JP2017090842A - 遮光装置、顕微鏡、観察方法、制御方法、及びプログラム - Google Patents

Abstract

【課題】像の質を確保しつつ、操作性の低下を抑制することができる遮光装置を提供する。【解決手段】遮光装置１は、ステージ８上の観察位置に配置された標本Ｓを観察する顕微鏡ＭＳに設けられ、顕微鏡に配置された対物レンズ４へ入射する外光の遮光時に、ステージ８の観察位置に配置された標本の上方に位置決めされ、外光の光量を制御する遮光部材４０の調整部７０を有する。【選択図】図１

Description

本発明は、顕微鏡、観察方法、制御方法、及びプログラムに関する。

遮光部材を備える観察装置や顕微鏡が提案されている（例えば、下記の特許文献１〜３参照）。

特許文献１の観察装置は、ステージと、試料からの光を検出する検出手段と、撮像光学系と、これらの全体または一部を覆う遮光部材と、遮光部材に設けられた開口部と、開口部を開閉する蓋と、蓋の開閉を検出する開閉検出手段と、検出手段へ入射する光を制限する減光手段と、開閉検出手段により蓋が開かれたことが検出されたとき、減光手段を動作させて検出手段へ入射する光量を低減させる制御装置とを備える。

特許文献２の蛍光顕微鏡装置は、ステージと、対物レンズと、ステージと対物レンズとを相対的に移動させる移動機構と、対物レンズに固定された第１のカバー部材と、ステージ側に設けられ、第１のカバー部材とともに対物レンズ先端およびステージ上の空間を覆う第２のカバー部材と、これら第１、第２のカバー部材の相対移動を許容しかつ両カバー部材の隙間からの光の漏れを防止する遮光手段とを備える。

特許文献３の箱型電動顕微鏡は、透過照明光学系と、電動ステージと、対物レンズ及び結像レンズを備えた結像光学系とを少なくとも有する電動顕微鏡部と、電動顕微鏡部を収容するハウジングとを備え、ハウジングが、固定ハウジングと、可動ハウジングとからなり、可動ハウジングが、電動ステージの上方に配置される光学要素を保持しながら固定ハウジングに対して斜め方向に平行移動可能であって、斜め上方に所定量平行移動することによって、電動ステージに載置された試料容器を交換可能にし、斜め下方に平行移動して固定ハウジングと当接させることによって、固定ハウジングと相俟って電動顕微鏡部を密閉及び遮光するとともに、透過照明光学系の光軸と結像光学系の光軸とを略一致させる。

米国特許第８０１７９０３号明細書 米国特許第７９０３３２７号明細書 米国特許第７６４６５３４号明細書

顕微鏡は、外光などの光が対物レンズに入射すると、得られる像の質が低下することがある。例えば、蛍光観察を行う場合、対物レンズに入射する光のうち照明光に由来する蛍光の光量が相対的に低くなり、像のコントラストが低下することがある。

本発明の第１の態様に従えば、ステージ上の観察位置に配置された標本を観察する顕微鏡に設けられ、顕微鏡に配置された対物レンズへ入射する外光の遮光時に、観察位置に配置された標本の上方に位置決めされ、外光の光量を制御する遮光部材の調整部を有する遮光装置が提供される。

本発明の第２の態様に従えば、第１の態様の遮光装置を備える顕微鏡が提供される。

本発明の第３の態様に従えば、対物レンズを備え、ステージ上の観察位置に配置された標本を観察する顕微鏡を用いる観察方法であって、標本の上方に遮光部材を配置することと、遮光部材を調整し、対物レンズへ入射する外光の光量を調整することと、を含む観察方法が提供される。

本発明の第４の態様に従えば、対物レンズを備え、ステージ上の観察位置に配置された標本を観察する顕微鏡の制御方法であって、標本の上方に遮光部材を配置することと、遮光部材を調整し、対物レンズへ入射する外光の光量を調整することと、を含む顕微鏡の制御方法が提供される。

本発明の第５の態様に従えば、対物レンズを備え、ステージ上の観察位置に配置された標本を観察する顕微鏡の制御をコンピュータに実行させるプログラムであって、標本の上方に遮光部材を配置することと、遮光部材を調整し、対物レンズへ入射する外光の光量を調整することと、を含むプログラムが提供される。

第１実施形態に係る顕微鏡を示す図である。 第１実施形態に係る顕微鏡の光路を示す図である 第１実施形態に係る遮光装置を示す図である。 第１実施形態に係る顕微鏡のブロック図である。 第１実施形態に係る制御方法のフローチャートである。 第１実施形態に係る制御方法のフローチャートである。 第１実施形態に係る制御方法のフローチャートである。 第１実施形態に係る観察方法のフローチャートである。 第２実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第３実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第４実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第４実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第４実施形態に係る観察方法のフローチャートである。 第４実施形態に係る観察方法のフローチャートである。 第５実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第６実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第７実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第８実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第９実施形態に係る顕微鏡の遮光装置を示す図である。 第１０実施形態に係る顕微鏡の光路を示す図である。 第１１実施形態に係る顕微鏡の光路を示す図である。 第１２実施形態に係る顕微鏡の光路を示す図である。 第１３実施形態に係る顕微鏡の光路を示す図である。 実施例１の結果を示す図である。 実施例１の結果を示す図である。 実施例２の結果を示す図である。 実施例３の結果を示す図である。

［第１実施形態］
第１実施形態について説明する。図１は、実施形態に係る遮光装置１を適用した顕微鏡ＭＳを示す図である。以下の説明において、適宜、図１などに示すＸＹＺ直交座標系を参照する。このＸＹＺ直交座標系は、Ｘ方向およびＹ方向が水平方向（横方向）であり、Ｚ方向が鉛直方向である。また、各方向において、適宜、矢印の先端と同じ側を＋側（例、＋Ｚ側）、矢印の先端と反対側を−側（例、−Ｚ側）と称す。例えば、鉛直方向（Ｚ方向）において、上方が＋Ｚ側であり、下方が−Ｚ側である。

本実施形態に係る顕微鏡ＭＳ（観察装置）は、例えば、倒立顕微鏡である。顕微鏡ＭＳは、照明光の照射により標本Ｓから放射される光（以下、観察光という）を用いた観察に利用される。例えば、顕微鏡ＭＳは、標本Ｓに照明光を照射し、標本Ｓで散乱した光（観察光）により標本Ｓの像を形成することで、標本Ｓの観察（以下、非蛍光観察という）に利用される。非蛍光観察における観察光は、標本Ｓで透過散乱した照明光でもよいし、標本Ｓで反射散乱した照明光でもよい。非蛍光観察において、顕微鏡ＭＳは、標本Ｓを、標本Ｓに対する観察光の出射側と反対側から照明（透過照明）してもよいし、標本Ｓに対する観察光の出射側と同じ側から照明（落射照明）してもよい。また、顕微鏡ＭＳは、蛍光物質を含む標本Ｓに対して蛍光物質を励起させる照明光（励起光）を照射し、蛍光物質から放射される蛍光（観察光）により蛍光物質の分布を示す像を形成して、標本Ｓの観察（以下、蛍光観察という）に利用される。蛍光観察において、顕微鏡ＭＳは、標本Ｓを、透過照明してもよいし、落射照明してもよい。図１の顕微鏡ＭＳは、透過照明により非蛍光観察が可能であり、かつ落射照明により蛍光観察が可能である。なお、顕微鏡ＭＳは、非蛍光観察と蛍光観察の少なくとも一方に利用可能であればよい。

顕微鏡ＭＳは、遮光装置１と、標本Ｓが配置されるステージ装置２と、ステージ装置２上の標本Ｓに照明光を照射する照明光学系３と、標本Ｓからの観察光が入射する対物レンズ４と、観察光により標本Ｓの像を形成する結像光学系５（観察光学系）（図２参照）と、ベース（支持部材）６とを備える。ベース６は、例えば筐体などを含み、顕微鏡ＭＳの各部を支持する。ベース６は、顕微鏡ＭＳが設置される机、床などの上面に配置される。

ステージ装置２は、標本Ｓが載置される上面８ａを有するステージ８を備える。ステージ８は、例えば、上面８ａが水平面（ＸＹ平面）と平行となるように、配置される。ステージ８は、例えば、Ｘ方向とＹ方向との少なくとも１方に移動可能な移動部材である。ステージ装置２は、照明光学系３（例、照明領域、照射）に対してステージ８を移動可能である。また、ステージ装置２は、対物レンズ４（例、観察領域Ｒａ、視野）に対してステージ８を移動可能である。例えば、ステージ装置２は、ベース６に支持され、ステージ８をベース６に対して移動可能である。ステージ装置２は、ステージ８の移動により、標本Ｓを移動可能である。なお、ステージ８は、所定の回転軸の周りで回転可能でもよい。この所定の回転軸は、水平方向に平行でもよいし、鉛直方向に平行でもよく、その他の方向でもよい。また、ステージ装置２は、ステージ８を手動（人力）により駆動するものでもよいし、ステージ８を電動により駆動するものでもよい。また、ステージ装置２は、標本Ｓを移動可能でなくてもよく、ステージ８は、ステージ装置２において移動不能でもよい。

照明光学系３は、落射照明に用いられる照明光学系（第１照明光学系）３ａと、透過照明に用いられる照明光学系（第２照明光学系）３ｂと、を含む。照明光学系３ｂは、光源装置１７ａ（後に図２に示す）からの照明光を、標本Ｓに照射する。照明光学系３ｂは、ステージ装置２のステージ８の上方（＋Ｚ側）に配置される。照明光学系３ｂは、鏡筒９（コンデンサレンズ鏡筒）に収容されており、鏡筒９に支持される。鏡筒９は、ベース６から上方に延びる支柱部１０に支持される。照明光学系３ｂは、照明光学系３ｂのうち最も標本Ｓ（ステージ装置２）に近い位置に配置されるコンデンサレンズ１１を含む。照明光学系３ｂには、例えば、コンデンサレンズ１１が設けられる。コンデンサレンズ１１は、ターレット１２（レボルバ）に保持される。ターレット１２は、コンデンサレンズ１１を照明光学系３ｂの光路に配置可能である。なお、ターレット１２には、例えば、コンデンサレンズ１１以外に、位相差観察用の絞り、微分干渉顕微鏡用のプリズム等が保持されてもよい。

ステージ装置２上の観察領域Ｒａ（（観察位置）、図１１参照）（標本Ｓ）は、照明光学系３ｂの光路に配置されたコンデンサレンズ１１の後側焦点位置を含む面またはその近傍に配置（設定）される。ステージ８において標本Ｓが配置される領域には、照明光学系３ｂからの照明光が通過可能な窓１３が設けられる。例えば、窓１３には、照明光学系３ｂからの照明光が透過する特性を有する透光部材（例、ガラス板）が嵌め込まれ、標本Ｓは、この透光部材上に載置される。この透光部材は標本Ｓの一部でもよいし、標本Ｓはスライドガラスなどを含んでもよい。

落射照明に用いられる照明光学系３ａは、ステージ８の下方（−Ｚ側）に配置される。顕微鏡ＭＳは、落射照明を用いる観察（例、蛍光観察）において、倒立顕微鏡に相当する。照明光学系３ａは、光源装置１７ａ（後に図２に示す）からの励起光を、対物レンズ４を介して標本Ｓに照射する。

落射照明において、対物レンズ４は、コンデンサレンズ（照明光学系３ａの一部）として利用される。また、対物レンズ４は、結像光学系５の一部としても利用される。対物レンズ４は、例えば、ステージ装置２上の観察領域Ｒａ（図１１参照）（標本Ｓ）が前側焦点位置を含む面（前側焦点面）またはその近傍と一致するように、配置される。対物レンズ４の光軸ＡＸ１は、照明光学系３ｂの光軸、照明光学系３ａの光軸、及び結像光学系５の光軸のそれぞれと同軸である。対物レンズ４は、上下方向に移動可能に設けられる。以下の説明において、顕微鏡ＭＳの使用時の観察者側（−Ｙ側）を、適宜、前面側という。また、顕微鏡ＭＳの前面側と反対側（＋Ｙ側を）を、適宜、顕微鏡ＭＳの背面側という。なお、顕微鏡ＭＳが備える対物レンズ４の数は、１つでもよいし、複数でもよい。また、対物レンズ４が複数備えられる場合、例えば、複数の対物レンズ４がレボルバに保持され、複数の対物レンズ４のいずれを照明光学系３ａの光路に配置するかを切替可能でもよい。また、対物レンズ４は、上下方向に移動可能でなくてもよく、例えば、顕微鏡ＭＳは、ステージ装置２のステージ８が上下方向に移動することで、標本Ｓと対物レンズ４との相対位置を上下方向に可能でもよい。

結像光学系５は、ベース６に収容され、ベース６に支持される。結像光学系５は、例えば、光路が分岐しており、それぞれの光路において標本Ｓの像を形成する。ユーザ（例、観察者）は、結像光学系５の第１の光路に形成される像を、接眼レンズ１４を介して観察可能である。また、結像光学系５の第２の光路に像が形成される位置には、撮像素子１５（図２参照）が配置される。撮像素子１５は、例えば、ＣＭＯＳイメージセンサあるいはＣＣＤイメージセンサなどの二次元イメージセンサである。撮像素子１５は、結像光学系５の第２の光路に形成される標本Ｓの像を撮像する。撮像素子１５は、例えば、撮像した画像のデータを表示装置１６に供給する。表示装置１６は、撮像素子１５により撮像された標本Ｓ（例、蛍光物質）の画像を表示し、ユーザは、表示装置１６に表示される画像により標本Ｓを観察可能である。なお、顕微鏡ＭＳは、撮像素子１５及び表示装置１６の少なくとも一方を備えなくてもよい。例えば、撮像素子１５及び表示装置１６の少なくとも一方は、顕微鏡ＭＳに交換可能に設けられ、観察を行う際に顕微鏡ＭＳに取り付けられてもよい。また、顕微鏡ＭＳは、接眼レンズ１４を介した観察と、撮像素子１５が撮像した画像による観察との少なくとも一方が可能であればよい。

図２は、第１実施形態に係る顕微鏡ＭＳの光路を示す図である。まず、非蛍光観察に用いられる照明について説明する。光源装置１７ｂは、光（照明光）を発する光源を含む。この光源は、ＬＥＤ（発光ダイオード）あるいはＬＤ（レーザダイオード）などの固体光源でもよいし、ランプ光源などでもよい。光源装置１７ｂが備える光源の数は、１つでもよいし、複数でもよい。例えば、光源装置１７ｂは、射出する光の波長が互いに異なる複数の光源を備え、光源装置１７ｂから出射する光の波長を切替可能でもよい。また、顕微鏡ＭＳは、光源装置１７ｂを備えなくてもよく、例えば、光源装置１７ｂは、顕微鏡ＭＳに交換可能に設けられ、観察を行う際に顕微鏡ＭＳに取り付けられてもよい。

照明光学系３ｂは、光源装置１７ｂの光出射側に、レンズ１８、ミラー１９、レンズ２０、及びコンデンサレンズ１１を備える。照明光学系３ｂは、透過照明を用いる観察に用いられる。光源装置１７ｂから出射した照明光は、レンズ１８を透過してミラー１９で反射した後、レンズ２０を透過する。コンデンサレンズ１１は、レンズ２０を透過した光が入射する位置に配置され、標本Ｓに光を照射する。

なお、照明光学系３ｂは、図２の構成に限定されず、適宜変更可能である。例えば、図２において、照明光学系３ｂは、光路がミラー１９で折り曲がる光学系であるが、ミラー１９を含まず光路が直線的な光学系でもよい。また、例えば、照明光学系３ｂは、絞り部材などの光学部材を備えていてもよい。また、照明光学系３ｂに含まれる部材の少なくとも一部は、照明光学系３ｂに含まれなくてもよく、例えば光源装置１７ｂに含まれてもよい。

次に、蛍光観察に用いられる照明について説明する。光源装置１７ａは、光（照明光）を発する光源を含む。この光源は、ＬＥＤ（発光ダイオード）あるいはＬＤ（レーザダイオード）などの固体光源でもよいし、ランプ光源などでもよい。また、光源装置１７ａは標本Ｓに含まれる蛍光物質を励起させる励起光を含む光を発する。なお、光源装置１７ａが備える光源の数は、１つでもよいし、複数でもよい。例えば、光源装置１７ａは、射出する光の波長が互いに異なる複数の光源を備え、例えば蛍光物質の種類に応じて、光源装置１７ａから出射する光の波長を切替可能でもよい。また、顕微鏡ＭＳは、光源装置１７ａを備えなくてもよく、例えば、光源装置１７ａは、顕微鏡ＭＳに交換可能に設けられ、観察を行う際に顕微鏡ＭＳに取り付けられてもよい。

照明光学系３ａは、光源装置１７ａの光出射側に、レンズ２１、レンズ２２、フィルタユニット２３及び対物レンズ４を備える。照明光学系３ａは、落射照明を用いる観察に用いられる。光源装置１７ａから出射した照明光は、レンズ２１及びレンズ２２を透過して、フィルタユニット２３に入射する。フィルタユニット２３は、フィルタ２３ａと、ダイクロイックミラー２３ｂと、フィルタ２３ｃと、を含む。フィルタ２３ａは、レンズ２２から入射した励起光を透過し、励起光以外の光を遮光する特性を有する。ダイクロイックミラー２３ｂは、フィルタ２３ｃから入射した光（照明光）の一部が反射し、後述する対物レンズ４からの光（観察光）の一部が透過する特性を有する。ダイクロイックミラー２３ｂで反射する光の光量と、ダイクロイックミラー２３ｂを透過する光の光量との比は任意で設定され、例えば、８：２でもよいし、その他の比でもよい。ダイクロイックミラー２３ｂで反射した光は、対物レンズ４に入射する。対物レンズ４は、ダイクロイックミラー２３ｂで反射した光が入射する位置に配置され、標本Ｓに光を照射する。フィルタ２３ｃについては、後述する結像光学系５の部分において説明する。

なお、照明光学系３ａは、図２の構成に限定されず、適宜変更可能である。例えば、図２において、照明光学系３ａは、絞り部材などの光学部材を備えていてもよい。また、照明光学系３ａに含まれる部材の少なくとも一部は、照明光学系３ａに含まれなくてもよく、例えば光源装置１７ａに含まれてもよい。

結像光学系５は、結像光学系５ａ及び結像光学系５ｂを含む。結像光学系５ａは、標本Ｓからの光（観察光）を撮像素子１５に導く。結像光学系５ａは、対物レンズ４、フィルタユニット２３、レンズ（第２対物レンズ）２５、ミラー２６、レンズ２７、ミラー２８、レンズ２９、ビームスプリッタ３０、及びレンズ３１を備える。

本実施形態において、対物レンズ４及びフィルタユニット２３は、照明光学系３ａと共通である。対物レンズ４は、例えば、その前側焦点を含む面（前側焦点面）がコンデンサレンズ１１の後側焦点を含む面（後側焦点面）またはその近傍に配置される。対物レンズ４を通った光（観察光）は、ダイクロイックミラー２３ｂを透過し、フィルタ２３ｃに入射する。フィルタ２３ｃは、標本Ｓから放射されて対物レンズ４を通った蛍光が透過する特性を有する。フィルタ２３ｃを透過した光は、レンズ２５を通ってミラー２６で反射した後、レンズ２７に入射する。レンズ２５とレンズ２７との間の光路には、対物レンズ４の前側焦点面（物体面）と光学的に共役な１次像面３２が形成される。１次像面３２には、標本Ｓの１次像（例、中間像）が形成される。

レンズ２７を通った光は、ミラー２８で反射してレンズ２９を通り、ビームスプリッタ３０に入射する。ビームスプリッタ３０は、レンズ２９から入射した光の一部が透過し、レンズ２９から入射した光の一部が反射する特性を有する。ビームスプリッタ３０で反射する光の光量と、ビームスプリッタ３０を透過する光の光量との比は任意で設定され、例えば、８：２でもよいし、その他の比でもよい。ビームスプリッタ３０で反射した光は、レンズ３１に入射する。レンズ３１は、ビームスプリッタ３０で反射した光を撮像素子１５に導く。レンズ２７、レンズ２９、及びレンズ３１は、例えばリレー光学系であり、１次像面３２と光学的に共役な２次像面３３を形成する。２次像面３３には、標本Ｓの２次像（例、最終像）が形成される。撮像素子１５は、２次像面３３の位置またはその近傍に配置され、標本Ｓの２次像を撮像する。ユーザは、例えば、撮像素子１５による撮像画像により標本Ｓを観察することができる。

結像光学系５ｂは、標本Ｓからの光（観察光）をユーザの視点ＶＰに導く。結像光学系５ｂは、対物レンズ４からビームスプリッタ３０までの要素が結像光学系５ａと共通である。結像光学系５ｂは、ビームスプリッタ３０に入射した光の透過側に、レンズ３５、ミラー３６及び接眼レンズ１４を備える。ビームスプリッタ３０を透過した光は、レンズ３５を通ってミラー３６で反射した後、接眼レンズ１４に入射する。レンズ２７、レンズ２９、及びレンズ３５は、例えばリレー光学系であり、一次像面３２と光学的に共役な２次像面３８が形成される。２次像面３８には、標本Ｓの２次像が形成される。ユーザは、接眼レンズ１４を介して、標本Ｓの２次像を観察することができる。接眼レンズ１４は、例えば、顕微鏡ＭＳの前面側（図１参照）に配置される。ユーザは、例えば、顕微鏡ＭＳの前面側にて標本Ｓを観察し、この位置から標本Ｓの交換、移動などの操作を行う。標本Ｓの操作を行う際に標本Ｓへアクセス（接近、接触）する方向は、標本Ｓの位置（例、ステージ８の中央）に対して、ステージ８よりも上方に延びる部材（例、支柱部１０）の配置側（例、＋Ｙ側）を避けて選択される。例えば、ユーザは、標本Ｓの操作を行う際に、標本Ｓに対して−Ｙ側、＋Ｘ側、−Ｘ側のいずれからでも標本Ｓにアクセス可能である。

なお、結像光学系５（結像光学系５ａ及び結像光学系５ｂ）の少なくとも一部は、図２の構成に限定されず、適宜変更可能である。例えば、顕微鏡ＭＳは、結像光学系５ａまたは結像光学系５ｂを備えなくてもよい。結像光学系５の他の例については、後の実施形態で説明する。

次に、図１の説明に戻り、遮光装置１は、照明光に由来する光以外の光（以下、外光という）が対物レンズ４に入射する量（対物レンズ４に入射する外光の光量）を可変する。照明光に由来する光は、標本Ｓを透過した照明光、標本Ｓで反射した照明光、標本Ｓに含まれる蛍光物質が照明光の照射により励起して発する蛍光などである。外光は、例えば、顕微鏡ＭＳが設置される設備の室内灯（例、照明機器）からの光、設備の窓などから設備内に入射する自然光、迷光などである。

遮光部材４０は、ステージ８上の観察位置Ｒａ（観察時の対物レンズ４の位置での光軸ＡＸ１を中心とする領域）に配置された標本Ｓ（ステージ装置２のステージ８）の上方に配置される。図１において、遮光部材４０は、コンデンサレンズ１１のうち光を射出する射出面（下面）よりも下方に配置される。例えば、遮光部材４０は、鏡筒９の下端（−Ｚ側の端部）よりも下方に配置される。なお、遮光部材４０は、鏡筒９の下端よりも上方に配置されてもよい。

遮光部材４０は、例えば、円板状である。遮光部材４０の中央部分には、コンデンサレンズ１１からの照明光を通すためのシャッタ部６６が設けられる。遮光部材４０は、コンデンサレンズ１１からの照明光の光路に開口部６８を有し、シャッタ部６６は、照明光が開口部６８を通過可能な状態（開状態）と、照明光が開口部６８を通過不能な状態（閉状態）とを切り替え可能である。シャッタ部６６は、透過照明を用いる際に開状態に設定される。

なお、遮光部材４０の形状は、任意であり、円板状でなくてもよく、その例については後の実施形態で説明する。また、遮光部材４０がコンデンサレンズ鏡筒９の下端よりも下方（ステージ８側）に配置され、観察中、コンデンサレンズ鏡筒９の下端とステージ８の間で位置決めする遮光条件での観察を行う場合は、開口部６８、シャッタ部６６の無い遮光部材４０を用いても良い。また、顕微鏡ＭＳが透過照明を行わない場合、あるいはコンデンサレンズ１１の射出面が遮光部材４０よりも下方（−Ｚ側）に配置される場合など、顕微鏡ＭＳは、シャッタ部６６を備えなくてもよい。また、コンデンサレンズ１１の射出面あるいは鏡筒９の下端が遮光部材４０よりも上方（＋Ｚ側）に配置される場合において、シャッタ部６６が設けられなくても、開口部６８の上方に鏡筒９が配置されることにより、開口部６８を介して対物レンズ４に外光が入射することを抑制することができる。更に、遮光部材４０のＺ方向の駆動範囲が、コンデンサレンズ鏡筒９の下端の上方から下端の下方に渡る広範囲である観察の場合は、シャッタ部６６を備えた遮光部材４０を顕微鏡ＭＳまたは顕微鏡ＭＳに配置されたコンデンサレンズ鏡筒９に装着し、遮光部材４０を鏡筒９の下端より上方に配置して観察する場合は、シャッタ部６６を開いた状態とし、開口部６８にコンデンサレンズ鏡筒９を貫通させた状態で使用し、更に遮光部材４０がコンデンサレンズ鏡筒９の下端よりも下方に配置して観察する場合には、シャッタ部６６を閉じた状態になるように切り替えて使用することも可能である。なお、この切り替えは手動で行っても良い。また、例えば、遮光部材４０のＺ方向の位置を検出する検出部を設け、遮光部材４０と予め図４に示す記憶装置８２（記憶部）に記憶したコンデンサレンズ鏡筒９の下端の位置との関係を判定し、鏡筒９の下端の位置と遮光部材４０の位置関係から上記のシャッタ部６６の開閉を自動的に制御してもよい。この場合、顕微鏡ＭＳ非使用時の遮光部材４０の位置ではシャッタ部６６を開き、コンデンサレンズ鏡筒９を貫通させた状態にする。つまり遮光部材４０をコンデンサレンズ鏡筒９の下端より上方（＋Ｚ方向）に配置させた状態にすることが好ましい。さらに、この状態で、後に図１２等において説明する可動部４１を開いた非遮光状態にすれば、ステージ８上の空間をより広くした状態で次回の観察を開始できるので、観察開始時のステージ８上へのアクセスが容易となる。また、開口部６８を介して対物レンズ４に外光が入射する場合においても、遮光部材４０が設けられない場合と比較して、対物レンズ４に入射する外光の光量を低減することができる。

遮光部材４０は、外光（例、可視光、紫外光、赤外光）を吸収あるいは反射する特性を有する。例えば、遮光部材４０は、金属で形成される。遮光部材４０の少なくとも一部は、金属以外の材料で形成されてもよく、樹脂あるいは金属酸化物で形成されてもよい。また、遮光部材４０の少なくとも一部は、母材の表面を黒体化したもの、あるいは母材の表面に遮光性の膜を形成したものでもよい。また、遮光部材４０は、一対の偏光板が設けられる基板間に液晶層を有する液晶パネルを含むものでもよく、その例については後の実施形態で説明する。

遮光部材４０とステージ装置２との間には、空間ＳＰ１（（空間部）、図１１参照）が設けられる。空間ＳＰ１は、少なくとも一部が顕微鏡ＭＳを観察者側から見て左右の方向や前後方向である側方（横方向、Ｘ方向、Ｙ方向）に開放される。この空間ＳＰ１は、ユーザが標本Ｓを操作するために用いられる。これにより、ユーザは、標本Ｓを観察すると共に、標本Ｓの操作することができる。例えば、遮光部材４０とステージ装置２のステージ８との間の距離は、２ｃｍ以上に設定される。また、例えば、遮光部材４０とステージ装置２のステージ８との間の距離を５ｃｍ以上に設定可能な場合、ユーザによる標本Ｓの操作性をより高くすることができる。本実施形態の遮光部材４０は、顕微鏡ＭＳに対して観察者側から見て左右の方向及び観察者側の前方向である側方（横方向、Ｘ方向、Ｙ方向）は開放されている。そして、遮光部材４０をＺ方向に移動させる場合は、空間ＳＰ１が側方（横方向、Ｘ方向、Ｙ方向）に解放される状態を維持した状態でＺ方向の移動が可能となっている。従って、遮光部材４０のＺ方向の移動中も観察者の標本Ｓへの側方からのアクセスを制限することがない。すなわち、遮光部材４０は、遮光状態においても、顕微鏡ＭＳに対して観察者側から見て左右の方向及び観察者側の前方向である側方に空間ＳＰ１が形成される。また、遮光部材４０を遮光状態と非遮光状態（可動部４２が開いた状態）を切り替える場合、対物レンズ４の光軸ＡＸ１に交わる（例えば、略直交する）方向を回転軸として遮光部材４０を移動させても良い。この場合、前記光軸ＡＸ１に沿った方向に回転軸を設け、更に遮光部材４０を分割した状態の部材を複数備え（例えば図１２）、上記の回転軸を中心に開閉する構成でも良い。この場合、遮光時に側方に形成された空間を維持した状態で、遮光部材４０を退避させ非遮光状態とすることが可能である。このため、観察時、遮光状態で遮光部材４０の側方の空間ＳＰ１を利用し側方に観察ユニット等を配置した場合、この状態から非遮光状態である遮光部材４０を開いた状態に切り替える際、標本Ｓの側方に配置した観察ユニットを移動することなく、遮光部材４０を開くことが可能であり、使い勝手が良いものとなる。なお、この場合、遮光部材４０を回転させる、回転方向及び回転軸は、限定されない。

遮光装置１は、ステージ８上の観察位置Ｒａに配置された標本Ｓを観察する顕微鏡ＭＳに設けられ、顕微鏡ＭＳに配置された対物レンズ４へ入射する外光の遮光時に、観察位置Ｒａに配置された標本Ｓの上方に位置決めされ、外光の光量を制御する遮光部材４０の調整部７０を有する。調整部７０は、遮光部材４０を調整する。調整部７０は、例えば、駆動部７２により遮光部材４０を駆動する。この場合の駆動とは、図３中のＺ方向、つまり対物レンズ４の光軸ＡＸ１と平行な方向に遮光部材４０を移動させることである。従って、この場合の調整部７０は、遮光部材４０のＺ方向に位置の調整を行うものである。駆動部７２は、例えば顕微鏡ＭＳの支柱部１０に取り付けられる。駆動部７２は、遮光部材４０を対物レンズ４の光軸ＡＸ１と平行な方向（上下方向）に移動する。これにより、対物レンズ４に入射可能な外光の入射角が変化し、つまり遮光部材４０により特定角度の入射角の外光を遮光し、上記特定角度を除く角度の入射角を有する外光のみ対物レンズへの入射を許容し、対物レンズ４に入射する外光の光量が変化する。駆動部７２は、例えば、遮光部材４０と対物レンズ４との間隔を調整する。駆動部７２は、例えば、アクチュエータにより駆動する。なお、駆動部７２は、支柱部１０以外に取り付けられてもよい。例えば、駆動部７２は、コンデンサレンズ鏡筒９に取り付けられてもよいし、ステージ装置２に取り付けられてもよい。また、駆動部７２は、手動（人力）により駆動してもよい。駆動部７２が手動（人力）により駆動する場合、例えば、駆動部７２は、遮光部材４０を手動（人力）によりＺ方向にスライドして遮光部材４０のステージ８に対する高さを調節する機構でもよい。また、調整部７０（駆動部７２）は、対物レンズ４の光軸ＡＸ１と平行な方向における複数の位置から選択される位置に遮光部材４０を保持する保持部材を含んでもよい。例えば、調整部７０（駆動部７２）の保持部材は、ネジ、ネジ穴、ガイド、またはクリックストップ機構でもよい。例えば、調整部７０（駆動部７２）は、支柱部１０や鏡筒９にＺ方向に並ぶ複数のネジ穴が設けられ、遮光部材４０の固定用のネジを複数のネジ穴のいずれにねじ込むかにより、遮光部材４０のＺ方向の位置（高さ）を可変に設定可能な機構でもよい。また、調整部７０の保持部材は、後述するｎｓｉｎθの値が所定の値（例、０．８０、０．８５、０．９０、０．９５）に設定可能であってもよい。また、遮光装置１は、遮光部材４０の上下方向の移動以外の手法によって対物レンズ４に入射する外光の光量を変化させてもよく、その例については、後の実施形態において説明する。なお、調整部７０（駆動部７２）による遮光部材４０の対物レンズ４の光軸ＡＸ１方向への移動機構は、遮光状態と非遮光状態との切替機構を兼ねていてもよい。例えば、この切替機構は、遮光部材４０を対物レンズ４から離間する方向に移動することにより非遮光状態にし、また、遮光部材４０を対物レンズ４に接近する方向に移動することにより遮光状態にする。

次に図３を参照しつつ、対物レンズ４に入射する外光の光量を変化させる構成について説明する。図３は、遮光部材４０を対物レンズ４の光軸に平行な方向（Ｚ方向）に移動する例であり、本実施形態の遮光装置１を示す図である。符号ｈ、符号ｈ１および符号ｈ２は、それぞれ、対物レンズ４のうち最も標本に近いレンズ部材４ａの中心（光軸ＡＸ１）から遮光部材４０までのＺ方向の距離（高さ）を示す。また、符号θは、対物レンズ４の光軸を基準とするレンズ部材４ａへの外光の、対物レンズ４の光軸ＡＸ１に対する入射角であり、符号θ１および符号θ２は、それぞれ、遮光部材４０の周囲から対物レンズ４へ入射する外光（光線）の、対物レンズ４の光軸ＡＸ１に対する最小の入射角を示す。

図３に示すように、駆動部７２により遮光部材４０が距離ｈ１に配置される場合、外光のうち入射角が入射角θ１よりも小さい光が遮光部材４０に遮光される。また、駆動部７２により遮光部材４０が距離ｈ２に配置される場合、外光のうち入射角が入射角θ２よりも小さい光が、遮光部材４０に遮光される。距離ｈ２は距離ｈ１よりも小さく、遮光部材４０が距離ｈ２に配置される場合、遮光部材４０の遮光面積が固定であり、対物レンズ４の倍率が固定とすると遮光部材４０が距離ｈ１に配置される場合と比較して、遮光部材４０に遮光される外光の光量が増加し、対物レンズ４に入射する外光の光量が減少する。このように、遮光装置１は、対物レンズ４に入射する外光の光量を可変である。なお、入射角θ１および入射角θ２は対物レンズ４のＮＡに依存する。従って、遮光する外光の光量は、対物レンズ４のＮＡと、遮光部材４０のＺ方向の対物レンズ４と、の距離によって設定される。

本実施形態において、駆動部７２は、例えば、遮光部材４０から対物レンズ４までの光路の屈折率をｎ（光路に存在する空気の屈折率ｎ＝１）とした場合に、０．８０≦ｎｓｉｎθ≦０．９５を満たすように、遮光部材４０を駆動可能である。遮光部材４０が上記ｎｓｉｎθの範囲に設定される場合、顕微鏡ＭＳの蛍光観察時の像は、コントラストが高くなる（後に実施例に示す）。例えば、本実施形態において、距離ｈ１は、ｎｓｉｎθが０．８５に相当する距離に設定され、また、距離ｈ２は、ｎｓｉｎθが０．９５に相当する距離に設定される。例えば、円板状の遮光部材４０を仮定し、遮光部材４０の径は固定の場合を想定すると、このｎｓｉｎθの値は、遮光部材４０と対物レンズ４の先端との距離ｈを規定するものになる。また、例えば円板状の遮光部材４０を仮定し、遮光部材４０の径を可変とし、遮光面積を変える構成であり、距離ｈを固定する場合を想定すると、このｎｓｉｎθの値は、遮光部材４０の径（半径）を規定するものになる。本実施形態においては、ｎを考慮したが、顕微鏡観察時の顕微鏡設置環境を考慮すれば、屈折率ｎの条件は必須でなない。遮光部材４０の配置は、用途、対物レンズ４の倍率、対物レンズ４のＮＡ、顕微鏡を設置する場所の光、遮光部材の面積（光軸ＡＸ１に対して直交する方向の遮光面積）などに応じて設定可能である。例えば、遮光部材４０をｎｓｉｎθが相対的に大きい値（例、０．９０≦ｎｓｉｎθ≦０．９５）になるように配置する場合、遮光部材４０は多くの外光を遮光するため、像のコントラストが高くなるが、距離ｈは小さくなるため、遮光部材４０と標本Ｓとの間隔が狭くなり、標本Ｓの操作性が低下する。このように、遮光部材４０の駆動条件（例、Ｚ方向の可動範囲）において距離ｈが相対的に小さい設定（以下、観察優先モードという）は、例えば、標本Ｓへの外光の入射をより多く遮光する環境を構築することで、ユーザが標本Ｓの詳細な観察を行う場合に用いられる。一方、遮光部材４０をｎｓｉｎθが相対的に小さい値（例、０．８０≦ｎｓｉｎθ＜０．９０）になるように配置する場合、遮光部材４０が遮光する外光の量が少なくなるため、像のコントラストが低下するが、距離ｈが大きくなるため標本Ｓの操作性が高くなる。このように、遮光部材４０の駆動条件（例、Ｚ方向の可動範囲）において距離ｈを相対的に大きい設定（以下、操作優先モードという）は、例えば、ユーザが標本Ｓを操作する頻度が観察優先モードよりも高い場合に用いられる。例えば、操作優先モードは、蛍光観察を行いながら、蛍光タンパク質の発現量が高い細胞等をスクリーニングする場合などに用いられる。顕微鏡ＭＳは、０．８０≦ｎｓｉｎθ≦０．９５を満たすように遮光部材４０を配置可能である場合、例えば、得られる像のコントラストを確保しながら、観察時の操作性を確保することもできる。また、顕微鏡ＭＳは、遮光装置１による外光が対物レンズ４に入射する量を変化させることにより、使用モードを観察優先モードと操作優先モードとで変更する（切り替える）ことができる。また、観察優先モードにおける遮光部材４０のＺ方向の位置を図４に示す記憶装置８２（記憶部）に記憶しておくことが可能である。例えば蛍光観察中にスクリーニング操作を行う場合、一旦遮光部材４０をステージ８から離れる方向に退避させ、その後再度蛍光観察を行う場合、先に記憶した遮光部材４０のＺ方向の位置を読出し、遮光部材４０のＺ方向の位置を再現させることで蛍光観察とスクリーニングの一連の操作の円滑化、かつ画質のよい観察画像の取得が可能となる。

なお、駆動部７２は、ｎｓｉｎθを連続的に変化させてもよいし、ｎｓｉｎθを段階的に（離散的な値に）変化させてもよい。駆動部７２がｎｓｉｎθを変化させる範囲は、０．８０以上０．９５以下の範囲の全域でもよいし、一部の領域でもよい。例えば、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが０．８０≦ｎｓｉｎθ≦０．９０を満たす範囲のみで可変なように、遮光部材４０を駆動してもよい。また、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが０．９０≦ｎｓｉｎθ≦０．９５を満たす範囲のみで可変なように、遮光部材４０を駆動してもよい。また、駆動部７２は、ｎｓｉｎθがｎｓｉｎθ＜０．８０あるいは０．９５＜ｎｓｉｎθを満たす範囲で可変なように、遮光部材４０を駆動してもよい。また、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが０．８０≦ｎｓｉｎθ≦０．９０を満たす範囲で、遮光部材４０を駆動しなくてもよい。また、本実施形態はＪＩＳ規格（例えば工場等の作業環境での照度条件）に適合した部屋の照度を前提にした場合を想定している。しかし、本願発明はこれに限定されることなく、例えば、顕微鏡が設置されている部屋の照明光の明るさや顕微鏡の観察条件によっては、ｎｓｉｎθが０．７０＜ｎｓｉｎθでもよく、更に例えば観察する標本Ｓの蛍光像の明るさ、標本中の発光部位の大きさ、位置によっては、ｎｓｉｎθが０．５０＜ｎｓｉｎθ程度でもよい。例えば、外光の照度が高い場合において、より遮光性能と向上させたい場合は、遮光部材４０を標本に近づける方向に移動して、ｎｓｉｎθを０．５０＜ｎｓｉｎθ程度にしてもよい。また、距離ｈ２も、例えば標本Ｓの厚みによっては、ｎｓｉｎθがｎｓｉｎθ＜１．０に相当する距離に設定されてもよい。このように距離ｈは、外光に相当する顕微鏡ＭＳが設置されている部屋の照明光の明るさや、観察する標本Ｓにおける、例えば蛍光強度、発光面積、発光位置等によっても柔軟に変更することが可能である。

次に、顕微鏡ＭＳの制御について説明する。図４は、顕微鏡ＭＳを示すブロック図である。顕微鏡ＭＳは、例えば、制御部８０、入力部８１、及び記憶装置８２を備える。制御部８０は、顕微鏡ＭＳの各部を制御する。制御部８０は、駆動部７２と通信可能に接続され、駆動部７２による遮光部材４０の駆動を制御する。例えば、制御部８０は、駆動部７２を制御することにより、遮光部材４０の位置（例、図３の距離ｈ）を制御する。制御部８０は、シャッタ部６６と通信可能に接続され、シャッタ部６６の開閉を制御する。シャッタ部６６は、制御部８０に制御される代わりに、手動（人力）により開閉されてもよい。制御部８０は、撮像素子１５と通信可能に接続され、撮像素子１５の撮像タイミングなどを制御する。また、制御部８０は、撮像素子１５から撮像結果（例、画像データ）を受信する。制御部８０は、ハードディスクあるいはメモリなどの記憶装置８２と通信可能に接続される。制御部８０は、記憶装置８２に記憶（記録）された情報の読出し、および記憶装置８２に情報を記憶（記憶）させる。例えば、制御部８０は、撮像素子１５から供給された撮像結果を、適宜、記憶装置８２に記憶させる。入力部８１は、例えば、キーボード、マウス、トラックボール、タッチパネル、外部通信器などの各種入力デバイスである。入力部８１は、外部（例、ユーザ）から情報（例、動作指令、設定情報）の入力を受け付ける。入力部８１は、制御部８０と通信可能に接続され、顕微鏡ＭＳに対する動作指令を制御部８０に供給する。入力部８１は、例えば、駆動部７２に対する動作指令、シャッタ部６６に対する動作指令、撮像素子１５に対する動作指令、及び表示装置１６に対する動作指令の少なくとも１つを受け付ける。制御部８０は、入力部８１から供給された動作指令に従って、顕微鏡ＭＳの各部を制御する。例えば、制御部８０は、駆動部７２に対する動作指令に従って駆動部７２を制御することによって、遮光部材４０の位置を制御する。また、制御部８０は、シャッタ部６６に対する動作指令に従って、シャッタ部６６を開閉させる。また、制御部８０は、撮像素子１５に対する動作指令に従って、撮像素子１５に撮像を実行させる。また、制御部８０は、表示装置１６に対する動作指令に従って、表示装置１６に各種情報を示す画像を表示させる。例えば、制御部８０は、表示装置１６に、顕微鏡ＭＳの設定を示す画像と撮像素子１５により撮像された画像の少なくとも一方を表示させる。なお、顕微鏡ＭＳは、制御部８０、入力部８１、記憶装置８２、及び表示装置１６の少なくとも一部を備えなくてもよい。

次に、本実施形態に係る制御方法を説明する。図５から図７は、本実施形態に係る顕微鏡ＭＳの制御方法のフローチャートである。図５（Ａ）は、制御方法の一例を示すフローチャートである。図５（Ｂ）、図６、および図７は、図５（Ａ）のステップＳ１００の処理の例を示すフローチャートである。本実施形態の制御方法は、対物レンズ４を備え、ステージ８上の観察位置Ｒａに配置された標本Ｓを観察する顕微鏡ＭＳの制御方法であって、標本Ｓの上方に遮光部材４０を配置することと、遮光部材４０を調整し、対物レンズ４へ入射する外光の光量を調整することと、を含む。ステップＳ１００において、例えば、制御部８０は、駆動部７２を駆動して、ｎｓｉｎθが所定の値（例、０．８５、０．９５）になるように遮光部材４０を配置する。

例えば、図５（Ｂ）に示すステップＳ１００のステップＳ１１１において、使用情報が入力される。使用情報は、例えば、顕微鏡ＭＳを用いる観察条件を示す情報を含む。使用情報は、例えば、顕微鏡ＭＳの使用モード（例えば観察優先モード、操作優先モード）、落射観察を行うか否かの情報、透過観察を行うか否かの情報を含む。使用情報は、例えば、ユーザにより入力部８１に入力される。使用情報の少なくとも一部は、例えば、予め定められた設定情報として記憶装置８２に記憶されていてもよい。また、使用情報は、記憶装置８２に記憶される場合、ユーザが入力した使用情報に更新可能でもよい。また、ステップＳ１１１において使用情報を入力する代わりに、記憶装置８２に記憶された使用情報を後の処理に用いることもできる。

続くステップＳ１１２において、制御部８０は、使用情報に基づいて、使用モードが操作優先モードであるか否かを判定する。制御部８０は、使用モードが操作優先モードであると判定した場合（ステップＳ１１２；ＹＥＳ）、ステップＳ１１３において駆動部７２を制御し、ｎｓｉｎθが０．８０≦ｎｓｉｎθ＜０．９０を満たすように、遮光部材４０を駆動させる。例えば、ステップＳ１１３において、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが上記範囲内の所定値（例、０．８５）になるように、遮光部材４０をＺ方向に駆動する。

また、制御部８０は、使用モードが操作優先モードでないと判定した場合（ステップＳ１１２；ＮＯ）、ステップＳ１１４において、使用情報に基づいて、使用モードが観察優先モードであるか否かを判定する。制御部８０は、使用モードが観察優先モードであると判定した場合（ステップＳ１１４；ＹＥＳ）、ステップＳ１１５において、ｎｓｉｎθが０．９０＜ｎｓｉｎθ≦０．９５を満たすように遮光部材４０をＺ方向に駆動する。例えば、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが上記範囲内の所定値（例、０．９５）になるように、遮光部材４０を駆動する。

制御部８０は、ステップＳ１１３の処理後またはステップＳ１１５の処理後に、使用情報に基づいて、ステップＳ１１６において透過観察を行うか否かを判定する。制御部８０は、ステップＳ１１６において透過観察を行うと判定した場合（ステップＳ１１６；ＹＥＳ）、又はステップＳ１１４において使用モードが観察優先モードでないと判定した場合（ステップＳ１１４；ＮＯ）、ステップＳ１１７においてシャッタ部６６を開状態に制御する。制御部８０は、ステップＳ１１６において透過観察を行わないと判定した場合（ステップＳ１１６；ＮＯ）、ステップＳ１１８においてシャッタ部６６を閉状態に制御する。制御部８０は、ステップＳ１１７の処理後またはステップＳ１１８の処理後に、ステップＳ１１９において、一連の処理（例、観察）を終了するか否かを判定する。制御部８０は、一連の処理を終了すると判定した場合（ステップＳ１１９；ＹＥＳ）、一連の処理を終了する。制御部８０は、一連の処理を終了しないと判定した場合（ステップＳ１１９；ＮＯ）、ステップＳ１１１に戻り、一連の処理を繰り返し行う。なお、図５（Ｂ）のステップＳ１１４において、制御部８０は、使用モードが観察優先モードでないと判定した場合（ステップＳ１１７；ＮＯ）、ステップＳ１１７の処理を行うが、ステップＳ１１７の処理の代わりにステップＳ１１６の処理を実行してもよい。

次に、図６に示すステップＳ１００の例について説明する。この例において、ｎｓｉｎθは、対物レンズ４の倍率に応じて設定される。すなわち、調整部７０が実行する調整は、対物レンズ４の光学性能に応じて設定される。ステップＳ１２０において、制御部８０は、対物レンズ４の倍率が所定倍率以下であるか否かを判定する。例えば、制御部８０は、対物レンズ４を保持するターレット１２（リボルバ）からの情報に基づき、観察位置に位置決めされた観察に使用する対物レンズ４の倍率を判定する。対物レンズ４の倍率の情報は、入力部８１に入力された情報（例、使用情報）でもよいし、対物レンズ４の種類を検出可能なセンサの検出結果に基づくものでもよい。ステップＳ１２０における対物レンズ４の所定倍率は、例えば２０倍でもよいし、２０倍以外の任意の倍率でもよい。制御部８０は、対物レンズ４の倍率が所定倍率以下であると判定した場合（ステップＳ１２０；ＹＥＳ）、ステップＳ１１５において、ｎｓｉｎθが０．９０＜ｎｓｉｎθ≦０．９５を満たすように遮光部材４０を駆動する。例えば、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが上記範囲内の所定値（例、０．９５）になるように、遮光部材４０を駆動する。また、制御部８０は、対物レンズ４の倍率が所定倍率以下でないと判定した場合（ステップＳ１２０；ＮＯ）、ステップＳ１１２において、制御部８０は、使用情報に基づいて、使用モードが操作優先モードであるか否かを判定する。制御部８０は、使用モードが操作優先モードであると判定した場合（ステップＳ１１２；ＹＥＳ）、ステップＳ１１３において駆動部７２を制御し、ｎｓｉｎθが０．８０≦ｎｓｉｎθ＜０．９０を満たすように、遮光部材４０を駆動させる。例えば、ステップＳ１１３において、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが上記範囲内の所定値（例、０．８５）になるように、遮光部材４０を駆動する。制御部８０は、使用モードが操作優先モードであると判定した場合（ステップＳ１１２；ＮＯ）、ステップＳ１１５において、ｎｓｉｎθが０．９０＜ｎｓｉｎθ≦０．９５を満たすように遮光部材４０を駆動する。例えば、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが上記範囲内の所定値（例、０．９５）になるように、遮光部材４０を駆動する。制御部８０は、ステップＳ１１３の処理後またはステップＳ１１５の処理後に、使用情報に基づいて、ステップＳ１１６において透過観察を行うか否かを判定する。制御部８０は、ステップＳ１１６において透過観察を行うと判定した場合（ステップＳ１１６；ＹＥＳ）、ステップＳ１１７においてシャッタ部６６を開状態に制御する。制御部８０は、ステップＳ１１６において透過観察を行わないと判定した場合（ステップＳ１１６；ＮＯ）、ステップＳ１１８においてシャッタ部６６を閉状態に制御する。制御部８０は、ステップＳ１１７の処理後またはステップＳ１１８の処理後に、ステップＳ１１９において、一連の処理（例、観察）を終了するか否かを判定する。制御部８０は、一連の処理を終了すると判定した場合（ステップＳ１１９；ＹＥＳ）、一連の処理を終了する。制御部８０は、一連の処理を終了しないと判定した場合（ステップＳ１１９；ＮＯ）、ステップＳ１２０に戻り、一連の処理を繰り返し行う。

次に、図７に示すステップＳ１００の例について説明する。この例において、画像のコントラストが所定値以下になった場合に、遮光部材４０を駆動する。制御部８０は、ステップＳ１２１において、像のバックグラウンドの輝度（像における背景の明るさ）が所定値以下であるか否かを判定する。このような取得画像の輝度の算出方法は、既知の方法が利用可能である。例えば、制御部８０は、撮像素子１５が撮像した画像に基づいて、バックグラウンドの輝度が所定値以上であるか否かを判定する。制御部８０は、バックグラウンドの輝度が所定値以上である（コントラストが所定値未満である）と判定した場合（ステップＳ１２１；ＮＯ）、ステップＳ１２２においてｎｓｉｎθを増加させるように（例、ｈが減少するように）、駆動部７２を制御し、遮光部材４０を駆動させる。制御部８０は、ステップＳ１２２の処理後に、ステップＳ１２１に戻り、一連の処理を繰り返す。制御部８０は、バックグラウンドの輝度が所定値未満である（コントラストが所定値以上である）と判定した場合（ステップＳ１２１；ＹＥＳ）、ステップＳ１１９において、一連の処理（例、観察）を終了するか否かを判定する。制御部８０は、一連の処理を終了すると判定した場合（ステップＳ１１９；ＹＥＳ）、一連の処理を終了する。制御部８０は、一連の処理を終了しないと判定した場合（ステップＳ１１９；ＮＯ）、ステップＳ１２１に戻り、一連の処理を繰り返し行う。

上述のような顕微鏡ＭＳにおいて、制御部８０は、例えばコンピュータシステムを含む。制御部８０は、例えば、記憶装置８２に記憶されているプログラムを読み出し、このプログラムに従って各種の処理を実行する。このプログラムは、対物レンズ４を備え、ステージ８上の観察位置Ｒａに配置された標本Ｓを観察する顕微鏡ＭＳの制御をコンピュータに実行させるプログラムである。この制御は、標本Ｓの上方に遮光部材を配置することと、遮光部材４０を調整し、対物レンズ４へ入射する外光の光量を調整することと、を含む。このプログラムは、コンピュータ読み取り可能な記憶媒体（記録媒体）に記憶（記録）されて提供されてもよい。

次に、本実施形態に係る観察方法を、図８を参照しつつ説明する。本観察方法は、対物レンズ４を備え、ステージ８上の観察位置Ｒａに配置された標本Ｓを観察する顕微鏡ＭＳを用いる観察方法である。まず、ステップＳ１３１において、標本Ｓの上方に遮光部材４０を配置する。例えば、ステップＳ１３１では、遮光部材４０を標本Ｓの上方のＺ方向の位置を所定の初期位置に配置する。この初期位置は、例えば、ｎｓｉｎθが０．８５、０．９５の値を満たす位置でもよいし、これら以外の位置でもよい。続いて、ステップＳ１３２において、遮光部材４０のＺ方向の位置を調整し、外光が対物レンズ４に入射する量を変化させる。例えば、ステップＳ１３２において、遮光部材４０を駆動し、外光が対物レンズ４に入射する量を変化させる。ステップＳ１３２においては、例えば、ユーザが設定する観察条件（例、操作優先モード、観察優先モード）等に応じて、外光が対物レンズ４に入射する量を変化させる。例えば、観察優先モードの場合、ｎｓｉｎθが０．９０＜ｎｓｉｎθ≦０．９５を満たすように、駆動部７２は、遮光部材４０を駆動する。例えば、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが上記範囲内の所定の値（例、０．９５）になるように、遮光部材４０を駆動する。また、例えば、操作優先モードの場合、ｎｓｉｎθが０．８０≦ｎｓｉｎθ＜０．９０を満たすように、駆動部７２は遮光部材４０をＺ方向に駆動する。例えば、駆動部７２は、ｎｓｉｎθが上記範囲内の所定値（例、０．８５）になるように、遮光部材４０をＺ方向に駆動する。なお、調整部７０が、上記したネジ、ガイド等の遮光部材４０の保持部材を備える構成の場合、ステップＳ１３２において、ユーザが遮光部材４０を調整して、外光が対物レンズ４に入射する量を変化させてもよい。続くステップＳ１３３において、標本Ｓに照明光を照射する。ステップＳ１３３において、照明光は、落射照明でもよいし、透過照明でもよい。続くステップＳ１３４において、標本Ｓの像を観察する。ステップＳ１３４では、遮光部材４０により外光が遮光されるので、コントラストが高い標本Ｓの像を得ることができる。また、使用目的などに応じて使用モードが設定される場合（例、操作優先モードに設定される場合）、標本Ｓを容易に操作することができる。なお、ステップＳ１３４において、ユーザは標本Ｓの像の観察と共に、標本Ｓの操作を行ってもよい。

［第２実施形態］
第２実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図９は、第２実施形態に係る顕微鏡ＭＳの遮光装置１を示す図であり、（Ａ）は遮光装置１の状態の一例を示す図、（Ｂ）は遮光装置１の状態の他の例を示す図、（Ｃ）は遮光装置１を−Ｙ方向から見た図である。

本実施形態の遮光装置１において、調整部７０の駆動部７２は、第１実施形態のように遮光部材４０のＺ方向の位置を変更するものではなく、Ｚ方向の位置は固定し、遮光部材４０が外光を遮る領域の面積を変化させる。しかし、Ｚ方向の移動を連動させることも可能であり、これを排除するものではない。遮光部材４０は、第１実施形態と同様に配置される。遮光部材４０は、例えば、円板状である。駆動部７２は、例えば、上記した遮光部材４０を駆動し、遮光部材４０が光を遮る領域の面積を変化させる。遮光部材４０は、遮光領域の大きさに関わる光軸（例、光軸ＡＸ１）に対して直交する方向の大きさが変更可能である。遮光部材４０は、図９（Ａ）に示す半径ｒ１状態から、図９（Ｂ）に示す半径ｒ２の状態に広がる。また、遮光部材４０は、図９（Ｂ）に示す半径ｒ２の状態から、図９（Ａ）に示す半径ｒ１の状態に縮小する。図９（Ｂ）における半径ｒ１の外周と半径ｒ２の外周との間の部分は、例えば可変絞りと同様の構成であり、複数の部分に分割されて、図９（Ａ）における半径ｒ１の外周の部分に重ねられており、駆動部７２により駆動されて伸縮する。駆動部７２は、例えば、アクチュエータにより遮光部材４０を駆動する。なお、駆動部７２は、アクチュエータにより駆動しなくてもよく、例えば、駆動部７２は手動（人力）により駆動してもよい。遮光部材４０の中央部分には、例えば第１実施形態と同様に、シャッタ部６６が設けられる。

次に、図９（Ｃ）を参照しつつ、外光が対物レンズ４に入射する量を変化させる構成について説明する。図９（Ｃ）に示すように、遮光部材４０の半径が駆動部７２によってｒ１に設定される場合、外光のうち入射角θ１より入射角が小さい光が、遮光部材４０に遮光される。また、遮光部材４０の半径が駆動部７２によってｒ２に配置される場合、外光のうち入射角θ２より入射角が小さい光が、遮光部材４０に遮光される。このように、遮光装置１は外光が対物レンズ４に入射する量を変化させる。

［第３実施形態］
第３実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図１０は、第３実施形態に係る顕微鏡ＭＳの遮光装置１を示す図であり、（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、遮光装置１の動作を示す概念図である。

本実施形態の遮光装置１において、調整部７０の駆動部７２は、遮光部材４０が光を遮る領域の面積を変化させる。遮光部材４０は、第１実施形態と同様に配置される。遮光部材４０は、例えば、矩形板状の液晶装置（液晶パネル）である。この液晶装置は、一対の基板の間に液晶層が設けられた構造であり、一対の基板にはそれぞれ偏光板が設けられる。図１０（Ａ）に示すように、この液晶装置（遮光部材４０）は、複数の画素ＰＸを備える。駆動部７２は、画素ＰＸごとに液晶層を駆動し、画素ＰＸにおける透過率を制御する。例えば、図１０（Ｂ）に示すように、画素ＰＸにおける透過率がローレベル（図１０中に黒で示す）である領域は、遮光部材４０において光を遮光する領域（以下、遮光領域という）になる。また、画素ＰＸにおける透過率がハイレベル（図１０中に白で示す）である領域は、遮光部材４０において光が透過する部分になる。駆動部７２は、画素ＰＸにおける透過率がローレベルになる領域とハイレベルになる領域とを制御することにより、図１０（Ｂ）に示すように半径がｒ１の領域を遮光領域にすることもできるし、図１０（Ｃ）に示すように半径がｒ２の領域を遮光領域にすることもできる。

［第４実施形態］
次に、第４実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図１１は、本実施形態に係る顕微鏡ＭＳの遮光装置１を前面側（−Ｙ側）から見た図である。図１２は、遮光装置１を示す図である。図１２（Ａ）は、遮光部材４０の可動部４１が所定の第１領域Ｒ１に配置された状態（以下、挿入状態という）であり、図１２（Ｂ）は、遮光部材４０の可動部４１が第１領域Ｒ１から第２領域Ｒ２に移動した状態（以下、退避状態という）である。図１２（Ｃ）は、図１２（Ａ）のＡ−Ａ線に沿った断面図である。

図１１に示すように、遮光部材４０は、ステージ８の観察位置に配置された標本Ｓの観察領域Ｒａを含む周辺領域Ｒｂの上方を開放可能な可動部４１を含む。本明細書において、観察領域Ｒａは、対物レンズ４の視野を意味する。周辺領域Ｒｂは、例えば、光軸ＡＸ１からの距離が５ｃｍ以上の空間でもよいし、光軸ＡＸ１からの距離が１０ｃｍ以上の空間でもよいし、ユーザの手が通行可能な空間でもよい。例えば、遮光部材４０は、標本Ｓ（図１のステージ８参照）の上方をステージ８の標本載置面に沿った方向である横方向に移動する可動部４１を含む。例えば、可動部４１は、対物レンズ４の光軸ＡＸ１と交差する面（例、光軸ＡＸ１に垂直な面、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。そして、遮光部材４０（可動部４１）が完全に開放された状態では、遮光部材４０は顕微鏡ＭＳの対物レンズ４の光軸ＡＸ１に対して背面側に退避される。その結果、周辺領域Ｒｂ（標本Ｓの上方の空間ＳＰ１の一部）は、可動部４１の移動によってその上方の空間に開放される。ユーザ（観察者）は、可動部４１の移動により開放された空間（移動前の可動部４１が配置されていた空間）を介して、標本Ｓの移動、交換などの操作を容易に行うことができる。可動部４１は、例えば、顕微鏡ＭＳの前面側に配置可能であり、顕微鏡ＭＳの前面側から背面側へ退避可能である。この場合、可動部４１の移動（退避）により、標本Ｓの上方における顕微鏡ＭＳの前面側（移動前の可動部４１が配置されていた空間）は、物体（例、ユーザの手）が通行可能な空間になる。ユーザは、この空間ＳＰ１を介して、標本Ｓを容易に操作することができる。また、本実施形態の可動部４１は、可動部４１が閉じた状態において、開口部６８を閉じる。したがって、本実施形態の可動部４１は、開口部６８を開閉するシャッタ部６６としての機能も有する。

本実施形態において、可動部４１は、第１可動部４２および第２可動部４３を備える。図１において、第１可動部４２、第２可動部４３は、それぞれ対物レンズ４の光軸ＡＸ１に対して−Ｘ側、＋Ｘ側に配置される。第１可動部４２および第２可動部４３は、顕微鏡ＭＳの対物レンズ４の光軸ＡＸ１に対して観察者側である前面側に配置された状態から、それぞれの前面側の部分がＸ方向に互いに離れるように移動し、顕微鏡ＭＳの背面側に退避可能である。

遮光部材４０は、可動部４１を支持する固定部４４を備える。可動部４１は、固定部４４に対して相対的に移動可能である。固定部４４は、遮光部材４０のうち顕微鏡ＭＳの背面側に配置される。固定部４４は、例えば、ベース６に支持される。

第１可動部４２および第２可動部４３は、例えば、それぞれ板状である。固定部４４は、例えば、第１可動部４２および第２可動部４３を挟み込んで支持する。例えば、固定部４４は、天板部４４ａ、底板部４４ｂ、及び取り付け部４６を含む。天板部４４ａおよび底板部４４ｂは、例えば、それぞれＸＹ面に平行な板状であり、Ｚ方向に互いに離間して配置される。固定部４４は、例えば、第１可動部４２および第２可動部４３を、天板部４４ａと底板部４４ｂとの間のギャップに挟み込むように支持する。取り付け部４６は、遮光部材４０のうち顕微鏡ＭＳの背面側に配置される。取り付け部４６には、例えば、固定部４４をベース６（例、支柱部１０）に取り付ける際のネジが設けられる。このネジは、取り付け部４６に設けられる貫通孔を通して、ベース６のネジ穴にねじ込まれる。調整部７０（駆動部７２）（図１参照）は、ベース６（例、支柱部１０）にＺ方向に並ぶ複数のネジ穴が設けられ、遮光部材４０の固定用のネジを複数のネジ穴のいずれにねじ込むかにより、遮光部材４０のＺ方向の位置（高さ）を可変に設定可能（保持可能）である。調整部７０（駆動部７２）の保持部材は、ネジ、ネジ穴、ガイド、またはクリックストップ機構でもよい。なお、調整部７０の保持部材は、上記したｎｓｉｎθの値が所定の値（例、０．８０、０．８５、０．９０、０．９５）に設定可能であってもよい。

第１可動部４２、第２可動部４３および固定部４４は、それぞれ、外光（例、可視光、紫外光、赤外光）を吸収あるいは反射する特性を有する。例えば、第１可動部４２、第２可動部４３および固定部４４は、それぞれ、金属で形成される。第１可動部４２、第２可動部４３および固定部４４の少なくとも一部は、金属以外の材料で形成されてもよく、樹脂あるいは金属酸化物で形成されてもよい。また、第１可動部４２、第２可動部４３および固定部４４の少なくとも一部は、母材の表面を黒体化したもの、あるいは母材の表面に遮光性の膜を形成したものでもよい。

第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ、所定の回転軸の周りで回転可能に設けられ、回転により横方向に移動する。第１可動部４２は、光軸ＡＸ１と平行な回転軸ＡＸ２の周りで回転可能に設けられる。また、第２可動部４３は、光軸ＡＸ１と平行な回転軸ＡＸ３の周りで回転可能に設けられる。例えば、第１可動部４２は歯車５１と固定される。歯車５１は、回転軸ＡＸ２周りで固定部４４に対して回転可能に設けられる。歯車５１は、固定部４４に支持される。また、第２可動部４３は歯車５２と固定される。歯車５２は、回転軸ＡＸ３周りで固定部４４に対して回転可能に設けられる。歯車５２は、固定部４４に支持される。歯車５１と歯車５２とは、噛み合わされており、その一方（例、歯車５１）が回転すると、他方（例、歯車５２）が連動して回転する。本実施形態において、歯車５１と歯車５２とは歯車のピッチが同様であり、第１可動部４２を図１２（Ａ）に示す状態から対物レンズ４の光軸ＡＸ１と交差する面における角度θの量で移動した場合（図１２（Ｂ）参照）、第１可動部４２と第２可動部４３とが連動して移動し、第２可動部４３も、対物レンズ４の光軸ＡＸ１と交差する面において、第１可動部４２と同様に角度θの量で逆向きに回転（移動）する。このように、歯車５１と歯車５２とが互いに連動して回転することにより、第１可動部４２と第２可動部４３とが連動して回転する。

第１可動部４２および第２可動部４３には、それぞれ、＋Ｚ側に延びる突起状の把持部５４が設けられる。ユーザは、把持部５４を使って、第１可動部４２及び第２可動部４３を操作（移動）することができる。なお、把持部５４は、＋Ｚ側に延びる突起形でなくてもよく、例えば、孔状や凹状の形状でもよい。

図１２（Ｂ）に示すように、可動部４１は、横方向の移動によって、遮光部材４０のうち可動部４１を除く部分（例、固定部４４）と重なる位置に配置可能である。図１２（Ａ）に示した挿入状態は、例えば、Ｚ方向から見た場合に可動部４１と固定部４４とで重なる部分の面積（重なり面積）が最小となる状態（絞りが閉じた状態、閉状態）である。図１２（Ｃ）に示すように、第１可動部４２と第２可動部４３とは、挿入状態においてそれぞれの端部４２ａ、端部４３ａが互いに重なる位置に、配置可能である。本実施形態において、第１可動部４２および第２可動部４３のそれぞれの端部は、厚みがステップ的に変化する階段状である。第１可動部４２の端部４２ａは、第１可動部４２における−Ｚ側の部分が＋Ｘ側に延びた形状であり、第２可動部４３の端部４３ａは、第２可動部４３における＋Ｚ側の部分が−Ｘ側に延びた形状である。挿入状態において、端部４２ａ上に端部４３ａが重なって配置されることで、第１可動部４２と第２可動部４３との間から光が漏れることを抑制することができる。

また、挿入状態から可動部４１が移動するにつれて、可動部４１と固定部４４との重なり面積が大きくなる。例えば、第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ、顕微鏡ＭＳの前面側から見て左右に開くように回転する。この回転により、第１可動部４２および第２可動部４３の一部は、固定部４４の天板部４４ａと底板部４４ｂとのギャップに入り込み、このギャップ内に収容される。図１２（Ｂ）の退避状態は、例えば、Ｚ方向から見た場合に可動部４１と固定部４４との重なり面積が最大となる状態（絞りが開いた状態、開状態）である。このように可動部４１を遮光部材４０の他の部分と重なる位置に移動（退避）させる場合、退避状態において遮光部材４０をコンパクトにすることができる。以下の説明において、挿入状態と退避状態のうち、挿入状態のみにおいて可動部４１が配置される領域を適宜、第１領域Ｒ１という。第１領域Ｒ１は、可動部４１の移動により物体（例、ユーザの手）が通過可能となる領域である。第１領域Ｒ１は、例えば、ユーザが標本Ｓにアクセスしやすいように、顕微鏡ＭＳの前面側に設定される。また、退避状態において可動部４１が配置される領域を適宜、第２領域Ｒ２という。第２領域Ｒ２は、例えば、ユーザが標本Ｓにアクセスする際にユーザの手などと衝突しないように、顕微鏡ＭＳの背面側に設定される。

ここで、図１２において、符号Ｒ３は、透過照明を行う際に照明光が通る光路に相当する領域（以下、第３領域という）である。図１２（Ａ）に示す挿入状態において、可動部４１は、第３領域Ｒ３を遮光するように設けられる透過照明を行う際には、例えば可動部４１を退避状態とし、図１および図２に示した照明光学系３ｂからの照明光を、第３領域Ｒ３を通して、標本Ｓに照射することができる。なお、遮光部材４０は、挿入状態において第３領域Ｒ３を光が通過可能なものでもよい。例えば、第３領域Ｒ３の上方に鏡筒９が配置される場合、第３領域Ｒ３は、外光に対して鏡筒９の影となるので、第３領域Ｒ３を光が通過可能な場合でも、外光が第３領域Ｒ３を介して対物レンズ４へ入射することを抑制することができる。また、鏡筒９の下端が遮光部材４０よりも下方に配置される場合、鏡筒９を第３領域Ｒ３の内側を通すことにより、外光が第３領域Ｒ３を介して対物レンズ４へ入射することを抑制することができる。また、遮光部材４０は、各部の間（例、可動部４１と固定部４４との間、第１可動部４２と第２可動部４３との間）に隙間があってもよく、この場合においても遮光部材４０を設けない場合と比較して、対物レンズ４へ入射する外光の光量を低減することができる。

なお、第１可動部４２および第２可動部４３は、対物レンズ４の光軸ＡＸ１と非垂直かつ非平行な面（例、光軸ＡＸ１に対して傾斜する面）に沿って移動可能でもよい。また、第１可動部４２および第２可動部４３は、平面に沿った移動以外の形態で、横方向に移動してもよい。第１可動部４２および第２可動部４３は、互いに連動しなくてもよく、例えば、互いに独立して横方向に移動してもよい。また、可動部４１（第１可動部４２および第２可動部４３）は、アクチュエータにより移動するものでもよい。また、本実施形態において、可動部４１に含まれる可動な部分（例、第１可動部４２、第２可動部４３）の数は、２つでなくてもよく、１つでもよいし、３つ以上でもよい。

次に、本実施形態に係る観察方法を上記した顕微鏡ＭＳの動作に基づいて説明する。図１３（Ａ）は、本実施形態に係る観察方法を示すフローチャートであり、図１３（Ｂ）は、図１３（Ａ）のステップＳ１の一例を示すフローチャートである。なお、本実施形態に係る観察方法は、顕微鏡ＭＳと異なる構成の顕微鏡を用いる観察方法にも適用可能である。

図１３（Ａ）のステップＳ１において、ステージ８の観察位置に配置された標本Ｓの上方に遮光部材４０を配置する。例えば、図１３（Ｂ）のステップＳ１１において、可動部４１を、第１領域Ｒ１（例、顕微鏡ＭＳの前面側）から第２領域Ｒ２（例、顕微鏡ＭＳの背面側）に移動し、退避状態にする。続くステップＳ１２において、標本Ｓをステージ装置２のステージ８に配置する。ステップＳ１２では、可動部４１が第１領域Ｒ１から退避しているので、標本Ｓを容易に配置することができる。続くステップＳ１３では、可動部４１を第２領域Ｒ２からに移動し、対物レンズ４の光軸ＡＸ１上（標本Ｓの観察位置上）に遮光部材４０が配置された状態にする。ステップＳ１３により、標本Ｓの上方に遮光部材４０が配置される。

図１３（Ａ）の説明に戻り、ステップＳ２において、照明光を標本Ｓに照射する。続くステップＳ３において、標本Ｓを観察する。ステップＳ３では、遮光部材４０により外光が遮光されるので、例えば外光により像のコントラストが低下することが抑制され、標本像が明確となる精度が高い観察像を得ることができる。続くステップＳ４において、遮光部材４０の可動部４１を移動して、標本Ｓの観察領域Ｒａを含む周辺領域Ｒｂの上方を開放する。ステップＳ４では、周辺領域の上方が開放されるので、標本Ｓを容易に操作できる。例えば、ステップＳ１４において、標本Ｓの上方で遮光部材４０の可動部４１を横方向に移動する。例えば、ステップＳ１４では、可動部４１を第１領域Ｒ１から第２領域Ｒ２に移動し、退避状態にする。続くステップＳ５では、標本Ｓを操作する。ステップＳ５では、可動部４１が第１領域Ｒ１から退避しているので、標本Ｓを容易に操作することができる。

図１４（Ａ）は、図１３（Ａ）のステップＳ４、ステップＳ５、及びそれ以降の処理の一例を示す図である。ステップＳ１５（ステップＳ４）において、可動部４１を第１領域Ｒ１から顕微鏡ＭＳの第２領域Ｒ２に移動し、退避状態にする。続くステップＳ１６（ステップＳ５）では、標本Ｓに対する操作として、標本Ｓを観察対象の次の標本Ｓに交換する。ステップＳ１６では、可動部４１が第１領域Ｒ１から退避しているので、標本Ｓを容易に交換することができる。続くステップＳ１７において、可動部４１を第２領域Ｒ２から第１領域Ｒ１に移動し、挿入状態にする。続くステップＳ１８において、次の標本Ｓを観察する。ステップＳ１８では、遮光部材４０により外光が遮光されているので、例えば外光により像のコントラストが低下することが抑制され、精度が高い観察像を得ることができる。

図１４（Ｂ）は、図１３（Ａ）のステップＳ４、ステップＳ５、及びそれ以降の処理の一例を示す図である。ステップＳ１５（ステップＳ４）において、可動部４１を第１領域Ｒ１から第２領域Ｒ２に移動し、退避状態にする。続くステップＳ２０（ステップＳ４）において、標本Ｓに対する操作として、標本Ｓを移動する。ステップＳ２０では、例えば、標本Ｓを移動し、標本Ｓ上の視野（観察位置）を変更することができる。ステップＳ２０において可動部４１が退避しているので、標本Ｓを容易に移動することができ、標本上の視野を容易に変更することができる。続くステップＳ１７において、可動部４１を第２領域Ｒ２から第１領域Ｒ１に移動し、挿入状態にする。続くステップＳ２１において、移動後の標本Ｓを観察する。ステップＳ２１では、遮光部材４０により外光が遮光されているので、例えば外光により像のコントラストが低下することが抑制され、精度が高い観察像を得ることができる。

図１４（Ｃ）は、図１３（Ａ）のステップＳ４、ステップＳ５の処理の他の例を示す図である。標本Ｓの観察が終了した後、ステップＳ１５（ステップＳ４）において、例えば、可動部４１を第１領域Ｒ１から第２領域Ｒ２に移動し、退避状態にする。続くステップＳ２２（ステップＳ５）において、標本Ｓに対する操作として、標本Ｓをステージ装置２上から移動（退去）する。ステップＳ２２では、可動部４１が退避しているので、標本Ｓを容易に退去することができる。なお、ステップＳ５の操作処理は、例えば、顕微鏡ＭＳのメンテナンスなどを含んでもよい。また、顕微鏡ＭＳは、挿入状態においてもステージ８（標本Ｓ）と遮光部材４０との間の空間ＳＰ１が横方向に開放されているので、可動部４１を第１領域Ｒ１に配置したまま標本Ｓに対する操作を行うこともできる。例えば、ユーザは、可動部４１により外光を遮って蛍光観察を行いながら、標本Ｓを移動させることもできる。

［第５実施形態］
第５実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図１５は、第５実施形態に係る遮光装置１を示す図であり、（Ａ）は挿入状態に相当し、（Ｂ）は退避状態に相当する。

本実施形態に係る遮光装置１において、遮光部材４０は、横方向に移動する可動部４１と、可動部４１を支持する固定部４４と、設置部４５と、取り付け部４６と、駆動部４７と、を含む。可動部４１は、第１可動部４２および第２可動部４３を含む。第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ、その平面形状（＋Ｚ側からみた平面形状）が円形の一部の板状である。また、固定部４４は、その平面形状が円形の一部である。本実施形態において、第１可動部４２、第２可動部４３および固定部４４は、それぞれ、その平面形状が、角度が約１２０°の扇状である。これらの扇状の中心部分には、コンデンサレンズ鏡筒９の側面と略同様の内側形状を有する円環状の設置部４５が設けられる。固定部４４は、第１可動部４２および第２可動部４３を挟み込んで支持する。固定部４４は、第１可動部４２および第２可動部４３の少なくとも一部を収容する。

第１可動部４２、第２可動部４３および固定部４４は、それぞれ、標本Ｓの上方（ステージ８の上方）で、且つ対物レンズ４の光軸ＡＸ１と交差する面（例、ＸＹ平面と平行な面）に配置される。本実施形態において、遮光部材４０は、図１に示した鏡筒９の下端よりも上方（鏡筒９の側方）に配置可能である。遮光部材４０は、例えば、設置部４５の内側に鏡筒９が挿入されることで、コンデンサレンズ鏡筒９の側方に配置される。例えば、固定部４４の取り付け部４６は、調整部７０である。取り付け部４６は、ねじ部４６ａを有し、このねじ部４６ａの押圧によりコンデンサレンズ鏡筒９の側方に取り付けられる。例えば、鏡筒９に対してねじ部４６ａを締める位置をＺ方向において調整することにより、遮光部材４０のＺ方向の位置を調整することができる。本実施形態の遮光部材４０の構成は、設置部４５の内側にコンデンサレンズ鏡筒９が挿入される構成であるが、これに限定されるものではない。例えば、遮光部材４０の駆動範囲がコンデンサレンズ鏡筒９の下端とステージ８との間である場合、設置部４５は不要である。また、コンデンサレンズ鏡筒９の側方に取り付けられる取り付け部４６は遮光部材４０を可動する機能を備えてもよいし、これに加えコンデンサレンズ１１の光軸方向（例、光軸ＡＸ１）に遮光部材４０を駆動する機能を兼ね備えていてもよい。また、図示していないが、例えばコンデンサレンズ鏡筒９の側面の光軸ＡＸ１方向（例、上下方向（Ｚ方向））に溝部を形成し、この溝部に取り付け部４６またはねじ部４６aが嵌合し、溝部に沿って取り付け部４６またはねじ部４６aが光軸ＡＸ１方向に移動する構成でもよい。更に、本実施形態では遮光部材４０の可動部４１は、対物レンズ４の光軸ＡＸ１に交差する方向に退避する構成だがこれに限定されるものではない。例えば、上記の溝部に対して直交する回転軸を設け、この回転軸に取り付け部４６またはねじ部４６aを配置する構成でも良い。この構成の場合、回転軸により遮光装置１の遮光、非遮光状態を切り替えると共に、遮光部材４０の光軸ＡＸ１方向への移動も行うことが可能となる。

第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ、標本Ｓの上方を横方向（顕微鏡ＭＳに正対した状態で左右の方向）に移動可能である。本実施形態において、第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ、対物レンズ４の光軸ＡＸ１と交差する面に沿って移動可能である。第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ横方向に移動して、互いに重なる位置に配置可能である。第１可動部４２および第２可動部４３は、Ｚ方向の位置（高さ）が異なるように配置される。第１可動部４２および第２可動部４３は、横方向に移動して、遮光部材４０のうち可動部４１を除く部分（例、固定部４４）と重なる位置に配置可能である。図１５（Ｂ）に示すように、第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ横方向に移動して、そのほぼ全体が固定部４４と重なる位置まで移動可能である。また、第１可動部４２と第２可動部４３とは互いに重なる位置まで移動可能である。図１５（Ａ）は、可動部４１と固定部４４との重なり面積が最小となる状態（例、挿入状態）であり、この状態において、第１可動部４２および第２可動部４３は、顕微鏡ＭＳの前面側に配置される。また、図１５（Ｂ）は、可動部４１と固定部４４との重なり面積が最大となる状態（例、退避状態）であり、この状態において、第１可動部４２および第２可動部４３は、顕微鏡ＭＳの背面側に配置される。

第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ、所定の回転軸の周りで回転可能に設けられ、回転により横方向に移動する。第１可動部４２および第２可動部４３は、それぞれ、光軸ＡＸ１と平行な回転軸ＡＸ４の周りで回転可能に設けられる。駆動部４７は、第１可動部４２および第２可動部４３を回転駆動する。駆動部４７は、例えば、直線運動を回転運動に変換する。ここでは、駆動部４７のうち第２可動部４３を駆動する部分を代表的に説明するが、駆動部４７のうち第１可動部４２を駆動する部分も同様である。駆動部４７は、例えば、ラック４７ａおよびピニオンギア４７ｂを備える。ピニオンギア４７ｂは、第２可動部４３と固定され、回転軸ＡＸ４の周りで固定部４４に対して回転可能である。ラック４７ａは、Ｙ方向に直線的に移動可能な把持部５４に設けられる。ラック４７ａは、ピニオンギア４７ｂと噛み合わされている。ユーザが把持部５４をＹ方向に移動させると、ラック４７ａがＹ方向に移動することで、ピニオンギア４７ｂが回転軸ＡＸ４の周りで回転し、ピニオンギア４７ｂに固定された第２可動部４３も回転軸ＡＸ４の周りで回転する。

［第６実施形態］
第６実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図１６は、本実施形態に係る遮光装置１を示す図であり、（Ａ）は挿入状態に相当し、（Ｂ）は退避状態に相当する。また、図１６（Ｃ）は、遮光装置１の他の例を示す図である。

本実施形態に係る遮光装置１は、遮光部材４０を備える。遮光部材４０は、横方向に移動する可動部４１と、可動部４１を支持する固定部４４と、を含む。可動部４１は、板状であり、その平面形状（＋Ｚ側からみた平面形状）が円形の一部である。例えば、可動部４１の平面形状は、円環の一部（扇状）であり、その中心角が約１２０°である。また、固定部４４は、その平面形状＋Ｚ側からみた平面形状が円形の一部である。例えば、固定部４４の平面形状は、円環の一部（扇状）であり、その中心角が約２７０°である。固定部４４の内周には、鏡筒９の側面（外周面）と接続される設置部４５が設けられる。固定部４４の内周の径と鏡筒９の外周の径とは、固定部４４の内側に鏡筒９を、がたつきなく通すことができるレベルでほぼ同じに設定される。

可動部４１は、標本Ｓの上方を横方向に移動可能である。本実施形態において、可動部４１は、対物レンズ４の光軸ＡＸ１（図１参照）と交差する面に沿って移動可能である。例えば、固定部４４には、可動部４１の移動経路を規定するガイド（図示せず）が設けられる。このガイドは、例えば、可動部４１の外周と同心の円弧状である。可動部４１は、ガイドに対して滑り移動可能に接触し、ガイドに沿って移動する。

なお、可動部４１及び固定部４４のそれぞれの中心角は任意に設定可能であり、例えば、図１６（ｃ）に示すように約１８０°でもよい。この場合、退避状態において、可動部４１のほぼ全体と固定部４４のほぼ全体が重なるので、遮光部材４０を最小化することができる。

［第７実施形態］
第７実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図１７は、本実施形態に係る遮光装置１を示す図である。図１７（Ａ）は退避状態に相当し、図１７（Ｂ）は退避状態から挿入状態へ変更する過程の状態に相当し、図１７（Ｃ）は挿入状態に相当する。

本実施形態に係る遮光装置１は、遮光部材４０を備える。遮光部材４０は、横方向に移動する可動部４１と、可動部４１を支持する固定部４４と、取り付け部４６と、を含む。可動部４１は、鏡筒９を挿通可能な貫通孔５５を有する。本実施形態において、可動部４１は、横方向（例、Ｙ方向）において直線的に移動可能である。固定部４４は、可動部４１の移動経路を定めるガイド部５６を含む。固定部４４は、例えば、取り付け部４６を介して、ベース６の支柱部１０に設けられる調整部７０（駆動部７２）に固定される。ガイド部５６は、Ｙ方向に直線状に延びる溝状であり、可動部４１は、その外周の一部がガイド部５６に接触しながら、ガイド部５６に対して滑り移動する。これにより、可動部４１は、鏡筒９に対してＹ方向に移動する。可動部４１は、貫通孔５５に対して−Ｙ側の部分に、弾性部５７を含む。弾性部５７は、例えばゴムなどの弾性変形が容易な材質である。弾性部５７は、概ね板状であり、可動部４１の移動方向（Ｙ方向）に交差する方向（例、Ｘ方向）に分割されている。図１７（Ｂ）に示すように、可動部４１がＹ方向に移動すると、弾性部５７は鏡筒９と接触し、鏡筒９から受ける力により弾性変形する。図１７（Ｃ）に示すように、さらに可動部４１がＹ方向に移動すると、貫通孔５５の内側に鏡筒９が配置される。この状態において、弾性部５７は、変形が解除されて、可動部４１上の鏡筒９の移動経路を塞ぐ。

このように、可動部４１は、標本Ｓの上方において横方向に直線的に移動するものでもよい。また、本実施形態において、遮光部材４０は、弾性部５７の変形によって可動部４１上の鏡筒９の移動経路を塞ぐことにより、この移動経路において外光が漏れることを抑制することができる。なお、遮光部材４０は、弾性部５７の代わりに、鏡筒９の移動経路に挿脱可能な第３可動部を備えてもよい。この第３可動部は、例えば、Ｘ方向にスライド移動することで鏡筒９の移動経路に挿脱され、鏡筒９の移動経路を閉じた状態と開放した状態とを切り替え可能でもよい。また、遮光部材４０は、弾性部５７および上記の第３可動部を備えなくてもよく、この場合においても遮光部材４０が設けられない場合と比較して、対物レンズ４に入射する外光の光量を低減することができる。また、遮光部材４０が鏡筒９の下端よりも下方に配置される場合、貫通孔５５、弾性部５７、上記の第３可動部などはいずれも設けられなくてもよい。

［第８実施形態］
第８実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図１８は、第８実施形態に係る遮光装置１を示す図である。図１８（Ａ）は斜視図であり、図１８（Ｂ）は挿入状態に対応する平面図であり、図１８（Ｃ）は退避状態に対応する平面図である。

本実施形態に係る遮光装置１は、遮光部材４０を備える。遮光部材４０は、横方向に移動する可動部４１と、可動部４１を支持する固定部４４と、を含む。遮光部材４０は、平面形状が概ね長方形（例、正方形）の板状である。遮光部材４０は、鏡筒９を挿通可能な貫通孔５５を有する。遮光部材４０は、Ｚ方向から見て貫通孔５５を通る線Ｌ１を境界として、可動部４１および固定部４４に分割されている。ここでは線Ｌ１がＸ方向と平行であるが、線Ｌ１は、Ｙ方向に平行でもよいし、対物レンズ４の光軸ＡＸ１（図１参照）に交差する面（例、ＸＹ平面）上の任意の方向でもよい。

固定部４４は、例えば、ベース６の支柱部１０に設けられる調整部７０（駆動部７２）に固定される。固定部４４は、鏡筒９に固定されてもよい。可動部４１は、駆動部４７を介して固定部４４と接続される。駆動部４７は、例えば、線Ｌ１と遮光部材４０との交点の位置に設けられ、可動部４１を固定部４４に対して移動可能に支持する。駆動部４７は固定部４４に支持され、可動部４１は、駆動部４７を介して固定部４４に支持される。

駆動部４７は、例えば、可動部４１を回転軸ＡＸ５の周りで回転可能に支持する。回転軸ＡＸ５は、例えば、対物レンズ４の光軸ＡＸ１と平行に設定される。ここでは、可動部４１は、Ｚ方向の位置（高さ）が固定部４４と同等に設定される。図１８（Ｂ）の挿入状態から駆動部４７が可動部４１を回転させると、可動部４１の＋Ｘ側の辺Ｑが回転軸ＡＸ５の周りで回転する。図１８（Ｃ）に示すように、駆動部４７は、可動部４１の辺Ｑが固定部４４にほぼ接する位置まで、可動部４１を移動可能である。このように、可動部４１は、横方向の移動によって、遮光部材４０において可動部４１を除く部分との重なり面積が変化しないものでもよい。なお、駆動部４７は、例えば可動部４１を固定部４４と異なる高さに支持し、可動部４１の少なくとも一部が固定部４４と重なる位置まで可動部４１を移動可能でもよい。

［第９実施形態］
第９実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図１９は、第９実施形態に係る遮光装置１を示す図である。図１９（Ａ）は、挿入状態に対応する斜視図であり、図１９（Ｂ）は挿入状態に対応する平面図であり、図１９（Ｃ）は退避状態に対応する平面図である。

本実施形態に係る遮光装置１は、遮光部材４０を備える。遮光部材４０は、横方向に移動する可動部４１と、可動部４１を支持する固定部４４と、を含む。可動部４１は、複数の可動部４１ａ〜４１ｃを含む。可動部４１ａ〜４１ｃは、例えば、板状であり、平面形状が円形の一部（扇状）である。可動部４１ａ〜４１ｃは、平面形状の円形に対応する中心が一致するように配置され、この中心に設けられた駆動部４７に支持される。可動部４１ａ〜可動部４１ｃは、例えば、Ｚ方向の位置（高さ）が互いに異なるように、駆動部４７に支持される。駆動部４７は、可動部４１ａ〜４１ｃをそれぞれ回転可能に支持する。可動部４１ａ〜４１ｃは、例えば、いずれも同じ寸法および形状であり、Ｚ方向から見て外形が一致するように重ねることができる。固定部４４は、例えば、可動部４１ａ〜４１ｃと同一の寸法および形状である。固定部４４は、例えば、Ｚ方向の位置（高さ）が可動部４１ａ〜４１ｃのいずれとも異なるように、駆動部４７に支持される。固定部４４は、その扇状のもとになる円形の中心において、駆動部４７に支持される。駆動部４７は、可動部４１ａ〜４１ｃのそれぞれを、固定部４４と外形が一致するように重ねることができる。

このように、可動部４１の少なくとも一部は、固定部４４と別の部材（例、駆動部４７）に支持されてもよい。また、固定部４４の代わりに可動部４１ａ〜４１ｃと同様の可動部を設け、固定部４４を設けなくてもよい。なお、複数の可動部４１ａ〜４１ｃのうち少なくとも１つは、他の可動部とＺ方向の位置（高さ）が同じでもよいし、固定部４４とＺ方向の位置（高さ）が同じでもよい。また、複数の可動部４１ａ〜４１ｃのうち少なくとも１つは、他の可動部に対して寸法と形状の少なくとも一方が異なってもよいし、固定部４４に対して寸法と形状の少なくとも一方が異なってもよい。本実施形態において、駆動部４７は、ステージ８（ステージ装置２）に支持された支持部６０に取り付けられる。遮光部材４０は、駆動部４７および支持部６０を介して、ステージ８に支持される。支持部６０は、Ｚ方向に伸縮可能であり、調整部７０の駆動部７２は支持部６０の伸縮を駆動する。これにより、遮光部材４０がＺ方向に移動し、遮光部材４０とステージ８との間隔が変化する。このように、遮光部材４０は、ベース６の支柱部１０と別の部材に支持されてもよい。なお、本実施形態の駆動部４１は、可動部４１が閉じた状態において、図１等に示す開口部６８を閉じる。したがって、本実施形態の可動部４１は、開口部６８を開閉するシャッタ部６６としての機能も有する。

［第１０実施形態］
第１０実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図２０は、第１０実施形態に係る顕微鏡ＭＳの光路を示す図である。本実施形態に係る顕微鏡ＭＳは、第１実施形態と同様に接眼レンズ１４を介して標本Ｓを観察可能であるが、第１実施形態で説明したような標本Ｓの撮像を行わない。この場合、顕微鏡ＭＳは、結像光学系５ａ、撮像素子１５及び表示装置１６の少なくとも一部を備えなくてもよい。

なお、本実施形態の顕微鏡ＭＳにおいて、遮光装置１、ステージ装置２、ベース６（支持部材）、光源装置１７ｂ、光源装置１７ｂ、照明光学系３ｂ、照明光学系３ａ及び結像光学系５ｂは、第１実施形態と同様であるが、これらの少なくとも一部は、上記実施形態において説明したいずれのものを用いてもよい。

［第１１実施形態］
第１１実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図２１は、第１１実施形態に係る顕微鏡ＭＳの光路を示す図である。本実施形態に係る顕微鏡ＭＳは、第１実施形態で説明したような標本Ｓの撮像が可能であり、撮像した画像による観察が可能であるが、第１実施形態で説明したような接眼レンズ１４を介した標本Ｓの観察が不能である。この場合、顕微鏡ＭＳは、結像光学系５ｂの少なくとも一部を備えなくてもよい。

なお、本実施形態の顕微鏡ＭＳにおいて、遮光装置１、ステージ装置２、ベース６、光源装置１７ｂ、光源装置１７ｂ、照明光学系３ｂ、照明光学系３ａ及び結像光学系５ａは、第１実施形態と同様であるが、これらの少なくとも一部は、上記実施形態において説明したいずれのものを用いてもよい。

［第１２実施形態］
第１２実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図２２は、第１２実施形態に係る顕微鏡ＭＳの光路を示す図である。本実施形態に係る顕微鏡ＭＳは、照明光学系３ｂを備えず、透過照明を行わない。ユーザは、落射照明により照明された標本Ｓを観察可能である。

なお、本実施形態の顕微鏡ＭＳにおいて、遮光装置１、ステージ装置２、ベース６、光源装置１７ｂ、光源装置１７ｂ、照明光学系３ａ、結像光学系５ａ及び結像光学系５ｂは、第１実施形態と同様であるが、これらの少なくとも一部は、上記実施形態において説明したいずれのものを用いてもよい。

［第１３実施形態］
第１３実施形態について説明する。本実施形態において、上述の実施形態と同様の構成については、同じ符号を付してその説明を省略あるいは簡略化する。図２３は、第１３実施形態に係る顕微鏡ＭＳの光路を示す図である。本実施形態に係る顕微鏡ＭＳは、照明光学系３ａを備えず、落射照明を行わない。ユーザは、透過照明により標本Ｓを観察可能である。この場合、顕微鏡ＭＳは、結像光学系５ａ及び結像光学系５ｂにフィルタユニット２３を備えなくてもよい。また、この顕微鏡ＭＳにより蛍光観察を行う場合、対物レンズ４よりも像面側（例、対物レンズ４とレンズ２５との間）の光路に、励起光を遮断するフィルタ６２が設けられる。フィルタ６２は、励起光を遮光し、標本Ｓから放射されて対物レンズ４を通った蛍光が透過する特性を有する。フィルタ６２は、励起光の種類に応じて任意に設定される。なお、フィルタ６２は、複数の異なるものが備えられていてもよい。

なお、本実施形態の顕微鏡ＭＳにおいて、遮光装置１、ステージ装置２、ベース６、光源装置１７ｂは、第１実施形態と同様であるが、これらは、それぞれ、上記実施形態において説明したいずれのものを用いてもよい。また、顕微鏡ＭＳはフィルタユニット２３を備え、第１実施形態における光源装置１７ｂ、レンズ２１及びレンズ２２は、それぞれ、交換可能に設けられ、観察を行う際に顕微鏡ＭＳに取り付けられてもよい。

以下、実施例及び比較例を説明するが、本発明はこれらにより何ら制限されるものではない。以下の実施例は、遮光部材４０の効果を試験により調べた結果である。試験では図１に示す顕微鏡ＭＳを使用し、遮光部材４０におけるｎｓｉｎθの値、対物レンズの倍率を変えて、標本の像を観察し、遮光部材４０により外光を遮光する効果を評価した。

［実施例１］
遮光部材４０は半径が１００ｍｍの円形状のものを用いた。標本は、細胞内にＧＦＰを発現するように形質転換したＨｅｌａ細胞を用いた。落射照明による蛍光観察を行った。光源装置１７ａは、５０Ｗの水銀光源を用いた。また、フィルタユニット２３はＧＦＰ−ＢＰ蛍光キューブを用いた。試験は、標本に励起光（例えば青色光）を照射し、標本から放射される蛍光（例えば緑色光）に由来する像を接眼レンズ１４から目で観察し、且つ撮像装置（撮像素子１５）により画像を取得することにより行った。撮像装置による画像の取得は、本実施例１のすべての試験において、撮像条件を同様にして行った。なお、撮像条件における、露光時間は１２秒、ＩＳＯ感度は４００に設定した。試験は、対物レンズが４０倍および４倍のものを用いて行った。また、試験は、遮光装置１におけるｎｓｉｎθが、０．７５、０．８５、０．９５のそれぞれにおいて行った。なお、遮光部材４０の位置は、ｎｓｉｎθが０．９５の場合、距離ｈ１は約３０ｍｍであり、ｎｓｉｎθが０．８５の場合、距離ｈ２は約６０ｍｍであった。
また、対照試験として、遮光装置１を用いない試験、および遮光装置１の代わりに標本Ｓを覆う暗箱を用いた試験を行った。なお、本実施例におけるすべての試験は、室内の明るさが３００ｌｘ〜６００ｌｘの環境で行った。本実施例の結果を図２４および図２５に示す。図２４は、４０倍の対物レンズ４を用いて行った試験の結果を示し、（Ａ）は遮光を行わない比較例、（Ｂ）はｎｓｉｎθが０．７５の実施例、（Ｃ）はｎｓｉｎθが０．８５の実施例、（Ｄ）はｎｓｉｎθが０．９５の実施例、（Ｅ）は暗箱を用いた比較例における試験の結果である。図２５は、４倍の対物レンズ４を用いて行った試験の結果を示し、（Ａ）はｎｓｉｎθが０．８５の実施例、（Ｂ）はｎｓｉｎθが０．９５の実施例、（Ｃ）は暗箱を用いた比較例における試験の結果である。

図２４に示すように、４０倍の対物レンズ４を用いた場合、遮光なしの比較例（図２４（Ａ））では像のコントラストが低く、標本Ｓの構造を特定することができないレベルであった。また、ｎｓｉｎθが０．７５の実施例（図２４（Ｂ））では、遮光なしの条件と比較して、コントラストが顕著に高い像が得られたが、得られた像には、標本ＳのＨｅｌａ細胞に発現するＧＦＰに由来する光以外の光に由来する像も見られた。また、ｎｓｉｎθが０．８５の実施例（図２４（Ｃ））およびｎｓｉｎθが０．９５の実施例（図２４（Ｄ））では、暗箱を用いた比較例（図２４（Ｅ））と同様の像が得られた。これらの条件の像は、遮光なしの条件と比較して、コントラストが顕著に高い像であり、また、これらの条件により得られた像において、標本ＳのＨｅｌａ細胞に発現するＧＦＰに由来する光以外の光に由来する像は、目視で判別ができなかった。

また、図２５に示すように、４倍の対物レンズ４を用いた場合、４０倍の対物レンズ４を用いて行った場合と比較して、外光の影響が大きかった。遮光部材４０の配置が、ｎｓｉｎθが０．８５の実施例（図２４（Ａ））では、４０倍の対物レンズ４を用いた場合に対して、外光の影響が大きく、標本ＳのＨｅｌａ細胞に発現するＧＦＰに由来する光以外の光に由来する像（ノイズ）が見られ、コントラストが十分に高い像ではなかった。一方、ｎｓｉｎθが０．９５の実施例（図２５（Ｂ））および暗箱を用いた比較例（図２５（Ｃ））では、同様の像が得られた。これらの条件で得られた像は、４０倍の対物レンズ４を用いた場合と同様に、コントラストが高く、得られた像において、標本ＳのＨｅｌａ細胞に発現するＧＦＰに由来する光以外の光に由来する像（ノイズ）は、目視で判別ができなかった。これらの結果から、実施形態に係る顕微鏡ＭＳは、得られる像のコントラストが高いことが確認される。また、４倍の対物レンズ４を用いる場合、観察条件が厳しい場合には、ｎｓｉｎθ＝０．９５まで遮光する観察モードが良く、観察条件が緩い場合には、ｎｓｉｎθ＝０．８５の操作優先モードが良いと考えられる。

［実施例２］
実施例２において、遮光部材４０におけるｎｓｉｎθの値、対物レンズ４の倍率を変えて、得られる像のＳ／Ｎ比を調べた。顕微鏡ＭＳは、実施例１と同じものを使用した。標本は、FluoCells（登録商標）Prepared Slide #6（Muntjac cells, Alexa Fluor（登録商標） 488 Phalloidin）（Molecular Probes社製）を用いた。撮像装置による画像の取得は、本実施例２のすべての試験において撮像条件を同様にして行った。なお、撮像条件は、実施例１と同様に、露光時間は１２秒、ＩＳＯ感度は４００に設定した。Ｓ／Ｎ比は、得られた画像における、細胞の部分の平均輝度をシグナルとし、細胞がない部分の平均輝度をノイズとして算出した。試験は、実施例１と同じ遮光装置１を用いて、遮光装置１におけるｎｓｉｎθが、０．８５、０．９５のそれぞれにおいて行った。また、試験は、４倍の対物レンズ４、１０倍の対物レンズ４、２０倍の対物レンズ４および４０倍の対物レンズ４を用いて行った。また、対照試験（比較例）として、遮光装置１を用いない試験、実施例１と同様の暗箱を用いた試験、並びに暗室で行った試験を行った。なお、本実施例におけるすべての試験は、暗室で行った試験以外、室内の明るさが３００ｌｘ〜６００ｌｘの環境で行った。本実施例の結果を図２６に示す。図２６は、各条件におけるＳ／Ｎ比を示し、図２６中、符号Ｄ１は暗室を用いた比較例、符号Ｄ２は暗箱を用いた比較例、符号Ｄ３はｎｓｉｎθが０．９５の実施例、符号Ｄ４はｎｓｉｎθが０．８５の実施例における試験の結果である。

図２６に示すように、ｎｓｉｎθが０．８５およびｎｓｉｎθが０．９５のそれぞれにおける、すべての対物レンズの条件において、得られた画像のＳ／Ｎ比は、暗箱を用いた条件と同様に高いものであった。これらの結果から、顕微鏡ＭＳは、得られる像のコントラストが高いことが確認される。

［実施例３］
本実施例において、遮光部材４０におけるｎｓｉｎθの値、対物レンズ４の倍率を変えて、対物レンズ４に入射する迷光（外光）の量を調べた。顕微鏡ＭＳは、実施例１と同じものを使用した。標本は、使用しなかった。対物レンズ４に入射する迷光の量（迷光輝度値）は、撮像装置により取得した画像により算出した。撮像装置による画像の取得は、本実施例におけるすべての試験において、撮像条件を同様にして行った。なお、撮像条件における、露光時間は１５秒、ＩＳＯ感度は８００に設定した。試験は、実施例１と同じ遮光装置１を用いて、遮光装置１におけるｎｓｉｎθが、０．８５、０．９５のそれぞれにおいて行った。また、試験は、４倍の対物レンズ４、１０倍の対物レンズ４、２０倍の対物レンズ４、４０倍の対物レンズ４および６０倍の対物レンズ４を用いて行った。また、対照試験として、遮光しない比較例、実施例１と同様の暗箱を用いた比較例、並びに暗室を用いた比較例を行った。なお、本実施例におけるすべての試験は、暗室で行った試験以外、室内の明るさが３００ｌｘ〜６００ｌｘの環境で行った。本実施例の結果を図２７に示す。図２７は、遮光装置１を用いた場合における、対物レンズ４に入射する迷光の量（迷光輝度値）を示し、図２７中、符号Ｄ１は暗室を用いた比較例、符号Ｄ２は暗箱を用いた比較例、符号Ｄ３はｎｓｉｎθが０．９５の実施例、符号Ｄ４はｎｓｉｎθが０．８５の実施例における試験の結果である。なお、遮光なしの条件における迷光輝度値は、４倍の対物レンズ４の条件において、１４５．８３であり、１０倍の対物レンズ４の条件において、１７２．２であり、２０倍の対物レンズ４の条件において、２１０１．８３であり、４０倍の対物レンズ４の条件において、７５１．８９であり、６０倍の対物レンズ４の条件において、３９０．３３であった。

図２７に示すように、迷光輝度値は、ｓｉｎθが０．８５の実施例およびｎｓｉｎθが０．９５の実施例におけるすべての対物レンズ４の条件において、暗箱を用いた比較例と同様に低いものであった。また、迷光輝度値は、ｓｉｎθが０．８５の実施例およびｎｓｉｎθが０．９５の実施例におけるすべての対物レンズ４の条件において、遮光なしの比較例と比較して、１０倍から１００倍低い値であった。また、ｓｉｎθが０．８５の実施例、ｎｓｉｎθが０．９５の実施例、暗箱を用いる比較例および暗室を用いる比較例における迷光輝度値は、それぞれ低い値であり、本実施例のような長時間露光を行う撮像条件にして、はじめてこれらの差が検出されるものであった。これらの結果から、本実施例の顕微鏡ＭＳは、遮光性に優れ、遮光性は対物レンズ４の倍率、遮光部材４０と対物レンズ４の先玉（先端の対物レンズ４ａ（図３参照））との距離に関係することが確認される。

以上、実施例１から実施例３の結果から、顕微鏡ＭＳは、遮光性に優れ、得られる像のコントラストが高いことが確認される。

なお、本発明の技術範囲は、上述の実施形態などで説明した態様に限定されるものではない。上述の実施形態などで説明した要件の１つ以上は、省略されることがある。また、上述の実施形態などで説明した要件は、適宜組み合わせることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の実施形態などで引用した全ての文献の開示を援用して本文の記載の一部とする。

例えば、顕微鏡ＭＳは、微分干渉観察を行う機構、位相差観察を行う機構を備えるものでもよい。また、顕微鏡ＭＳは、実体顕微鏡であってもよい。また、顕微鏡ＭＳは、対物レンズ４がステージ装置２の上方に配置される、いわゆる正立顕微鏡であってもよい。また、遮光装置１は、顕微鏡ＭＳ以外の観察装置に対して用いてもよい。

なお、本願発明の遮光部材４０は単一の部材からなるものでも良い。この場合、遮光面積の異なる遮光部材４０を着脱可能とし、観察条件に合わせて選択的に例えばコンデンサレンズ鏡筒９の外側部等に装着してもよい。また、上記の様に遮光部材４０が単一の部材からなり、対物レンズ４の先端との距離を可変とする調整部７０（駆動部７２）を備え、さらに遮光部材４０の遮光状態と非遮光状態を切り替える切替調整部も備える場合、この切替調整部および調整部７０（駆動部７２）の両調整部を、単一の調整部として構築してもよい。例えば、コンデンサレンズ鏡筒９に遮光部材４０を配置する場合、遮光部材４０をＺ方向に移動させる上下動装置（調整部７０（駆動部７２））に遮光部材４０を対物レンズ４の光軸ＡＸ１に挿入、退避させる切替装置を設けてもよい。切替装置としては、例えば、コンデンサレンズ１１の光軸（例、光軸ＡＸ１）に対して直交する方向と平行な方向（例、Ｘ方向、Ｙ方向）に回転軸を設け、この回転軸を中心に遮光部材４０を回動させる機構でも良い。この回転軸を伴って、上下動装置による上下動を行えばよりシンプルな構成で遮光装置１が構築できる。

１・・・遮光装置、２・・・ステージ装置、３・・・照明光学系、４・・・対物レンズ、８・・・ステージ、９・・・鏡筒（コンデンサ鏡筒）、４０・・・遮光部材、７０・・・調整部、Ｓ・・・標本、ｈ・・・距離、ＡＸ１・・・光軸、ＭＳ・・・顕微鏡

Claims (14)

1. ステージ上の観察位置に配置された標本を観察する顕微鏡に設けられ、前記顕微鏡に配置された対物レンズへ入射する外光の遮光時に、前記観察位置に配置された前記標本の上方に位置決めされ、前記外光の光量を制御する前記遮光部材の調整部を有する遮光装置。
2. 前記調整部は、前記遮光部材を前記対物レンズの光軸と平行な方向に移動させる、
   請求項１に記載の遮光装置。
3. 前記調整部は、前記遮光部材が光を遮る領域の面積を変化させる、
   請求項１または請求項２に記載の遮光装置。
4. 前記遮光部材は、遮光状態において前記顕微鏡を観察者側から見て側方に空間部を形成するものであり、
   前記調整部は遮光状態から非遮光状態へ切り替える際、前記空間部を維持した状態で前記遮光部材を移動する、
   請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の遮光装置。
5. 前記遮光部材は、遮光状態において前記顕微鏡を観察者側から見て側方に空間部を形成するものであり、
   前記調整部は遮光状態から非遮光状態へ切り替える際、前記空間部を維持した状態で前記遮光部材を前記対物レンズの光軸方向に移動する、
   請求項４に記載の遮光装置。
6. 前記調整部による前記遮光部材の前記対物レンズの光軸方向への移動機構は、遮光状態と非遮光状態との切替機構を兼ねている、
   請求項５に記載の遮光装置。
7. 前記調整部の調整は、前記対物レンズの光学性能に対応して調整される、
   請求項１から請求項６のいずれか一項に記載の遮光装置。
8. 前記遮光部材は、前記ステージの上方に設置されたコンデンサレンズの鏡筒を貫通する開口部と、前記開口部の開閉を行うシャッタ部と、を備える、
   請求項１から請求項７のいずれか一項に記載の遮光装置。
9. 請求項１から請求項８のいずれか一項に記載の遮光装置を備える顕微鏡。
10. 前記遮光部材の周囲から前記対物レンズへ入射する光の最小の入射角を前記対物レンズの光軸に対してθとし、前記遮光部材から前記対物レンズまでの光路の屈折率をｎとした場合に、前記調整部は、０．８０≦ｎｓｉｎθ≦０．９５を満たすように前記遮光部材を調整する、
    請求項９に記載の顕微鏡。
11. 前記調整部が実行する調整は、前記対物レンズの倍率に応じて設定される、
    請求項１０に記載の顕微鏡。
12. 対物レンズを備え、ステージ上の観察位置に配置された標本を観察する顕微鏡を用いる観察方法であって、
    前記標本の上方に遮光部材を配置することと、
    前記遮光部材を調整し、前記対物レンズへ入射する外光の光量を調整することと、
    を含む観察方法。
13. 対物レンズを備え、ステージ上の観察位置に配置された標本を観察する顕微鏡の制御方法であって、
    前記標本の上方に遮光部材を配置することと、
    前記遮光部材を調整し、前記対物レンズへ入射する外光の光量を調整することと、
    を含む顕微鏡の制御方法。
14. 対物レンズを備え、ステージ上の観察位置に配置された標本を観察する顕微鏡の制御をコンピュータに実行させるプログラムであって、
    前記標本の上方に遮光部材を配置することと、
    前記遮光部材を調整し、前記対物レンズへ入射する外光の光量を調整することと、
    を含むプログラム。