JP2017203965A - Optical reflection film in roll state - Google Patents
Optical reflection film in roll state Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017203965A JP2017203965A JP2016097393A JP2016097393A JP2017203965A JP 2017203965 A JP2017203965 A JP 2017203965A JP 2016097393 A JP2016097393 A JP 2016097393A JP 2016097393 A JP2016097393 A JP 2016097393A JP 2017203965 A JP2017203965 A JP 2017203965A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- index layer
- film
- mass
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 89
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 86
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 86
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 88
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 32
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 32
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 35
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 268
- 239000010408 film Substances 0.000 description 154
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 106
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 100
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 description 48
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 47
- 229940048053 acrylate Drugs 0.000 description 47
- 239000002585 base Substances 0.000 description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 description 39
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 32
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 30
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 21
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 15
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 14
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 13
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 12
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 12
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 12
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 12
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 11
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 11
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Natural products CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004820 Pressure-sensitive adhesive Substances 0.000 description 10
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 8
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 7
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 5
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 4
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 4
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 4
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 4
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 4
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 4
- PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N (dimethylsulfonio)acetate Chemical compound C[S+](C)CC([O-])=O PSBDWGZCVUAZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 241000596504 Tamarindus Species 0.000 description 3
- 235000004298 Tamarindus indica Nutrition 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 3
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 3
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 3
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 3
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 3
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940081066 picolinic acid Drugs 0.000 description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 3
- 229940117986 sulfobetaine Drugs 0.000 description 3
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical group [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 3
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920002126 Acrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfone Chemical compound C=1C=CC=CC=1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KZTYYGOKRVBIMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N lanthanum(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[La+3].[La+3] MRELNEQAGSRDBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Ti+4] SOQBVABWOPYFQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 2
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 2
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 2
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 2
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4-dimethylphenyl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1=CC=C(C)C=C1C UWFRVQVNYNPBEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OCC(C)(C)C(O)=O CZZVAVMGKRNEAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRTNMMLRBJMGJJ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,3-diol;hexanedioic acid Chemical compound OCC(C)(C)CO.OC(=O)CCCCC(O)=O YRTNMMLRBJMGJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 2-[2,2-bis(hydroxymethyl)butoxymethyl]-2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)(CO)COCC(CC)(CO)CO WMYINDVYGQKYMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTJOGMSHOJOOGH-UHFFFAOYSA-N 2-[[2-(oxiran-2-ylmethyl)cyclohexyl]methyl]oxirane Chemical compound C1CCCC(CC2OC2)C1CC1CO1 GTJOGMSHOJOOGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUHPIMDQNAGSOV-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-phenylpropanedioic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C(=O)O)(C(O)=O)CC1=CC=CC=C1 ZUHPIMDQNAGSOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-5-phenylpent-4-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(=C)CC=CC1=CC=CC=C1 JQXYBDVZAUEPDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZUFHXJTSDPZGB-UHFFFAOYSA-N 2-methylidene-5-phenylpent-4-enoic acid;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C(=C)CC=CC1=CC=CC=C1 HZUFHXJTSDPZGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFEGRFIENDJTCK-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-2,3-dihydroindene-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2=CC=CC=C2C(C(=O)O)(C(O)=O)C1C1=CC=CC=C1 XFEGRFIENDJTCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTNFAXLGPSLYEY-UHFFFAOYSA-N 3-(2-ethenylnaphthalen-1-yl)prop-2-enoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C=CC(=O)O)=C(C=C)C=CC2=C1 MTNFAXLGPSLYEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylethenyl)furan-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=CC=2C=CC=CC=2)=C1 PYSRRFNXTXNWCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHIPJALLQVEEQF-UHFFFAOYSA-N 4-(oxiran-2-ylmethoxy)-n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1N(CC1OC1)CC1CO1 AHIPJALLQVEEQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- UUAGPGQUHZVJBQ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A bis(2-hydroxyethyl)ether Chemical compound C=1C=C(OCCO)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCO)C=C1 UUAGPGQUHZVJBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N Carbamic acid Chemical class NC(O)=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000008186 Collagen Human genes 0.000 description 1
- 108010035532 Collagen Proteins 0.000 description 1
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002148 Gellan gum Polymers 0.000 description 1
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000047703 Nonion Species 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004373 Pullulan Substances 0.000 description 1
- 229920001218 Pullulan Polymers 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 229920000147 Styrene maleic anhydride Polymers 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N Trioxochromium Chemical compound O=[Cr](=O)=O WGLPBDUCMAPZCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IFBMOBFQBJZBMV-UHFFFAOYSA-N [phenyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphanyl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1C(=O)P(C=1C=CC=CC=1)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C IFBMOBFQBJZBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 238000006359 acetalization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 235000010419 agar Nutrition 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229920005603 alternating copolymer Polymers 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000001541 aziridines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N but-3-enoic acid;ethene Chemical compound C=C.OC(=O)CC=C DQXBYHZEEUGOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000679 carrageenan Substances 0.000 description 1
- 235000010418 carrageenan Nutrition 0.000 description 1
- 229920001525 carrageenan Polymers 0.000 description 1
- 229940113118 carrageenan Drugs 0.000 description 1
- 238000012663 cationic photopolymerization Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 229920001436 collagen Polymers 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-diol Chemical compound OC1(O)CCCCC1 PDXRQENMIVHKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N dioxido(oxo)titanium;lead(2+) Chemical compound [Pb+2].[O-][Ti]([O-])=O NKZSPGSOXYXWQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical class C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- CYKDLUMZOVATFT-UHFFFAOYSA-N ethenyl acetate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.CC(=O)OC=C CYKDLUMZOVATFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000005038 ethylene vinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229910001940 europium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N europium(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Eu+3].[Eu+3] AEBZCFFCDTZXHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000000216 gellan gum Substances 0.000 description 1
- 235000010492 gellan gum Nutrition 0.000 description 1
- 239000003349 gelling agent Substances 0.000 description 1
- 238000007429 general method Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)iron;iron Chemical compound [Fe].O[Fe]=O.O[Fe]=O UCNNJGDEJXIUCC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229920000592 inorganic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910021331 inorganic silicon compound Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 1
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005649 metathesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940117841 methacrylic acid copolymer Drugs 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,7-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 WPUMVKJOWWJPRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N nitric acid;oxozirconium Chemical compound [Zr]=O.O[N+]([O-])=O.O[N+]([O-])=O UJVRJBAUJYZFIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940105570 ornex Drugs 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001277 pectin Polymers 0.000 description 1
- 239000001814 pectin Substances 0.000 description 1
- 235000010987 pectin Nutrition 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920001200 poly(ethylene-vinyl acetate) Polymers 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 102000004196 processed proteins & peptides Human genes 0.000 description 1
- 108090000765 processed proteins & peptides Proteins 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- SOGFHWHHBILCSX-UHFFFAOYSA-J prop-2-enoate silicon(4+) Chemical compound [Si+4].[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C.[O-]C(=O)C=C SOGFHWHHBILCSX-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- HXHCOXPZCUFAJI-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;styrene Chemical compound OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 HXHCOXPZCUFAJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019423 pullulan Nutrition 0.000 description 1
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 1
- 229920005604 random copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002029 synthetic silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003856 thermoforming Methods 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000052 vinegar Substances 0.000 description 1
- 235000021419 vinegar Nutrition 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L zinc;1-(5-cyanopyridin-2-yl)-3-[(1s,2s)-2-(6-fluoro-2-hydroxy-3-propanoylphenyl)cyclopropyl]urea;diacetate Chemical compound [Zn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CCC(=O)C1=CC=C(F)C([C@H]2[C@H](C2)NC(=O)NC=2N=CC(=CC=2)C#N)=C1O UHVMMEOXYDMDKI-JKYCWFKZSA-L 0.000 description 1
- NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N zinc;dioxido(dioxo)chromium Chemical compound [Zn+2].[O-][Cr]([O-])(=O)=O NDKWCCLKSWNDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003754 zirconium Chemical class 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
Description
本発明は、ロール状の光学反射フィルムに関する。 The present invention relates to a roll-shaped optical reflection film.
近年、車窓から入り込む太陽の影響によって人肌で感じる暑さを遮り、車内のエアコン稼働を抑えて、省エネ化することを目的として、高い断熱または熱線遮断性を有する光学反射フィルムが市場に流通している。自動車のフロントガラスやリアガラスに光学反射フィルムを貼ることで、太陽光線の熱線（赤外線）の透過を遮断し、室内の温度上昇や冷房負荷を低減させることができる。 In recent years, optical reflective films with high thermal insulation or heat ray blocking properties have been distributed in the market in order to block the heat felt by human skin due to the influence of the sun entering from the car window, suppress the operation of the air conditioner in the car and save energy. ing. By sticking an optical reflection film on the windshield or rear glass of an automobile, it is possible to block the transmission of solar heat rays (infrared rays) and reduce the indoor temperature rise and cooling load.
近年の自動車用フロントガラスやリアガラスは三次元曲面を有しており、デザイン性の観点から曲率が大きくなってきている。それに伴い、光学反射フィルムが曲面に追従しきれず、合わせガラスの製造時や自動車用ガラス等への後貼り加工時に、クラックのような不良が生じることがあり、このようなクラックを低減する技術が求められている。 In recent years, windshields and rear glasses for automobiles have a three-dimensional curved surface, and the curvature is increasing from the viewpoint of design. Along with this, the optical reflective film cannot follow the curved surface, and defects such as cracks may occur during the production of laminated glass or after pasting to automotive glass, etc. It has been demanded.
かような要求に対し、種々の提案がなされている。例えば、特許文献１には、１５０℃で３０分間熱処理後のフィルムの長手方向の熱収縮率が０．６％以上１．２％以下であり、幅方向の熱収縮率が０．１５％以上１．０％以下である合わせガラス中間膜用ポリエステルフィルムが開示されている。 Various proposals have been made for such demands. For example, in Patent Document 1, the heat shrinkage rate in the longitudinal direction of the film after heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes is 0.6% or more and 1.2% or less, and the heat shrinkage rate in the width direction is 0.15% or more. A polyester film for laminated glass interlayer film of 1.0% or less is disclosed.
また、特許文献２には、屈折率の異なる樹脂膜が交互に積層されてなる赤外線反射膜が形成されたプラスチックフィルムの１５０℃での長手方向（Ｍａｃｈｉｎｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ、ＭＤ）の熱収縮率と幅手方向（ＴＤ、Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ Ｄｉｒｅｃｔｉｏｎ）の熱収縮率との差が０．５％以下である合わせガラス用積層フィルムが開示されている。 Patent Document 2 discloses a thermal contraction rate and width in a longitudinal direction (Machine Direction, MD) at 150 ° C. of a plastic film on which an infrared reflection film formed by alternately laminating resin films having different refractive indexes is formed. A laminated film for laminated glass in which the difference from the heat shrinkage rate in the direction (TD, Transverse Direction) is 0.5% or less is disclosed.
しかしながら、上記特許文献１〜２に記載の技術では、３次元曲面ガラス等の曲率が大きいガラスに貼り合わせる際、フィルムのクラックの低減が不十分であり、施工性が悪化するという問題があった。 However, in the techniques described in Patent Documents 1 and 2, there is a problem that when the film is bonded to a glass having a large curvature such as a three-dimensional curved glass, the crack of the film is insufficiently reduced and the workability is deteriorated. .
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、ガラス、特に曲率が大きいガラスに貼付する際、クラックの発生を少なくすることができ、施工性に優れたロール状の光学反射フィルムを提供することにある。 The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to reduce the occurrence of cracks when affixing to glass, in particular, glass having a large curvature, and it is a roll-like optical element with excellent workability. It is to provide a reflective film.
本発明者は鋭意研究を積み重ねた。その結果、１５０℃で３０分間保持した際の長手方向（ＭＤ）の熱収縮率、幅手方向（ＴＤ）の熱収縮率、および前記長手方向の熱収縮率と前記幅手方向の熱収縮率との比（ＭＤ／ＴＤ）が特定の範囲である樹脂基材と、水溶性高分子を含む誘電体多層膜と、を備えたロール状の光学反射フィルムにより上記課題が解決することを見出し、本発明を完成させるに至った。 The inventor has conducted extensive research. As a result, the heat shrinkage rate in the longitudinal direction (MD), the heat shrinkage rate in the width direction (TD), and the heat shrinkage rate in the longitudinal direction and the heat shrinkage rate in the width direction when held at 150 ° C. for 30 minutes. And the ratio (MD / TD) of the resin base material in a specific range, and a dielectric multilayer film containing a water-soluble polymer, finds that the above problem is solved by a roll-shaped optical reflective film, The present invention has been completed.
本発明によれば、ガラス、特に曲率が大きいガラスに貼付する際、クラックの発生を少なくすることができ、施工性に優れたロール状の光学反射フィルムが提供される。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, when sticking to glass, especially glass with a large curvature, generation | occurrence | production of a crack can be decreased and the roll-shaped optical reflection film excellent in workability is provided.
本発明は、樹脂基材上に、水溶性高分子を含む誘電体多層膜を有する光学反射フィルムであって、前記樹脂基材を１５０℃で３０分間保持した際の、前記樹脂基材の長手方向（ＭＤ）の熱収縮率が１．０％以上であり、幅手方向（ＴＤ）の熱収縮率が０．３％未満であり、かつ前記長手方向の熱収縮率と前記幅手方向の熱収縮率との比（ＭＤ／ＴＤ）が３以上１００以下である、ロール状の光学反射フィルムである。このような構成を有する本発明のロール状の光学反射フィルムは、ガラス、特に曲率が大きいガラスに貼付する際、クラックの発生を少なくすることができ、施工性に優れたものとなる。 The present invention is an optical reflective film having a dielectric multilayer film containing a water-soluble polymer on a resin substrate, and the length of the resin substrate when the resin substrate is held at 150 ° C. for 30 minutes. The direction (MD) thermal shrinkage is 1.0% or more, the width direction (TD) heat shrinkage is less than 0.3%, and the longitudinal direction heat shrinkage and the width direction It is a roll-shaped optical reflection film whose ratio (MD / TD) with respect to heat shrinkage is 3 or more and 100 or less. The roll-shaped optical reflective film of the present invention having such a configuration can reduce the occurrence of cracks when being attached to glass, particularly glass having a large curvature, and has excellent workability.
曲率が大きい曲面を有するガラス（たとえば自動車のフロントガラス、リアガラス）に対して光学反射フィルムを貼る際は、通常、本貼りをする前に、平面状の光学反射フィルムを、曲面を有するガラスの上に置いて形取りを行う。形取りを行うときは、光学反射フィルムをヒートガンにて加熱して収縮させ、ガラスの曲面へ追従させる。 When pasting an optical reflective film on a glass having a curved surface with a large curvature (for example, an automobile windshield or rear glass), the planar optical reflective film is usually placed on the curved glass before the actual pasting. Place it on and shape it. When shaping, the optical reflection film is heated and contracted with a heat gun to follow the curved surface of the glass.
曲面を有するガラスのうち曲率が大きい方向と、本発明のロール状の光学反射フィルムの長手方向（ＭＤ）と、が合うように配置して上記のような作業を行えば、本発明のロール状の光学反射フィルムは、樹脂基材の長手方向（ＭＤ）の熱収縮率が高いことから、短い時間で形取りが可能となる。形取りの時間が短縮できれば、誘電体多層膜を熱で劣化させることを抑制できるため、施工時に発生するクラックも低減することができる。すなわち、本発明のロール状の光学反射フィルムは、施工性に優れる。 If the above-described operation is carried out by placing the curved glass in a direction in which the curvature is large and the longitudinal direction (MD) of the roll-shaped optical reflection film of the present invention, the roll shape of the present invention Since the optical reflective film has a high thermal contraction rate in the longitudinal direction (MD) of the resin substrate, it can be shaped in a short time. If the shaping time can be shortened, deterioration of the dielectric multilayer film due to heat can be suppressed, and cracks generated during construction can also be reduced. That is, the roll-shaped optical reflection film of the present invention is excellent in workability.
以下、本発明のロール状の光学反射フィルムの構成要素、および本発明を実施するための形態等について詳細に説明する。なお、下記において、ロール状の光学反射フィルムを、単に「光学反射フィルム」とも称する。 Hereinafter, the component of the roll-shaped optical reflection film of this invention, the form for implementing this invention, etc. are demonstrated in detail. In the following, the roll-shaped optical reflection film is also simply referred to as “optical reflection film”.
また、本明細書において、樹脂基材の長手方向（ＭＤ）とは、樹脂基材を製造する際の成膜方向を表し、樹脂基材の幅手方向（ＴＤ）とは、樹脂基材面内で上記の長手方向と直交する方向を表す。また、本明細書において、ロール状とは、長手方向（ＭＤ）の長さが、幅手方向（ＴＤ）に対し少なくとも５倍程度以上の長さを有するものを言い、好ましくは１０倍またはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻回されて保管または運搬される程度の長さを有するものを言う。 Moreover, in this specification, the longitudinal direction (MD) of a resin base material represents the film-forming direction at the time of manufacturing a resin base material, and the width direction (TD) of the resin base material is a resin base material surface. Represents a direction perpendicular to the longitudinal direction. In this specification, the roll shape means that the length in the longitudinal direction (MD) is at least about 5 times the length in the width direction (TD), preferably 10 times or more. It has the above-mentioned length, and specifically refers to a length that is wound or stored or transported in a roll shape.
［光学反射フィルム］
本発明の光学反射フィルムの全体の膜厚は、１０μｍ〜３００μｍが好ましく、２０μｍ〜２５０μｍがより好ましい。この範囲であれば、長期使用においても透明性に優れた光学反射フィルムとなる。本発明の光学反射フィルムは、誘電体多層膜の積層数または各層の光学膜厚、屈折率、もしくは構成成分等を調整することにより、その使用用途を制御することができる。例えば、本発明の光学反射フィルムは、金属光沢調フィルム、波長３８０〜７８０ｎｍの光を遮蔽する可視光遮蔽フィルム、波長３８０ｎｍ未満の光を遮蔽する紫外遮蔽フィルム、波長７８０ｎｍ超の光を遮蔽する赤外遮蔽フィルム、または紫外光と赤外光の両方を遮蔽する紫外−赤外遮蔽フィルムなどとして好適に使用できる。なお、一般的に、紫外遮蔽フィルムまたは赤外遮蔽フィルムとして使用される場合は、波長３８０〜７８０ｎｍの光（可視光）を遮蔽しないことが好ましい。
[Optical reflection film]
The total thickness of the optical reflective film of the present invention is preferably 10 μm to 300 μm, more preferably 20 μm to 250 μm. If it is this range, it will become an optical reflective film excellent in transparency also in long-term use. The use of the optical reflective film of the present invention can be controlled by adjusting the number of laminated dielectric multilayer films or the optical film thickness, refractive index, or component of each layer. For example, the optical reflective film of the present invention includes a metallic glossy film, a visible light shielding film that shields light having a wavelength of 380 to 780 nm, an ultraviolet shielding film that shields light having a wavelength of less than 380 nm, and a red that shields light having a wavelength of more than 780 nm. It can be suitably used as an outer shielding film or an ultraviolet-infrared shielding film that shields both ultraviolet light and infrared light. In general, when used as an ultraviolet shielding film or an infrared shielding film, it is preferable not to shield light (visible light) having a wavelength of 380 to 780 nm.
本発明の光学反射フィルムの光学特性として、ＪＩＳ Ｒ３１０６：１９９８で測定される可視光透過率は好ましくは６０％以上であり、より好ましくは７０％以上であり、さらに好ましくは８０％以上である。また、波長９００ｎｍ〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。 As an optical characteristic of the optical reflection film of the present invention, the visible light transmittance measured by JIS R3106: 1998 is preferably 60% or more, more preferably 70% or more, and further preferably 80% or more. Moreover, it is preferable to have the area | region exceeding a reflectance of 50% in the area | region of wavelength 900nm-1400nm.
［樹脂基材］
本発明に係る樹脂基材の材料としては、誘電体多層膜を保持することができる有機材料であれば、特に限定されるものではない。具体例としては、例えば、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、三酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルムとしては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分とを主要な構成成分とする、フィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの２種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
[Resin substrate]
The material of the resin base material according to the present invention is not particularly limited as long as it is an organic material that can hold the dielectric multilayer film. Specific examples include polyolefin films (polyethylene, polypropylene, etc.), polyester films (polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), polyvinyl chloride, cellulose triacetate, etc., preferably polyester films. Although it does not specifically limit as a polyester film, It is preferable that it is polyester which has a film formation property which has a dicarboxylic acid component and a diol component as main structural components. The main constituent dicarboxylic acid components include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 2,7-naphthalenedicarboxylic acid, diphenylsulfone dicarboxylic acid, diphenyl ether dicarboxylic acid, diphenylethanedicarboxylic acid, Examples thereof include cyclohexane dicarboxylic acid, diphenyl dicarboxylic acid, diphenyl thioether dicarboxylic acid, diphenyl ketone dicarboxylic acid, and phenylindane dicarboxylic acid. Examples of the diol component include ethylene glycol, propylene glycol, tetramethylene glycol, cyclohexanedimethanol, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxyethoxyphenyl) propane, bis ( 4-Hydroxyphenyl) sulfone, bisphenol fluorene hydroxyethyl ether, diethylene glycol, neopentyl glycol, hydroquinone, cyclohexanediol and the like. Among the polyesters having these as main constituent components, from the viewpoint of transparency, mechanical strength, dimensional stability, etc., dicarboxylic acid components such as terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, diol components such as ethylene glycol and 1 Polyester having 1,4-cyclohexanedimethanol as the main constituent is preferred. Of these, polyesters mainly composed of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, copolymerized polyesters composed of terephthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid and ethylene glycol, and mixtures of two or more of these polyesters are mainly used. Polyester as a constituent component is preferable.
本発明に用いられる樹脂基材の厚さは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは２０〜２５０μｍである。また、樹脂基材は、２枚以上を積層したものであってもよく、積層した場合、その種類は同じでもよいし異なっていてもよい。 The thickness of the resin base material used in the present invention is preferably 10 to 300 μm, more preferably 20 to 250 μm. The resin base material may be a laminate of two or more, and when laminated, the type may be the same or different.
樹脂基材の長手方向（ＭＤ）の熱収縮率は、１．０％以上である。長手方向の熱収縮率が１．０％未満である場合、クラックが低減されず、施工性も低下する。長手方向の熱収縮率は、好ましくは１．２％以上、より好ましくは１．５％以上である。また、樹脂基材の長手方向の熱収縮率の上限は、特に制限されないが、好ましくは５．０％以下、より好ましくは３．０％以下である。 The heat shrinkage rate in the longitudinal direction (MD) of the resin base material is 1.0% or more. When the heat shrinkage rate in the longitudinal direction is less than 1.0%, cracks are not reduced and workability is also lowered. The heat shrinkage rate in the longitudinal direction is preferably 1.2% or more, more preferably 1.5% or more. Moreover, the upper limit of the heat shrinkage rate in the longitudinal direction of the resin base material is not particularly limited, but is preferably 5.0% or less, more preferably 3.0% or less.
樹脂基材の幅手方向（ＴＤ）の熱収縮率は、０．３％未満である。幅手方向の熱収縮率が０．３％以上である場合、ガラスへ貼付した際クラックが発生する。幅手方向の熱収縮率は、好ましくは０．１％未満、より好ましくは０．０５％以下である。また、樹脂基材の長手方向の熱収縮率の下限は、特に制限されないが、好ましくは０．０１％以上である。 The heat shrinkage rate in the width direction (TD) of the resin base material is less than 0.3%. When the thermal contraction rate in the width direction is 0.3% or more, cracks occur when pasted on glass. The thermal contraction rate in the width direction is preferably less than 0.1%, more preferably 0.05% or less. The lower limit of the heat shrinkage rate in the longitudinal direction of the resin base material is not particularly limited, but is preferably 0.01% or more.
さらに、樹脂基材の長手方向の熱収縮率と幅手方向の熱収縮率との比（ＭＤ／ＴＤ）は、３以上１００以下である。比が３未満の場合、クラックが低減されず、施工性も低下する。比が１００を超える場合、施工性が悪化する。樹脂基材の長手方向の熱収縮率と幅手方向の熱収縮率との比（ＭＤ／ＴＤ）は、好ましくは４以上８０以下、より好ましくは５以上５０以下である。 Furthermore, the ratio (MD / TD) of the thermal shrinkage in the longitudinal direction and the thermal shrinkage in the width direction of the resin base material is 3 or more and 100 or less. When the ratio is less than 3, cracks are not reduced and workability is also lowered. When the ratio exceeds 100, workability deteriorates. The ratio (MD / TD) of the heat shrinkage in the longitudinal direction and the heat shrinkage in the width direction of the resin substrate is preferably 4 or more and 80 or less, more preferably 5 or more and 50 or less.
上記のような特性を有する樹脂基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押出機等により溶融し、環状ダイやＴダイにより押出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の樹脂基材を製造することができる。さらに、未延伸の樹脂基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、長手方向（樹脂基材の成膜方向）と、該長手方向と直交する幅手方向とで延伸することにより本発明に係る樹脂基材を製造することができる。本発明で規定する樹脂基材の熱収縮率および熱収縮率の比を得るために、下記のような延伸方法で延伸した樹脂基材を用いることが好ましい。以下、好ましい樹脂基材である、延伸ポリエステルフィルムの製造方法の一例を説明する。 The resin base material having the above characteristics can be produced by a conventionally known general method. For example, an unstretched resin base material that is substantially amorphous and not oriented can be produced by melting a resin as a material with an extruder or the like, extruding it with an annular die or a T-die, and quenching. Further, the unstretched resin base material is stretched in the longitudinal direction (the direction of film formation of the resin base material) by a known method such as uniaxial stretching, tenter sequential biaxial stretching, tenter simultaneous biaxial stretching, tubular simultaneous biaxial stretching. ) And the width direction perpendicular to the longitudinal direction, the resin substrate according to the present invention can be produced. In order to obtain the ratio of the heat shrinkage rate and the heat shrinkage rate of the resin base material defined in the present invention, it is preferable to use a resin base material stretched by the following stretching method. Hereinafter, an example of the manufacturing method of the stretched polyester film which is a preferable resin base material is demonstrated.
ポリエステルチップを乾燥後、押出機を用いてフィルム状に溶融押出しを行い、キャスティングドラムで冷却固化して未延伸フィルムを作製する。この未延伸フィルムを、Ｔｇ〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度範囲で長手方向（ＭＤ）に１回または２回以上、合計の倍率が好ましくは１倍〜６倍になるよう縦延伸し、その後Ｔｇ〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度範囲で幅手方向（ＴＤ）に１回または２回以上、倍率が好ましくは１〜５倍になるように横延伸することで、二軸延伸フィルムが得られる。このような二方向延伸は、縦、横逐次におこなってもよく、同時に実施してもよい。ここで、長手（縦）方向の延伸倍率は、より好ましくは３〜５倍である。また幅手（横）方向の延伸倍率は、より好ましくは１〜４倍である。 After drying the polyester chip, it is melt-extruded into a film using an extruder and cooled and solidified with a casting drum to produce an unstretched film. This unstretched film is stretched in the longitudinal direction (MD) once or twice in the temperature range of Tg to (Tg + 60) ° C. so that the total magnification is preferably 1 to 6 times, and then Tg to A biaxially stretched film is obtained by transversely stretching so that the magnification is preferably 1 to 5 times in the width direction (TD) once or twice in the temperature range of (Tg + 70) ° C. Such bi-directional stretching may be performed sequentially in the vertical and horizontal directions, or may be performed simultaneously. Here, the draw ratio in the longitudinal (longitudinal) direction is more preferably 3 to 5 times. The draw ratio in the width (lateral) direction is more preferably 1 to 4 times.
その後、必要に応じてさらに１８０〜２３０℃で１〜６０秒間熱処理（熱固定）を行う。この熱処理により、微結晶を生成し、力学特性や耐久性を向上させることができる。さらに上記熱処理（熱固定）温度より２０〜５０℃低い温度で、幅手（横）方向に１〜１０％収縮させながら緩和熱処理を行うことが好ましい。緩和熱処理とは、樹脂基材に対して応力緩和のために熱を加えて、樹脂基材を収縮させる処理である。緩和熱処理は公知の方法、例えば製膜工程において、延伸終了後に幅手方向にクリップ間隔を狭めて緩和熱処理をする方法を用いることができる。なお、上記Ｔｇは、ポリエステルのガラス転移温度を表わす。 Then, if necessary, heat treatment (heat setting) is further performed at 180 to 230 ° C. for 1 to 60 seconds. By this heat treatment, crystallites can be generated and the mechanical properties and durability can be improved. Furthermore, it is preferable to perform relaxation heat treatment at a temperature lower by 20 to 50 ° C. than the heat treatment (heat setting) temperature while shrinking by 1 to 10% in the width (lateral) direction. The relaxation heat treatment is a process in which heat is applied to the resin base material to relieve stress and the resin base material is contracted. The relaxation heat treatment can be performed by a known method, for example, a method of performing relaxation heat treatment by narrowing the clip interval in the width direction after completion of stretching in the film forming process. The above Tg represents the glass transition temperature of polyester.
樹脂基材の熱収縮率は、下記の方法により測定することができる。すなわち、樹脂基材を温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨ環境下にて、２４時間保存後、幅方向に１００ｍｍ間隔で２つの印を付け、無荷重状態で２つの印の間の距離Ａ１を、光学顕微鏡を用いて測定する。続いて、１５０℃雰囲気下のオーブン内に樹脂基材を吊るし、３０分間放置する。３０分経過後、オーブンから樹脂基材を取り出し、再び温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨ環境で２４時間保存する。次いで、無荷重状態の樹脂基材の２つの印の間の距離Ａ２を、光学顕微鏡を用いて測定する。測定した距離Ａ１およびＡ２より、樹脂基材の熱収縮率を下記式（１）により算出する。この測定を、樹脂基材の長手方向（ＭＤ）および幅手方向（例えばＴＤ）の２方向について行う。この際、熱収縮率が正の場合は縮みを、負は伸びを表わす。さらに、算出された樹脂基材の長手方向（ＭＤ）の熱収縮率と、幅手方向（ＴＤ）の熱収縮率との比を算出する。 The thermal shrinkage rate of the resin substrate can be measured by the following method. That is, after storing the resin base material at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH for 24 hours, two marks are made at 100 mm intervals in the width direction, and the distance A1 between the two marks is set in an unloaded state. Measure using an optical microscope. Subsequently, the resin substrate is hung in an oven at 150 ° C. and left for 30 minutes. After 30 minutes, the resin substrate is taken out of the oven and stored again for 24 hours in an environment at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH. Next, a distance A2 between the two marks on the resin base material in an unloaded state is measured using an optical microscope. From the measured distances A1 and A2, the thermal contraction rate of the resin base material is calculated by the following formula (1). This measurement is performed in two directions of the longitudinal direction (MD) and the width direction (eg, TD) of the resin base material. At this time, if the heat shrinkage rate is positive, it indicates shrinkage, and negative indicates elongation. Furthermore, the ratio of the thermal contraction rate in the longitudinal direction (MD) of the calculated resin base material and the thermal contraction rate in the width direction (TD) is calculated.
［誘電体多層膜］
本発明に係る誘電体多層膜は、樹脂基材上に形成され、水溶性高分子を含む。本発明の好ましい一形態による誘電体多層膜は、水溶性高分子を含む高屈折率層および低屈折率層を交互に積層してなる。かような誘電体多層膜は、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を利用して光を反射する光学反射層である。該誘電体多層膜は、樹脂基材の一方の面に形成されてもよいし、樹脂基材の両面に形成されてもよい。
[Dielectric multilayer film]
The dielectric multilayer film according to the present invention is formed on a resin substrate and contains a water-soluble polymer. A dielectric multilayer film according to a preferred embodiment of the present invention is formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer containing a water-soluble polymer. Such a dielectric multilayer film is an optical reflection layer that reflects light by utilizing a difference in refractive index between a high refractive index layer and a low refractive index layer. The dielectric multilayer film may be formed on one surface of the resin base material, or may be formed on both surfaces of the resin base material.
高屈折率層および低屈折率層の屈折率差をより大きくして、少ない層数で光学反射率を高くすることができるという観点から、高屈折率層および低屈折率層は金属酸化物粒子を含むことが好ましい。すなわち、本発明のより好ましい一形態によれば、誘電体多層膜は、高屈折率層と低屈折率層とが交互に積層してなり、前記高屈折率層および前記低屈折率層は、前記水溶性高分子と金属酸化物粒子とを含む。 From the viewpoint of increasing the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer and increasing the optical reflectance with a small number of layers, the high refractive index layer and the low refractive index layer are metal oxide particles. It is preferable to contain. That is, according to a more preferred embodiment of the present invention, the dielectric multilayer film is formed by alternately laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer, and the high refractive index layer and the low refractive index layer are: The water-soluble polymer and metal oxide particles are included.
なお、本明細書中、他方に対して屈折率の高い屈折率層を高屈折率層と、他方に対して屈折率の低い屈折率層を低屈折率層と称する。本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、誘電体多層膜を構成する各屈折率層において、隣接する２つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。 In the present specification, a refractive index layer having a higher refractive index than the other is referred to as a high refractive index layer, and a refractive index layer having a lower refractive index than the other is referred to as a low refractive index layer. In this specification, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” refer to a refractive index layer having a higher refractive index when comparing the refractive index difference between two adjacent layers. It means that the lower refractive index layer is a low refractive index layer. Therefore, the terms “high refractive index layer” and “low refractive index layer” mean that when each refractive index layer constituting the dielectric multilayer film is focused on two adjacent refractive index layers, All forms other than those having the same refractive index are included.
誘電体多層膜は、好ましくは高屈折率層と低屈折率層とを含むが、高屈折率層と低屈折率層とは、以下のように考える。 The dielectric multilayer film preferably includes a high refractive index layer and a low refractive index layer. The high refractive index layer and the low refractive index layer are considered as follows.
例えば、高屈折率層を構成する成分（以下、高屈折率層成分とも称する）と低屈折率層を構成する成分（以下、低屈折率層成分とも称する）とが二つの層の界面で混合され、高屈折率層成分と低屈折率層成分とを含む層（混合層）が形成される場合がある。この場合、混合層において、高屈折率層成分が５０質量％以上である部位の集合を高屈折率層とし、低屈折率層成分が５０質量％を超える部位の集合を低屈折率層とする。 For example, a component constituting a high refractive index layer (hereinafter also referred to as a high refractive index layer component) and a component constituting a low refractive index layer (hereinafter also referred to as a low refractive index layer component) are mixed at the interface between the two layers. In some cases, a layer (mixed layer) including a high refractive index layer component and a low refractive index layer component may be formed. In this case, in the mixed layer, a set of portions where the high refractive index layer component is 50% by mass or more is defined as a high refractive index layer, and a set of portions where the low refractive index layer component exceeds 50% by mass is defined as a low refractive index layer. .
低屈折率層が、たとえば、低屈折率層成分として金属酸化物を、また、高屈折率層が高屈折率層成分として金属酸化物を含有している場合、これらの誘電体多層膜における膜厚方向での金属酸化物濃度プロファイルを測定し、その組成によって、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。誘電体多層膜の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで観測することができる。 When the low refractive index layer contains, for example, a metal oxide as a low refractive index layer component, and the high refractive index layer contains a metal oxide as a high refractive index layer component, the films in these dielectric multilayer films The metal oxide concentration profile in the thickness direction is measured, and can be regarded as a high refractive index layer or a low refractive index layer depending on its composition. The metal oxide concentration profile of the dielectric multilayer film is sputtered at a rate of 0.5 nm / min using the XPS surface analyzer, etching from the surface to the depth direction using the sputtering method, and setting the outermost surface to 0 nm. It can be observed by measuring the atomic composition ratio.
ＸＰＳ表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる機種も使用することができるが、例えば、ＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いることができる。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定することができる。 There is no particular limitation on the XPS surface analyzer, and any model can be used. For example, ESCALAB-200R manufactured by VG Scientific, Inc. can be used. Mg can be used for the X-ray anode, and measurement can be performed at an output of 600 W (acceleration voltage: 15 kV, emission current: 40 mA).
一般に、誘電体多層膜においては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で光学反射率を高くすることができるという観点から好ましい。誘電体多層膜において、隣接する低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．３以上であり、さらに好ましくは０．３５以上であり、特に好ましくは０．４超である。誘電体多層膜において、低屈折率層および高屈折率層を複数有する場合には、全ての高屈折率層および低屈折率層の屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、誘電体多層膜のもっとも外側に配置される層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。高屈折率層の好ましい屈折率は１．５５〜２．５０であり、より好ましくは１．６０〜２．２０である。低屈折率層の好ましい屈折率は１．１０〜１．６０であり、より好ましくは１．３０〜１．５０である。 In general, in a dielectric multilayer film, it is preferable to design a large difference in refractive index between a high refractive index layer and a low refractive index layer from the viewpoint that the optical reflectance can be increased with a small number of layers. In the dielectric multilayer film, the refractive index difference between the adjacent low refractive index layer and high refractive index layer is preferably 0.1 or more, more preferably 0.3 or more, and further preferably 0.35 or more. And particularly preferably more than 0.4. When the dielectric multilayer film has a plurality of low refractive index layers and high refractive index layers, it is preferable that the refractive index difference between all the high refractive index layers and the low refractive index layers is within the above-mentioned preferable range. However, the outermost layer of the dielectric multilayer film may have a configuration outside the above preferred range. The preferable refractive index of the high refractive index layer is 1.55 to 2.50, more preferably 1.60 to 2.20. The preferable refractive index of the low refractive index layer is 1.10 to 1.60, more preferably 1.30 to 1.50.
特定波長領域の反射率は、隣接する２層の屈折率差と積層数とで決まり、屈折率の差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、２００層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、また故障なく製造することも非常に困難になる。反射率の向上と層数を少なくするという観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４程度が限界である。 The reflectance in the specific wavelength region is determined by the difference in refractive index between two adjacent layers and the number of stacked layers. The larger the difference in refractive index, the same reflectance can be obtained with a smaller number of layers. The refractive index difference and the required number of layers can be calculated using commercially available optical design software. For example, in order to obtain an infrared reflectance of 90% or more, if the difference in refractive index is less than 0.1, it is necessary to laminate 200 layers or more, which not only decreases productivity but also scattering at the interface of the layers. Becomes larger, the transparency is lowered, and it becomes very difficult to manufacture without failure. From the standpoint of improving reflectivity and reducing the number of layers, there is no upper limit to the difference in refractive index, but practically about 1.4 is the limit.
誘電体多層膜の積層数の上限としては、上記の観点から、好ましくは１００層以下、より好ましくは５０層以下であり、さらに好ましくは３４層以下である。一方、誘電体多層膜の総層数の下限としては、好ましくは６層以上、より好ましくは８層以上、さらに好ましくは１０層以上である。この範囲であれば、光学反射フィルムのしわやクラックを抑制することができ、さらに、光学反射フィルムを加工する際の裁断性や巻取り性等の施工性がより向上する。 From the above viewpoint, the upper limit of the number of laminated dielectric multilayer films is preferably 100 layers or less, more preferably 50 layers or less, and even more preferably 34 layers or less. On the other hand, the lower limit of the total number of layers of the dielectric multilayer film is preferably 6 layers or more, more preferably 8 layers or more, and even more preferably 10 layers or more. If it is this range, wrinkles and cracks of the optical reflecting film can be suppressed, and further, workability such as cutting property and winding property when processing the optical reflecting film is further improved.
誘電体多層膜の好ましい一実施形態は、少なくとも１層の高屈折率層および少なくとも１層の低屈折率層を積層した構成であるが、たとえば、誘電体多層膜のもっとも外側に配置される層のどちらも高屈折率層または低屈折率層となる積層構造であってもよい。本発明の光学反射フィルムとしては、誘電体多層膜のもっとも外側に配置される層が共に低屈折率層である層構成が好ましい。 A preferred embodiment of the dielectric multilayer film has a configuration in which at least one high-refractive index layer and at least one low-refractive index layer are stacked. For example, the outermost layer of the dielectric multilayer film is disposed. Either of them may have a laminated structure that becomes a high refractive index layer or a low refractive index layer. The optical reflection film of the present invention preferably has a layer structure in which both outermost layers of the dielectric multilayer film are low refractive index layers.
高屈折率層の１層あたりの厚さは、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。一方、低屈折率層の１層あたりの厚さは、２０〜８００ｎｍであることが好ましく、５０〜３５０ｎｍであることがより好ましい。 The thickness per layer of the high refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 350 nm. On the other hand, the thickness per layer of the low refractive index layer is preferably 20 to 800 nm, and more preferably 50 to 350 nm.
本発明に係る誘電体多層膜は、水溶性高分子を含む。水溶性高分子は、これを用いた塗布液を調製する場合、有機溶剤を用いないため、環境負荷が少なく、また、柔軟性が高いため、屈曲時の膜の耐久性が向上するため好ましい。水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、アクリル酸−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸カリウム−アクリルニトリル共重合体、酢酸ビニル−アクリル酸エステル共重合体、もしくはアクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのアクリル系樹脂、スチレン−アクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸共重合体、スチレン−メタクリル酸−アクリル酸エステル共重合体、スチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸共重合体、もしくはスチレン−α−メチルスチレン−アクリル酸−アクリル酸エステル共重合体などのスチレンアクリル酸樹脂、スチレン−スチレンスルホン酸ナトリウム共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート共重合体、スチレン−２−ヒドロキシエチルアクリレート−スチレンスルホン酸カリウム共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ビニルナフタレン−アクリル酸共重合体、ビニルナフタレン−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸エステル共重合体、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、または酢酸ビニル−アクリル酸共重合体などの酢酸ビニル系共重合体などが挙げられる。また、特開２０１３−００７８１７号公報の段落「００３３」〜「００３９」に記載のゼラチン、メチルセルロース等のセルロース類、またはタマリンドシードガム等の増粘多糖類も好適に用いられる。さらに、硝酸ジルコニル、ポリ塩化アルミニウム等の無機ポリマーを用いることができる。 The dielectric multilayer film according to the present invention contains a water-soluble polymer. A water-soluble polymer is preferable because an organic solvent is not used when a coating solution using the same is prepared, so that the environmental load is small and the flexibility is high, so that the durability of the film during bending is improved. Examples of the water-soluble polymer include polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, polyacrylic acid, acrylic acid-acrylonitrile copolymer, potassium acrylate-acrylonitrile copolymer, vinyl acetate-acrylic ester copolymer, or acrylic. Acrylic resin such as acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-acrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid copolymer, styrene-methacrylic acid-acrylic acid ester copolymer, styrene-α-methylstyrene-acrylic Styrene acrylic acid resin such as acid copolymer or styrene-α-methylstyrene-acrylic acid-acrylic ester copolymer, styrene-sodium styrenesulfonate copolymer, styrene-2-hydroxyethyl acrylate copolymer, Styrene-2-hi Droxyethyl acrylate-potassium styrene sulfonate copolymer, styrene-maleic acid copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, vinyl naphthalene-acrylic acid copolymer, vinyl naphthalene-maleic acid copolymer, vinyl acetate -A vinyl acetate copolymer such as a maleic acid ester copolymer, a vinyl acetate-crotonic acid copolymer, or a vinyl acetate-acrylic acid copolymer. Further, gelatins described in paragraphs “0033” to “0039” of JP2013-007817A, celluloses such as methylcellulose, and thickening polysaccharides such as tamarind seed gum are also preferably used. Furthermore, inorganic polymers such as zirconyl nitrate and polyaluminum chloride can be used.
これらの中で、好ましい例としては、製造時のハンドリング、膜の柔軟性等の観点から、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン類およびそれを含有する共重合体、タマリンドシードガム、ポリ塩化アルミニウムが挙げられる。これらの水溶性高分子は、１種単独で用いてもよいし、２種以上併用して用いてもよい。 Among these, preferred examples include polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidones and copolymers containing the same, tamarind seed gum, and polyaluminum chloride from the viewpoint of handling during production, film flexibility, and the like. These water-soluble polymers may be used alone or in combination of two or more.
本発明で用いられるポリビニルアルコールは、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。ポリビニルアルコールとして用いられる市販品の例としては、例えば、ＰＶＡ−１０２、ＰＶＡ−１０３、ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２３５（以上、株式会社クラレ製）、ＪＣ−２５、ＪＣ−３３、ＪＦ−０３、ＪＦ−０４、ＪＦ−０５、ＪＰ−０３、ＪＰ−０４、ＪＰ−０５、ＪＣ−４０、ＪＰ−４５（以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）等が挙げられる。 As the polyvinyl alcohol used in the present invention, a synthetic product or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products used as polyvinyl alcohol include, for example, PVA-102, PVA-103, PVA-105, PVA-110, PVA-117, PVA-120, PVA-124, PVA-203, PVA-205, PVA-210, PVA-217, PVA-220, PVA-224, PVA-235 (above, manufactured by Kuraray Co., Ltd.), JC-25, JC-33, JF-03, JF-04, JF-05, JP- 03, JP-04, JP-05, JC-40, JP-45 (above, manufactured by Nihon Vineyard & Poval Co., Ltd.) and the like.
本発明で好ましく用いられるポリビニルアルコールには、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、変性ポリビニルアルコールも含まれる。変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。 The polyvinyl alcohol preferably used in the present invention includes modified polyvinyl alcohol in addition to ordinary polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing polyvinyl acetate. Examples of the modified polyvinyl alcohol include cation modified polyvinyl alcohol, anion modified polyvinyl alcohol, and nonionic modified polyvinyl alcohol.
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が８００以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が１，０００〜５，０００のものが好ましく用いられる。また、ケン化度は、７０〜１００モル％のものが好ましく、８０〜９９．５モル％のものが特に好ましい。 The polyvinyl alcohol obtained by hydrolyzing vinyl acetate preferably has an average degree of polymerization of 800 or more, and particularly preferably has an average degree of polymerization of 1,000 to 5,000. The degree of saponification is preferably 70 to 100 mol%, particularly preferably 80 to 99.5 mol%.
ここで、重合度とは粘度平均重合度を指し、ＪＩＳ Ｋ６７２６：１９９４に準じて測定され、ＰＶＡを完全に再ケン化し、精製した後、３０℃の水中で測定した極限粘度［η］（ｄｌ／ｇ）から次式により求められるものである。 Here, the degree of polymerization refers to the viscosity average degree of polymerization, which is measured according to JIS K6726: 1994. After the PVA is completely re-saponified and purified, the intrinsic viscosity [η] (dl / G) is obtained by the following equation.
水溶性高分子の重量平均分子量は、１，０００〜２００，０００が好ましく、３，０００〜４０，０００がより好ましい。なお、本明細書において、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、下記に示す測定条件下で測定した値を採用する。 The weight average molecular weight of the water-soluble polymer is preferably 1,000 to 200,000, more preferably 3,000 to 40,000. In addition, in this specification, the value measured on the measurement conditions shown below using a gel permeation chromatography (GPC) is employ | adopted for a weight average molecular weight.
溶媒：０．２Ｍ ＮａＮＯ３、ＮａＨ２ＰＯ４、ｐＨ７
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ Ｃｏｌｕｍｎ Ｏｈｐａｋ ＳＢ−８０２．５ ＨＱ、 ８ｘ ３００ｍｍとＳｈｏｄｅｘ Ｃｏｌｕｍｎ Ｏｈｐａｋ ＳＢ−８０５ ＨＱ、 ８ｘ ３００ｍｍの組み合わせ
カラム温度：４５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩＤ−１０Ａ（株式会社島津製作所製）
ポンプ：ＬＣ−２０ＡＤ（株式会社島津製作所製）
流量：１ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：Ｓｈｏｄｅｘ スタンダード ＧＦＣ（水系 ＧＰＣ）カラム用 Ｓｔａｎｄａｒｄ Ｐ−８２ 標準物質プルランによる校正曲線を使用。
Solvent: 0.2M NaNO 3 , NaH 2 PO 4 , pH 7
Column: Combination of Shodex Column Ohpak SB-802.5 HQ, 8x 300 mm and Shodex Column Ohpak SB-805 HQ, 8x 300 mm Column temperature: 45 ° C
Sample concentration: 0.1% by mass
Detector: RID-10A (manufactured by Shimadzu Corporation)
Pump: LC-20AD (manufactured by Shimadzu Corporation)
Flow rate: 1 ml / min
Calibration curve: Standard curve for Standard P-82 pullulan for Shodex Standard GFC (aqueous GPC) column.
水溶性高分子を硬化させるため、硬化剤を使用してもよい。硬化剤としては、水溶性高分子と硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、水溶性高分子がポリビニルアルコールの場合には、ホウ酸およびその塩が好ましい。その他にも公知の硬化剤を使用することができ、一般的には水溶性高分子と反応し得る基を有する化合物または水溶性高分子が有する異なる基同士の反応を促進するような化合物を使用することが好ましく、水溶性高分子の種類に応じて適宜選択して用いられる。ホウ酸およびその塩以外の硬化剤の具体例としては、たとえば、エポキシ系硬化剤（ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリス−アクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウムミョウバン等が挙げられる。 A curing agent may be used to cure the water-soluble polymer. The curing agent is not particularly limited as long as it causes a curing reaction with the water-soluble polymer. However, when the water-soluble polymer is polyvinyl alcohol, boric acid and its salt are preferable. In addition, a known curing agent can be used, and generally a compound having a group capable of reacting with a water-soluble polymer or a compound that promotes the reaction between different groups of the water-soluble polymer is used. It is preferable to use it as appropriate depending on the type of water-soluble polymer. Specific examples of curing agents other than boric acid and its salts include, for example, epoxy-based curing agents (diglycidyl ethyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-diglycidyl cyclohexane. N, N-diglycidyl-4-glycidyloxyaniline, sorbitol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, etc.), aldehyde-based curing agents (formaldehyde, glycoxal, etc.), active halogen-based curing agents (2,4-dichloro-4- Hydroxy-1,3,5-s-triazine, etc.), active vinyl compounds (1,3,5-tris-acryloyl-hexahydro-s-triazine, bisvinylsulfonylmethyl ether, etc.), aluminum alum and the like.
水溶性高分子がゼラチンの場合には、ビニルスルホン化合物、尿素−ホルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などの硬化剤を使用することが好ましい。 When the water-soluble polymer is gelatin, organic hardeners such as vinyl sulfone compounds, urea-formalin condensates, melanin-formalin condensates, epoxy compounds, aziridine compounds, active olefins, isocyanate compounds, chromium It is preferable to use a curing agent such as inorganic polyvalent metal salts such as aluminum and zirconium.
なお、上記水溶性高分子が共重合体である場合の重合形態は、ブロック共重合体、ランダム共重合体、グラフト共重合体、交互共重合体のいずれであってもよい。 The polymerization form in the case where the water-soluble polymer is a copolymer may be any of a block copolymer, a random copolymer, a graft copolymer, and an alternating copolymer.
水溶性高分子として、ポリビニルアルコールを用いる場合、高屈折率層に含まれるポリビニルアルコールの平均ケン化度と、低屈折率層に含まれるポリビニルアルコールの平均ケン化度とが、異なっていてもよい。 When polyvinyl alcohol is used as the water-soluble polymer, the average saponification degree of polyvinyl alcohol contained in the high refractive index layer and the average saponification degree of polyvinyl alcohol contained in the low refractive index layer may be different. .
各屈折率層中のポリビニルアルコールの平均ケン化度は、屈折率層中の含有質量比を考慮して求められる。すなわち、平均ケン化度＝Σ（各ポリビニルアルコールのケン化度（ｍｏｌ％）×各ポリビニルアルコールの各屈折率層中の含有質量（％）／１００質量（％））となる。たとえば、屈折率層がポリビニルアルコールＡ（屈折率層中の含有質量比（各ポリビニルアルコールの各屈折率層中の含有質量（％）／１００質量（％））：Ｗａ、ケン化度：Ｓａ（ｍｏｌ％））、ポリビニルアルコールＢ（屈折率層中の含有質量比：Ｗｂ、ケン化度：Ｓｂ（ｍｏｌ％））、ポリビニルアルコールＣ（屈折率層中の含有質量比：Ｗｃ、ケン化度：Ｓｃ（ｍｏｌ％））を含む場合、平均ケン化度＝（Ｗａ×Ｓａ＋Ｗｂ×Ｓｂ＋Ｗｃ×Ｓｃ）／（Ｗａ＋Ｗｂ＋Ｗｃ）となる。 The average saponification degree of polyvinyl alcohol in each refractive index layer is determined in consideration of the content ratio in the refractive index layer. That is, the average degree of saponification = Σ (degree of saponification of each polyvinyl alcohol (mol%) × content of each polyvinyl alcohol in each refractive index layer (%) / 100 mass (%)). For example, the refractive index layer is polyvinyl alcohol A (mass ratio in the refractive index layer (content mass (%) of each polyvinyl alcohol in each refractive index layer / 100 mass (%)): Wa, saponification degree: Sa ( mol%)), polyvinyl alcohol B (mass ratio in the refractive index layer: Wb, saponification degree: Sb (mol%)), polyvinyl alcohol C (mass ratio in the refractive index layer: Wc, saponification degree: When Sc (mol%) is included, the average degree of saponification = (Wa × Sa + Wb × Sb + Wc × Sc) / (Wa + Wb + Wc).
高屈折率層および低屈折率層中の水溶性高分子の含有量は、特に限定されるものではないが、各屈折率層の全質量（固形分）に対し、好ましくは１〜５０質量％であり、より好ましくは５〜３０質量％である。 The content of the water-soluble polymer in the high refractive index layer and the low refractive index layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 50% by mass with respect to the total mass (solid content) of each refractive index layer. More preferably, it is 5-30 mass%.
低屈折率層には、屈折率差を調整するために、含フッ素ポリマーを用いてもよい。含フッ素ポリマーとしては、フッ素含有不飽和エチレン性単量体成分を主として含有する重合物を挙げることが出来る。 In order to adjust the refractive index difference, a fluorine-containing polymer may be used for the low refractive index layer. Examples of the fluorine-containing polymer include a polymer mainly containing a fluorine-containing unsaturated ethylenic monomer component.
フッ素含有不飽和エチレン性単量体としては、含フッ素アルケン、含フッ素アクリル酸エステル、含フッ素メタクリル酸エステル、含フッ素ビニルエステル、含フッ素ビニルエーテル等を挙げることができ、例えば、特開２０１３−０５７９６９号公報の段落「０１８１」に記載のフッ素含有不飽和エチレン性単量体を挙げることができる。フッ素含有単量体と共重合し得る単量体としては、例えば、特開２０１３−０５７９６９号公報の段落「０１８２」に記載の単量体を挙げることができる。 Examples of the fluorine-containing unsaturated ethylenic monomer include a fluorine-containing alkene, a fluorine-containing acrylic ester, a fluorine-containing methacrylate, a fluorine-containing vinyl ester, a fluorine-containing vinyl ether, and the like. And fluorine-containing unsaturated ethylenic monomers described in paragraph “0181” of Japanese Patent Publication. Examples of the monomer that can be copolymerized with the fluorine-containing monomer include monomers described in paragraph “0182” of JP2013-057969A.
（金属酸化物粒子）
本発明に係る高屈折率層および低屈折率層は、金属酸化物粒子をさらに含むことが好ましい。
(Metal oxide particles)
It is preferable that the high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention further include metal oxide particles.
高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズなどの１種または２種以上が挙げられる。 Examples of the metal oxide particles contained in the high refractive index layer include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, alumina, colloidal alumina, lead titanate, red lead, yellow lead, zinc yellow, chromium oxide, and ferric oxide. , Iron black, copper oxide, magnesium oxide, magnesium hydroxide, strontium titanate, yttrium oxide, niobium oxide, europium oxide, lanthanum oxide, zircon, tin oxide and the like.
本形態では、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層は、酸化チタン、酸化ジルコニウム等の高屈折率金属酸化物粒子、すなわち、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子を含有することが好ましく、酸化ジルコニウム粒子を含むことが特に好ましい。酸化ジルコニウム粒子は光触媒活性が低いことから、酸化ジルコニウム粒子を含む高屈折率層や隣接する低屈折率層の耐光性、耐候性等が向上する。なお、本発明において、酸化チタンとは二酸化チタン（ＴｉＯ２）を意味し、酸化ジルコニウムとは二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）を意味する。以下、酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子について説明する。 In this embodiment, in order to form a transparent and higher refractive index layer having a higher refractive index, the high refractive index layer is made of high refractive index metal oxide particles such as titanium oxide and zirconium oxide, that is, titanium oxide particles and zirconium oxide. It is preferable to contain particles, and it is particularly preferable to include zirconium oxide particles. Since the zirconium oxide particles have low photocatalytic activity, the light resistance, weather resistance, etc. of the high refractive index layer containing the zirconium oxide particles and the adjacent low refractive index layer are improved. In the present invention, titanium oxide means titanium dioxide (TiO 2 ), and zirconium oxide means zirconium dioxide (ZrO 2 ). Hereinafter, titanium oxide particles and zirconium oxide particles will be described.
≪酸化チタン粒子≫
本発明に係る酸化チタン粒子としては、水系の酸化チタンゾルの表面を変性して分散状態を安定にしたものを用いることが好ましい。
≪Titanium oxide particles≫
As the titanium oxide particles according to the present invention, it is preferable to use particles in which the surface of an aqueous titanium oxide sol is modified to stabilize the dispersion state.
水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができ、例えば、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報等に記載された事項を参照することができる。 As a method for preparing the aqueous titanium oxide sol, any conventionally known method can be used. For example, JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, Refer to the matters described in Kaihei 11-43327, JP-A-63-17221, JP-A-7-819, JP-A-9-165218, JP-A-11-43327, etc. it can.
また、酸化チタン粒子のその他の製造方法については、例えば、「酸化チタン−物性と応用技術」清野学 ｐ２５５〜２５８（２０００年）技報堂出版株式会社、または国際公開第２００７／０３９９５３号の段落番号「００１１」〜「００２３」に記載の工程（２）の方法を参考にすることができる。 As for other methods for producing titanium oxide particles, for example, “Titanium oxide—physical properties and applied technology”, Kiyono Manabu, p. 255-258 (2000), Gihodo Publishing Co., Ltd., or paragraph number of International Publication No. 2007/039953. The method of the step (2) described in “0011” to “0023” can be referred to.
さらに、酸化チタン粒子を含めた金属酸化物粒子のその他の製造方法としては、特開２０００−０５３４２１号公報、特開２０００−０６３１１９号公報等に記載された事項を参照にすることができる。 Furthermore, as other methods for producing metal oxide particles including titanium oxide particles, the matters described in JP 2000-053421 A, JP 2000-063119 A, and the like can be referred to.
さらに、酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆してもよい。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、金属酸化物粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。 Further, the titanium oxide particles may be coated with a silicon-containing hydrated oxide. Here, the “coating” means a state in which a silicon-containing hydrated oxide is attached to at least a part of the surface of the titanium oxide particles. That is, the surface of the titanium oxide particles used as the metal oxide particles may be completely covered with a silicon-containing hydrated oxide, and a part of the surface of the titanium oxide particles is a silicon-containing hydrated oxide. It may be coated. From the viewpoint that the refractive index of the coated titanium oxide particles is controlled by the coating amount of the silicon-containing hydrated oxide, it is preferable that a part of the surface of the titanium oxide particles is coated with the silicon-containing hydrated oxide. .
含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子の酸化チタンはルチル型であってもアナターゼ型であってもよい。含ケイ素の水和酸化物で被覆された酸化チタン粒子は、含ケイ素の水和酸化物で被覆されたルチル型の酸化チタン粒子がより好ましい。これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるという理由からである。 The titanium oxide of the titanium oxide particles coated with the silicon-containing hydrated oxide may be a rutile type or an anatase type. The titanium oxide particles coated with a silicon-containing hydrated oxide are more preferably rutile-type titanium oxide particles coated with a silicon-containing hydrated oxide. This is because the rutile type titanium oxide particles have lower photocatalytic activity than the anatase type titanium oxide particles, and therefore the weather resistance of the high refractive index layer and the adjacent low refractive index layer is increased, and the refractive index is further increased. Because.
本明細書における「含ケイ素の水和酸化物」とは、無機ケイ素化合物の水和物、有機ケイ素化合物の加水分解物および／または縮合物のいずれでもよいが、本発明の効果を得るためにはシラノール基を有することがより好ましい。 The “silicon-containing hydrated oxide” in the present specification may be any of a hydrate of an inorganic silicon compound, a hydrolyzate and / or a condensate of an organosilicon compound, and in order to obtain the effects of the present invention. More preferably has a silanol group.
含ケイ素の水和酸化物の被覆量は、好ましくは３〜３０質量％、より好ましくは３〜１０質量％、さらに好ましくは３〜８質量％である。被覆量が３０質量％以下であると、高屈折率層の所望の屈折率が得られ、被覆量が３質量％以上であると粒子を安定に形成することができるからである。 The coating amount of the silicon-containing hydrated oxide is preferably 3 to 30% by mass, more preferably 3 to 10% by mass, and still more preferably 3 to 8% by mass. This is because when the coating amount is 30% by mass or less, a desired refractive index of the high refractive index layer can be obtained, and when the coating amount is 3% by mass or more, particles can be stably formed.
酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された事項を参照することができる。 As a method of coating the titanium oxide particles with a silicon-containing hydrated oxide, it can be produced by a conventionally known method. For example, JP-A-10-158015, JP-A-2000-204301, JP-A-2007 Reference can be made to the matters described in JP-A-246351.
また、高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子としては、公知の方法で製造されたコアシェル粒子を用いることもできる。例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−０５３４２１号公報、特開２０００−０６３１１９号公報、特開２０００−２０４３０１号公報に記載の方法により製造されるコアシェル粒子が挙げられる。 In addition, as the metal oxide particles contained in the high refractive index layer, core-shell particles produced by a known method can be used. For example, the core-shell particle manufactured by the method as described in Unexamined-Japanese-Patent No. 10-158015, Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-053421, Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-063119, and Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-204301 is mentioned.
上記コアシェル粒子は、コアである酸化チタン粒子の表面全体を含ケイ素の水和酸化物で被覆したものでもよく、また、コアである酸化チタン粒子の表面の一部を含ケイ素の水和酸化物で被覆したものでもよい。 The core-shell particles may be those in which the entire surface of the titanium oxide particles as a core is coated with a silicon-containing hydrated oxide, and a part of the surface of the titanium oxide particles as a core is covered with a silicon-containing hydrated oxide. It may be coated with.
≪酸化ジルコニウム粒子≫
酸化ジルコニウム粒子は、立方晶でも正方晶であってもよく、これらの混合物であってもよい。さらに、酸化ジルコニウム粒子としては、水系の酸化ジルコニウムゾルの表面を変性して有機溶剤等に分散可能な状態にしたものを用いてもよい。
≪Zirconium oxide particles≫
The zirconium oxide particles may be cubic or tetragonal, or a mixture thereof. Further, as the zirconium oxide particles, particles obtained by modifying the surface of an aqueous zirconium oxide sol so as to be dispersible in an organic solvent or the like may be used.
酸化ジルコニウム粒子またはその分散液の調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができる。例えば、特開２０１４−８０３６１号公報に記載されるように、ジルコニウム塩を水中にてアルカリと反応させて、酸化ジルコニウム粒子のスラリーを調製し、有機酸を加えて水熱処理する方法が用いられうる。 As a method for preparing zirconium oxide particles or a dispersion thereof, any conventionally known method can be used. For example, as described in JP-A-2014-80361, a method can be used in which a zirconium salt is reacted with an alkali in water to prepare a slurry of zirconium oxide particles, and an organic acid is added and hydrothermally treated. .
酸化ジルコニウム粒子は、市販のものを使用してもよく、例えば、ＳＺＲ−Ｗ、ＳＺＲ−ＣＷ、ＳＺＲ−Ｍ、およびＳＺＲ−Ｋ等（以上、堺化学工業株式会社製）を好適に使用することができる。 Commercially available zirconium oxide particles may be used. For example, SZR-W, SZR-CW, SZR-M, SZR-K, etc. (above, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) are preferably used. Can do.
高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子は、ピコリン酸などのアミノカルボン酸類、アミノポリカルボン酸、ピリジン誘導体およびコラーゲンペプチド、低分子ゼラチン等の表面被覆成分により表面コーティングされていてもよい。金属酸化物粒子の表面を表面被覆成分によりコーティングすると、水溶性高分子との相溶性や分散性が向上すると考えられる。 The metal oxide particles contained in the high refractive index layer may be surface-coated with a surface coating component such as aminocarboxylic acids such as picolinic acid, aminopolycarboxylic acids, pyridine derivatives and collagen peptides, and low molecular gelatin. It is considered that when the surface of the metal oxide particles is coated with a surface coating component, the compatibility and dispersibility with the water-soluble polymer are improved.
高屈折率層に含まれる金属酸化物粒子の一次平均粒径は３０ｎｍ以下であることが好ましく、１〜３０ｎｍであることがより好ましく、３〜１５ｎｍであることがさらに好ましい。一次平均粒径が３０ｎｍ以下であれば、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。 The primary average particle diameter of the metal oxide particles contained in the high refractive index layer is preferably 30 nm or less, more preferably 1 to 30 nm, and further preferably 3 to 15 nm. If the primary average particle diameter is 30 nm or less, it is preferable from the viewpoint of low haze and excellent visible light transmittance.
高屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、１５〜９０質量％であることが好ましく、２０〜８５質量％であることがより好ましく、３０〜８５質量％であることが反射性向上の観点から、さらに好ましい。 As content of the metal oxide particle in a high refractive index layer, it is preferable that it is 15-90 mass% with respect to 100 mass% of solid content of a high refractive index layer, and it is more preferable that it is 20-85 mass%. Preferably, it is 30-85 mass% from a viewpoint of a reflective improvement.
低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子としては、シリカ（二酸化ケイ素）を用いることが好ましく、具体的な例として合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、酸性のコロイダルシリカゾルを用いることがより好ましく、有機溶媒に分散させたコロイダルシリカを用いることが特に好ましい。また、屈折率をより低減させるために、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子として、粒子の内部に空孔を有する中空微粒子を用いてもよく、特にシリカ（二酸化ケイ素）の中空微粒子が好ましい。また、シリカ以外の公知の金属酸化物粒子も使用することができる。 As the metal oxide particles contained in the low refractive index layer, silica (silicon dioxide) is preferably used, and specific examples include synthetic amorphous silica and colloidal silica. Among these, it is more preferable to use acidic colloidal silica sol, and it is particularly preferable to use colloidal silica dispersed in an organic solvent. In order to further reduce the refractive index, hollow fine particles having pores inside the particles may be used as the metal oxide particles contained in the low refractive index layer. In particular, hollow fine particles of silica (silicon dioxide) are used. preferable. Moreover, well-known metal oxide particles other than a silica can also be used.
低屈折率層に用いられる金属酸化物粒子（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであることがより好ましく、３〜４０ｎｍであることがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであることがさらに好ましく、４〜１０ｎｍであることが特に好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。 The metal oxide particles (preferably silicon dioxide) used for the low refractive index layer preferably have an average particle size of 3 to 100 nm. The average particle diameter of primary particles of silicon dioxide dispersed in a primary particle state (particle diameter in a dispersion state before coating) is more preferably 3 to 50 nm, and further preferably 3 to 40 nm. 3 to 20 nm is more preferable, and 4 to 10 nm is particularly preferable. Moreover, as an average particle diameter of secondary particle | grains, it is preferable from a viewpoint with few hazes and excellent visible light transmittance | permeability that it is 30 nm or less.
金属酸化物粒子の粒径は、体積平均粒径によって求めることもできる。 The particle size of the metal oxide particles can also be obtained from the volume average particle size.
本発明で用いられるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、例えば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号などに記載されているものである。 The colloidal silica used in the present invention is obtained by heating and aging a silica sol obtained by metathesis with an acid of sodium silicate or the like and passing through an ion exchange resin layer. For example, JP-A-57-14091, JP-A-60-219083, JP-A-60-219084, JP-A-61-20792, JP-A-61-188183, JP-A-63-17807, JP-A-4-93284 No. 5, JP-A-5-278324, JP-A-6-92011, JP-A-6-183134, JP-A-6-297830, JP-A-7-81214, JP-A-7-101142. Disclosed in JP-A-7-179029, JP-A-7-137431, and International Publication No. 94/26530. It is.
このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業株式会社から販売されているスノーテックス（登録商標）シリーズ（スノーテックス（登録商標）ＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。 Such colloidal silica may be a synthetic product or a commercially available product. As a commercially available product, Snowtex (registered trademark) series sold by Nissan Chemical Industries, Ltd. (Snowtex (registered trademark) OS, OXS, S, OS, 20, 30, 40, O, N, C, etc.) Is mentioned.
コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。 The surface of the colloidal silica may be cation-modified, or may be treated with Al, Ca, Mg, Ba or the like.
また、低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子として、中空粒子を用いることもできる。中空微粒子を用いる場合には、平均粒子空孔径が、３〜７０ｎｍであることが好ましく、５〜５０ｎｍがより好ましく、５〜４５ｎｍがさらに好ましい。なお、中空粒子の平均粒子空孔径とは、中空粒子の内径の平均値である。中空粒子の平均粒子空孔径は、上記範囲であれば、十分に低屈折率層の屈折率が低屈折率化される。平均粒子空孔径は、電子顕微鏡観察で、円形、楕円形または実質的に円形は楕円形として観察できる空孔径を、ランダムに５０個以上観察し、各粒子の空孔径を求め、その数平均値を求めることにより得られる。なお、平均粒子空孔径は、円形、楕円形または実質的に円形もしくは楕円形として観察できる空孔径の外縁を、２本の平行線で挟んだ距離のうち、最小の距離を意味する。 Moreover, hollow particles can also be used as the metal oxide particles contained in the low refractive index layer. When hollow fine particles are used, the average particle pore size is preferably 3 to 70 nm, more preferably 5 to 50 nm, and even more preferably 5 to 45 nm. The average particle pore diameter of the hollow particles is the average value of the inner diameters of the hollow particles. If the average particle hole diameter of the hollow particles is within the above range, the refractive index of the low refractive index layer is sufficiently lowered. The average particle diameter is 50 or more at random, which can be observed as an ellipse in a circular, elliptical or substantially circular shape by electron microscope observation, and obtains the pore diameter of each particle. Is obtained. The average particle hole diameter means the minimum distance among the distances between the two parallel lines that surround the outer edge of the hole diameter that can be observed as a circle, an ellipse, or a substantially circle or ellipse.
低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量は、低屈折率層の固形分１００質量％に対して、２０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８５質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることがさらに好ましい。２０質量％以上であると、所望の屈折率が得られ、９０質量％以下であると塗布性が良好となり好ましい。 The content of the metal oxide particles in the low refractive index layer is preferably 20 to 90% by mass, and more preferably 30 to 85% by mass with respect to 100% by mass of the solid content of the low refractive index layer. More preferably, it is 40-70 mass%. If it is 20% by mass or more, a desired refractive index can be obtained, and if it is 90% by mass or less, the coatability is good, which is preferable.
〔高分子分散剤〕
高屈折率層および低屈折率層は、塗布液の分散安定性の観点から高分子分散剤を含有してもよい。高分子分散剤とは、重量平均分子量が１０，０００以上の高分子の分散剤を指す。好適には、側鎖または末端に水酸基が置換された高分子であり、例えばポリアクリル酸ソーダ、ポリアクリルアミドのようなアクリル系の高分子で２−エチルヘキシルアクリレートが共重合されたもの、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールのようなポリエーテル、ポリビニルアルコールなどが挙げられる。高分子分散剤は市販品を用いてもよく、かような高分子分散剤としては、マリアリム（登録商標）ＡＫＭ−０５３１（日油株式会社製）などが挙げられる。高分子分散剤の含有量は、屈折率層に対して固形分換算で０．１〜１０質量％であることが好ましい。
(Polymer dispersant)
The high refractive index layer and the low refractive index layer may contain a polymer dispersant from the viewpoint of dispersion stability of the coating liquid. The polymer dispersant refers to a polymer dispersant having a weight average molecular weight of 10,000 or more. Preferred is a polymer having a hydroxyl group substituted at the side chain or terminal, for example, an acrylic polymer such as poly (sodium acrylate) or polyacrylamide and 2-ethylhexyl acrylate copolymerized, polyethylene glycol or the like. Examples include polyethers such as polypropylene glycol, polyvinyl alcohol, and the like. A commercially available polymer dispersant may be used, and examples of such a polymer dispersant include Marialim (registered trademark) AKM-0531 (manufactured by NOF Corporation). The content of the polymer dispersant is preferably 0.1 to 10% by mass in terms of solid content with respect to the refractive index layer.
〔エマルジョン樹脂〕
高屈折率層および低屈折率層は、エマルジョン樹脂をさらに含有していてもよい。エマルジョン樹脂を含むことにより、膜の柔軟性がより高くなりガラスへの貼りつけ等の加工性がよくなる。
[Emulsion resin]
The high refractive index layer and the low refractive index layer may further contain an emulsion resin. By including the emulsion resin, the flexibility of the film becomes higher and the workability such as sticking to glass is improved.
具体的には、エマルジョン樹脂としては、特開２０１３−１４８８４９号公報の段落「０１２１」〜「０１２４」に記載の材料を用いることができる。 Specifically, as the emulsion resin, materials described in paragraphs “0121” to “0124” of JP2013-148849A can be used.
〔屈折率層のその他の添加剤〕
本発明に係る高屈折率層および低屈折率層は、必要に応じて各種の添加剤を含有させることが出来る。例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、同５７−８７９８８号公報、および同６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号公報、同５７−８７９８９号公報、同６０−７２７８５号公報、同６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報および同３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭５９−４２９９３号公報、同５９−５２６８９号公報、同６２−２８００６９号公報、同６１−２４２８７１号公報および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。
[Other additives for refractive index layer]
The high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention can contain various additives as necessary. For example, ultraviolet absorbers described in JP-A-57-74193, JP-A-57-87988, and JP-A-62-261476, JP-A-57-74192, JP-A-57-87989, JP-A-60. -72785, 61-146591, JP-A-1-95091 and JP-A-3-13376, various surfactants of anion, cation or nonion, 59-42993, 59-52689, 62-280069, 61-242871, and JP-A-4-219266, etc., and optical brighteners, sulfuric acid, phosphoric acid, PH adjusters such as acetic acid, citric acid, sodium hydroxide, potassium hydroxide and potassium carbonate, antifoaming agents, lubricants such as diethylene glycol Preservatives, anti-static agents may also contain various known additives such as a matting agent.
＜界面活性剤＞
本発明に係る高屈折率層および低屈折率層は、塗布性の観点から界面活性剤を含有することが好ましい。
<Surfactant>
The high refractive index layer and the low refractive index layer according to the present invention preferably contain a surfactant from the viewpoint of coatability.
塗布時の表面張力調整のため用いられる界面活性剤としてアニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができる。 An anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, an amphoteric surfactant, and the like can be used as the surfactant used for adjusting the surface tension during coating.
本発明に好ましく用いられるカチオン性界面活性剤としては、四級アンモニウム塩系界面活性剤が挙げられる。 Examples of the cationic surfactant preferably used in the present invention include quaternary ammonium salt surfactants.
本発明に好ましく用いられる両性界面活性剤としては、アミドスルホベタイン型、カルボキシベタイン型、スルホベタイン型、イミダゾリウム型などがある。本発明ではスルホベタイン型、カルボキシベタイン型が塗布ムラの観点から好ましく、製品としてはソフタゾリン（登録商標、以下同じ）ＬＳＢ−Ｒ、ＬＳＢ、ＬＭＥＢ−Ｒ（以上、川研ファインケミカル株式会社製）、アンヒトール（登録商標）２０ＨＤ（花王株式会社製）等が好ましく挙げられる。界面活性剤は、１種単独で用いてもよいし２種以上を混合して用いてもよい。 Amphoteric surfactants preferably used in the present invention include amide sulfobetaine type, carboxybetaine type, sulfobetaine type and imidazolium type. In the present invention, sulfobetaine type and carboxybetaine type are preferable from the viewpoint of coating unevenness, and as the product, softazolin (registered trademark, the same shall apply hereinafter) LSB-R, LSB, LMEB-R (above, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), Amphital (Registered trademark) 20HD (manufactured by Kao Corporation) and the like are preferred. Surfactant may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for it.
各屈折率層が界面活性剤を含む場合、屈折率層１層あたりの界面活性剤の含有量は、屈折率層の全固形分に対して、０．００１〜１質量％であることが好ましく、０．００５〜０．８０質量％であることがより好ましい。 When each refractive index layer contains a surfactant, the content of the surfactant per refractive index layer is preferably 0.001 to 1% by mass with respect to the total solid content of the refractive index layer. 0.005 to 0.80 mass% is more preferable.
本発明の光学反射フィルムは、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、粘着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、本発明の高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）などの機能層の１種以上を有していてもよい。以下、好ましい機能層である粘着層およびハードコート層について説明する。 The optical reflective film of the present invention has a conductive layer, an antistatic layer, a gas barrier layer, an easy adhesion layer (adhesive layer), an adhesive layer, an antifouling layer, a deodorizing layer, a droplet layer, for the purpose of adding further functions. Easy slip layer, hard coat layer, abrasion resistant layer, antireflection layer, electromagnetic wave shielding layer, ultraviolet absorption layer, infrared absorption layer, printing layer, fluorescent light emitting layer, hologram layer, release layer, high refractive index layer of the present invention And you may have 1 or more types of functional layers, such as infrared cut layers (metal layer, liquid crystal layer) other than a low refractive index layer, and a colored layer (visible light absorption layer). Hereinafter, the pressure-sensitive adhesive layer and the hard coat layer which are preferable functional layers will be described.
≪粘着層≫
粘着層を構成する粘着剤は、特に制限されず、たとえば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルアセタール系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などの１種または２種以上が例示できる。より詳細には、特開２０１３−００７８１５号公報の段落「０１９５」〜「０１９８」に記載の材料、厚み等を適宜採用することができる。
≪Adhesive layer≫
The pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer is not particularly limited. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, a silicone pressure-sensitive adhesive, a urethane pressure-sensitive adhesive, a polyvinyl acetal pressure-sensitive adhesive, a polyvinyl butyral pressure-sensitive adhesive, an ethylene-vinyl acetate pressure-sensitive adhesive 1 type or 2 types or more can be illustrated. More specifically, materials, thicknesses, and the like described in paragraphs “0195” to “0198” of JP2013-007815A can be appropriately employed.
≪ハードコート層≫
本発明の一形態において、「ハードコート層」とは、ＪＩＳ Ｋ ５６００−５−４に準じた鉛筆硬度がＨ以上の層であり、好ましくは２Ｈ以上の層である。ハードコート層の硬さは、折り曲げ等の外部応力がかかった際に層の破壊や剥がれなどが発生しない範囲で硬い方が耐傷性の点で好ましい。
≪Hard coat layer≫
In one embodiment of the present invention, the “hard coat layer” is a layer having a pencil hardness of H or more according to JIS K 5600-5-4, preferably a layer of 2H or more. The hardness of the hard coat layer is preferably in terms of scratch resistance as long as the layer is not damaged or peeled off when an external stress such as bending is applied.
本発明の一形態に係るハードコート層は、（ａ）セシウム含有複合タングステン酸化物（以下、単にＣＷＯとも称する）、（ｂ）４官能以下の多官能（メタ）アクリレートを含む紫外線硬化型成分、および（ｃ）光重合開始剤、を含むハードコート層用塗布液を基材上に塗布後、紫外線を照射して塗膜を硬化させることによって形成されてなる。 A hard coat layer according to an embodiment of the present invention includes (a) a cesium-containing composite tungsten oxide (hereinafter also simply referred to as CWO), (b) an ultraviolet curable component containing a tetrafunctional or lower polyfunctional (meth) acrylate, And (c) a coating solution for hard coat layer containing a photopolymerization initiator is applied on a substrate and then irradiated with ultraviolet rays to cure the coating film.
ここで、（ａ）セシウム含有複合タングステン酸化物は、赤外線吸収性を有する熱線遮蔽性金属酸化物の１種であることから、形成されるハードコート層は、熱線（赤外線）の透過を遮蔽する遮熱機能を有する。 Here, since the (a) cesium-containing composite tungsten oxide is one type of heat ray shielding metal oxide having infrared absorptivity, the formed hard coat layer shields transmission of heat rays (infrared rays). Has a heat shielding function.
ハードコート層の厚さは、特に制限されないが、好ましくは１〜２０μｍであり、より好ましくは１．５〜１５μｍである。厚さを１μｍ以上とすることによって、ハードコート層の硬度を維持することができる。一方、厚さを２０μｍ以下とすることにより、応力によるハードコート層の割れを防ぐことができる。また、かような範囲であると、光学反射フィルムにおいて、テープ剥離試験前後のフィルムの可視光線透過率の変化をより小さくすることができるため、好ましい。 The thickness of the hard coat layer is not particularly limited, but is preferably 1 to 20 μm, more preferably 1.5 to 15 μm. By setting the thickness to 1 μm or more, the hardness of the hard coat layer can be maintained. On the other hand, by setting the thickness to 20 μm or less, cracking of the hard coat layer due to stress can be prevented. Moreover, when it is such a range, since the change of the visible light transmittance | permeability of the film before and behind a tape peeling test can be made smaller in an optical reflection film, it is preferable.
（ａ）セシウム含有複合タングステン酸化物
セシウム含有複合タングステン酸化物の組成は、特に制限されないが、安全性の観点から、一般式：ＣｓｘＷｙＯｚで表される酸化物であることが好ましく、たとえば、特開２０１３−６４０４２号公報や特開２０１０−２１５４５１号公報に記載されるものと同様のものを使用することができる。ｘ、ｙおよびｚは、一般的にタングステンとＣｓとの組成（タングステンに対するＣｓの組成、ｘ／ｙ）が、０．００１以上１以下（０．００１≦ｘ／ｙ≦１）を満たし、タングステンと酸素との組成（タングステンに対する酸素の組成、ｚ／ｙ）が、２．０以上３．５以下（２．０≦ｚ／ｙ≦３．５）を満たすものを用いることが好ましい。
(A) Cesium-containing composite tungsten oxide The composition of the cesium-containing composite tungsten oxide is not particularly limited, but is preferably an oxide represented by the general formula: Cs x W y O z from the viewpoint of safety. For example, the thing similar to what is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2013-64042 and Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-215451 can be used. x, y, and z generally have a composition of tungsten and Cs (composition of Cs to tungsten, x / y) satisfying 0.001 or more and 1 or less (0.001 ≦ x / y ≦ 1). It is preferable to use a material in which the composition of oxygen and oxygen (composition of oxygen with respect to tungsten, z / y) satisfies 2.0 or more and 3.5 or less (2.0 ≦ z / y ≦ 3.5).
セシウム含有複合タングステン酸化物の形状は、特に制限されず、粒子状、球状、棒状、針状、板状、柱状、不定形状、燐片状、紡錘状など任意の構造をとりうるが、好ましくは粒子状である。また、セシウム含有複合タングステン酸化物等の大きさも特に制限されない。 The shape of the cesium-containing composite tungsten oxide is not particularly limited, and may take any structure such as a particulate shape, a spherical shape, a rod shape, a needle shape, a plate shape, a columnar shape, an indefinite shape, a flake shape, and a spindle shape, preferably It is particulate. Further, the size of the cesium-containing composite tungsten oxide or the like is not particularly limited.
本発明の一形態において用いることができるセシウム含有複合タングステン酸化物としては、特に制限されないが、たとえば、Ｃｓ０．３３ＷＯ３等が挙げられる。市販品を用いてもよく、たとえば、ＣＷＯ分散液（ＹＭＦ−０２Ａ、住友金属鉱山株式会社製）等が挙げられる。 The cesium-containing composite tungsten oxide that can be used in one embodiment of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include Cs 0.33 WO 3 and the like. A commercial item may be used, for example, CWO dispersion liquid (YMF-02A, Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. product) etc. are mentioned.
ハードコート層中のセシウム含有複合タングステン酸化物の含有量は、特に制限されないが、ハードコート層に含まれる、セシウム含有複合タングステン酸化物以外の成分の質量（ハードコート層の質量からセシウム含有複合タングステン酸化物の質量を除いた質量）に対するセシウム含有複合タングステン酸化物の質量の比が０．０５〜１．０であることが好ましい。 The content of the cesium-containing composite tungsten oxide in the hard coat layer is not particularly limited, but the mass of components other than the cesium-containing composite tungsten oxide contained in the hard coat layer (from the mass of the hard coat layer to the cesium-containing composite tungsten oxide) The ratio of the mass of the cesium-containing composite tungsten oxide to the mass excluding the mass of the oxide is preferably 0.05 to 1.0.
ハードコート層用塗布液中におけるセシウム含有複合タングステン酸化物の含有量は、特に制限されないが、ハードコート層用塗布液の溶媒を除いた成分の総質量に対して、１〜６０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、８〜３０質量％であることがさらに好ましい。 The content of the cesium-containing composite tungsten oxide in the hard coat layer coating solution is not particularly limited, but is preferably 1 to 60% by mass with respect to the total mass of the components excluding the solvent of the hard coat layer coating solution. 5 to 40% by mass is more preferable, and 8 to 30% by mass is even more preferable.
（ｂ）４官能以下の多官能（メタ）アクリレートを含む、紫外線硬化型成分
本明細書において、紫外線硬化型成分とは、紫外線により架橋反応等を経て硬化する化合物を表す。なお、本明細書では、紫外線硬化型成分との用語は、単量体のみならず、紫外線照射により硬化可能なオリゴマーやプレポリマ−をも含みうる概念である。
(B) Ultraviolet curable component containing polyfunctional (meth) acrylate having 4 or less functional groups In the present specification, the ultraviolet curable component represents a compound that is cured by a crosslinking reaction or the like by ultraviolet rays. In the present specification, the term “ultraviolet curable component” is a concept that may include not only monomers but also oligomers and prepolymers that can be cured by ultraviolet irradiation.
かような４官能以下の多官能（メタ）アクリレートは、２官能、３官能および４官能の（メタ）アクリレート系化合物が挙げられる。 Examples of such tetrafunctional or lower polyfunctional (meth) acrylates include bifunctional, trifunctional and tetrafunctional (meth) acrylate compounds.
２官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限されないが、たとえば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 The bifunctional (meth) acrylate is not particularly limited. For example, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1, 9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,10-decanediol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (Meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, polytetramethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol adipate di (meth) acrylate, hydroxypivalate neopentyl glycol di (meth) acrylate, dicyclopentanyl di (meth) acrylate, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, caprolactone modified dicyclopentenyl Examples include di (meth) acrylate, ethylene oxide-modified phosphoric acid di (meth) acrylate, isocyanurate di (meth) acrylate, and allylated cyclohexyl di (meth) acrylate.
３官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限されないが、たとえば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。 Although it does not restrict | limit especially as trifunctional (meth) acrylate, For example, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, propionic acid modified dipentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri ( And (meth) acrylate, propylene oxide-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, and the like.
４官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限されないが、たとえば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等が挙げられるが、これらに限定されない。 Although it does not restrict | limit especially as tetrafunctional (meth) acrylate, For example, although pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ditrimethylol propane tetra (meth) acrylate, etc. are mentioned, it is not limited to these.
また、たとえば東亞合成株式会社製のアロニックス（登録商標）Ｍ−３０５、Ｍ−３１３等の市販品も適宜用いられる。 For example, commercially available products such as Aronix (registered trademark) M-305 and M-313 manufactured by Toagosei Co., Ltd. are also used as appropriate.
また、４官能以下の多官能（メタ）アクリレートとしては、光学反射フィルムのカールおよびハードコート層の剥離および破壊に起因する外観故障を抑制するという観点から、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、シリコン（メタ）アクリレートのいずれかを用いることが好ましい。 In addition, as the polyfunctional (meth) acrylate having 4 or less functional groups, urethane (meth) acrylate and epoxy (meth) are used from the viewpoint of suppressing appearance failure caused by curling of the optical reflecting film and peeling and breaking of the hard coat layer. It is preferable to use any of acrylate, polyol (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, and silicon (meth) acrylate.
紫外線硬化型成分に含まれる４官能以下の多官能（メタ）アクリレート以外の化合物としては、紫外線照射によって硬化することができるものであれば特に制限されないが、たとえばエチレン性不飽和二重結合を有する化合物等が挙げられる。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、特に制限されないが、たとえば５官能以上の多官能（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等を使用することができる。このような化合物の市販品の例としては、たとえば、東亞合成株式会社製のアロニックス（登録商標）Ｍ−４０２、日立化成株式会社製のヒタロイド（登録商標）７９０２−１等の市販品を用いることができる。 The compound other than the tetrafunctional or lower polyfunctional (meth) acrylate contained in the ultraviolet curable component is not particularly limited as long as it can be cured by ultraviolet irradiation, but has, for example, an ethylenically unsaturated double bond. Compounds and the like. Although it does not restrict | limit especially as a compound which has an ethylenically unsaturated double bond, For example, polyfunctional (meth) acrylate more than 5 functional, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, polyester ( A (meth) acrylate etc. can be used. As an example of a commercially available product of such a compound, for example, a commercially available product such as Aronix (registered trademark) M-402 manufactured by Toagosei Co., Ltd., or Hitaroid (registered trademark) 7902-1 manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. may be used. Can do.
ハードコート層用塗布液における紫外線硬化型成分の含有量は、特に制限されないが、硬度や膜弾性率を所望の値に調整する観点から、ハードコート層用塗布液の溶媒を除いた成分の総質量に対して、好ましくは２０〜９０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜８０質量％であり、さらに好ましくは４０〜８０質量％である。 The content of the ultraviolet curable component in the hard coat layer coating solution is not particularly limited, but from the viewpoint of adjusting the hardness and film elastic modulus to desired values, the total amount of components excluding the solvent of the hard coat layer coating solution is not limited. Preferably it is 20-90 mass% with respect to the mass, More preferably, it is 20-80 mass%, More preferably, it is 40-80 mass%.
（ｃ）光重合開始剤
本発明の一形態に係るハードコート層用塗布液は、（ｂ）成分の硬化促進の為、光重合開始剤（以下（ｃ）成分とも称される）を含むことが好ましい。
(C) Photopolymerization initiator The coating liquid for a hard coat layer according to one embodiment of the present invention contains a photopolymerization initiator (hereinafter also referred to as component (c)) in order to accelerate the curing of component (b). Is preferred.
光重合開始剤は、カチオン性光重合開始剤、アニオン性光重合性開始剤、ラジカル性光重合開始剤が挙げられるが、硬化性および生産性の観点から、ラジカル性光重合開始剤が好ましい。 Examples of the photopolymerization initiator include a cationic photopolymerization initiator, an anionic photopolymerization initiator, and a radical photopolymerization initiator. From the viewpoint of curability and productivity, a radical photopolymerization initiator is preferable.
これら光重合開始剤の使用量は、紫外線硬化型成分１００質量部に対して好ましくは０．５〜２０質量部、より好ましくは１〜１５質量部である。光重合開始剤が紫外線硬化型成分１００質量部に対して０．５質量部以上であると、硬化性が良好となるため好ましい。また、光重合開始剤が紫外線硬化型成分１００質量部に対して２０質量部以下であると、ハードコート層の収縮量を低減でき、光学反射フィルムのカールおよびハードコート層の剥離を低減できるため好ましい。 The amount of the photopolymerization initiator used is preferably 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 15 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable component. It is preferable that the photopolymerization initiator is 0.5 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable component because curability is improved. In addition, when the photopolymerization initiator is 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable component, the shrinkage amount of the hard coat layer can be reduced, and curling of the optical reflection film and peeling of the hard coat layer can be reduced. preferable.
本発明の一形態に係るハードコート層用塗布液は、上記成分の他、溶媒を含んでもよい。溶媒は、特に制限されないが、たとえば水、炭化水素類（トルエン、キシレン）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ））、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒等の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。 The coating liquid for hard coat layers according to one embodiment of the present invention may contain a solvent in addition to the above components. The solvent is not particularly limited, but for example, water, hydrocarbons (toluene, xylene), alcohols (methanol, ethanol, isopropanol, butanol, cyclohexanol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone (MIBK)), It can be appropriately selected from esters (methyl acetate, ethyl acetate, methyl lactate), glycol ethers, other organic solvents, or a mixture thereof.
ハードコート層用塗布液は、必要に応じて、（ａ）成分以外の熱線遮蔽性金属化合物、および各種添加剤等の任意成分を含んでもよい。添加剤としては、金属石鹸、レベリング性、撥水性、滑り性等を付与するための界面活性剤；紫外線照射による硬化性を向上させるための、染料、顔料、増感剤等が挙げられる。 The coating liquid for hard coat layers may contain an optional component such as a heat ray shielding metal compound other than the component (a) and various additives, if necessary. Examples of additives include metal soaps, surfactants for imparting leveling properties, water repellency, slipping properties, etc .; dyes, pigments, sensitizers, etc. for improving curability by ultraviolet irradiation.
ハードコート層用塗布液は、上記の各成分を混合することによって調整される。添加順序、添加方法は特に限定されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。 The hard coat layer coating solution is prepared by mixing the above-described components. The order of addition and the addition method are not particularly limited, and each component may be added and mixed sequentially while stirring, or may be added and mixed all at once while stirring.
また、樹脂基材上（樹脂基材の表面または樹脂基材上に配置された最表層の表面）にハードコート層用塗布液を塗布する方法についても特に制限はなく、公知の手法、例えば、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティングなどの手法が採用されうる。また、ダイコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布することが可能である。 Also, there is no particular limitation on the method of applying the hard coat layer coating solution on the resin base material (the surface of the resin base material or the surface of the outermost layer arranged on the resin base material). Techniques such as wire bar coating, spin coating, and dip coating may be employed. Further, it can be applied by a continuous coating apparatus such as a die coater, a gravure coater, a micro gravure coater, and a comma coater.
塗布後の乾燥条件としては、特に制限されないが、たとえば乾燥温度が４０〜１００℃、乾燥時間が０．５〜１０分であることが好ましい。 Although it does not restrict | limit especially as drying conditions after application | coating, For example, it is preferable that drying temperature is 40-100 degreeC and drying time is 0.5 to 10 minutes.
その後、樹脂基材上にハードコート層用塗布液を塗布して得られた塗膜に、紫外線を照射し、塗膜を硬化させる。この際の紫外線の照射波長、照度、光量などの条件は、使用する紫外線硬化型成分や重合開始剤の種類によって異なるため、適宜条件が調整されうる。例えば、紫外線ランプを用いる場合、その照度は５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、照射エネルギー量は５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。光学反射フィルムにおいて、テープ剥離試験前後のフィルムの可視光線透過率の変化をより小さくするためには、照度としては８０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２が好ましい。さらに、照射エネルギー量は１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。さらに、必要に応じて硬化雰囲気を窒素に置換してもよい。置換する際の残存酸素量は１％以下が好ましく、より好ましくは１０００ｐｐｍである。 Thereafter, the coating film obtained by applying the hard coat layer coating solution on the resin substrate is irradiated with ultraviolet rays to cure the coating film. In this case, the conditions such as the irradiation wavelength of ultraviolet rays, the illuminance, and the amount of light vary depending on the type of the ultraviolet curable component and the polymerization initiator used, and therefore the conditions can be adjusted as appropriate. For example, when an ultraviolet lamp is used, the illuminance is preferably 50 to 1500 mW / cm 2 and the irradiation energy amount is preferably 50 to 1500 mJ / cm 2 . In the optical reflection film, the illuminance is preferably 80 to 1000 mW / cm 2 in order to reduce the change in visible light transmittance of the film before and after the tape peeling test. Furthermore, the amount of irradiation energy is preferably 100 to 1000 mJ / cm 2 . Further, the curing atmosphere may be replaced with nitrogen as necessary. The amount of residual oxygen at the time of substitution is preferably 1% or less, more preferably 1000 ppm.
（誘電体多層膜の形成方法）
誘電体多層膜の形成方法としては、特に制限されず、たとえば、水溶性高分子を含む水系の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を交互に湿式塗布し、乾燥して積層体を形成する方法が挙げられる。
(Dielectric multilayer film formation method)
The method for forming the dielectric multilayer film is not particularly limited. For example, an aqueous high refractive index layer coating solution containing a water-soluble polymer and a low refractive index layer coating solution are alternately wet-coated and dried. The method of forming a laminated body is mentioned.
水系の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を交互に湿式塗布する方法としては、以下に挙げる塗布方式が好ましく用いられる。例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第２，７６１，４１９号明細書、同第２，７６１，７９１号明細書などに記載のスライドホッパー塗布法、エクストルージョンコート法等である。また、複数の層を重層塗布する方式としては、逐次重層塗布でもよいし同時重層塗布でもよい。 As a method for alternately applying a water-based coating solution for a high refractive index layer and a coating solution for a low refractive index layer, the following coating methods are preferably used. For example, as described in roll coating method, rod bar coating method, air knife coating method, spray coating method, curtain coating method, US Pat. Nos. 2,761,419 and 2,761,791 These include a slide hopper coating method and an extrusion coating method. In addition, as a method of applying a plurality of layers in a multilayer manner, sequential multilayer coating or simultaneous multilayer coating may be used.
以下、本発明の好ましい製造方法（塗布方法）であるスライドホッパー塗布法による同時重層塗布について詳細に説明する。 Hereinafter, the simultaneous multilayer coating by the slide hopper coating method, which is a preferred production method (coating method) of the present invention, will be described in detail.
〔溶媒〕
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。
〔solvent〕
The solvent for preparing the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer is not particularly limited, but water, an organic solvent, or a mixed solvent thereof is preferable.
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。 Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol and 1-butanol, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate, diethyl ether, Examples thereof include ethers such as propylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol monoethyl ether, amides such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone, and ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, acetylacetone and cyclohexanone. These organic solvents may be used alone or in combination of two or more.
環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、特に水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒が好ましい。 From the viewpoint of environment and simplicity of operation, the solvent for the coating solution is particularly preferably water or a mixed solvent of water and methanol, ethanol, or ethyl acetate.
〔塗布液の濃度〕
高屈折率層用塗布液中の水溶性高分子の濃度は、０．５〜１０質量％であることが好ましい。また、高屈折率層用塗布液中の金属酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
[Concentration of coating solution]
The concentration of the water-soluble polymer in the coating solution for the high refractive index layer is preferably 0.5 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the metal oxide particle in the coating liquid for high refractive index layers is 1-50 mass%.
低屈折率層用塗布液中の水溶性高分子の濃度は、１〜１０質量％であることが好ましい。また、低屈折率層用塗布液中の金属酸化物粒子の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。 The concentration of the water-soluble polymer in the coating solution for the low refractive index layer is preferably 1 to 10% by mass. Moreover, it is preferable that the density | concentration of the metal oxide particle in the coating liquid for low refractive index layers is 1-50 mass%.
〔塗布液の調製方法〕
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、水溶性高分子、および必要に応じて添加される金属酸化物粒子やその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、水溶性高分子、および必要に応じて用いられる金属酸化物粒子やその他の添加剤の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調整される。
[Preparation method of coating solution]
The method for preparing the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer is not particularly limited. For example, a water-soluble polymer, and metal oxide particles and other additives added as necessary. The method of adding and stirring and mixing is mentioned. At this time, the order of addition of the water-soluble polymer and, if necessary, the metal oxide particles and other additives is not particularly limited, and each component may be added and mixed in sequence while stirring. However, they may be added and mixed at once. If necessary, it is further adjusted to an appropriate viscosity using a solvent.
〔塗布液の粘度〕
スライドホッパー塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の４０〜４５℃における粘度は、５〜１５０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、１０〜１００ｍＰａ・ｓの範囲がより好ましい。また、スライド型カーテン塗布法により同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の４０〜４５℃における粘度は、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲がより好ましい。
[Viscosity of coating solution]
The viscosity at 40 to 45 ° C. of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer when performing simultaneous multilayer coating by the slide hopper coating method is preferably in the range of 5 to 150 mPa · s, and 10 to 100 mPa · s. The range of s is more preferable. The viscosity at 40 to 45 ° C. of the coating solution for high refractive index layer and the coating solution for low refractive index layer when performing simultaneous multilayer coating by the slide curtain coating method is preferably in the range of 5 to 1200 mPa · s, 25 A range of ˜500 mPa · s is more preferable.
また、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の１５℃における粘度は、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、３，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがさらに好ましく、１０，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓが特に好ましい。 Further, the viscosity at 15 ° C. of the coating solution for the high refractive index layer and the coating solution for the low refractive index layer is preferably 100 mPa · s or more, more preferably 100 to 30,000 mPa · s, and more preferably 3,000 to 30,000 mPa · s. s is more preferable, and 10,000 to 30,000 mPa · s is particularly preferable.
〔塗布および乾燥方法〕
塗布および乾燥方法は、特に制限されないが、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を３０℃以上に加温して、樹脂基材上に高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃に一旦冷却し（セット）、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
[Coating and drying method]
The coating and drying method is not particularly limited, but the high refractive index layer coating solution and the low refractive index layer coating solution are heated to 30 ° C. or higher to form a high refractive index layer coating solution and a low refractive index layer coating solution on the resin substrate. After the simultaneous multilayer coating of the refractive index layer coating liquid, the temperature of the formed coating film is preferably cooled (set) preferably to 1 to 15 ° C. and then dried at 10 ° C. or higher. Moreover, as a cooling method immediately after application | coating, it is preferable to carry out by a horizontal set system from a viewpoint of the uniformity improvement of the formed coating film.
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の塗布厚は、上記誘電体多層膜の項で示したような好ましい乾燥時の膜厚となるように塗布すればよい。 What is necessary is just to apply | coat so that the coating thickness of the coating liquid for high refractive index layers and the coating liquid for low refractive index layers may become the film thickness at the time of preferable drying shown in the term of the said dielectric multilayer film.
ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗膜組成物の粘度を高め各層間および各層内の物質の流動性を低下させる工程のことを意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。 Here, the set means a step of increasing the viscosity of the coating composition and reducing the fluidity of the substances in each layer and in each layer by means such as applying cold air to the coating film to lower the temperature. To do. A state in which the cold air is applied to the coating film from the surface and the finger is pressed against the surface of the coating film is defined as a set completion state.
塗布した後、冷風を当ててからセットが完了するまでの時間（セット時間）は、５分以内であることが好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、４５秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が上記の範囲であれば、層中の成分の混合が十分となり、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が十分となる。 It is preferable that the time (setting time) from application of cold air to completion of setting after application is within 5 minutes. Further, the lower limit time is not particularly limited, but it is preferable to take 45 seconds or more. When the set time is in the above range, the components in the layer are sufficiently mixed, and the refractive index difference between the high refractive index layer and the low refractive index layer is sufficient.
セット時間の調整は、ポリマーの濃度や金属酸化物粒子の濃度を調整したり、ゼラチン、ペクチン、寒天、カラギーナン、ゲランガム等の各種公知のゲル化剤など、他の成分を添加したりすることにより調整することができる。 The set time can be adjusted by adjusting the concentration of the polymer and metal oxide particles, or by adding other components such as various known gelling agents such as gelatin, pectin, agar, carrageenan and gellan gum. Can be adjusted.
冷風の温度は、０〜２５℃であることが好ましく、５〜１０℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、１０〜１２０秒であることが好ましい。 The temperature of the cold air is preferably 0 to 25 ° C, and more preferably 5 to 10 ° C. Moreover, although the time for which a coating film is exposed to cold wind also depends on the conveyance speed of a coating film, it is preferable that it is 10 to 120 seconds.
〔光学反射フィルムの層構成〕
本発明の光学反射フィルムは、樹脂基材上に誘電体多層膜を含む。上述したように、該誘電体多層膜は、樹脂基材の一方の面にのみ形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。特定波長の反射率が向上するという観点からは、該誘電体多層膜は基材の両面に形成されてなることが好ましい。
[Layer structure of optical reflection film]
The optical reflective film of the present invention includes a dielectric multilayer film on a resin substrate. As described above, the dielectric multilayer film may be formed only on one surface of the resin base material, or may be formed on both surfaces. From the viewpoint of improving the reflectance at a specific wavelength, the dielectric multilayer film is preferably formed on both surfaces of the substrate.
光学反射フィルムにおける上述の各種の機能層の積層順は、特に制限されない。 The stacking order of the various functional layers described above in the optical reflection film is not particularly limited.
たとえば、窓ガラスの室内側に光学反射フィルムを貼る（内貼り）仕様では、樹脂基材表面に、誘電体多層膜、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の樹脂基材表面にハードコート層を塗設する形態が好ましい一例として挙げられる。さらに他の機能層、または赤外線吸収剤などを有していてもよい。また、窓ガラスの室外側に本発明の光学反射フィルムを貼る（外貼り）仕様で好ましい一例を挙げると、樹脂基材表面に誘電体多層膜、ハードコート層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の樹脂基材表面に粘着層を塗設する構成である。さらに他の機能層、または赤外線吸収剤などを有していてもよい。 For example, in the specification of attaching an optical reflective film to the indoor side of a window glass (internally attached), a dielectric multilayer film and an adhesive layer are laminated in this order on the surface of a resin substrate, and the side on which these layers are laminated A preferred example is a form in which a hard coat layer is applied to the surface of the resin substrate on the opposite side. Furthermore, you may have another functional layer or an infrared absorber. Moreover, when a preferable example is given in the specification of applying the optical reflection film of the present invention to the outdoor side of the window glass (outside bonding), a dielectric multilayer film and a hard coat layer are laminated in this order on the resin substrate surface, and these layers are further laminated. The adhesive layer is coated on the surface of the resin substrate opposite to the side where the is laminated. Furthermore, you may have another functional layer or an infrared absorber.
〔光学反射フィルムの応用：光学反射体〕
本発明の光学反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、上記光学反射フィルムが基体の少なくとも一方の面に設けられた、光学反射体が提供される。本発明の光学反射フィルムは、耐候性を高める目的で用いることができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備（基体）に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム、合わせガラス用のフィルム等の用途が挙げられる。特に、直接または粘着剤もしくは接着剤を介して、ガラスまたはガラス代替樹脂等の基体に貼合されている部材に、本発明の光学反射フィルムは好適に用いられる。
[Application of optical reflective film: Optical reflector]
The optical reflective film of the present invention can be applied to a wide range of fields. For example, an optical reflector in which the optical reflective film is provided on at least one surface of a substrate is provided. The optical reflective film of the present invention can be used for the purpose of enhancing the weather resistance. For example, film for window pasting such as heat ray reflecting film that gives heat ray reflection effect, film for agricultural greenhouses, etc. Application of films for laminated glass and the like can be mentioned. In particular, the optical reflective film of the present invention is suitably used for a member bonded to a substrate such as glass or a glass substitute resin directly or via a pressure-sensitive adhesive or an adhesive.
基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでも良く、これらを２種以上組み合わせて用いても良い。基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚みは特に制限されないが、通常０．１ｍｍ〜５ｃｍである。 Specific examples of the substrate include, for example, glass, polycarbonate resin, polysulfone resin, acrylic resin, polyolefin resin, polyether resin, polyester resin, polyamide resin, polysulfide resin, unsaturated polyester resin, epoxy resin, melamine resin, and phenol. Examples thereof include resins, diallyl phthalate resins, polyimide resins, urethane resins, polyvinyl acetate resins, polyvinyl alcohol resins, styrene resins, vinyl chloride resins, metal plates, and ceramics. The type of resin may be any of a thermoplastic resin, a thermosetting resin, and an ionizing radiation curable resin, and two or more of these may be used in combination. The substrate can be produced by a known method such as extrusion molding, calendar molding, injection molding, hollow molding, compression molding or the like. The thickness of the substrate is not particularly limited, but is usually 0.1 mm to 5 cm.
光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、光学反射フィルムが日光（熱線）入射面側にあるように設置することが好ましい。また光学反射フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の光学反射フィルムを屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。 It is preferable that the adhesive layer or the adhesive layer that bonds the optical reflection film and the substrate is installed so that the optical reflection film is on the sunlight (heat ray) incident surface side when bonded to a window glass or the like. Further, when the optical reflection film is sandwiched between the window glass and the base material, it can be sealed from ambient gas such as moisture, which is preferable for durability. Even if the optical reflective film of the present invention is installed outdoors or on the outside of a vehicle (for external application), it is preferable because of environmental durability.
本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。 As an adhesive applicable to the present invention, an adhesive mainly composed of a photocurable or thermosetting resin can be used. The adhesive preferably has durability against ultraviolet rays, and is preferably an acrylic adhesive or a silicone adhesive.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.
＜樹脂基材の熱収縮率の測定＞
樹脂基材（比較例１の場合は光学反射フィルム全体）を温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨ環境下にて、２４時間保存後、幅方向に１００ｍｍ間隔で２つの印を付け、無荷重状態で２つの印の間の距離Ａ１を、光学顕微鏡を用いて測定した。続いて、１５０℃雰囲気下のオーブン内に基材を吊るし、３０分間放置した。３０分経過後、オーブンから基材を取り出し、再び温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨ環境下で２４時間保存した。次いで、無荷重状態の樹脂基材の２つの印の間の距離Ａ２を、光学顕微鏡を用いて測定した。測定した距離Ａ１およびＡ２より、樹脂基材の熱収縮率を下記式（１）により算出した。この測定を、樹脂基材のＭＤおよびＴＤの２方向について行い、さらにＭＤとＴＤとの熱収縮率の比（ＭＤ／ＴＤ）を算出した。
<Measurement of thermal shrinkage of resin base material>
Resin base material (in the case of Comparative Example 1, the entire optical reflection film) is stored at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH for 24 hours. The distance A1 between the two marks was measured using an optical microscope. Subsequently, the substrate was suspended in an oven at 150 ° C. and left for 30 minutes. After 30 minutes, the substrate was taken out of the oven and stored again for 24 hours under a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 55% RH. Next, a distance A2 between the two marks on the resin substrate in an unloaded state was measured using an optical microscope. From the measured distances A1 and A2, the thermal contraction rate of the resin base material was calculated by the following formula (1). This measurement was performed in two directions of MD and TD of the resin base material, and the ratio of the thermal shrinkage ratio between MD and TD (MD / TD) was calculated.
＜屈折率層単層の屈折率の測定＞
基材上に高屈折率層用塗布液または低屈折率層用塗布液を単層で塗布したサンプルを作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに裁断した後、下記の方法に従って屈折率を求めた。株式会社日立ハイテクノロジーズ製の分光光度計 Ｕ−４１００（固体試料測定システム）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５°正反射の条件にて波長４００ｎｍ〜２５００ｎｍの反射率の測定を行い、屈折率を求めた。なお、屈折率の波長依存性を考え、波長１０００ｎｍでの屈折率の値とした。
<Measurement of refractive index of single refractive index layer>
A sample in which a coating solution for a high refractive index layer or a coating solution for a low refractive index layer was applied as a single layer on a substrate was prepared. After cutting this sample into 10 cm × 10 cm, the refractive index was determined according to the following method. . Using a spectrophotometer U-4100 (solid sample measurement system) manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation, the surface opposite to the measurement surface (back surface) of each sample is roughened and then lighted with a black spray. Absorption treatment was performed to prevent reflection of light on the back surface, and the reflectance at a wavelength of 400 nm to 2500 nm was measured under the condition of 5 ° regular reflection to obtain the refractive index. In consideration of the wavelength dependence of the refractive index, the refractive index at a wavelength of 1000 nm was used.
＜基材−１〜基材−１０（樹脂基材）の作製＞
スクリュー型溶融押出機を用いてポリエチレンテレフタレート（［η］＝０．６４ｄｌ／ｇ、Ｔｇ＝７８℃）のチップを２８０℃で溶融後、ダイより押出し、常法によりキャスティングドラムで冷却して未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムに対して、下記表１に記載の熱収縮率になるように、長手方向（ＭＤ）の延伸温度および延伸倍率、幅手方向（ＴＤ）の延伸温度および延伸倍率、熱固定時の温度、ならびに緩和熱処理の温度および緩和率を適宜調整して処理を行い、ロール状に巻回した樹脂基材（基材−１〜基材−１０、厚さ：５０μｍ、幅１６００ｍｍ、長さ３００ｍ）を得た。
<Preparation of substrate-1 to substrate-10 (resin substrate)>
Using a screw-type melt extruder, a polyethylene terephthalate ([η] = 0.64 dl / g, Tg = 78 ° C.) chip was melted at 280 ° C., extruded from a die, cooled by a casting drum in a conventional manner, and unstretched. A film was prepared. With respect to this unstretched film, the stretching temperature and stretching ratio in the longitudinal direction (MD), the stretching temperature and stretching ratio in the width direction (TD), and heat setting so as to achieve the heat shrinkage rate shown in Table 1 below Resin base material (base material-1 to base material-10, thickness: 50 μm, width 1600 mm, length) 300 m) was obtained.
（高屈折率層用塗布液Ａの調製）
濃度２０．０質量％のルチル型酸化チタン微粒子（体積平均粒径（Ｄ５０）：１０ｎｍ）を含む酸化チタンゾル水系分散液２８．９質量部、濃度１４．８質量％のピコリン酸水溶液５．４１質量部、および濃度２．１質量％の水酸化リチウム水溶液３．９２質量部と混合し、酸化チタン分散液を調製した。
(Preparation of coating liquid A for high refractive index layer)
28.9 parts by mass of a titanium oxide sol aqueous dispersion containing 20.0% by mass of rutile-type titanium oxide fine particles (volume average particle diameter (D 50 ): 10 nm), 5.41% by mass of an aqueous picolinic acid solution having a concentration of 14.8% by mass It mixed with 3.92 mass parts of lithium hydroxide aqueous solution with a mass part and a density | concentration of 2.1 mass%, and prepared the titanium oxide dispersion liquid.
次いで、純水１０．３質量部に、濃度１．０質量％のタマリンドシードガム水溶液１３０質量部、濃度５．０質量％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２１７、株式会社クラレ製）１０．３質量部、濃度１４．８質量％のピコリン酸水溶液１７．３質量部、および濃度５．５質量％のホウ酸水溶液２．５８質量部を、順次攪拌しながら加えた。その中に、上記で得られた酸化チタン分散液の３８．２質量部を添加した。その後、界面活性剤として、濃度５質量％の四級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤（日油株式会社製、ニッサンカチオン（登録商標）２−ＤＢ−５００Ｅ）０．０５０質量部を添加した。純水を加え、全体として２２３質量部の高屈折率層用塗布液Ａを調製した。 Next, 10.3 parts by mass of pure water, 130 parts by mass of a 1.0% by mass aqueous solution of tamarind seed gum, and 5.0% by mass of polyvinyl alcohol (PVA-217, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 10.3 parts by mass Then, 17.3 parts by mass of an aqueous picolinic acid solution having a concentration of 14.8% by mass and 2.58 parts by mass of an aqueous boric acid solution having a concentration of 5.5% by mass were sequentially added with stirring. Into this, 38.2 parts by mass of the titanium oxide dispersion obtained above was added. Thereafter, 0.050 part by mass of a quaternary ammonium salt cationic surfactant (Nissan Co., Ltd., Nissan Cation (registered trademark) 2-DB-500E) having a concentration of 5% by mass was added as a surfactant. Pure water was added to prepare 223 parts by mass of coating solution A for high refractive index layer as a whole.
高屈折率層用塗布液Ａを用いて作製した屈折率層単層の屈折率は、１．８３であった。 The refractive index of the single refractive index layer produced using the coating liquid A for high refractive index layer was 1.83.
（高屈折率層用塗布液Ｂの調製）
３０質量％の酸化ジルコニウム粒子の分散液（ＳＺＲ−Ｗ、ジルコニアゾル、体積平均粒径（Ｄ５０）：３ｎｍ〜５ｎｍ、堺化学工業株式会社製）３８４．８ｇに対してクエン酸水溶液（１．９質量％）を１７５．４ｇ加えた。これに界面活性剤（ソフタゾリン（登録商標）ＬＭＥＢ−Ｒ、川研ファインケミカル株式会社製）の５質量％水溶液を１．９４ｇ添加し、これを４０℃まで加温した。次いで、さらにエチレン変性ポリビニルアルコールの８質量％水溶液（株式会社クラレ製、エクセバール（登録商標）ＲＳ２１１７、鹸化度：９７．５〜９９モル％）を１２０．４ｇ加え、さらに純水９．９ｇを加えた。これを１０分攪拌後、ポリビニルアルコールの６質量％水溶液（ＪＣ−４０、鹸化度：９９モル％以上、日本酢ビ・ポバール株式会社製）２４０．８ｇおよび純水６６．７ｇを加えた。この後、４０℃で１８０分間攪拌し、高屈折率層用塗布液Ｂを得た。
(Preparation of coating liquid B for high refractive index layer)
30% by mass of zirconium oxide particle dispersion (SZR-W, zirconia sol, volume average particle size (D 50 ): 3 nm to 5 nm, manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.) 384.8 g was added with citric acid aqueous solution (1. 95.4%) was added. To this was added 1.94 g of a 5% by mass aqueous solution of a surfactant (SOFTAZOLINE (registered trademark) LMEB-R, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.), and this was heated to 40 ° C. Next, 120.4 g of an 8% by mass aqueous solution of ethylene-modified polyvinyl alcohol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., EXVAL (registered trademark) RS2117, saponification degree: 97.5 to 99 mol%) was added, and further 9.9 g of pure water was added. It was. After stirring this for 10 minutes, 240.8 g of a 6% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol (JC-40, degree of saponification: 99 mol% or more, manufactured by Nippon Vinegar Poval Co., Ltd.) and 66.7 g of pure water were added. Then, it stirred for 180 minutes at 40 degreeC, and obtained the coating liquid B for high refractive index layers.
高屈折率層用塗布液Ｂを用いて作製した屈折率層単層の屈折率は、１．７３であった。 The refractive index of the single refractive index layer produced using the coating liquid B for high refractive index layer was 1.73.
（低屈折率層用塗布液の調製）
濃度２３．５質量％のポリ塩化アルミニウム（タキバイン（登録商標）＃１５００、多木化学株式会社製）水溶液２１質量部、濃度１０質量％のコロイダルシリカ（スノーテックス（登録商標）ＯＸＳ、日産化学工業株式会社製）水溶液５５０質量部、濃度３．０質量％のホウ酸水溶液６１質量部、および濃度２．１質量％の水酸化リチウム水溶液４．７５質量部を混合し、高圧ホモジナイザー分散機を用いて分散した。その後、純水を加えて、全体として１０００質量部の二酸化ケイ素の分散液を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer)
Polyaluminum chloride (Takibine (registered trademark) # 1500, manufactured by Taki Chemical Co., Ltd.) aqueous solution having a concentration of 23.5% by mass, 21 parts by mass of colloidal silica (Snowtex (registered trademark) OXS, Nissan Chemical Industries, Ltd.) Co., Ltd.) 550 parts by mass of aqueous solution, 61 parts by mass of boric acid aqueous solution with a concentration of 3.0% by mass, and 4.75 parts by mass of lithium hydroxide aqueous solution with a concentration of 2.1% by mass are mixed using a high-pressure homogenizer disperser. And dispersed. Thereafter, pure water was added to prepare a dispersion of 1000 parts by mass of silicon dioxide as a whole.
次いで、得られた二酸化ケイ素の分散液を４５℃に加熱し、その中に、純水１００質量部および４．０質量％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２３５、株式会社クラレ製）水溶液５７５質量部を攪拌しながら加えた。その後、界面活性剤として、濃度５質量％の四級アンモニウム塩系カチオン性界面活性剤（日油株式会社製、ニッサンカチオン（登録商標）２−ＤＢ−５００Ｅ）０．５０質量部を添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。 Next, the obtained silicon dioxide dispersion was heated to 45 ° C., and 100 parts by mass of pure water and 575 parts by mass of a 4.0% by mass aqueous solution of polyvinyl alcohol (PVA-235, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) were added thereto. Added with stirring. Then, 0.50 part by mass of a quaternary ammonium salt cationic surfactant (Nissan Co., Ltd., Nissan Cation (registered trademark) 2-DB-500E) having a concentration of 5% by mass as a surfactant was added, A coating solution for a low refractive index layer was prepared.
低屈折率層用塗布液を用いて作製した屈折率層単層の屈折率は、１．４９であった。 The refractive index of the single refractive index layer produced using the coating solution for the low refractive index layer was 1.49.
（粘着層用塗布液の調製）
ポリビニルブチラールのエタノール溶液（エスレック（登録商標）ＢＸ−Ｌ、アセタール化率：６１ｍｏｌ％、積水化学工業株式会社製）にポリビニルアセタール樹脂を１０．０質量％含有させて粘着層用塗布液を調製した。
(Preparation of adhesive layer coating solution)
A coating solution for the adhesive layer was prepared by containing 10.0% by mass of polyvinyl acetal resin in an ethanol solution of polyvinyl butyral (ESREC (registered trademark) BX-L, acetalization rate: 61 mol%, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.). .
（ハードコート層用塗布液の調製）
各成分を混合して、下記の組成を有するハードコート層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for hard coat layer)
Each component was mixed to prepare a hard coat layer coating solution having the following composition.
・ＹＭＦ−０２Ａ（１８質量％Ｃｓ０．３３ＷＯ３分散液、分散剤１０質量％、平均粒径５０ｎｍ、住友金属鉱山株式会社） ３１５質量部
・アロニックス（登録商標）Ｍ−３０５（３、４官能アクリレート、３官能成分６０質量％、東亞合成株式会社製） １１７質量部
・アロニックス（登録商標）Ｍ−４０２（５、６官能アクリレート、５官能成分３５質量％、東亞合成株式会社製） ７８質量部
・ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標）３５０（２官能シリコンアクリレート、ダイセル・オルネクス株式会社製） ＭＩＢＫ希釈液（１質量％） １８質量部
・ヘキソエートジルコニウム１２％（金属石鹸、東栄化工株式会社製） ３質量部
・Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）８１９（ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、ＢＡＳＦジャパン株式会社製） １３質量部
・メガファック（登録商標）Ｆ−５５２（界面活性剤、ＤＩＣ株式会社製） ＭＩＢＫ希釈液（１質量％） ９質量部
・ＭＩＢＫ ４４６質量部。
YMF-02A (18 mass% Cs 0.33 WO 3 dispersion, dispersant 10 mass%, average particle size 50 nm, Sumitomo Metal Mining Co., Ltd.) 315 mass parts Aronix (registered trademark) M-305 (3,4) Functional acrylate, trifunctional component 60% by mass, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 117 parts by mass • Aronix (registered trademark) M-402 (5, 6 functional acrylate, 5-functional component 35% by mass, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) 78 mass Parts EBECRYL (registered trademark) 350 (bifunctional silicon acrylate, manufactured by Daicel Ornex Co., Ltd.) MIBK diluent (1% by mass) 18 parts by mass hexoate zirconium 12% (metal soap, manufactured by Toei Chemical Co., Ltd.) 3 Parts by mass Irgacure (registered trademark) 819 (bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine) Kisaido, manufactured by BASF Japan Ltd.) 13 parts by weight Megafac (registered trademark) F-552 (surfactant, manufactured by DIC Corporation) MIBK diluent (1%) 9 parts by mass MIBK 446 parts by mass.
［比較例１］
＜光学反射フィルム１の作製＞
特開２０１２−８１７４８号公報の実施例５に記載されている方法と同様の方法で、幅１６００ｍｍ、長さ３００ｍのロール状に巻回した光学反射フィルムを作製した。
[Comparative Example 1]
<Preparation of optical reflection film 1>
An optical reflection film wound into a roll having a width of 1600 mm and a length of 300 m was produced in the same manner as described in Example 5 of JP2012-81748A.
［比較例２］
＜光学反射フィルム２の作製＞
上記で得られた低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液Ａを４５℃に保温しながら、４５℃に加温した上記で得られた基材−１上に、最外層は共に低屈折率層とし、それ以外はそれぞれ交互に、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層１５０ｎｍ、高屈折率層は各層１３０ｎｍになるようにスライドホッパー塗布装置を用い、計２１層の同時重層塗布を行った。なお、層間の混合領域（混合層）の確認および膜厚の測定（確認）は、積層膜（光学反射フィルム試料）を切断して切断面をＸＰＳ表面分析装置で高屈折率層材料（ＴｉＯ２）と低屈折率層材料（ＳｉＯ２）の存在量を測定することで、上記した各層の厚さが確保されていることが確認できた。
[Comparative Example 2]
<Preparation of optical reflection film 2>
On the base material-1 obtained as described above, the outermost layer was heated to 45 ° C. while keeping the coating solution A for the low refractive index layer and the coating solution A for the high refractive index layer obtained above at 45 ° C. Both were made to be a low refractive index layer, and other than that, using a slide hopper coating apparatus so that the film thickness upon drying was 150 nm for each low refractive index layer and 130 nm for each high refractive index layer, a total of 21 layers were used. Simultaneous multi-layer coating was performed. The confirmation of the mixed region (mixed layer) between layers and the measurement (confirmation) of the film thickness were performed by cutting the laminated film (optical reflective film sample) and cutting the cut surface with an XPS surface analyzer (high refractive index layer material (TiO 2)). ) And the abundance of the low refractive index layer material (SiO 2 ), it was confirmed that the thickness of each layer described above was ensured.
塗布直後、５℃の冷風を吹き付けてセットさせた。このとき、表面を指で触れても指に何もつかなくなるまでの時間（セット時間）は５分であった。セット完了後、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させ、基材−１上に誘電体多層膜を形成した。 Immediately after application, 5 ° C. cold air was blown and set. At this time, even if the surface was touched with a finger, the time until the finger was lost (set time) was 5 minutes. After completion of the setting, warm air of 80 ° C. was blown and dried to form a dielectric multilayer film on the substrate-1.
マイクログラビアコーターを用いて、前記誘電体多層膜の基材−１と接する面とは反対側の面に、上記で調製したハードコート層塗布液を塗布し、恒率乾燥区間温度５０℃、減率乾燥区間温度９０℃で乾燥の後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を２００ｍＪ／ｃｍ２として塗布層を硬化させ、乾燥膜厚が６μｍになるようにハードコート層を形成した。 Using a micro gravure coater, the hard coat layer coating solution prepared above was applied to the surface of the dielectric multilayer film opposite to the surface in contact with the substrate-1, and the constant rate drying zone temperature was reduced to 50 ° C. After drying at a rate drying zone temperature of 90 ° C., an ultraviolet lamp is used to cure the coating layer with an illuminance of the irradiated part of 100 mW / cm 2 and an irradiation amount of 200 mJ / cm 2 , so that the dry film thickness is 6 μm. A coat layer was formed.
セパレーターとしての３８μｍ厚のＰＥＴ基材に、上記で調製した粘着層用塗布液を、グラビアコーターを用いて乾燥後の膜厚が３μｍとなる塗布量で塗布し、７０℃で乾燥させることにより、粘着層を形成し、上記で作製した誘電体多層膜と該粘着層とが接するように配置し、ロールラミネート法により貼合した。 By applying the coating solution for the adhesive layer prepared above to a 38 μm-thick PET substrate as a separator with a gravure coater at a coating amount of 3 μm after drying, and drying at 70 ° C., An adhesive layer was formed, arranged so that the dielectric multilayer film prepared above and the adhesive layer were in contact, and bonded by a roll laminating method.
このようにしてロール状の光学反射フィルム２を作製した。 Thus, the roll-shaped optical reflection film 2 was produced.
［比較例３、実施例１］
基材−１の代わりに、上記表１に記載の基材−２または基材−３を使用したこと以外は、比較例２と同様にして、ロール状の光学反射フィルム３および４を作製した。
[Comparative Example 3, Example 1]
Roll-shaped optical reflective films 3 and 4 were produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the substrate-2 or substrate-3 shown in Table 1 was used instead of the substrate-1. .
［実施例２］
高屈折率層用塗布液Ａの代わりに、高屈折率層用塗布液Ｂを用いたこと以外は、実施例１と同様にして、ロール状の光学反射フィルム５を作製した。
[Example 2]
A roll-shaped optical reflection film 5 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid B for high refractive index layer was used instead of the coating liquid A for high refractive index layer.
［実施例３〜５、比較例４〜６］
基材−３の代わりに基材−４〜基材−１０を用いたこと以外は、実施例２と同様にして、ロール状の光学反射フィルム６〜１２を作製した。
[Examples 3-5, Comparative Examples 4-6]
Roll-shaped optical reflective films 6 to 12 were produced in the same manner as in Example 2 except that the base material-4 to the base material-10 were used instead of the base material-3.
［光学反射フィルムの評価］
上記で作製したロール状の光学反射フィルム１〜１２について、下記の性能評価を行った。
[Evaluation of optical reflective film]
The following performance evaluation was performed about the roll-shaped optical reflection films 1-12 produced above.
＜施工性評価＞
得られた光学反射フィルムを自動車用ガラス（トヨタ自動車株式会社製、Ｖｉｔｚ（商標）のリアガラス）に以下の手順で貼り付けた。貼り付け作業中の作業しやすさ（取扱い性）と、貼り付け後の仕上がり品質とを評価した。なお、貼り付けは、樹脂基材（光学反射フィルム）の長手方向（ＭＤ）とガラスの横方向（長手方向）とを一致させ、樹脂基材（光学反射フィルム）の幅手方向）とガラスの縦方向（幅手方向）とを一致させた：
・貼り付け手順
（１）貼り付けるガラスの大きさに合うように光学反射フィルムを適当な面積、形に裁断する
（２）裁断した光学反射フィルムをガラスの凸面（外側）に粘着層面と反対側の面を密着させ、ヒートガンで加熱しながら、ガラスの曲面と合うように光学反射フィルムを熱成形する
（３）熱成形後の光学反射フィルムを一旦巻き取り、ガラスの凹面側（室内側）に市販の中性洗剤を１質量％溶かした水溶液を均一に霧吹き等で噴霧し、巻き取った熱成形後の光学反射フィルムの粘着層面をガラスの凹面側に、プラスチック製のスクレイパー等を使って空気を抜きながら貼り付ける
（４）全体を均一に貼り付けたのち、３日間自然乾燥する
（５）自然乾燥後、仕上がり（水抜けの良さ、折れ等）を評価する。
<Evaluation of workability>
The obtained optical reflective film was affixed on the glass for motor vehicles (Toyota Motor Corporation make, Vitz (trademark) rear glass) in the following procedures. The ease of work during handling (handability) and the finished quality after pasting were evaluated. In addition, affixing makes the longitudinal direction (MD) of a resin base material (optical reflection film) and the horizontal direction (longitudinal direction) of glass correspond, and the width direction of a resin base material (optical reflection film)) and glass. Match the vertical direction (width direction):
・ Pasting procedure (1) Cut the optical reflecting film into an appropriate area and shape to fit the size of the glass to be pasted. (2) The cut optical reflecting film on the convex surface (outside) of the glass opposite to the adhesive layer surface. The optical reflective film is thermoformed so as to match the curved surface of the glass while being heated with a heat gun. (3) The optical reflective film after thermoforming is wound up once and placed on the concave side (inside the room) of the glass. Spray an aqueous solution containing 1% by mass of a commercially available neutral detergent uniformly with a spray, etc., and wind the optically-reflective film after heat-bonding the adhesive layer side of the glass to the concave side of the glass, using a plastic scraper or the like. (4) After the whole is uniformly pasted, it is naturally dried for 3 days. (5) After natural drying, the finish (good drainage, breakage, etc.) is evaluated.
施工性は以下の観点で評価した。△以上であれば、実用可能である。 The workability was evaluated from the following viewpoints. If it is more than Δ, it is practical.
・裁断が容易に行えるか
・熱成形が容易に行えるか
・しわや折れが入りやすくないか
・巻き取りが容易に行えるか
・粘着面の空気が容易に抜けるか
・取扱い上入ったと思われる傷がないか
・水が抜けて粘着剥がれ等が無いか
≪評価基準≫
◎：非常に良好
○：良好
△：多少取扱いにくいが実用可能
×：非常に取扱いにくい。
-Can it be cut easily?-Can it be easily thermoformed?-Is it easy to wrinkle or break?-Can it be easily wound up?-The air on the adhesive surface can be easily removed.・ Check if water has drained and there is no adhesive peeling etc. << Evaluation criteria >>
◎: Very good ○: Good △: Somewhat difficult to handle, but practical use ×: Very difficult to handle
＜クラック評価＞
得られた光学反射フィルムを目視および光学顕微鏡で観察し（倍率２０倍）、以下の基準に従って、クラックの有無を評価した。○△以上であれば、実用可能である：
○：光学顕微鏡観察でクラックの発生なし
○△：目視でクラックは確認できないが、光学顕微鏡観察で１個／１視野確認される
△：目視でクラックは確認できないが、光学顕微鏡観察で２個以上／１視野確認される
×：目視でクラックが確認される。
<Crack evaluation>
The obtained optical reflection film was observed visually and with an optical microscope (magnification 20 times), and the presence or absence of cracks was evaluated according to the following criteria. ○ △ or more is practical:
○: No cracks observed with optical microscope observation ○ △: No cracks can be visually confirmed, but 1 piece / one visual field can be confirmed with optical microscope observations / 1 field of view confirmed x: Cracks are visually confirmed.
性能評価結果を下記表２に示す。 The performance evaluation results are shown in Table 2 below.
表２に示す結果から明らかなように、実施例の光学反射フィルムは、自動車用ガラスのような曲率の大きなガラスに貼付しても、クラックが効果的に低減され、施工性に優れることが分かった。 As is apparent from the results shown in Table 2, it is found that the optical reflective films of the examples are effectively reduced in cracks and excellent in workability even when applied to a glass having a large curvature such as automotive glass. It was.
Claims (3)
前記樹脂基材を１５０℃で３０分間保持した際の、前記樹脂基材の長手方向（ＭＤ）の熱収縮率が１．０％以上であり、幅手方向（ＴＤ）の熱収縮率が０．３％未満であり、かつ前記長手方向の熱収縮率と前記幅手方向の熱収縮率との比（ＭＤ／ＴＤ）が３以上１００以下である、ロール状の光学反射フィルム。 An optical reflective film having a dielectric multilayer film containing a water-soluble polymer on a resin substrate,
When the resin substrate is held at 150 ° C. for 30 minutes, the heat shrinkage rate in the longitudinal direction (MD) of the resin substrate is 1.0% or more, and the heat shrinkage rate in the width direction (TD) is 0. A roll-shaped optical reflection film that is less than 3% and has a ratio (MD / TD) of the thermal shrinkage in the longitudinal direction to the thermal shrinkage in the width direction of 3 to 100.
前記高屈折率層および前記低屈折率層は、前記水溶性高分子と金属酸化物粒子とを含む、請求項１に記載のロール状の光学反射フィルム。 The dielectric multilayer film is formed by alternately laminating high refractive index layers and low refractive index layers,
The roll-shaped optical reflective film according to claim 1, wherein the high refractive index layer and the low refractive index layer include the water-soluble polymer and metal oxide particles.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016097393A JP6759697B2 (en) | 2016-05-13 | 2016-05-13 | Roll-shaped optical reflective film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016097393A JP6759697B2 (en) | 2016-05-13 | 2016-05-13 | Roll-shaped optical reflective film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017203965A true JP2017203965A (en) | 2017-11-16 |
| JP6759697B2 JP6759697B2 (en) | 2020-09-23 |
Family
ID=60322839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016097393A Expired - Fee Related JP6759697B2 (en) | 2016-05-13 | 2016-05-13 | Roll-shaped optical reflective film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6759697B2 (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020126239A (en) * | 2019-02-05 | 2020-08-20 | 三菱ケミカル株式会社 | Image display light guide plate |
| WO2024043305A1 (en) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | 富士フイルム株式会社 | Method for producing curved glass with reflective film, curved glass with reflective film, and head-up display system |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09319070A (en) * | 1996-05-29 | 1997-12-12 | Nikon Corp | Pellicle optical element and its production |
| KR20060110070A (en) * | 2005-04-19 | 2006-10-24 | 주식회사 코오롱 | Solar control film |
| JP2008030475A (en) * | 2006-06-30 | 2008-02-14 | Toyobo Co Ltd | Laminated polyester film for molding and its manufacturing process |
| JP2014233901A (en) * | 2013-06-01 | 2014-12-15 | 三菱樹脂株式会社 | Laminate polyester film roll for optical use |
| WO2015104981A1 (en) * | 2014-01-09 | 2015-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | Infrared-reflecting film, method for producing infrared-reflecting film, and method for producing laminated glass |
-
2016
- 2016-05-13 JP JP2016097393A patent/JP6759697B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09319070A (en) * | 1996-05-29 | 1997-12-12 | Nikon Corp | Pellicle optical element and its production |
| KR20060110070A (en) * | 2005-04-19 | 2006-10-24 | 주식회사 코오롱 | Solar control film |
| JP2008030475A (en) * | 2006-06-30 | 2008-02-14 | Toyobo Co Ltd | Laminated polyester film for molding and its manufacturing process |
| JP2014233901A (en) * | 2013-06-01 | 2014-12-15 | 三菱樹脂株式会社 | Laminate polyester film roll for optical use |
| WO2015104981A1 (en) * | 2014-01-09 | 2015-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | Infrared-reflecting film, method for producing infrared-reflecting film, and method for producing laminated glass |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020126239A (en) * | 2019-02-05 | 2020-08-20 | 三菱ケミカル株式会社 | Image display light guide plate |
| JP2023016819A (en) * | 2019-02-05 | 2023-02-02 | 三菱ケミカル株式会社 | Light guide plate for image display |
| WO2024043305A1 (en) * | 2022-08-25 | 2024-02-29 | 富士フイルム株式会社 | Method for producing curved glass with reflective film, curved glass with reflective film, and head-up display system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6759697B2 (en) | 2020-09-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US9778402B2 (en) | Light reflective film and light reflector produced using the same | |
| CN107710035B (en) | Optical film and optical laminate comprising same | |
| JPWO2016006388A1 (en) | Optical film | |
| WO2014010562A1 (en) | Infrared-shielding film | |
| WO2014199990A1 (en) | Derivative multilayer film | |
| JP6673220B2 (en) | Heat shield film, method of manufacturing the same, and heat shield using the same | |
| JPWO2014199872A1 (en) | Infrared shielding film, infrared shielding body using the same and heat ray reflective laminated glass | |
| WO2017010280A1 (en) | Heat ray shielding film | |
| JP6428608B2 (en) | Infrared shielding film, infrared shielding film installation method and infrared shielding film iris prevention method | |
| JPWO2015056752A1 (en) | Infrared shielding film, infrared shielding body using the same and heat ray reflective laminated glass | |
| WO2016088852A1 (en) | Heat-shielding film, production method therefor, and heat shield using said film | |
| JP6834984B2 (en) | Optical reflective film | |
| WO2016133022A1 (en) | Heat shielding film | |
| JP6759697B2 (en) | Roll-shaped optical reflective film | |
| JPWO2015146564A1 (en) | Optical shielding film, optical shielding body, and method for producing optical shielding film | |
| JP2015125168A (en) | Dielectric multilayer film | |
| JP2016155256A (en) | Heat shielding film, and method for producing the same | |
| WO2017077810A1 (en) | Light reflecting film | |
| JP2017219694A (en) | Optical reflection film, method for producing optical reflection film, and optical reflection body | |
| JP6326780B2 (en) | Window pasting film | |
| WO2015037514A1 (en) | Method for manufacturing multilayer dielectric film | |
| JP2017096990A (en) | Method for producing light reflection film | |
| CN108885288B (en) | Optical reflective film | |
| WO2014148366A1 (en) | Light reflecting film and fabrication method therefor | |
| JP6672984B2 (en) | Optical reflection film, method for manufacturing optical reflection film, and optical reflector |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190327 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200114 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200302 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200602 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200720 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200804 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200817 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6759697 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |