JP2018059166A - パラジウム−ニッケル合金皮膜及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】膜厚が10〜120μmであり、好ましくは、5〜300MPaの応力であり、更に、ピッカース硬さが200〜600Hvである、パラジウム−ニッケル合金皮膜。ニッケル含有量が好ましくは0.1〜50質量%であるパラジウム−ニッケル金皮膜。テトラアンミンパラジウム塩化物、硫酸ニッケル、電解質としてアンモニウム塩、応力緩衝剤として安息香酸、クロモトロープ酸、サッカリン、ベンゼンスルホン酸Na、を含有するめっき浴を用いるパラジウム−ニッケル合金皮膜及びその製造方法。陽極を隔膜で覆ってもよいパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法。
【選択図】なし
Description
パラジウム−ニッケル合金被膜について一切言及されていない。また、特許文献4は、パラジウム−ニッケル合金メッキ液に関する発明であるが、電着皮膜の膜厚は2μmと膜厚の薄いものを対象としている。
色調ムラが少ない、パラジウム−ニッケル合金皮膜及びその製造方法を提供することを課題とする。
2)応力が5MPa以上300MPa以下であることを特徴とする上記1)記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜。
3)ビッカース硬さが200Hv以上600Hv以下であることを特徴とする上記1)又は2)記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜。
4)ニッケル含有量が0.1質量%以上50質量%以下であることを特徴とする上記1)〜3)のいずれか一に記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜。
5)皮膜外観が鏡面光沢又は全光沢であることを特徴とする上記1)〜4)のいずれか一に記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜。
6)上記1)〜5)のいずれか一に記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法であって、電解めっき時の陽極を隔膜で覆うことを特徴とするパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法。
7)上記1)〜5)のいずれか一に記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法であって、電解めっき時の陽極として、酸化イリジウム又は酸化イリジウムをコーティングしたもの使用することを特徴とするパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法。
テトラアンミンパラジウム(II)塩化物
硫酸ニッケル(II)六水和物
硫酸アンモニウム
サッカリンナトリウム二水和物
ベンゼンスルホン酸ナトリウム
安息香酸
また、ニッケル塩としては、硫酸ニッケル(II)水和物の他、酢酸ニッケル、アミド硫酸ニッケル、塩化ニッケルなどを用いることができ、ニッケル塩の酸根は限定されない。皮膜中の合金比率は、めっき浴中のパラジウムとニッケルの濃度で変化させることができるが、ニッケル塩の役割は合金比率のコントロールだけでなく、外観及び皮膜の内部応力にも影響を与えるので、この点を考慮してそれぞれの濃度を決める必要がある。
電流: 0.6A
電解時間: 120分
電流密度: 2A/dm2
浴量: 3L
pH: 7
温度: 40℃
撹拌速度: 300rpm
カソード: 銅(下地めっきなし)
アノード: 酸化イリジウムコーティングチタン
陽極隔膜: 有り
上記の通り、めっき時の不溶性陽極として、白金の代わりに酸化イリジウムを用いることでめっき液成分の酸化反応による副生成物の蓄積を低減し、応力上昇を抑えることができる。また、パラジウムめっき皮膜に水素が吸蔵されて内部応力が上昇することが知られていることから、めっき条件を調整し電析する結晶サイズを小さくすることで、結晶格子内への水素吸蔵等による格子ひずみを抑制して、皮膜全体の応力を低下させることが好ましい。
下記の表1に記載される成分からなるパラジウム−ニッケルめっき浴を建浴し、それぞれのめっき浴を用いて、同表に掲載される条件にて電解めっきを行い、めっき皮膜を形成した。その結果、実施例1−8のいずれも、めっき外観が良好な(クラック、剥がれ、色ムラ等がなく、鏡面光沢)、膜厚100μmのパラジウム−ニッケル合金皮膜が得られた。また、いずれのめっきにおいても、応力の上昇は抑えられ、また硬度も所定の範囲内であった。なお、実施例1−8のめっき皮膜の膜厚は、いずれも100μmであるが、それよりも薄いものは当然、外観不良のなく形成することができることから、表への掲載は、省略した。
下記の表1に記載される成分からなるパラジウム−ニッケルめっき浴を建浴し、それぞれのめっき浴を用いて、同表に掲載される条件にて電解めっきを行い、めっき皮膜を形成した。その結果、比較例1−4において、膜厚が10μmになる前にめっき不良(色無あら)が発生し、100μmのものは得られなかった。なお、比較例5、6は、膜厚が10μm未満のパラジウム−ニッケル合金皮膜であるが、このような膜厚の薄いものについては隔膜を使用せずとも、めっき外観が良好な(クラック、剥がれ、色ムラ等がなく、鏡面光沢)ものが得られた。
Claims (7)
- 膜厚が10μm以上120μm以下であることを特徴とするパラジウム−ニッケル合金皮膜。
- 応力が5MPa以上300MPa以下であることを特徴とする請求項1記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜。
- ビッカース硬さが200Hv以上600Hv以下であることを特徴とする請求項1又は2記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜。
- ニッケル含有量が0.1質量%以上50質量%以下であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜。
- 皮膜外観が鏡面光沢又は全光沢であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法であって、電解めっき時の陽極を隔膜で覆うことを特徴とするパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載のパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法であって、電解めっき時の陽極として、酸化イリジウム又は酸化イリジウムをコーティングしたもの使用することを特徴とするパラジウム−ニッケル合金皮膜の製造方法。
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