JP2017141500A - 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017141500A JP2017141500A JP2016024920A JP2016024920A JP2017141500A JP 2017141500 A JP2017141500 A JP 2017141500A JP 2016024920 A JP2016024920 A JP 2016024920A JP 2016024920 A JP2016024920 A JP 2016024920A JP 2017141500 A JP2017141500 A JP 2017141500A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- deposition mask
- frame
- metal piece
- metal layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Laser Beam Processing (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
Description
まず、対象物に蒸着材料を蒸着させる蒸着処理を実施する蒸着装置90について、図1Aを参照して説明する。図1Aに示すように、蒸着装置90は、蒸着源(例えばるつぼ94)、ヒータ96、及び蒸着マスク装置10を備える。るつぼ94は、有機発光材料などの蒸着材料98を収容する。ヒータ96は、るつぼ94を加熱して蒸着材料98を蒸発させる。蒸着マスク装置10は、るつぼ94と対向するよう配置されている。
以下、蒸着マスク装置10について説明する。図1Aに示すように、蒸着マスク装置10は、蒸着マスク20と、蒸着マスク20を支持するフレーム15と、を備える。フレーム15は、蒸着マスク20が撓んでしまうことがないように、蒸着マスク20をその面方向に引っ張った状態で支持する。蒸着マスク装置10は、図1Aに示すように、蒸着マスク20が、蒸着材料98を付着させる対象物である基板、例えば有機EL基板92に対面するよう、蒸着装置90内に配置される。以下の説明において、蒸着マスク20の面のうち、有機EL基板92側の面を第1面20aと称し、第1面20aの反対側に位置する面を第2面20bと称する。
次に、蒸着マスク20について詳細に説明する。図2に示すように、蒸着マスク20は、蒸着マスク20の長手方向における一対の端部20eを構成する一対の耳部17と、一対の耳部17の間に位置する中間部18と、を備えている。
まず、耳部17について詳細に説明する。耳部17は、蒸着マスク20のうちフレーム15に固定される部分である。本実施の形態において、耳部17は、第2面20b側において溶接によってフレーム15に固定される。以下の説明において、耳部17及びフレーム15のうち溶接によって互いに接合されている部分のことを、接合部19と称する。
次に、中間部18について説明する。図2、図3及び図5に示すように、中間部18は、第1面20aから第2面20bに至る貫通孔25が形成された有効領域22と、有効領域22を取り囲む周囲領域23と、を含む。周囲領域23は、有効領域22を支持するための領域であり、有機EL基板92へ蒸着されることを意図された蒸着材料が通過する領域ではない。例えば、有効領域22は、蒸着マスク20のうち、有機EL基板92の表示領域に対面する領域である。
・第2金属層37の幅M2:2μm以上且つ20μm以下
・蒸着マスク20の厚みT0:5μm以上且つ50μm以下、より好ましくは3μm以上且つ50μm以下、さらに好ましくは3μm以上且つ30μm以下、さらに好ましくは3μm以上且つ25μm以下
・第1金属層32の厚みT1:5μm以下
・第2金属層37の厚みT2:2μm以上且つ50μm以下、より好ましくは3μm以上且つ50μm以下、さらに好ましくは3μm以上且つ30μm以下、さらに好ましくは3μm以上且つ25μm以下
なお、本実施の形態において、蒸着マスク20の厚みT0は、耳部17及び中間部18のいずれにおいても同一である。
図9A乃至図9Dは、蒸着マスク20の製造方法を説明する図である。
まず、図9Aに示すパターン基板50を準備する。パターン基板50は、絶縁性を有する基材51と、基材51上に形成された導電性パターン52と、を有する。導電性パターン52は、第1金属層32に対応するパターンを有する。
次に、導電性パターン52が形成された基材51上に第1めっき液を供給して、導電性パターン52上に第1金属層32を析出させる第1めっき処理工程を実施する。例えば、導電性パターン52が形成された基材51を、第1めっき液が充填されためっき槽に浸す。これによって、図9Bに示すように、パターン基板50上に、所定のパターンで第1開口部30が設けられた第1金属層32を得ることができる。
次に、基材51上および第1金属層32上に、所定の隙間56を空けてレジストパターン55を形成するレジスト形成工程を実施する。図9Cは、基材51上に形成されたレジストパターン55を示す断面図である。図9Cに示すように、レジスト形成工程は、第1金属層32の第1開口部30がレジストパターン55によって覆われるとともに、レジストパターン55の隙間56が第1金属層32上に位置するように実施される。
次に、レジストパターン55の隙間56に第2めっき液を供給して、第1金属層32上に第2金属層37を析出させる第2めっき処理工程を実施する。例えば、第1金属層32が形成された基材51を、第2めっき液が充填されためっき槽に浸す。これによって、図9Dに示すように、第1金属層32上に第2金属層37を形成することができる。
その後、レジストパターン55を除去する除去工程を実施する。例えばアルカリ系剥離液を用いることによって、レジストパターン55を基材51、第1金属層32や第2金属層37から剥離させることができる。
次に、第1金属層32および第2金属層37の組み合わせ体を基材51から分離させる分離工程を実施する。これによって、所定のパターンで第1開口部30が設けられた第1金属層32と、第1開口部30に連通する第2開口部35が設けられた第2金属層37と、を備えた蒸着マスク20を得ることができる。
その他にも、分離工程においては、はじめに、第1金属層32および第2金属層37の組み合わせ体と基材51との間に、分離のきっかけとなる間隙を形成し、次に、この間隙にエアを吹き付け、これによって分離工程を促進してもよい。
次に、上述のようにして得られた蒸着マスク20をフレーム15に溶接する溶接工程を実施する。これによって、蒸着マスク20及びフレーム15を備える蒸着マスク装置10を得ることができる。
ところで、本件発明者らが鋭意研究を重ねたところ、めっき処理によって製造された蒸着マスク20は、圧延によって得られた金属板をエッチングして貫通孔を形成することによって製造された蒸着マスク20に比べて、接合部19の溶接強度が低くなることを見出した。以下、めっき処理によって製造された蒸着マスク20をフレーム15に溶接した場合に見られた現象について、図10A及び図10Bを参照して説明する。
凹部19cは、第2面20b側へ窪んだ部分である。凹部19cは、耳部17のうちレーザー光Lが照射された部分とレーザー光Lが照射されなかった部分との境界の近傍に形成された。言い換えると、凹部19cは、スポット径Sによって表されるレーザー光Lの外縁の近傍に形成された。
凸部19bは、第1面20aから上方へ突出した部分である。凸部19bは、凹部19cよりも溶接痕19aの中心側に形成された。
なお、上述の凸部19b及び凹部19cが形成された理由が、上述の理由に限られることはない。
従来の溶接工程における上述の課題を解決するため、本実施の形態においては、金属片60を利用して溶接工程を実施することを提案する。以下、本実施の形態による溶接工程について、図12A乃至図12Dを参照して説明する。
まず、図12Aに示すように、蒸着マスク20の耳部17を、第2面20bがフレーム15に面するようにフレーム15上に配置する。次に、蒸着マスク20の耳部17の第1面20aのうち第1面20aの法線方向に沿って蒸着マスク20を見た場合にフレーム15と重なる部分に金属片60を配置する。なお、耳部17上に金属片60を配置した後、耳部17をフレーム15上に配置してもよい。
次に、前記金属片60を加熱する加熱工程を実施する。例えば、図12Aに示すように、金属片60にレーザー光Lを照射する照射工程を実施する。これによって、図12Bに示すように、金属片60の中央部61、蒸着マスク20の耳部17の一部及びフレーム15の一部が溶融して、耳部17及びフレーム15に跨る溶融領域19fが形成される。このとき、金属片60の中央部61は、蒸着マスク20の耳部17と一体化している。
次に、金属片60の一部を除去する除去工程を実施する。例えば、図12Cに示すように、金属片60の周縁部62を除去する。このようにして、フレーム15と、接合部19によってフレーム15に接合された蒸着マスク20と、を備える蒸着マスク装置10を得ることができる。
また、蒸着マスク20を有機EL基板92に密着させる密着工程を実施する前に、有機EL基板92の面方向における蒸着マスク20の位置を調整する位置調整工程を実施することがある。位置調整工程においては、例えば、有機EL基板92と蒸着マスク20の第1面20aとの間に所定の間隔を空けた状態で蒸着マスク20を有機EL基板92の面方向に沿って移動させて、蒸着マスク20の位置を調整する。このとき、蒸着マスク20の位置調整の誤差に起因して、凸部19bが有機EL基板92に接触することも考えられる。
上述の本実施の形態においては、溶接工程によって形成される溶接痕19aが、その中央部に形成された凸部19bを含む例を示したが、これに限られることはない。本変形例においては、溶接工程によって形成される溶接痕19aが、その中央部に形成された凹部19cを含む例について説明する。
上述の本実施の形態においては、金属片60にレーザー光Lを照射することによって金属片60を加熱して、蒸着マスク20をフレーム15に溶接する例を示した。しかしながら、金属片60を加熱する方法が、レーザー光Lを照射する方法に限られることはない。例えば、金属片60並びに金属片60と重なる耳部17及びフレーム15に電流を流すことにより、金属片60を加熱してもよい。
上述の本実施の形態においては、蒸着マスク20が、第1金属層32および第2金属層37という、少なくとも2つの金属層を積層させることによって構成される場合について説明した。しかしながら、これに限られることはなく、蒸着マスク20は、所定のパターンで複数の貫通孔25が形成された1つの金属層27によって構成されていてもよい。以下、図14A〜図15を参照して、蒸着マスク20が1つの金属層27を備える例について説明する。なお、本変形例においては、蒸着マスク20の第1面20aから第2面20bに至る貫通孔25のうち第1面20a上に位置する部分を第1開口部30と称し、貫通孔25のうち第2面20b上に位置する部分を第2開口部35と称する。
上述の本実施の形態および変形例においては、めっき処理によって蒸着マスク20を作製する例について説明した。しかしながら、蒸着マスク20を作製するために採用される方法が、めっき処理に限られることはない。例えば、上述の特許文献1に開示されているように、エッチングによって金属板21に貫通孔25を形成することによって蒸着マスク20を作製してもよい。
上述の本実施の形態及び変形例においては、蒸着マスク20の耳部17の厚みと中間部18の厚みとが同一である例を示した。しかしながら、これに限られることはなく、耳部17の厚みと中間部18の厚みとが異なっていてもよい。
上述の本実施の形態及び変形例においては、金属片60が、耳部17の第1面20aに平行に広がる板状の部材である例を示した。しかしながら、耳部17上に配置された金属片60を加熱することによって耳部17をフレーム15に溶接することができる限りにおいて、金属片60の形状が特に限られることはない。例えば、金属片60は、矩形以外の断面形状、例えば円形の断面形状を有する線状の部材であってもよい。
めっき処理によって製造される蒸着マスク20の耳部17に対応するサンプル17Sを作製し、次に、サンプル17Sを、上述の金属片60を用いてフレーム15に溶接した。その後、サンプル17Sの溶接強度を、上述の図11に示す方法を用いて測定した。
18μmの厚みT3を有する金属片60を用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、サンプル17Sの溶接強度を測定した。サンプル17Sの溶接強度は、206mNであった。また、実施例1の場合と同様に、サンプル17Sをフレーム15から剥がすことなく、周縁部62を接合部19から分離することができた。
23μmの厚みT3を有する金属片60を用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、サンプル17Sの溶接強度を測定した。サンプル17Sの溶接強度は、354mNであった。また、実施例1の場合と同様に、サンプル17Sをフレーム15から剥がすことなく、周縁部62を接合部19から分離することができた。
28μmの厚みT3を有する金属片60を用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、サンプル17Sの溶接強度を測定した。サンプル17Sの溶接強度は、404mNであった。また、実施例1の場合と同様に、サンプル17Sをフレーム15から剥がすことなく、周縁部62を接合部19から分離することができた。
めっき処理によって得られた膜を切り出すことによって得られた、15μmの厚みT3を有する金属片60を用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、サンプル17Sの溶接強度を測定した。サンプル17Sの溶接強度は、163mNであった。また、実施例1の場合と同様に、サンプル17Sをフレーム15から剥がすことなく、周縁部62を接合部19から分離することができた。
めっき処理によって得られた膜を切り出すことによって得られた、25μmの厚みT3を有する金属片60を用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、サンプル17Sの溶接強度を測定した。サンプル17Sの溶接強度は、360mNであった。また、実施例1の場合と同様に、サンプル17Sをフレーム15から剥がすことなく、周縁部62を接合部19から分離することができた。
33μmの厚みT3を有する金属片60を用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、サンプル17Sをフレーム15に溶接した。次に、周縁部62を接合部19から分離するため、周縁部62を引っ張ったところ、サンプル17Sがフレーム15から剥がれてしまった。
めっき処理によって得られた膜を切り出すことによって得られた、5μmの厚みT3を有する金属片60を用いたこと以外は、実施例1の場合と同様にして、サンプル17S上に配置された金属片60にレーザー光Lを照射した。結果、サンプル17Sをフレーム15に固定することができなかった。
15 フレーム
17 耳部
18 中間部
19 接合部
19a 溶接跡
19b 凸部
19c 凹部
19f 溶融領域
20 蒸着マスク
22 有効領域
23 周囲領域
25 貫通孔
30 第1開口部
31 壁面
32 第1金属層
34 窪み部
35 第2開口部
36 壁面
37 第2金属層
41 接続部
50 パターン基板
51 基材
52 導電性パターン
60 金属片
90 蒸着装置
92 有機EL基板
98 蒸着材料
Claims (9)
- 蒸着マスク装置の製造方法であって、
第1面から第2面に至る複数の貫通孔を含む蒸着マスクを準備する準備工程と、
前記蒸着マスクをフレームに溶接する溶接工程と、を備え、
前記溶接工程は、
前記蒸着マスクを、前記第2面が前記フレームに面するように前記フレーム上に配置し、且つ、前記蒸着マスクの前記第1面のうち前記第1面の法線方向に沿って前記蒸着マスクを見た場合に前記フレームと重なる部分に金属片を配置する配置工程と、
前記金属片を加熱する加熱工程と、を含む、蒸着マスク装置の製造方法。 - 前記加熱工程は、前記金属片にレーザー光を照射する照射工程を含む、請求項1に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 前記準備工程は、前記蒸着マスクをめっき処理によって形成する工程を含む、請求項1又は2に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 前記準備工程は、前記フレームに溶接される部分が3μm以上且つ25μm以下の厚みを有する前記蒸着マスクを準備する、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 前記蒸着マスク、前記フレーム、及び前記金属片はいずれも、ニッケルを含む鉄合金を有する、請求項1乃至4のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 前記溶接工程は、前記加熱工程の後に前記金属片の一部を除去する除去工程を更に含む、請求項1乃至5のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 前記溶接工程の前記配置工程は、10μm以上且つ30μm以下の厚みを有する前記金属片を用いる、請求項1乃至6のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 前記溶接工程の前記配置工程は、母材を圧延することによって作製された前記金属片を用いる、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
- 前記溶接工程の前記配置工程は、めっき処理によって作製された前記金属片を用いる、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の蒸着マスク装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016024920A JP6720564B2 (ja) | 2016-02-12 | 2016-02-12 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016024920A JP6720564B2 (ja) | 2016-02-12 | 2016-02-12 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017141500A true JP2017141500A (ja) | 2017-08-17 |
JP6720564B2 JP6720564B2 (ja) | 2020-07-08 |
Family
ID=59628334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016024920A Active JP6720564B2 (ja) | 2016-02-12 | 2016-02-12 | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6720564B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019098167A1 (ja) * | 2017-11-14 | 2019-05-23 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
CN111485194A (zh) * | 2019-01-29 | 2020-08-04 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩模、蒸镀掩模装置及其制造方法、中间体、蒸镀方法及有机el显示装置的制造方法 |
JP2021036076A (ja) * | 2018-11-13 | 2021-03-04 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
CN114108039A (zh) * | 2021-08-26 | 2022-03-01 | 达运精密工业股份有限公司 | 形成金属掩模的方法与金属掩模 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004169169A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 蒸着用マスク構造体とその製造方法、及びこれを用いた有機el素子の製造方法 |
JP2005302457A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Toray Ind Inc | 蒸着マスクおよびその製造方法並びに有機電界発光装置の製造方法 |
JP2014177682A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | V Technology Co Ltd | 蒸着マスクの製造方法 |
-
2016
- 2016-02-12 JP JP2016024920A patent/JP6720564B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004169169A (ja) * | 2002-11-22 | 2004-06-17 | Samsung Nec Mobile Display Co Ltd | 蒸着用マスク構造体とその製造方法、及びこれを用いた有機el素子の製造方法 |
JP2005302457A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Toray Ind Inc | 蒸着マスクおよびその製造方法並びに有機電界発光装置の製造方法 |
JP2014177682A (ja) * | 2013-03-15 | 2014-09-25 | V Technology Co Ltd | 蒸着マスクの製造方法 |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11237481B2 (en) | 2017-11-14 | 2022-02-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate for manufacturing deposition mask and manufacturing method for metal plate, and deposition mask and manufacturing method for deposition mask |
JP2020079441A (ja) * | 2017-11-14 | 2020-05-28 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
JPWO2019098167A1 (ja) * | 2017-11-14 | 2020-12-17 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
CN113061843A (zh) * | 2017-11-14 | 2021-07-02 | 大日本印刷株式会社 | 制造蒸镀掩模的金属板及其制造方法、蒸镀掩模及其制造方法和具备其的蒸镀掩模装置 |
WO2019098167A1 (ja) * | 2017-11-14 | 2019-05-23 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
JP7167936B2 (ja) | 2017-11-14 | 2022-11-09 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
US11733607B2 (en) | 2017-11-14 | 2023-08-22 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Metal plate for producing vapor deposition masks, inspection method for metal plates, production method for metal plates, vapor deposition mask, vapor deposition mask device, and production method for vapor deposition masks |
JP7478364B2 (ja) | 2017-11-14 | 2024-05-07 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板の評価方法 |
JP2021036076A (ja) * | 2018-11-13 | 2021-03-04 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
JP7478359B2 (ja) | 2018-11-13 | 2024-05-07 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクを製造するための金属板及び金属板の製造方法並びに蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスクを備える蒸着マスク装置 |
CN111485194A (zh) * | 2019-01-29 | 2020-08-04 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩模、蒸镀掩模装置及其制造方法、中间体、蒸镀方法及有机el显示装置的制造方法 |
CN114108039A (zh) * | 2021-08-26 | 2022-03-01 | 达运精密工业股份有限公司 | 形成金属掩模的方法与金属掩模 |
CN114108039B (zh) * | 2021-08-26 | 2023-09-15 | 达运精密工业股份有限公司 | 形成金属掩模的方法与金属掩模 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6720564B2 (ja) | 2020-07-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7121918B2 (ja) | 蒸着マスク装置及び蒸着マスク装置の製造方法 | |
WO2018110253A1 (ja) | 蒸着マスク装置及び蒸着マスク装置の製造方法 | |
JP7008288B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク装置の製造方法 | |
KR20170110623A (ko) | 증착 마스크의 제조 방법 및 증착 마스크 | |
JP2017141500A (ja) | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 | |
CN213232465U (zh) | 蒸镀掩模、蒸镀掩模装置以及中间体 | |
US11773477B2 (en) | Deposition mask | |
JP2016148113A (ja) | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク | |
JP7078118B2 (ja) | 蒸着マスク、蒸着マスク装置、蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク装置の製造方法及び蒸着方法 | |
JP6536941B2 (ja) | 蒸着マスク製造方法 | |
JP6709534B2 (ja) | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 | |
JP6747054B2 (ja) | 蒸着マスク溶接方法 | |
JP6701543B2 (ja) | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 | |
JP2017101302A (ja) | 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 | |
JP6868227B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP2017160470A (ja) | 蒸着マスク装置の製造方法及び蒸着マスク装置 | |
JP7047828B2 (ja) | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 | |
JP2019199645A (ja) | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 | |
JP2021066949A (ja) | 蒸着マスクおよび蒸着マスクの製造方法 | |
JP2018080377A (ja) | 蒸着マスク及び蒸着マスク製造方法 | |
JP2016199775A (ja) | 蒸着マスクの製造方法 | |
JP7134589B2 (ja) | 蒸着マスク | |
JP2021008673A (ja) | 蒸着マスク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181226 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20191021 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20191108 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20191226 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200519 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200601 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6720564 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |