス流を発生させるパルス流発生部40と、パイプ状の噴射管50と、ノズル60と、を備える。パルス流発生部40によって発生されたパルス流は、ノズル60の先端から、パルス液体ジェット(以下、ジェットと略す)として噴射される。
パルス流とは、液体の流速と圧力とが時間的に大きく且つ急激に変化する液体の脈動的な流れを意味する。本実施形態において、ジェットは、間欠的に噴射される高圧(高エネルギー)の液体(液流)である。
図2は、ハンドピース30を液体の噴射方向に沿って切断した断面図である。図2に示す部材や部分の縦横の縮尺は、実物と同じであるとは限らない。図2に示すように、パルス流発生部40は、第1ケース41と、第2ケース42と、第3ケース43とによって形成された円筒状の内部空間に、液体室44の容積を変動させるための圧電素子45及びダイヤフラム46が配置された構成を有する。各ケース41,42,43は、互いに対向する面において接合され一体化されている。
ダイヤフラム46は、円盤状の金属薄板であり、その外周部分が第1ケース41と第2ケース42との間に挟まれて固定されている。圧電素子45は、例えば積層型圧電素子であり、ダイヤフラム46と第3ケース43との間で一端がダイヤフラム46に固定され、他端が第3ケース43に固定されている。
液体室44は、ダイヤフラム46と、第1ケース41のダイヤフラム46に対向する面に形成された凹部411とによって囲まれた空間である。液体室44は、噴射管50と連通している。第1ケース41には、液体室44に各々連通する入口流路413と出口流路415とが形成されている。出口流路415の内径は、入口流路413の内径よりも大きく形成されている。入口流路413は接続チューブ93と接続され、送液ポンプ20から供給される液体を液体室44に流入させる。出口流路415には噴射管50の一端が接続され、液体室44内を流動する液体を噴射管50に流入させる。
ノズル60は、パイプ状の噴射管50の他端(先端)に装着されており、その先端に、噴射管50の内径よりも小さい内径の液体噴射開口部61を有する。
容器10(図1)に収容された液体は、制御装置70の制御によって作動する送液ポンプ20によって、所定の圧力又は所定の流量で接続チューブ93を介してパルス流発生部40に供給される。圧電素子45は、制御装置70によって駆動信号(周期性パルス電圧)が印加されると、図2の矢印Aの方向に伸長したり収縮したりする。これによって液体室44内を流動する定常流の液体に脈動が付与され、液体噴射開口部61からジェットが繰り返し噴射される。ここでいう定常流とは、流速および圧力の時間変動が小さい流れを意味する。時間変動が小さいとは、パルス流における流速および圧力の時間変動に対し、十分小さいことを意味する。定常流の流速および圧力の時間変動は、送液ポンプ20の回転によって発生する。容器10と送液ポンプ20とを併せて、「液体供給部」とも呼ぶ。
図3は、制御装置70の機能ブロック図である。制御装置70は、操作部81と、モニター82と、制御部75と、記憶部77とを備える。
操作部81は、図1と共に説明したボタンスイッチ811と、レバースイッチ813と、ペダルスイッチ83とを含む。モニター82は、液晶ディスプレイ(LCD:Liquid Crystal Display)やELディスプレイ(Electroluminescence display)等の表示装置によって実現されるものであり、制御部75から入力される表示信号をもとに設定画面等の各種画面を表示する。
制御部75は、CPU(Central Processing Unit)やDSP(Digital Signal Processor)等のマイクロプロセッサー、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)等の制御装置及び演算装置によって実現されるものであり、液体噴射装置1の各部を統括的に制御する。制御部75は、圧電素子制御部751と、ポンプ制御部756と、表示制御部757とを備える。
圧電素子制御部751は、レバースイッチ813のレバー位置に従って圧電素子45(図2)に印加される駆動電圧としての周期性パルス電圧の最大電圧と、その周波数である駆動周波数を決定し、決定した最大電圧と駆動周波数に従って、圧電素子駆動信号を生成する。圧電素子制御部751は、生成した圧電素子駆動信号を圧電素子45に印加する。
ポンプ制御部756は、送液ポンプ20に駆動信号を入力して、送液ポンプ20を駆動する。表示制御部757は、レバースイッチ813のレバー位置に割り当てられた出力レベルを、モニター82に表示させる。
記憶部77は、ROM(Read Only Memory)やフラッシュROM、RAM(Random Access Memory)等の各種IC(Integrated Circuit)メモリーやハードディスク等の記憶媒体によって実現される。記憶部77には、駆動条件テーブル771(後述する)と、液体噴射装置1が備える種々の機能を実現するためのプログラム(不図示)が記憶されている。さらに記憶部77には、このプログラムの実行中に使用されるデータ等が事前に記憶されたり、処理の都度一時的に記憶される。
図4Aは、駆動条件テーブル771を示す説明図である。駆動条件テーブル771は、圧電素子45の駆動条件(最大電圧Vm、駆動周波数fを含む)を、複数備える。駆動条件として、圧電素子45の駆動電圧の最大電圧Vm(V)、駆動周波数f(Hz)、液体供給流量Q(ml/min)が、出力レベルに対応づけられている。ここで、出力レベルは、レバースイッチ813(図1)の操作によって決定される。なお、出力レベル0は、レバースイッチ813の操作によって設定されるのではなく、液体が噴射されないようにするために、ペダルスイッチ83が踏まれていない場合に設定される。液体供給流量Qは、送液ポンプ20がハンドピース30に単位時間当たりに供給する液体の体積である。
図4Bは、駆動条件テーブル771によって定められる最大電圧Vmと駆動周波数fの関係を示す説明図である。本実施形態では、圧電素子45の駆動電圧の最大電圧Vmが大きい程、低い駆動周波数fが設定されている。詳しくは、最大電圧Vmが5、10、15(V)の場合の駆動周波数fは500(Hz)であり、最大電圧Vmが20、25、30(V)の場合の駆動周波数fは400(Hz)であり、最大電圧Vmが35、40、45(V)の場合の駆動周波数fは300(Hz)であり、最大電圧Vmが50(V)の場合の駆動周波数fは200(Hz)である。すなわち、駆動条件テーブル771では、複数の最大電圧Vmに対して、同一の駆動周波数fが対応づけられている。
図5は、圧電素子45に印加される駆動電圧(圧電素子駆動信号)の波形の一例を示す。図5において、横軸は時間を示しており、縦軸は駆動電圧を示している。図4Aに示す駆動条件テーブル771で定められる出力レベル3の駆動電圧波形L3を実線で示し、出力レベル4の駆動電圧波形L4を破線で示す。駆動電圧波形L3の1周期(T0)は、電圧が大きくなる立ち上がり期間(a)と、電圧が最大になる時刻(b)と、電圧が小さくなる立ち下がり期間(c)と、電圧が印加されない休止期間(d)とによって構成されている。周期T0の逆数は、駆動信号の周波数(駆動周波数)である。
駆動電圧の立ち上がり期間(a)の波形は、正の電圧方向にオフセットされ、位相が−90度ずれたsin波形の1/2周期分の波形である。駆動電圧の立ち下がり期間(c)の波形は、正の電圧方向にオフセットされ、位相が+90度ずれたsin波形の1/2周期分の波形である。そして、立ち下がり期間(c)におけるsin波形の周期は、立ち上がり期間のsin波形の周期よりも大きくなっている。
駆動電圧波形L4は、最大電圧Vmが駆動電圧波形L3と異なる(駆動電圧波形L3より大きい)ものの、駆動電圧の立ち上がり期間(a)、電圧が最大になる時刻(b)、駆動電圧の立ち下がり期間(c)は、駆動電圧波形L3と同じであり、同様のsin波形である。駆動電圧波形L4は、休止期間(d1)が、駆動電圧波形L3よりも長く設定されており、駆動周波数が駆動電圧波形L3より小さい。
図5に示すように、圧電素子45の駆動電圧として、周期性パルス電圧が印加されると、ジェット(液体)が周期的に噴射される。ジェットが噴射される周期は、駆動電圧の周期と一致する。このように、ジェットの間欠的な(周期的な)噴射は、圧電素子45の駆動によってもたらされる。圧電素子45の駆動とは、圧電素子45が周期的に伸縮することである。
本実施形態における圧電素子45は、正の電圧が印加されると伸長するので、立ち上がり期間(a)で急激に伸長し、ダイヤフラム46が圧電素子45に押されて液体室44側に撓む(図2における左側)。ダイヤフラム46が液体室44側へと撓むと液体室44の容積が小さくなり、液体室44内の液体は液体室44から押し出される。出口流路415の内径は入口流路413の内径よりも大きいため、出口流路415の流体イナータンス及び流体抵抗は、入口流路413の値よりも小さい。したがって、圧電素子45が急激に伸長することで液体室44から押し出される液体の大部分は、パルス流として出口流路415を通って噴射管50に流入し、その内径よりも小径の液体噴射開口部61から、ジェットとなって噴射される。ジェットは、切削対象物の破壊状態すなわち切削対象物の切削深さを決定付ける支配的要因である。
駆動電圧は、最大電圧まで上昇した後は、緩やかに降下する(立ち下がり期間(c))。このため、圧電素子45は、立ち上がり期間(a)よりも長い時間をかけて収縮し、ダイヤフラム46が圧電素子45に引かれて第3ケース43側に撓む。ダイヤフラム46が第3ケース43側に撓むと液体室44の容積が大きくなり、入口流路413から液体室44内に液体が流入する。
送液ポンプ20は一定の液体供給流量Qで液体をパルス流発生部40に供給しているため、圧電素子45が伸縮動作をしなければ、液体室44を流動する液体は、定常流として出口流路415を経て噴射管50に流入し、液体噴射開口部61から射出される。
図6は、噴射制御処理を示すフローチャートである。噴射制御処理は、制御部75によって実行される。制御部75は、ペダルスイッチ83がONになったことを契機に、噴射制御処理を開始する。
ステップS211では、圧電素子制御部751は、レバースイッチ813のレバー位置を取得して、取得したレバー位置(出力レベル)に対応する最大電圧Vmおよび駆動周波数fを、駆動条件テーブル771から読み出して、圧電素子に印加する駆動電圧の最大電圧Vmと駆動周波数fを決定する。
ステップS212では、圧電素子制御部751が、ステップS211で決定した最大電圧Vmおよび駆動周波数fを用いた駆動電圧波形の圧電素子駆動信号を生成し、圧電素子に印加する(出力する)と共に、ポンプ制御部756が、送液ポンプ20を駆動させるための駆動信号を出力する。図4Aに示す通り、液体供給流量は、最大電圧Vm、駆動周波数fによらず、一定である。
ステップS213では、表示制御部は、取得したレバー位置に割り当てられた出力レベルを、モニター82に表示させる。
その後、制御部75は、駆動信号の出力を継続しつつ、入力操作を待つ(ステップS215)。操作されたのがレバースイッチ813である場合(ステップS215,レバースイッチ)、制御部75は、ステップS211の処理に戻る。つまり、変更後の出力レベルに合わせて、最大電圧Vmと、駆動周波数fとを決定し(ステップS211)、駆動信号の出力(ステップS212)と出力レベルの表示(ステップS213)とを実行する。
一方、操作されたのがペダルスイッチのOFFである場合(ステップS215,ペダルスイッチOFF)、制御部75は、噴射制御処理を終了する。
以上説明したように、本実施形態の液体噴射装置1によれば、圧電素子45に印加する駆動電圧の最大電圧Vmが大きい程、駆動周波数fが低くなるように、圧電素子駆動信号を生成している。例えば、液体噴射装置1を用いて、人間の脳の外科手術を行う場合、脳内の腫瘍の種類によっては、腫瘍部分は腫瘍以外の正常な部分と比べて硬いため、液体噴射装置1から噴射される液体(ジェット)の流速および量を大きくして、噴射される液体(ジェット)の運動エネルギーを上げて、脳内腫瘍の切削を行いたい。このとき、圧電素子45に印加する駆動電圧の最大電圧Vmを大きくすると共に、駆動周波数fを高くすることが考えられる。このようにすると、ジェットのエネルギーを大きくして、切削力を高めることができると共に、切削速度(単位時間当たりに切削可能な距離)を上げることができる。しかしながら、最大電圧Vmと駆動周波数fとを共に大きくすると、送液ポンプ20による液体の供給が間に合わなくなる可能性がある。また、手術の際は、液体噴射装置1によって液体を噴射すると共に、噴射された液体を吸引して、術野の確保に努めるものの、駆動周波数fが高い場合には、ジェットの噴射頻度が高いため、吸引が追いつかず、術野の確保が困難になる可能性がある。これに対し、本実施形態の液体噴射装置1では、圧電素子45に印加する駆動電圧の最大電圧Vmが大きい程、駆動周波数fが低いため、単位時間当たりに噴射されるジェットの回数が、最大電圧Vmの増加と共に駆動周波数fも大きくする場合と比較して少なくなるため、噴射された液体の吸引による術野の確保が容易になる。なお、駆動周波数fを低くすると、液体の噴射間隔が大きくなるものの、液体噴射装置1の移動速度を調節することにより、適切に切削可能である。
また、本実施形態の液体噴射装置1では、送液ポンプ20から供給される液体供給流量を、圧電素子45の駆動電圧の最大電圧Vmおよび駆動周波数fの変更にかかわらず、一定にしている。そのため、送液ポンプ20の制御が容易であり、送液ポンプ20の制御に係る処理負荷を抑制することができる。
また、送液ポンプ20として、チューブポンプを用いる場合、液体室44に供給される液体には、小さいながら流速および圧力の時間変動がある。送液ポンプ20からの液体供給流量を変更すると、流速および圧力の時間変動が変わるため、圧電素子45の駆動により発生される液体の脈動の周期に影響を及ぼす可能性がある。これに対し、液体供給流量を一定する場合には、脈動の周期を適切に制御することができる。
また、液体供給流量を一定にしているものの、圧電素子45の駆動電圧の最大電圧Vmが大ききほど駆動周波数fを低くしているため、送液ポンプ20の液体供給量が不足する虞を低減することができる。また、液体供給流量を一定にしているため、術野の悪化を抑制することができる。
B.変形例:
(1)液体噴射装置としては、実施形態に例示した圧電素子を用いるタイプの装置に限られない。
例えば、液体室にパルスレーザーを照射することによって、液体室の液体を蒸発させ、液体を間欠的に噴射させるタイプの液体噴射装置であってもよい。レーザー源としては、例えば、ホルミウム・ヤグレーザー(Ho:YAGレーザー)等を採用することができる。
(1)液体噴射装置としては、実施形態に例示した圧電素子を用いるタイプの装置に限られない。
例えば、液体室にパルスレーザーを照射することによって、液体室の液体を蒸発させ、液体を間欠的に噴射させるタイプの液体噴射装置であってもよい。レーザー源としては、例えば、ホルミウム・ヤグレーザー(Ho:YAGレーザー)等を採用することができる。
或いは、バルブ式の液体噴射装置であってもよい。バルブ式とは、液体を噴射しない時はバルブを閉じ、液体を噴射する時はバルブを開けることによって、噴射を制御する方式である。バルブは、液体室とノズルとの間に設けられ、バルブが閉じている時は、液体室からノズルへの液体の流れが遮断される。そして、バルブが開閉に関わらず、液体室の液体を加圧する。よって、バルブを開けると、液体がノズルから噴射される。このようにして液体を間欠的に噴射することができる。
上記のパルスレーザーを用いる例、バルブ式の例の場合には、噴射されるジェットのエネルギーが大きい程、ジェットが噴射される周波数が低くなるように制御する。このようにすると、液体噴射の対象物の視認性の悪化が抑制される。
(2)出力レベルの設定は、上記実施形態に限定されない。例えば、最大電圧Vmが5〜30(V)の範囲は駆動周波数fを400(Hz)とし、最大電圧Vmが35〜500(V)の範囲は駆動周波数fを200(Hz)としてもよい。また、出力レベルの段階は、2段階以上であれば、何段階に設定してもよい。出力レベルの最大電圧Vmの間隔を等間隔に定めなくてもよい。
上記実施形態では、最大電圧Vmに対して駆動周波数fが階段状に低くなるように設定される例を示したが、最大電圧Vmに対して駆動周波数fが線形に低くなるように設定してもよい。また、最大電圧Vmに対して、単位時間当たりの液体噴射量が一定になるように、駆動周波数fを定めてもよい。但し、駆動周波数fは、切削速度(単位時間あたりに切削できる距離)に影響するため、駆動周波数fが最大電圧Vm毎(出力レベル毎)に異なると、出力レベルの変更の度に、使用者は手を動かす早さを変更することになるため、駆動周波数の変更が少ない方が、使用者にとっては使いやすいと言える。
(3)上記実施形態では、制御装置70が駆動条件テーブル771を備え、圧電素子制御部751は、駆動条件テーブル771を参照して、1の駆動条件(最大電圧Vm、駆動周波数f)を決定する例を示したが、上記実施形態に限定されない。例えば、最大電圧Vmと駆動周波数fとの関係を予め数式で定めておき、使用者により決定された最大電圧Vmに対応する駆動周波数fを、数式を利用して算出してもよい。
(4)上記実施形態では、送液ポンプ20による液体供給流量を、最大電圧および駆動周波数によらず一定にする例を示したが、液体供給流量を、最大電圧および駆動周波数に応じて変更してもよい。但し、液体供給流量を一定にすると、送液ポンプ20の制御が容易であるため、好ましい。
(5)上記実施形態では、液体噴射装置1を手術具として用いる例を示したが、これに限定されず、洗浄用として用いることもできる。また、液体を噴射する対象物としては、生体組織以外の柔軟素材、例えば、食品、ゲル材料、ゴムやプラスチック等の樹脂材料などでもよい。
(6)上記実施形態では、圧電素子45に印加する駆動電圧の波形としてsin波形を例示したが、例えば、矩形のパルス波を用いてもよい。また、駆動周波数fを変更する方法として、休止期間を変更する例を示したが、立ち上がり期間(a)、立ち下がり期間(c)の少なくともいずれか一方を変更してもよい。
(7)上記実施形態において、ソフトウエアによって実現された機能及び処理の一部又は全部は、ハードウエアによって実現されてもよい。また、ハードウエアによって実現された機能及び処理の一部又は全部は、ソフトウエアによって実現されてもよい。ハードウエアとしては、例えば、集積回路、ディスクリート回路、または、それらの回路を組み合わせた回路モジュールなど、各種回路を用いることができる。
本明細書に開示された技術は、本明細書の実施形態や変形例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現できる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施形態、変形例中の技術的特徴は、先述の課題の一部又は全部を解決するために、あるいは、先述の効果の一部又は全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせができる。その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除できる。
1…液体噴射装置、10…容器、20…送液ポンプ、30…ハンドピース、40…パルス流発生部、41…第1ケース、42…第2ケース、43…第3ケース、44…液体室、45…圧電素子、46…ダイヤフラム、50…噴射管、60…ノズル、61…液体噴射開口部、70…制御装置、75…制御部、77…記憶部、80…操作パネル、81…操作部、82…モニター、83…ペダルスイッチ、91…接続チューブ、93…接続チューブ、411…凹部、413…入口流路、415…出口流路、751…圧電素子制御部、756…ポンプ制御部、757…表示制御部、771…駆動条件テーブル、811…ボタンスイッチ、813…レバースイッチ、Vm…最大電圧、f…駆動周波数
Claims (3)
- 液体を噴射する噴射管と、
前記噴射管と連通する液体室と、
前記液体室に前記液体を供給する液体供給部と、
前記液体室の容積を変更する圧電素子と、
前記圧電素子に周期性パルス電圧を印加する圧電素子制御部であって、前記周期性パルス電圧の最大電圧が大きい程、前記周期性パルス電圧の周波数が低くなるように、前記周期性パルス電圧の波形を変更する圧電素子制御部と、
を備える液体噴射装置。 - 請求項1に記載の液体噴射装置において、
前記圧電素子制御部は、
前記最大電圧と前記周波数とを含む前記圧電素子の駆動条件であって、複数の前記駆動条件のうち1の前記駆動条件に従って前記周期性パルス電圧を印加し、
前記駆動条は、複数の前記最大電圧に対して、同一の前記周波数が対応づけられている、液体噴射装置。 - 請求項1または2に記載の液体噴射装置において、
前記液体供給部から供給される前記液体の液体供給流量は一定である、液体噴射装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016229736A JP2018086041A (ja) | 2016-11-28 | 2016-11-28 | 液体噴射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016229736A JP2018086041A (ja) | 2016-11-28 | 2016-11-28 | 液体噴射装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018086041A true JP2018086041A (ja) | 2018-06-07 |
Family
ID=62492746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016229736A Pending JP2018086041A (ja) | 2016-11-28 | 2016-11-28 | 液体噴射装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018086041A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021023996A (ja) * | 2019-07-31 | 2021-02-22 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置 |
-
2016
- 2016-11-28 JP JP2016229736A patent/JP2018086041A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021023996A (ja) * | 2019-07-31 | 2021-02-22 | セイコーエプソン株式会社 | 液体噴射装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5115088B2 (ja) | 手術具 | |
JP4655163B1 (ja) | 流体噴射装置、流体噴射装置の制御方法 | |
US9457565B2 (en) | Liquid ejection control device, liquid ejection system, and control method | |
US9456841B2 (en) | Liquid ejection control device, liquid ejection system, and control method | |
JP2011038479A (ja) | 流体噴射装置、流体噴射装置の制御方法 | |
JP2009045167A (ja) | 流体噴射装置 | |
JP2011036533A (ja) | 流体噴射方法、流体噴射装置および医療機器 | |
US9469106B2 (en) | Liquid ejection control device, liquid ejection system, and control method | |
US9463620B2 (en) | Liquid ejection control device, liquid ejection system, and control method | |
US9737327B2 (en) | Fluid ejection device and medical apparatus | |
US20170164967A1 (en) | Liquid Ejection Control Apparatus, Liquid Ejection System, and Control Method | |
WO2016006214A1 (ja) | 液体噴射制御装置、液体噴射システム及び制御方法 | |
JP5360690B2 (ja) | 流体噴射装置、流体噴射装置の制御方法 | |
JP2018086041A (ja) | 液体噴射装置 | |
JP2010059939A (ja) | 流体噴射装置、流体噴射装置の制御方法および手術装置 | |
JP2015054028A (ja) | 医療機器 | |
JP5212440B2 (ja) | レーザーパルスメスおよび医療機器 | |
JP5585713B2 (ja) | 流体噴射装置 | |
JP5408324B2 (ja) | 流体噴射装置および医療機器 | |
WO2017047066A1 (ja) | 液体噴射制御装置、液体噴射システム及び制御方法 | |
JP5773039B2 (ja) | 制御装置、流体噴射装置及び流体噴射方法 | |
JP2017123899A (ja) | 液体噴射装置、液体噴射方法 | |
JP2017056112A (ja) | 液体噴射制御装置、液体噴射システム及び制御方法 | |
JP2014061414A (ja) | 流体噴射装置および手術用メス | |
JP2011036681A (ja) | 流体噴射装置および医療機器 |