JP2016218299A - 単一非球面共通光学素子露光機レンズセット - Google Patents
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Abstract
Description
1 機器
2 ウェハー
10 共通光学素子セット
11 第一レンズ
12 第二レンズ
13 第三レンズ
20 球面反射鏡
30 平面反射レンズセット
31 第一平面反射鏡
32 第二平面反射鏡
(従来)
21、22 反射面
40、50 レンズセット
Claims (7)
- 順に、第一レンズと第二レンズ及び第三レンズが配列されて、三つのレンズからなる組合せレンズが形成され、上記第一レンズが非球面で、上記第一と第三レンズが正曲率で、上記第二レンズが負曲率であり、また、上記第一と第三レンズとの曲率比が3〜4の範囲内にあって、上記第三と上記第二レンズとの曲率比が-1〜-2.5の範囲内にあり、各レンズの間隙が第三レンズと反射レンズセットとの間隙よりも小さい共通光学素子セットと、
上記第三レンズの下方に配置され、光経路を反射して開口率を制御する球面反射鏡と、
第一平面反射鏡と第二平面反射鏡とを有し、それぞれが、斜めに上記第一レンズの上方に設置されて、光経路を引導する平面反射レンズセットと、
が含有される、
ことを特徴とする単一非球面共通光学素子露光機レンズセット。 - 上記共通光学素子セットは、単一非球面の第一レンズで、光行差校正を行うことを特徴とする請求項1に記載の光学素子露光機レンズセット。
- 上記機器物件は、露光マスクや書き込み光源であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子露光機レンズセット。
- 上記機器のパターンは、順に、上記第一平面反射鏡や上記共通光学素子セット、上記球面反射鏡及び上記第二平面反射鏡を通し、その中、光が、上記第一平面反射鏡によって、上記共通光学素子セットの一面が非球面である第一レンズと第二レンズ及び第三レンズに導入された後、上記球面反射鏡によって、逆方向に、上記共通光学素子の第三レンズと第二レンズ及び第一レンズを通してから、上記第二平面反射鏡によって、パターンが、上記感光面に映射されることを特徴とする請求項1に記載の光学素子露光機レンズセット。
- 画像コリメーティング投影装置に適用されることを特徴とする請求項1に記載の光学素子露光機レンズセット。
- 上記平面反射レンズセットは、プリズム或いは遅延レンズセットによって取り替えられることを特徴とする請求項1に記載の光学素子露光機レンズセット。
- 上記第一レンズと第二レンズ及び第三レンズが、鏡筒によって、取り替えられて、一つの子システムの光学システムが形成されることを特徴とする請求項1に記載の光学素子露光機レンズセット。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5298939A (en) * | 1991-11-04 | 1994-03-29 | Swanson Paul A | Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning |
JPH08179217A (ja) * | 1994-08-19 | 1996-07-12 | Tamarack Scient Co Inc | ダイソンレンズ系 |
JPH11329935A (ja) * | 1998-05-18 | 1999-11-30 | Nikon Corp | 走査型投影露光装置及び該露光装置に好適な投影光学系 |
JP2006512777A (ja) * | 2003-01-02 | 2006-04-13 | ウルトラテック インク | 可変開口数・大フィールド等倍投影系 |
US7148953B2 (en) * | 2004-11-01 | 2006-12-12 | Ultratech, Inc. | Apochromatic unit-magnification projection optical system |
JP2013250556A (ja) * | 2012-05-30 | 2013-12-12 | Ultratech Inc | マイクロリソグラフィーのための等倍率大型反射屈折レンズ |
-
2015
- 2015-05-22 JP JP2015104149A patent/JP2016218299A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5298939A (en) * | 1991-11-04 | 1994-03-29 | Swanson Paul A | Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning |
JPH08179217A (ja) * | 1994-08-19 | 1996-07-12 | Tamarack Scient Co Inc | ダイソンレンズ系 |
JPH11329935A (ja) * | 1998-05-18 | 1999-11-30 | Nikon Corp | 走査型投影露光装置及び該露光装置に好適な投影光学系 |
JP2006512777A (ja) * | 2003-01-02 | 2006-04-13 | ウルトラテック インク | 可変開口数・大フィールド等倍投影系 |
US7116496B1 (en) * | 2003-01-02 | 2006-10-03 | Ultratech, Inc. | High NA large-field unit-magnification projection optical system |
US7148953B2 (en) * | 2004-11-01 | 2006-12-12 | Ultratech, Inc. | Apochromatic unit-magnification projection optical system |
JP2013250556A (ja) * | 2012-05-30 | 2013-12-12 | Ultratech Inc | マイクロリソグラフィーのための等倍率大型反射屈折レンズ |
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