JP2017126065A - 感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物で製造される光硬化パターン、及び光硬化パターンを備える画像表示装置 - Google Patents

感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物で製造される光硬化パターン、及び光硬化パターンを備える画像表示装置 Download PDF

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Abstract

【課題】硬化密度が高く、密着性、耐化学性及び保存安定性などに優れた感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】本発明は、感光性樹脂組成物に関し、より詳細には、アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性化合物(B)と、光重合開始剤(C)と、溶剤(D)と、添加剤(E)とを含み、前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位、及び特定の化学式で表される繰り返し単位を有する特定の樹脂を含むことにより、硬化密度が高く、密着性、耐化学性及び保存安定性などに優れた感光性樹脂組成物に関する。【選択図】なし

Description

本発明は、感光性樹脂組成物、感光性樹脂組成物で製造される光硬化パターン、及び光硬化パターンを備える画像表示装置に関する。
ディスプレイ分野において、感光性樹脂組成物は、フォトレジスト、絶縁膜、保護膜、ブラックマトリックス、カラムスペーサ等の様々な光硬化パターンを形成するために用いられる。具体的には、感光性樹脂組成物をフォトリソグラフィ工程によって選択的に露光及び現像して所望の光硬化パターンを形成するが、この過程において、工程上の歩留を向上させ、適用対象の物性を向上させるために、高感度な感光性樹脂組成物が求められている。
感光性樹脂組成物のパターン形成は、フォトリソグラフィ、すなわち光反応により起こる高分子の極性変化及び架橋反応によって行われる。特に、露光後のアルカリ水溶液などの溶媒に対する溶解性の変化特性を利用する。
感光性樹脂組成物によるパターン形成は、感光された部分の現像に対する溶解度によってポジ型とネガ型とに分類される。ポジ型フォトレジストは、露光された部分が現像液によって溶解され、ネガ型フォトレジストは、露光された部分が現像液に溶解されず、露光されない部分が溶解されることによって、パターンが形成される方式である。ポジ型とネガ型とは、用いられるバインダー樹脂、架橋剤などで互いに相違する。
従来の感光性樹脂組成物は、熱工程前後で厚さの変化が発生し、微細パターンの形成が困難であり、現像性が十分ではないといった問題がある。
近年、このような問題を解決するために、感光性樹脂組成物に無機質粉末を添加する方法が特開2000−095896号公報に開示されている。しかし、感光性樹脂組成物と無機質粉末との相溶性の低下及び基板との接着性等が招く現像性低下の問題によって、無機質粉末の含有量を充分に高くすることができない問題がある。それ故に、前述の感光性樹脂組成物の問題を充分に解決することができないという限界があった。
特開2000−095896号公報
本発明は、硬化密度が高く、密着性、耐化学性及び保存安定性などが向上した感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、前記感光性樹脂組成物から形成される光硬化パターン及びそれを備える画像表示装置を提供することを目的とする。
1.アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性化合物(B)と、光重合開始剤(C)と、溶剤(D)と、添加剤(E)とを含み、前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位、及び下記化学式1で表される繰り返し単位を有する第1の樹脂(A−1)を含む、感光性樹脂組成物。
Figure 2017126065
(式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基である。)
2.前記項目1において、前記オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位は、下記化学式2で表されるものである、感光性樹脂組成物。
Figure 2017126065
(式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、炭素数1〜6のアルキレン基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基である。)
3.前記項目1において、前記第1の樹脂(A−1)は、下記化学式3で表される繰り返し単位、及び下記化学式4で表される繰り返し単位をさらに有する、感光性樹脂組成物。
Figure 2017126065
(式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、炭素数3〜8のシクロアルキル、炭素数6〜18のアリール基、または−COO−R’であり、前記R’は、炭素数3〜8のシクロアルキル、炭素数6〜18のアリール基であり、前記シクロアルキル又は前記アリール基の水素原子のうちの少なくとも一つは、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基でさらに置換されてもよい。)
Figure 2017126065
(式中、Rは、水素原子またはメチル基である。)
4.前記項目1において、前記第1の樹脂(A−1)は、下記化学式5で表されるものである、感光性樹脂組成物。
Figure 2017126065
(式中、R、R、R及びRは、互いに独立して水素またはメチル基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、Rは、炭素数1〜6のアルキレン基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、Rは、炭素数3〜8のシクロアルキルまたは炭素数6〜18のアリール基であり、前記シクロアルキル又は前記アリール基の水素原子のうちの少なくとも一つは、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基でさらに置換されてもよく、a=0.1〜50mol%、b=2〜50mol%、c=2〜95mol%、d=2〜70mol%である。)
5.前記項目1において、感光性樹脂組成物中の固形分100重量部に対して、前記アルカリ可溶性樹脂(A)は5〜90重量部、前記光重合性化合物(B)は1〜90重量部、前記光重合開始剤(C)は0.1〜20重量部、前記添加剤(E)は0.001〜1重量部含まれる、感光性樹脂組成物。
6.前記項目1において、前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、下記化学式6で表される第2の樹脂(A−2)をさらに含む、感光性樹脂組成物。
Figure 2017126065
(式中、R及びR10は、互いに独立して水素原子またはメチル基であり、Xは、単結合または炭素数1〜6のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、ヘテロ原子を含んでも含まなくてもよく、e=60〜95mol%、f=5〜40mol%である。)
7.前記項目1〜6のいずれか一つに記載の感光性樹脂組成物で製造される光硬化パターン。
8.前記項目7において、前記光硬化パターンは、接着剤層、アレイ平坦化膜パターン、保護膜パターン、絶縁膜パターン、フォトレジストパターン、カラーフィルタパターン、ブラックマトリックスパターン、及びスペーサパターンからなる群より選択される、光硬化パターン。
9.前記項目7に記載の光硬化パターンを備える画像表示装置。
本発明による感光性樹脂組成物は、硬化密度が高くて線幅とパターン形状が良好であり、密着性、耐化学性、保存安定性及び微細パターン形成性などに優れる。
本発明の一実施形態に係る感光性樹脂組成物は、第2の樹脂(A−2)をさらに含むことにより、第1の樹脂のラジカル重合および第2の樹脂の熱硬化反応により、さらに堅固なパターンを形成することができる。
本発明の一実施形態は、アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性化合物(B)と、光重合開始剤(C)と、溶剤(D)と、添加剤(E)とを含み、前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位、及び下記化学式1で表される繰り返し単位を有する第1の樹脂(A−1)を含むことにより、硬化密度が高く、優れた密着性、耐化学性及び保存安定性などを提供できる感光性樹脂組成物に関する。
本発明において、化学式で表される繰り返し単位、化合物または樹脂が異性体を有する場合は、繰り返し単位、化合物または樹脂を表示する当該化学式は、その異性体まで含む代表化学式を意味する。
本発明において、「(メタ)アクリル−」は、「アクリル−」又は「メタアクリル−」、或いはその両方を指す。
本発明において、「第1の樹脂」の「第1」は、以下で説明する樹脂を、必要に応じてさらに添加し得る他の樹脂と区別するために使用する用語であるだけで、他の樹脂の併用を前提とするものではない。
本発明において、前記第1及び第2の樹脂で表される各々の繰り返し単位は、表されたものに限定して解釈してはならず、括弧内のサブ繰り返し単位が、定められたモル%の範囲内で、鎖のいずれの位置でも自由に位置することができる。つまり、各々の繰り返し単位の括弧は、モル%を示すために1つのブロックとして表示されているが、各サブ繰り返し単位は、当該樹脂内であれば、制限されることなく、ブロックとして、又はそれぞれ分離して位置され得る。
<感光性樹脂組成物>
本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性化合物(B)と、光重合開始剤(C)と、溶剤(D)と、添加剤(E)とを含む。
アルカリ可溶性樹脂(A)
本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂(A)は、パターンを形成する際の現像処理工程で用いられるアルカリ現像液に対して可溶性を付与する成分であり、オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位、及び下記化学式1で表される繰り返し単位を有する第1の樹脂(A−1)を含む。
本発明による第1の樹脂は、オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位、及び下記化学式1で表される繰り返し単位を有することにより、硬化密度を高くすることができる。これにより、これを含めて形成した光硬化パターンの線幅とパターン形状が良好であり、密着性、耐化学性、保存安定性及び微細パターン形成性などに優れる。
Figure 2017126065
(式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基である。)
本発明によるオキセタン官能基と前記化学式1で表される繰り返し単位に含まれる官能基とが一つの樹脂に共存する場合、組成物の硬化時に熱硬化及び光硬化のいずれも採用できるので、優れた硬化性が得られることは勿論であり、それぞれが別個の樹脂に含まれる場合よりも同一の樹脂に含まれる場合に、架橋などによる反応性に優れ、硬化密度の側面で顕著に優れるため、これを含む組成物によりパターンを形成すると、優れた現像性、密着性、耐化学性及び保存安定性などを確保するのに顕著に有利である。
このような側面から、好ましくは、本発明の一実施形態に係る前記オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位は、下記化学式2で表すことができる。
Figure 2017126065
(式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、炭素数1〜6のアルキレン基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基である。)
これにより、前述した本発明の目的及び効果をさらに効率よく達成することができる。
本発明による第1の樹脂は、前記化学式1の繰り返し単位以外にも、当分野で公知の他の単量体で形成された繰り返し単位をさらに有してもよい。
必要に応じて、本発明の一実施形態に係る第1の樹脂(A−1)は、好ましくは、下記化学式3で表される繰り返し単位及び下記化学式4で表される繰り返し単位をさらに有することができる。
Figure 2017126065
(式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、炭素数3〜8のシクロアルキル、炭素数6〜18のアリール基、または−COO−R’であり、前記R’は、炭素数3〜8のシクロアルキル、炭素数6〜18のアリール基であり、前記シクロアルキル又は前記アリール基の水素原子のうちの少なくとも一つは、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基でさらに置換されてもよい。)
Figure 2017126065
(式中、Rは、水素原子またはメチル基である。)
本発明の一実施形態に係る第1の樹脂(A−1)は、炭素数3〜8のシクロアルキル又は炭素数6〜18のアリール基を含むことにより、環状構造を樹脂中に含むことになるので、耐化学性、耐熱性などに優れる。例えば、後工程の際に、パターンがストリッパーなどに対して良好に耐えるなどの効果があるので、現像性の向上に役立つ。また、前記化学式4の繰り返し単位を有することにより、樹脂にアルカリ溶解性を付与することができる。
本発明による第1の樹脂は、オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位及び前記化学式1で表される繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂であれば特に制限されないが、好ましい例として、下記化学式5で表される繰り返し単位を含むことができる。
Figure 2017126065
(式中、R、R、R及びRは、互いに独立して水素またはメチル基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、Rは、炭素数1〜6のアルキレン基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、Rは、炭素数3〜8のシクロアルキルまたは炭素数6〜18のアリール基であり、前記シクロアルキル又は前記アリール基の水素原子のうちの少なくとも一つは、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基でさらに置換されてもよく、a=0.1〜50mol%、b=2〜50mol%、c=2〜95mol%、d=2〜70mol%、好ましくは、a=25〜45mol%、b=20〜40mol%、c=10〜30mol%、d=20〜50mol%である。)
最も優れたパターン形成性、現像性を示す側面から、第1の樹脂の重量平均分子量は10,000〜30,000であることが好ましい。前記分子量範囲において最も優れたパターン形成性及び現像性等が示される。
必要に応じて、本発明による前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、下記化学式6で表される第2の樹脂(A−2)をさらに含むことができる。本発明のアルカリ可溶性樹脂(A)は、第2の樹脂(A−2)を含み、ポストベーク段階におけるエポキシ官能基とカルボン酸との開環重合反応により熱硬化反応が行われる。そのため、本発明の感光性樹脂組成物で形成されたパターンは、第1の樹脂のラジカル重合及び第2の樹脂の熱硬化反応によってさらに硬く形成することができる。
Figure 2017126065
(式中、R及びR10は、互いに独立して水素原子またはメチル基であり、Xは、単結合または炭素数1〜6のアルキレン基であり、前記アルキレン基は、ヘテロ原子を含んでも含まなくてもよく、e=60〜95mol%、f=5〜40mol%である。)
密着性をさらに改善する側面から、第2の樹脂の重量平均分子量は2,000〜30,000であることが好ましい。
また、本発明の一実施形態による前記第1の樹脂及び前記第2の樹脂に、互いに独立して、他の繰り返し単位を付加することができる。このような付加することができる繰り返し単位を形成する共単量体としては、本発明の目的を達成できるものであれば、当分野で公知の共単量体を特に制限なく用いることができる。
本発明の一実施形態に係るアルカリ可溶性樹脂(A)において、第1の樹脂と第2の樹脂との混合重量比は、20:80〜80:20であってもよく、好ましくは30:70〜70:30であってもよい。前記範囲において最も優れた密着性、現像性、T/B比が示される。
アルカリ可溶性樹脂(A)は、酸価が20〜200(KOHmg/g)の範囲であることが好ましい。酸価が前記範囲にあると、優れた現像性及び経時安定性を有することができる。
アルカリ可溶性樹脂(A)の分子量分布[重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)]は、1.5〜6.0であることが好ましく、1.8〜4.0であることがより好ましい。前記分子量分布[重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)]が前記範囲内であると、現像性に優れるため好ましい。
アルカリ可溶性樹脂(A)の含有量は、特に限定されないが、例えば、感光性樹脂組成物中の固形分100重量部に対して、前記アルカリ可溶性樹脂(A)を5〜90重量部、好ましくは10〜70重量部含むことができる。前記範囲内であれば、現像液への溶解性が十分で現像性に優れ、優れた機械的物性を有する光硬化パターンを形成することができる。
光重合性化合物(B)
本発明の感光性樹脂組成物に用いられる光重合性化合物(B)は、光及び後述する光重合開始剤(C)の作用により重合できる化合物であり、製造工程中の架橋密度を増加させ、光硬化パターンの機械的特性を強化し得る。
光重合性化合物(B)は、樹脂組成物の現像性、感度、密着性、表面の問題などを改善するために、官能基の構造や官能基の数が異なる2つまたはそれ以上の光重合性化合物を混合して用いることができ、当分野で用いられるものを特に制限なく用いることができる。例えば、単官能単量体、2官能単量体及びその他の多官能単量体であり、下記の化合物がその例として挙げられる。
単官能単量体の具体例としては、ノニルフェニルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、N−ビニルピロリドン等が挙げられる。2官能単量体の具体例としては、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのビス(アクリロイルオキシエチル)エーテル、3−メチルペンタンジオールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。その他の多官能単量体の具体例としては、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、エトキシル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、プロポキシル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、エトキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、プロポキシル化ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、2官能以上の多官能単量体が好ましく用いられる。
前記光重合性化合物(B)の含有量は、特に限定されないが、例えば、感光性樹脂組成物中の固形分を基準として、アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部に対して1〜90重量部、好ましくは10〜80重量部の範囲で用いられる。光重合性化合物(B)の含有量が前記範囲内であると、優れた耐久性を有することができ、組成物の現像性を向上させることができる。
光重合開始剤(C)
本発明による光重合開始剤としては、当分野で通常用いられるものを、本発明の目的に逸脱しない範囲内で制限なく用いることができる。高感度、および本発明の感光性樹脂組成物から形成される光硬化パターンの強度や表面平滑性の側面から、トリアジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、オキシム化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物、アントラセン系化合物などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは、それぞれ単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
そのほか、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアントラキノン、ベンジル、9,10−フェナントレンキノン、カンファキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物なども用いることができる。
また、光重合開始剤として、連鎖移動を起こすことができる基を有する光重合開始剤を用いることもできる。このような光重合開始剤としては、例えば、特表2002−544205号公報に記載されているものが挙げられる。
前記光重合開始剤は、重合開始助剤と組み合わせて用いてもよい。前記光重合開始剤と重合開始助剤とを併用すると、これらを含有する感光性樹脂組成物は、さらに高感度になり、光硬化パターン形成時の生産性を向上させることができるため好ましい。
前記重合開始助剤としては、当分野で通常用いられるものを、本発明の目的から逸脱しない範囲内でその種類を特に制限することなく用いることができる。具体的には、アミン化合物、カルボン酸化合物を好ましく用いることができる。
前記光重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、例えば、感光性樹脂組成物中の固形分100重量部に対して0.1〜20重量部であってもよい。前記範囲内であると、感光性樹脂組成物の高感度化によって露光時間が短縮されるため、生産性が向上し、高解像度を維持することができ、形成した画素部の強度及び画素部の表面における平滑性が良好になる点で好ましい。
溶剤(D)
本発明による溶剤は、当該分野で通常用いられるものであれば、何れでも制限されることなく用いることができる。
前記溶剤の具体例としては、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、アルキレングリコールアルキルエーテルアセテート類、アルコキシブチルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類、ブチルジオールモノアルキルエーテル類、ブタンジオールモノアルキルエーテルアセテート類、ブタンジオールモノアルキルエーテルプロピオネート類、アルコキシエチルプロピオネート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、アルコール類、エステル類、アルコキシアルカノール類、環状エーテル類、環状エステル類などが挙げられる。塗布性及び乾燥性を考慮すると、メチルエチルジエチレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシ−1−ブタノールなどが好ましい。これらは、それぞれ単独に又は2種以上を混合して用いることができる。
前記溶剤の含有量は、特に制限されないが、例えば、感光性樹脂組成物の合計100重量部に対して40〜90重量部であってもよい。前記範囲を満たすと、スピンコーター、スリットアンドスピンコーター、スリットコーター(「ダイコーター」、「カーテンフローコーター」と呼ばれることもある。)、インクジェット等の塗布装置で塗布したとき、塗布性が良好になるため好ましい。
添加剤(E)
本発明による感光性樹脂組成物は、必要に応じて、充填剤、他の高分子化合物、硬化剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤、連鎖移動剤などの添加剤をさらに含んでもよい。
前記添加剤は、それぞれ単独で又は2種以上を混合して用いることができる。
前記添加剤の含有量は、特に制限されないが、例えば、感光性樹脂組成物中の固形分100重量部に対して0.001〜1重量部であってもよい。
<光硬化パターン及び画像表示装置>
本発明は、前記感光性樹脂組成物で製造される光硬化パターン、及び該光硬化パターンを備える画像表示装置を提供することを目的とする。
前記感光性樹脂組成物で製造された光硬化パターンは、CD−Biasの制御が可能であり、T/B比の値、現像性、密着性及び機械的物性に優れる。これによって、画像表示装置における各種パターン、例えば、接着剤層、アレイ平坦化膜、保護膜、絶縁膜パターンなどに利用することができ、フォトレジスト、ブラックマトリクス、スペーサパターンなどに利用することもできるが、これらに限定されるものではない。
このような光硬化パターンを備えるか、或いは製造過程中に前記パターンを用いる画像表示装置としては、液晶表示装置、OLED、フレキシブルディスプレイなどが挙げられる。しかし、これらに限定されるものではなく、適用可能な当分野で公知となった全ての画像表示装置が挙げられる。
光硬化パターンは、前述の本発明の感光性樹脂組成物を基材上に塗布し、(必要に応じて現像工程を経た後)光硬化パターンを形成することによって製造できる。
具体的に、まず、感光性樹脂組成物を基板に塗布した後、加熱乾燥することにより、溶媒などの揮発成分を除去して平滑な塗膜を得る。
塗布方法としては、例えば、スピンコート、流延塗布法、ロール塗布法、スリットアンドスピンコート又はスリットコート法等が挙げられる。塗布後、加熱乾燥(プリベーク)、又は減圧乾燥後に加熱して溶媒などの揮発成分を揮発させる。ここで、加熱温度は、比較的低温である70〜100℃である。加熱乾燥後の塗膜厚さは、通常1〜8μm程度である。このようにして得られた塗膜に、目的とするパターンを形成するためのマスクを介して紫外線を照射する。このとき、露光部全体に均一に平行光線が照射されるように、またマスクと基板との正確な位置合わせがなされるように、マスクアライナー又はステッパなどの装置を用いることが好ましい。紫外線を照射すると、紫外線が照射された部位の硬化が行われる。
前記紫外線としては、g線(波長:436nm)、h線、i線(波長:365nm)などを用いることができる。紫外線の照射量は、必要に応じて適宜選択することができ、本発明ではこれを限定しない。硬化が終了した塗膜を必要に応じて現像液に接触させ、非露光部を溶解させて現像すると、目的とするパターン形状を形成することができる。
前記現像方法は、液添加法、ディッピング法、スプレー法などのいずれを用いても構わない。また、現像時に基板を任意の角度に傾斜させてもよい。前記現像液は、通常、アルカリ性化合物及び界面活性剤を含有する水溶液である。
前記現像液中の界面活性剤の濃度は、通常0.01〜10重量%、好ましくは0.05〜8重量%、より好ましくは0.1〜5重量%である。現像後、水洗し、比較的低温である100〜150℃で10〜60分間ポストベークを行う。
以下、本発明の理解を助けるために好適な実施例を提示するが、これらの実施例は本発明を例示するものに過ぎず、添付の特許請求の範囲を制限するものではない。これらの実施例に対し、本発明の範疇及び技術思想の範囲内で種々の変更及び修正を加えることが可能であることは当業者にとって明らかであり、これらの変形及び修正が添付の特許請求の範囲に属することも当然のことである。
<合成例1>第1の樹脂A−1−1の合成
還流冷却器、滴下漏斗、及び撹拌機を備えた1Lのフラスコ内に、窒素を0.02L/分で流入するようにして窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250gを投入した。これを100℃に昇温した後、アクリル酸36.0g(0.50モル)、3−エチル−3−オキセタニルメタクリレート51.1g(0.30モル)、ビニルトルエン23.6g(0.20モル)、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150gを含む混合物に2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)3.6gを添加した溶液を滴下ロートで2時間かけてフラスコに滴下し、さらに100℃で5時間撹拌を続けた。
次いで、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気にし、グリシジルメタクリレート49.8g[0.35モル(本反応に用いたアクリル酸に対して70モル%)]をフラスコ内に投入して、110℃で6時間反応を行った。これにより、固形分酸価が70mgKOH/gである不飽和基含有樹脂(A−1−1)を得た。GPCにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は24,100であり、分子量分布(Mw/Mn)は2.30であった。
<合成例1−2>第1の樹脂A−1−2の合成
還流冷却器、滴下漏斗、及び撹拌機を備えた1Lのフラスコ内に、窒素を0.02L/分で流入するようにして窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250gを投入した。これを100℃に昇温した後、アクリル酸36.0g(0.50モル)、3−エチル−3−オキセタニルメタクリレート51.1g(0.30モル)、シクロヘキシルメタクリレート33.6g(0.20モル)、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150gを含む混合物に2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)3.6gを添加した溶液を滴下ロートで2時間かけてフラスコに滴下し、さらに100℃で5時間撹拌を続けた。
次いで、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気にし、グリシジルメタクリレート49.8g[0.35モル(本反応に用いたアクリル酸に対して70モル%)]をフラスコ内に投入して、110℃で6時間反応を行った。これにより、固形分酸価が71mgKOH/gである不飽和基含有樹脂(A−1−2)を得た。GPCにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は23,900であり、分子量分布(Mw/Mn)は2.34であった。
<合成例2>第1の樹脂A−1−3の合成
還流冷却器、滴下漏斗、及び撹拌機を備えた1Lのフラスコ内に、窒素を0.02L/分で流入するようにして窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート250gを投入した。これを100℃に昇温した後、アクリル酸36.0g(0.50モル)、3−エチル−3−オキセタニルメタクリレート51.1g(0.30モル)、スチレン20.8g(0.20モル)、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150gを含む混合物に2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)3.6gを添加した溶液を滴下ロートで2時間かけてフラスコに滴下し、さらに100℃で5時間撹拌を続けた。
次いで、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気にし、グリシジルメタクリレート49.8g[0.35モル(本反応に用いたアクリル酸に対して70モル%)]をフラスコ内に投入して、110℃で6時間反応を行った。これにより、固形分酸価が71mgKOH/gである不飽和基含有樹脂(A−1−3)を得た。GPCにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は23,900であり、分子量分布(Mw/Mn)は2.31であった。
<合成例3>第2の樹脂A−2−1の合成
還流冷却器、滴下漏斗、及び撹拌機を備えた1Lのフラスコ内に、窒素を0.02L/分で流入するようにして窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gを投入し、撹拌しながら70℃まで加熱した。次いで、下記の化学式16及び化学式17の混合物(モル比は50:50)210.2g(0.95モル)、及びメタクリル酸14.5g(0.17モル)をジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gに溶解して溶液を調製した。調製した溶解液を、滴下漏斗を用いてフラスコ内に滴下した後、 重合開始剤2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)27.9g(0.11モル)をジエチレングリコールメチルエチルエーテル200gに溶解した溶液を、別の滴下漏斗を用いて4時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、4時間、70℃に維持し、その後に室温まで冷却した。これにより、固形分41.6質量%、酸価65mg−KOH/g(固形分換算)の共重合体の溶液を得た。得られた樹脂(A−2−1)の重量平均分子量Mwは8,300であり、分子量分布は1.85であった。
Figure 2017126065
Figure 2017126065
このとき、前記分散樹脂の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)の測定は、HLC−8120GPC(東ソー(株)製)装置を用いて、カラムは、TSK−GELG4000HXL及びTSK−GELG2000HXLを直列接続して用い、カラム温度を40℃とし、移動相溶媒としてテトラヒドロフランを用い、流速を1.0ml/分、注入量を50μL、検出器はRIを用い、測定試料濃度を0.6質量%(溶媒=テトラヒドロフラン)とし、校正用標準物質としてTSK STANDARD POLYSTYRENE F−40、F−4、F−1、A−2500、A−500(東ソー(株)製)を用いた。
前記で得られた重量平均分子量及び数平均分子量の比を分子量分布(Mw/Mn)とした。
<合成例4>不飽和基含有樹脂A−4の合成
還流冷却器、滴下漏斗、及び撹拌機を備えた1Lのフラスコ内に、窒素を0.02L/分で流入するようにして窒素雰囲気とし、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート200gを投入した。これを100℃に昇温した後、アクリル酸33.9g(0.47モル)、ノルボルネン4.7g(0.05モル)、ビニルトルエン56.7g(0.48モル)、及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150gを含む混合物に2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)3.6gを添加した溶液を滴下ロートで2時間かけてフラスコに滴下し、さらに100℃で5時間撹拌を続けた。
次いで、フラスコ内の雰囲気を窒素から空気にし、グリシジルメタクリレート42.6g[0.30モル(本反応に用いたアクリル酸に対して64モル%)]をフラスコ内に投入して、110℃で6時間反応を行った。これにより、固形分酸価が79mgKOH/gである不飽和基含有樹脂A−4を得た。GPCにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は6,600であり、分子量分布(Mw/Mn)は1.9であった。
<合成例5>オキセタン含有樹脂A−5の合成
還流冷却器、滴下漏斗、及び撹拌機を備えた1Lのフラスコ内に、窒素を0.02L/分で流入するようにして窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gを投入して、撹拌しながら70℃まで加熱した。次いで、下記の化学式16及び化学式17の混合物(モル比は50:50)132.2g(0.60モル)、3−エチル−3−オキセタニルメタクリレート51.1g(0.30モル)、及びメタクリル酸8.6g(0.10モル)をジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gに溶解して溶液を調製した。
Figure 2017126065
Figure 2017126065
調製した溶解液を、滴下漏斗を用いてフラスコ内に滴下した後、重合開始剤2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)27.9g(0.11モル)をジエチレングリコールメチルエチルエーテル200gに溶解した溶液を、別の滴下漏斗を用いて4時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、4時間、70℃に維持し、その後に室温まで冷却した。これにより、固形分41.8質量%、酸価62mg−KOH/g(固形分換算)の共重合体の溶液(樹脂A−5)を得た。
得られた樹脂A−5の重量平均分子量Mwは7,700、分子量分布は1.82であった。
<合成例6>オキセタンを単独に含む樹脂(A−6)の合成
還流冷却器、滴下漏斗、及び撹拌機を備えた1Lのフラスコ内に、窒素を0.02L/分で流入するようにして窒素雰囲気とし、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gを投入し、撹拌しながら70℃まで加熱した。3−エチル−3−オキセタニルメタクリレート161.7g(0.95モル)、及びメタクリル酸14.5g(0.17モル)をジエチレングリコールメチルエチルエーテル150gに溶解して溶液を調製した。
調製した溶解液を、滴下漏斗を用いてフラスコ内に滴下した後、重合開始剤2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)27.9g(0.11モル)をジエチレングリコールメチルエチルエーテル200gに溶解した溶液を、別の滴下漏斗を用いて4時間かけてフラスコ内に滴下した。重合開始剤の溶液の滴下が終了した後、4時間、70℃に維持し、その後に室温まで冷却した。これにより、固形分41.6質量%、酸価65mg−KOH/g(固形分換算)の共重合体(樹脂A−6)の溶液を得た。得られた樹脂A−6の重量平均分子量Mwは8,300であり、分子量分布は1.85であった。
このとき、前記分散樹脂の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)の測定は、HLC−8120GPC(東ソー(株)製)装置を用いて、カラムは、TSK−GELG4000HXL及びTSK−GELG2000HXLを直列接続して用い、カラム温度を40℃とし、移動相溶媒としてテトラヒドロフランを用い、流速を1.0ml/分、注入量を50μLとして、検出器はRIを用い、測定試料濃度を0.6質量%(溶媒=テトラヒドロフラン)、校正用標準物質としてTSK STANDARD POLYSTYRENE F−40、F−4、F−1、A−2500、A−500(東ソー(株)製)を用いた。
前記で得られた重量平均分子量及び数平均分子量の比を分子量分布(Mw/Mn)とした。
前記樹脂の重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)の測定は、GPC法を用いて以下の条件で行った。
装置:HLC−8120GPC(東ソー(株)製)
カラム:TSK−GELG4000HXL+TSK−GELG2000HXL(直列接続)
カラム温度:40℃
移動相溶媒:テトラヒドロフラン
流速:1.0ml/分
注入量:50μL
検出器:RI
測定試料濃度:0.6質量%(溶媒=テトラヒドロフラン)
校正用標準物質:TSK STANDARD POLYSTYRENE F−40、F−4、F−1、A−2500、A−500(東ソー(株)製)
前記で得られた重量平均分子量及び数平均分子量の比を分子量分布(Mw/Mn)とした。
下記表1に示す組成及び含有量(重量部)を有する感光性樹脂組成物を調製した。
Figure 2017126065
前記表1で使用された各成分は次の通りである。
A−1−1:合成例1で製造された樹脂
A−1−2:合成例1−2で製造された樹脂
A−1−3:合成例2で製造された樹脂
A−2−1:合成例3で製造された樹脂
A−4:合成例4で製造された樹脂
A−5:合成例5で製造された樹脂
A−6:合成例6で製造された樹脂
B:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(KAYARAD DPHA,日本化薬(株)製)
C:1,2−オクタンジオン−1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−2−o−ベンゾイルオキシム(Ciba社製)
C−1:4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン(EAB−F,保土谷化学工業(株)製)
D−1:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
D−2:3−エトキシエチルプロピオネート
D−3:3−メトキシ−1−ブタノール
D−4:3−メトキシブチルアセテート
F(酸化防止剤):1,3,5−トリス(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン(Irganox3114,Ciba Specialty Chemicals社製)
<実験例>
2インチ角のガラス基板(イーグル2000,コーニング社製)を中性洗剤、水、及びアルコールで順次洗浄した後、乾燥した。このガラス基板上に、前記実施例及び比較例で調製した感光性樹脂組成物をそれぞれスピンコートした後、クリーンオーブンの中で90℃で3分間プリベークを行った。前記プリベークを行った基板を常温に冷却した後、石英硝子製フォトマスクとの間隔を150μmにして露光機(TME−150RSK,トプコン(株)製)を用いて、60mJ/cmの露光量(405nm基準)で光照射した。このとき、重合性樹脂組成物への照射は、超高圧水銀灯からの放射光を、光学フィルター(LU0400,朝日分光(株)製)を通過させ、400nm以下の光をカットして使用した。フォトマスクとしては、次のパターンが同一平面上に形成されたフォトマスクを用いた。
パターンは、一辺が10μmである正方形の透光部(パターン)を有し、当該正方形の間隔が100μmである。光照射後、ノニオン系界面活性剤0.12%と水酸化カリウム0.04%とを含有する水系現像液に、前記塗膜を25℃で100秒間浸漬して現像し、水洗した。その後、オーブンの中で、220℃で20分間ポストベークを行った。得られた膜厚は3μmであった。膜厚は、膜厚測定装置(DEKTAK6M,Veeco社製)を用いて測定した。このようにして得られたパターンを下記のように物性評価を実施し、その結果を下記表2に示す。
1.透過率の評価
前記で得られた硬化膜の400nmにおける透過率(%)を顕微鏡分光測光装置(OSP−SP200,OLYMPUS社製)を用いて測定した。透過率は、膜厚3.0μmにおける透過率に換算して表2に示す。透過率は、100%に近いほど良好なことを表す。
2.線幅、断面形状
前記で得られた硬化膜に対して、走査型電子顕微鏡(S−4200,(株)日立製作所製)を用いて線幅を測定し、断面形状を下記のようにして評価した。断面形状は、基板に対するパターンの角度が90度未満の場合を順テーパとし、90度以上の場合を逆テーパと判断した。
順テーパであることが、表示装置の形成時にITO配線の断線が起こりにくいため好ましい。
3.機械特性(総変位量及び回復率)
前記で得られた硬化膜をダイナミック超微小硬度計(DUH−W201,(株)島津製作所製)を用いて、その総変位量(μm)及び弾性変位量(μm)を以下の測定条件で測定した。測定された数値を用いて以下のように回復率(%)を算出した。総変位量が少なく、かつ回復率が大きければ、硬いと判断した。
回復率(%)=[弾性変位量(μm)]/[総変位量(μm)]×100
測定条件
試験モード:負荷−除荷試験
試験力:5gf[SI単位換算値:49.0mN]
負荷速度:0.45gf/sec[SI単位換算値:4.41mN/sec]
保持時間:5sec
圧子:円錐台圧子(直径50μm)
4.密着性
現像密着性は、直径(size)が5μm〜20μm、1μm間隔の円形パターンが1000個あるフォトマスクによって、膜厚さが3μmで形成されたパターンが欠落することなく100%残っている場合のマスクのサイズを顕微鏡により評価した。マスクのサイズが小さいほど感度に優れたことを表す。
5.耐化学性
90℃で1時間加熱して硬化段階を経た塗膜を50℃のetchant(MA−S02,東友ファインケム社製)溶液(耐酸性の評価)、または50℃のstripper(SAM−19,東友ファインケム社製)溶液(耐剥離液性の評価)にそれぞれ10分間浸漬した。前記複数の溶液に放置しておいたときの厚さの変化を観察することにより、耐化学性の評価を行った。厚さ変化率は、下記数式1で算出した。厚さ変化率が少ないほど好ましいと言える。評価の結果を下記表2に示す。
(数式1)
厚さ変化率(%)={(溶液放置前の膜厚−溶液放置後の膜厚)/(溶液放置前の膜厚)}×100(%)
前記数式1による厚さ変化率が5%以下の場合を「○」、5%超え〜10%以下の場合を「△」、10%超えの場合を「×」と評価した。
6.保存安定性の評価基準
粘度変化が2cp以上:×
粘度変化が2cp未満:○
Figure 2017126065
Figure 2017126065
前記表2及び3に示すように、本発明によるアルカリ可溶性樹脂を使用している実施例1〜6の場合は、これを使用していない比較例1〜5と比較して、低露光量で基板に対する線幅とパターン形状が良好であり、密着性、耐化学性及び保存安定性に優れていることを確認することができる。

Claims (9)

  1. アルカリ可溶性樹脂(A)と、光重合性化合物(B)と、光重合開始剤(C)と、溶剤(D)と、添加剤(E)とを含み、
    前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位、及び下記化学式1で表される繰り返し単位を有する第1の樹脂(A−1)を含む、感光性樹脂組成物。
    Figure 2017126065
    (式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基である。)
  2. 前記オキセタン(oxetane)官能基を含む繰り返し単位は、下記化学式2で表されるものである、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
    Figure 2017126065
    (式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、炭素数1〜6のアルキレン基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基である。)
  3. 前記第1の樹脂(A−1)は、下記化学式3で表される繰り返し単位、及び下記化学式4で表される繰り返し単位をさらに有する、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
    Figure 2017126065
    (式中、Rは、水素原子またはメチル基であり、Rは、炭素数3〜8のシクロアルキル、炭素数6〜18のアリール基、または−COO−R’であり、前記R’は、炭素数3〜8のシクロアルキル、炭素数6〜18のアリール基であり、前記シクロアルキルまたは前記アリール基の水素原子のうちの少なくとも一つは、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基でさらに置換されてもよい。)
    Figure 2017126065
    (式中、Rは、水素原子またはメチル基である。)
  4. 前記第1の樹脂(A−1)は、下記化学式5で表されるものである、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
    Figure 2017126065
    (式中、R、R、R及びRは、互いに独立して水素またはメチル基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、Rは、炭素数1〜6のアルキレン基であり、Rは、水素原子または炭素数1〜6のアルキル基であり、Rは、炭素数3〜8のシクロアルキルまたは炭素数6〜18のアリール基であり、前記シクロアルキル又は前記アリール基の水素原子のうちの少なくとも一つは、炭素数1〜5の直鎖若しくは分岐鎖のアルキル基でさらに置換されてもよく、a=0.1〜50mol%、b=2〜50mol%、c=2〜95mol%、d=2〜70mol%である。)
  5. 感光性樹脂組成物中の固形分100重量部に対して、前記アルカリ可溶性樹脂(A)は5〜90重量部、前記光重合性化合物(B)は1〜90重量部、前記光重合開始剤(C)は0.1〜20重量部、前記添加剤(E)は0.001〜1重量部含まれる、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
  6. 前記アルカリ可溶性樹脂(A)は、下記化学式6で表される第2の樹脂(A−2)をさらに含む、請求項1に記載の感光性樹脂組成物。
    Figure 2017126065
    (式中、R及びR10は、互いに独立して水素原子またはメチル基であり、Xは、単結合または炭素数1〜6のアルキレン基であり、該アルキレン基は、ヘテロ原子を含んでも含まなくてもよく、e=60〜95mol%、f=5〜40mol%である。)
  7. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の感光性樹脂組成物で製造される光硬化パターン。
  8. 前記光硬化パターンは、接着剤層、アレイ平坦化膜パターン、保護膜パターン、絶縁膜パターン、フォトレジストパターン、カラーフィルタパターン、ブラックマトリックスパターン、及びスペーサパターンからなる群より選択される、請求項7に記載の光硬化パターン。
  9. 請求項7に記載の光硬化パターンを備える画像表示装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190010461A (ko) * 2017-07-21 2019-01-30 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 패턴 형성 방법, 경화물, 및 표시장치
KR20190024810A (ko) * 2017-08-31 2019-03-08 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 경화물 형성 방법, 경화물, 화상 표시장치용 패널, 및 화상 표시장치

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI741223B (zh) * 2017-10-20 2021-10-01 南韓商東友精細化工有限公司 著色分散液、含該著色分散液之著色感光性樹脂組合物、使用該組合物製造之圖案層、含該圖案層之彩色濾光片、及含該彩色濾光片之顯示裝置
KR102364239B1 (ko) * 2017-12-21 2022-02-16 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 조성물, 컬러필터 및 화상 표시 장치
CN110412829A (zh) * 2018-04-26 2019-11-05 东友精细化工有限公司 负型感光性树脂组合物、光固化图案及图像显示装置
CN110412830B (zh) * 2018-04-27 2023-02-17 东友精细化工有限公司 感光性树脂组合物、光固化图案及图像显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009258652A (ja) * 2008-03-24 2009-11-05 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよびその製造方法ならびに液晶表示素子
JP2010044365A (ja) * 2008-07-17 2010-02-25 Jsr Corp 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
US20100112474A1 (en) * 2007-03-12 2010-05-06 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, photosensitive film, method for forming a permanent pattern, and printed board
JP2010107755A (ja) * 2008-10-30 2010-05-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2012032767A (ja) * 2010-06-30 2012-02-16 Jsr Corp カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000095896A (ja) 1998-09-24 2000-04-04 Denki Kagaku Kogyo Kk 樹脂添加用粉末、それを用いた樹脂組成物と放熱スペーサ
JP2006284975A (ja) * 2005-04-01 2006-10-19 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、それから形成された突起およびスペーサー、ならびにそれらを具備する液晶表示素子
JP4766268B2 (ja) * 2007-03-01 2011-09-07 Jsr株式会社 感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜およびマイクロレンズ、ならびにそれらの製造方法
JP5109903B2 (ja) * 2007-10-19 2012-12-26 Jsr株式会社 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタ及び液晶表示素子
KR101495533B1 (ko) * 2010-12-21 2015-02-25 동우 화인켐 주식회사 스페이서 형성용 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 표시 장치용 스페이서 및 이를 포함하는 표시 장치
KR20140104766A (ko) * 2013-02-21 2014-08-29 동우 화인켐 주식회사 알칼리 가용성 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
KR101988256B1 (ko) * 2013-02-26 2019-06-12 동우 화인켐 주식회사 착색 감광성 수지 조성물
TWI550354B (zh) * 2014-04-30 2016-09-21 奇美實業股份有限公司 彩色濾光片用之感光性樹脂組成物及其應用
TWI647532B (zh) * 2014-07-01 2019-01-11 南韓商東友精細化工有限公司 光敏樹脂組成物

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100112474A1 (en) * 2007-03-12 2010-05-06 Fujifilm Corporation Photosensitive composition, photosensitive film, method for forming a permanent pattern, and printed board
JP2009258652A (ja) * 2008-03-24 2009-11-05 Jsr Corp 感放射線性樹脂組成物、スペーサーおよびその製造方法ならびに液晶表示素子
JP2010044365A (ja) * 2008-07-17 2010-02-25 Jsr Corp 着色層形成用感放射線性組成物、カラーフィルタおよびカラー液晶表示素子
JP2010107755A (ja) * 2008-10-30 2010-05-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2012032767A (ja) * 2010-06-30 2012-02-16 Jsr Corp カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190010461A (ko) * 2017-07-21 2019-01-30 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 패턴 형성 방법, 경화물, 및 표시장치
JP2019023671A (ja) * 2017-07-21 2019-02-14 東京応化工業株式会社 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置
JP7051321B2 (ja) 2017-07-21 2022-04-11 東京応化工業株式会社 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置
KR102568122B1 (ko) * 2017-07-21 2023-08-18 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 패턴 형성 방법, 경화물, 및 표시장치
TWI838923B (zh) * 2017-07-21 2024-04-11 日商東京應化工業股份有限公司 感光性組合物之用途、硬化物形成方法、硬化物、感光性接著劑及被接著面之接著方法
KR20190024810A (ko) * 2017-08-31 2019-03-08 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 경화물 형성 방법, 경화물, 화상 표시장치용 패널, 및 화상 표시장치
JP2019045659A (ja) * 2017-08-31 2019-03-22 東京応化工業株式会社 感光性組成物、硬化物形成方法、硬化物、画像表示装置用パネル、及び画像表示装置
JP7079581B2 (ja) 2017-08-31 2022-06-02 東京応化工業株式会社 感光性組成物、硬化物形成方法、硬化物、画像表示装置用パネル、及び画像表示装置
TWI803515B (zh) * 2017-08-31 2023-06-01 日商東京應化工業股份有限公司 感光性組合物、硬化物形成方法、硬化物、圖像顯示裝置用面板、及圖像顯示裝置
KR102633985B1 (ko) * 2017-08-31 2024-02-07 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 감광성 조성물, 경화물 형성 방법, 경화물, 화상 표시장치용 패널, 및 화상 표시장치

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