JPH11329935A - 走査型投影露光装置及び該露光装置に好適な投影光学系 - Google Patents
走査型投影露光装置及び該露光装置に好適な投影光学系Info
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- JPH11329935A JPH11329935A JP10134849A JP13484998A JPH11329935A JP H11329935 A JPH11329935 A JP H11329935A JP 10134849 A JP10134849 A JP 10134849A JP 13484998 A JP13484998 A JP 13484998A JP H11329935 A JPH11329935 A JP H11329935A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
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- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- Lenses (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 スループットを向上させ、かつ小型化を図る
こと 【解決手段】第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ、反射屈折型投影光学系により第１の物体の像を第２
の物体上へ実質的に等倍で投影露光する走査型投影露光
装置は、第１及び第２の物体側が共にテレセントリック
な光学系であり、第１正レンズ群(GP1)と、第１負レン
ズ群(GN1)と、第１凹面反射面(CCM)と、第２正レンズ群
（GP2)と、凸面反射鏡（CVM)と、第２凹面反射面（CCM)
とを有する。第１の物体(10)からの光は、第１正レンズ
群、第１負レンズ群、第１凹面反射面、第１負レンズ
群、第２正レンズ群、凸面反射鏡、第２正レンズ群、第
１負レンズ群、第２凹面反射面、第１負レンズ群及び第
１正レンズ群を順に介して第２の物体(30)へ到達する。
こと 【解決手段】第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ、反射屈折型投影光学系により第１の物体の像を第２
の物体上へ実質的に等倍で投影露光する走査型投影露光
装置は、第１及び第２の物体側が共にテレセントリック
な光学系であり、第１正レンズ群(GP1)と、第１負レン
ズ群(GN1)と、第１凹面反射面(CCM)と、第２正レンズ群
（GP2)と、凸面反射鏡（CVM)と、第２凹面反射面（CCM)
とを有する。第１の物体(10)からの光は、第１正レンズ
群、第１負レンズ群、第１凹面反射面、第１負レンズ
群、第２正レンズ群、凸面反射鏡、第２正レンズ群、第
１負レンズ群、第２凹面反射面、第１負レンズ群及び第
１正レンズ群を順に介して第２の物体(30)へ到達する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、第１の物体（マス
ク、レチクル等）と第２の物体（基板等）とを移動させ
つつ、露光を行う走査型投影露光装置に関し、また、該
走査型投影露光装置に好適な反射屈折型投影光学系に関
するものである。
ク、レチクル等）と第２の物体（基板等）とを移動させ
つつ、露光を行う走査型投影露光装置に関し、また、該
走査型投影露光装置に好適な反射屈折型投影光学系に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】高解像力、広フィールドを有する走査型
の反射屈折投影光学系は、例えば特開平７−５６０９号
などに開示されている。また、高解像力、広フィールド
を有する走査型の反射投影光学系は、例えば特公昭５７
−５１０８３号公報などに開示されている。
の反射屈折投影光学系は、例えば特開平７−５６０９号
などに開示されている。また、高解像力、広フィールド
を有する走査型の反射投影光学系は、例えば特公昭５７
−５１０８３号公報などに開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述の如き走査型の反
射屈折投影光学系では、物体面（マスク、レチクル等）
から凹面鏡までの距離が比較的長いため、光学部材を保
持する機構の大型化を招き、光学部材間の位置精度を維
持することが困難となる問題点がある。また、収差が補
正された円弧状領域の幅が比較的狭いため、露光エネル
ギー量が同じ条件では走査速度を向上させることが困難
となり、投影露光装置のスループットに悪影響を与える
という問題点がある。
射屈折投影光学系では、物体面（マスク、レチクル等）
から凹面鏡までの距離が比較的長いため、光学部材を保
持する機構の大型化を招き、光学部材間の位置精度を維
持することが困難となる問題点がある。また、収差が補
正された円弧状領域の幅が比較的狭いため、露光エネル
ギー量が同じ条件では走査速度を向上させることが困難
となり、投影露光装置のスループットに悪影響を与える
という問題点がある。
【０００４】また、反射投影光学系の場合は、投影光学
系を構成する光学部材が大型化し、高精度に製造するこ
とが困難となる問題点がある。そこで、本発明は、比較
的短い全長を有し、収差の補正された円弧状領域の幅を
広くとることができる反射屈折型投影光学系を提供する
こと、ひいてはスループットが高くかつ小型化が図られ
た投影露光装置を提供することを目的とする。
系を構成する光学部材が大型化し、高精度に製造するこ
とが困難となる問題点がある。そこで、本発明は、比較
的短い全長を有し、収差の補正された円弧状領域の幅を
広くとることができる反射屈折型投影光学系を提供する
こと、ひいてはスループットが高くかつ小型化が図られ
た投影露光装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明にかかる走査型投影露光装置は、例えば図
１に示す如く、第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ、前記第１の物体の像を前記第２の物体上へ実質的に
等倍の倍率で投影露光する走査型投影露光装置であっ
て、前記第１の物体の像を前記第２の物体上に形成する
反射屈折型投影光学系を含み、前記反射屈折型投影光学
系は、第１の物体側及び第２の物体側が共にテレセント
リックな光学系であり、正の屈折力を有する第１正レン
ズ群と、負の屈折力を有する第１負レンズ群と、第１凹
面反射面と、正の屈折力を有する第２正レンズ群と、凸
面反射鏡と、第２凹面反射面とを有し、前記第１の物体
からの光が前記第１正レンズ群及び前記第１負レンズ群
を順に介して前記第１凹面反射面に達し、前記第１凹面
反射面にて反射された光が、前記第１負レンズ群及び前
記第２正レンズ群を順に介して前記凸面反射鏡に達し、
該凸面反射鏡にて反射された光が前記第２正レンズ群及
び前記第１負レンズ群を順に介して前記第２凹面反射面
に達し、前記第２凹面反射面にて反射された光が前記第
１負レンズ群及び前記第１正レンズ群を順に介して前記
第２の物体へ到達し、前記第２の物体上に前記像を形成
するように前記反射屈折型投影光学系が構成されるもの
である。
めに、本発明にかかる走査型投影露光装置は、例えば図
１に示す如く、第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ、前記第１の物体の像を前記第２の物体上へ実質的に
等倍の倍率で投影露光する走査型投影露光装置であっ
て、前記第１の物体の像を前記第２の物体上に形成する
反射屈折型投影光学系を含み、前記反射屈折型投影光学
系は、第１の物体側及び第２の物体側が共にテレセント
リックな光学系であり、正の屈折力を有する第１正レン
ズ群と、負の屈折力を有する第１負レンズ群と、第１凹
面反射面と、正の屈折力を有する第２正レンズ群と、凸
面反射鏡と、第２凹面反射面とを有し、前記第１の物体
からの光が前記第１正レンズ群及び前記第１負レンズ群
を順に介して前記第１凹面反射面に達し、前記第１凹面
反射面にて反射された光が、前記第１負レンズ群及び前
記第２正レンズ群を順に介して前記凸面反射鏡に達し、
該凸面反射鏡にて反射された光が前記第２正レンズ群及
び前記第１負レンズ群を順に介して前記第２凹面反射面
に達し、前記第２凹面反射面にて反射された光が前記第
１負レンズ群及び前記第１正レンズ群を順に介して前記
第２の物体へ到達し、前記第２の物体上に前記像を形成
するように前記反射屈折型投影光学系が構成されるもの
である。
【０００６】また、本発明においては、前記反射屈折型
投影光学系中の前記第１正レンズ群の焦点距離をｆ１Ｐ
ＬＧとし、前記反射屈折型投影光学系中の前記第２正レ
ンズ群の焦点距離をｆ２ＰＬＧとするとき、 ｆ２ＰＬＧ−ｆ１ＰＬＧ≧０ （１） を満足することが好ましい。
投影光学系中の前記第１正レンズ群の焦点距離をｆ１Ｐ
ＬＧとし、前記反射屈折型投影光学系中の前記第２正レ
ンズ群の焦点距離をｆ２ＰＬＧとするとき、 ｆ２ＰＬＧ−ｆ１ＰＬＧ≧０ （１） を満足することが好ましい。
【０００７】また、本発明の好ましい１つの態様におい
ては、前記第１正レンズ群と前記第２正レンズ群とは一
体に形成されるものである。また、本発明においては、
前記反射屈折型投影光学系中の前記第１及び第２凹面反
射面は、１つの凹面反射鏡上に形成されることが好まし
い。また、前記反射屈折型投影光学系中の前記凹面反射
鏡の焦点距離をｆＣＣとし、前記反射屈折型投影光学系
中の前記凸面反射鏡の焦点距離をｆＣＶとするとき、 −１．６＜ ｆＣＣ ／ ｆＣＶ＜−０．６ （２） を満足することが好ましい。
ては、前記第１正レンズ群と前記第２正レンズ群とは一
体に形成されるものである。また、本発明においては、
前記反射屈折型投影光学系中の前記第１及び第２凹面反
射面は、１つの凹面反射鏡上に形成されることが好まし
い。また、前記反射屈折型投影光学系中の前記凹面反射
鏡の焦点距離をｆＣＣとし、前記反射屈折型投影光学系
中の前記凸面反射鏡の焦点距離をｆＣＶとするとき、 −１．６＜ ｆＣＣ ／ ｆＣＶ＜−０．６ （２） を満足することが好ましい。
【０００８】また、本発明においては、前記第１負レン
ズ群の焦点距離をｆ１ＮＬＧとし、前記第１正レンズ群
の焦点距離をｆ１ＰＬＧとし、前記第２正レンズ群の焦
点距離をｆ２ＰＬＧとするとき、 −３＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ１ＰＬＧ＜−０．６ （３） −２＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ２ＰＬＧ＜−０．５ （４） のうち少なくとも一方の条件式を満足することが好まし
い。
ズ群の焦点距離をｆ１ＮＬＧとし、前記第１正レンズ群
の焦点距離をｆ１ＰＬＧとし、前記第２正レンズ群の焦
点距離をｆ２ＰＬＧとするとき、 −３＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ１ＰＬＧ＜−０．６ （３） −２＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ２ＰＬＧ＜−０．５ （４） のうち少なくとも一方の条件式を満足することが好まし
い。
【０００９】また、本発明においては、前記第１の物体
と前記第１正レンズ群との間の光路中には、第１の光路
折曲げミラーが配置され、前記第１正レンズ群と前記第
２の物体との間の光路中には、第２の光路折曲げミラー
が配置されることが好ましい。さて、上述の目的を達成
するために、本発明にかかる反射屈折型投影光学系は、
例えば図１に示す如く、第１の物体の像を第２物体上に
形成する反射屈折型投影光学系であって、凹面反射鏡
と；該凹面反射鏡側に凸面を向けて前記凹面反射鏡と共
軸に配置された凸面反射鏡と；前記凹面反射鏡と前記凸
面反射鏡との間に配置されて、前記凹面反射鏡と共軸な
第１正レンズ群と；前記第１正レンズ群と前記凹面反射
鏡との間に配置されて、前記凹面反射鏡と共軸な第１負
レンズ群と；前記第１負レンズ群と前記凸面反射鏡との
間に配置されて、前記凹面反射鏡と共軸な第２正レンズ
群と；前記第１物体からの光を前記第１正レンズ群へ導
くための第１の反射面と；前記第１正レンズ群からの光
を前記第２物体へ導くための第２の反射面と；を備える
ものである。
と前記第１正レンズ群との間の光路中には、第１の光路
折曲げミラーが配置され、前記第１正レンズ群と前記第
２の物体との間の光路中には、第２の光路折曲げミラー
が配置されることが好ましい。さて、上述の目的を達成
するために、本発明にかかる反射屈折型投影光学系は、
例えば図１に示す如く、第１の物体の像を第２物体上に
形成する反射屈折型投影光学系であって、凹面反射鏡
と；該凹面反射鏡側に凸面を向けて前記凹面反射鏡と共
軸に配置された凸面反射鏡と；前記凹面反射鏡と前記凸
面反射鏡との間に配置されて、前記凹面反射鏡と共軸な
第１正レンズ群と；前記第１正レンズ群と前記凹面反射
鏡との間に配置されて、前記凹面反射鏡と共軸な第１負
レンズ群と；前記第１負レンズ群と前記凸面反射鏡との
間に配置されて、前記凹面反射鏡と共軸な第２正レンズ
群と；前記第１物体からの光を前記第１正レンズ群へ導
くための第１の反射面と；前記第１正レンズ群からの光
を前記第２物体へ導くための第２の反射面と；を備える
ものである。
【００１０】上述の構成にかかる反射屈折型投影光学系
は、上記条件式（１）、（２）、（３）及び（４）のう
ち、少なくとも何れか１つの条件式を満足することが好
ましい。
は、上記条件式（１）、（２）、（３）及び（４）のう
ち、少なくとも何れか１つの条件式を満足することが好
ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】以上の如き本発明においては、反
射型投影光学系の瞳面に置かれる凸面反射鏡の位置が物
体面から最も遠く離れた位置ではないため、全長（物体
面から最も遠い位置に置かれる光学部材までの距離、本
発明においては物体面から凹面反射鏡までの距離）が比
較的短く構成される。
射型投影光学系の瞳面に置かれる凸面反射鏡の位置が物
体面から最も遠く離れた位置ではないため、全長（物体
面から最も遠い位置に置かれる光学部材までの距離、本
発明においては物体面から凹面反射鏡までの距離）が比
較的短く構成される。
【００１２】また、第１の物体から凹面反射鏡（第１凹
面反射面）までの光路中に第１正レンズ群及び第１負レ
ンズ群を、凹面反射鏡（第１凹面反射面）から凸面反射
鏡を経て再び凹面反射鏡（第２凹面反射面）へ至る往復
光路中に第１負レンズ群、第１正レンズ群及び第２正レ
ンズ群を、そして凹面反射鏡（第２凹面反射面）から第
２の物体へ至る光路中に第１負レンズ群及び第１正レン
ズ群を配置する構成により、全長を短く抑えつつも収差
補正に提供できるパラメター数を比較的多くすることが
でき、これにより設計の自由度が増すことになり、良好
な光学性能を有する領域を広くすることが原理的に可能
である。
面反射面）までの光路中に第１正レンズ群及び第１負レ
ンズ群を、凹面反射鏡（第１凹面反射面）から凸面反射
鏡を経て再び凹面反射鏡（第２凹面反射面）へ至る往復
光路中に第１負レンズ群、第１正レンズ群及び第２正レ
ンズ群を、そして凹面反射鏡（第２凹面反射面）から第
２の物体へ至る光路中に第１負レンズ群及び第１正レン
ズ群を配置する構成により、全長を短く抑えつつも収差
補正に提供できるパラメター数を比較的多くすることが
でき、これにより設計の自由度が増すことになり、良好
な光学性能を有する領域を広くすることが原理的に可能
である。
【００１３】さて、本発明の実施例について添付図面に
基づいて説明する。図１は本発明の実施例にかかる走査
型投影露光装置を概略的に示す図である。図１では、所
定のパターンが形成されたマスク１０と、レジストが塗
布された基板３０とが搬送される方向（走査方向）をＸ
軸、マスク１０の平面内でＸ軸と直交する方向をＹ軸、
マスク１０の法線方向をＺ軸にとっている。
基づいて説明する。図１は本発明の実施例にかかる走査
型投影露光装置を概略的に示す図である。図１では、所
定のパターンが形成されたマスク１０と、レジストが塗
布された基板３０とが搬送される方向（走査方向）をＸ
軸、マスク１０の平面内でＸ軸と直交する方向をＹ軸、
マスク１０の法線方向をＺ軸にとっている。
【００１４】図１において、投影光学系ＰＬは、Ｘ軸方
向に沿った光軸Ａｘを有し、この光軸Ａｘ上には、凹面
反射鏡ＣＣＭと、この凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸面を向け
たメニスカス形状の正レンズＬ１と両凸形状の正レンズ
Ｌ２と両凸形状の正レンズＬ３とから構成され全体で正
の屈折力を有する第１正レンズ群ＧＰ１と、両凹形状の
負レンズＬ４から構成され負の屈折力を有する第１負レ
ンズ群ＧＮ１と、前記第１正レンズ群ＧＰ１と同一のレ
ンズにより構成される正の屈折力を有する第２正レンズ
群ＧＰ２と、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸面を向けた凸面反
射鏡ＣＶＭとが配置されている。
向に沿った光軸Ａｘを有し、この光軸Ａｘ上には、凹面
反射鏡ＣＣＭと、この凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸面を向け
たメニスカス形状の正レンズＬ１と両凸形状の正レンズ
Ｌ２と両凸形状の正レンズＬ３とから構成され全体で正
の屈折力を有する第１正レンズ群ＧＰ１と、両凹形状の
負レンズＬ４から構成され負の屈折力を有する第１負レ
ンズ群ＧＮ１と、前記第１正レンズ群ＧＰ１と同一のレ
ンズにより構成される正の屈折力を有する第２正レンズ
群ＧＰ２と、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸面を向けた凸面反
射鏡ＣＶＭとが配置されている。
【００１５】さて、前記マスク１０上のパターンは、不
図示の照明光学系の照明光により、ほぼ均一の照度で照
明されている。本例では、図示なき照明光学系は、円弧
形状の照野でマスク１０を照明している。マスク１０上
のパターンを介した光１１は、図１にて−Ｚ方向で表さ
れる方向に沿って進行し、平面反射鏡ＰＭ１により９０
°偏向されて図中＋Ｘ方向へ向けて進行し、第１正レン
ズ群ＧＰ１に入射する。第１正レンズ群ＧＰ１と、第１
負レンズ群ＧＮ１とを介した光１２は、凹面反射鏡ＣＣ
Ｍにて反射された後、−Ｘ方向へ進行して、順に第１負
レンズ群ＧＮ１、第２正レンズ群ＧＰ２（第１実施例に
おいては第１正レンズ群ＧＰ１と同一）に入射する。第
２正レンズ群ＧＰ２を介した光１３はレンズＬ１のマス
ク側のレンズ面ｒ１１に接着された凸面反射鏡ＣＶＭに
達する。この凸面反射鏡ＣＶＭは、前記投影光学系ＰＬ
の略瞳面に配置される。
図示の照明光学系の照明光により、ほぼ均一の照度で照
明されている。本例では、図示なき照明光学系は、円弧
形状の照野でマスク１０を照明している。マスク１０上
のパターンを介した光１１は、図１にて−Ｚ方向で表さ
れる方向に沿って進行し、平面反射鏡ＰＭ１により９０
°偏向されて図中＋Ｘ方向へ向けて進行し、第１正レン
ズ群ＧＰ１に入射する。第１正レンズ群ＧＰ１と、第１
負レンズ群ＧＮ１とを介した光１２は、凹面反射鏡ＣＣ
Ｍにて反射された後、−Ｘ方向へ進行して、順に第１負
レンズ群ＧＮ１、第２正レンズ群ＧＰ２（第１実施例に
おいては第１正レンズ群ＧＰ１と同一）に入射する。第
２正レンズ群ＧＰ２を介した光１３はレンズＬ１のマス
ク側のレンズ面ｒ１１に接着された凸面反射鏡ＣＶＭに
達する。この凸面反射鏡ＣＶＭは、前記投影光学系ＰＬ
の略瞳面に配置される。
【００１６】次に、前記凸面反射鏡ＣＶＭにて反射され
た光１４は、＋Ｘ方向へ進行して再び、順に前記第２正
レンズ群ＧＰ２と、前記第1負レンズ群ＧＮ１とを介し
て、再び前記凹面反射鏡ＣＣＭに達する。そして前記凹
面反射鏡ＣＣＭで反射された光１５は、−Ｘ方向へ進行
して順に第１負レンズ群ＧＮ１、第１正レンズ群ＧＰ１
を介して、平面反射鏡ＰＭ２により９０°偏向されて図
中−Ｚ方向へ進行して基板３０に達する。これにより、
マスク１０上の（円弧状の照野内の）パターンの像が基
板３０上に形成される。このとき、基板３０上に形成さ
れる像のＸ方向の横倍率はほぼ＋１倍であるので、マス
ク１０と基板３０とを一体に、あるいは実質的に同速度
で同期させて同一の方向へ移動させれば良い。なお、図
１では、マスク１０を支持するマスクステージ、基板３
０を支持する基板ステージは図示省略している。
た光１４は、＋Ｘ方向へ進行して再び、順に前記第２正
レンズ群ＧＰ２と、前記第1負レンズ群ＧＮ１とを介し
て、再び前記凹面反射鏡ＣＣＭに達する。そして前記凹
面反射鏡ＣＣＭで反射された光１５は、−Ｘ方向へ進行
して順に第１負レンズ群ＧＮ１、第１正レンズ群ＧＰ１
を介して、平面反射鏡ＰＭ２により９０°偏向されて図
中−Ｚ方向へ進行して基板３０に達する。これにより、
マスク１０上の（円弧状の照野内の）パターンの像が基
板３０上に形成される。このとき、基板３０上に形成さ
れる像のＸ方向の横倍率はほぼ＋１倍であるので、マス
ク１０と基板３０とを一体に、あるいは実質的に同速度
で同期させて同一の方向へ移動させれば良い。なお、図
１では、マスク１０を支持するマスクステージ、基板３
０を支持する基板ステージは図示省略している。
【００１７】さて、投影光学系ＰＬ中の第１正レンズ群
ＧＰ１の焦点距離をｆ１ＰＬＧとし、第２正レンズ群Ｇ
Ｐ２の焦点距離をｆ２ＰＬＧとするとき、以下の（１）
式の関係を満足することが望ましい。 ｆ２ＰＬＧ−ｆ１ＰＬＧ≧０ （１） この（１）式は、凹面反射鏡ＣＣＭの径方向の大きさを
でき得る限り小さく保ちつつ、光学性能を良好にするた
めの条件である。この（１）式の下限を下回る場合は、
コマ収差の補正が困難となるため好ましくない。
ＧＰ１の焦点距離をｆ１ＰＬＧとし、第２正レンズ群Ｇ
Ｐ２の焦点距離をｆ２ＰＬＧとするとき、以下の（１）
式の関係を満足することが望ましい。 ｆ２ＰＬＧ−ｆ１ＰＬＧ≧０ （１） この（１）式は、凹面反射鏡ＣＣＭの径方向の大きさを
でき得る限り小さく保ちつつ、光学性能を良好にするた
めの条件である。この（１）式の下限を下回る場合は、
コマ収差の補正が困難となるため好ましくない。
【００１８】また、投影光学系ＰＬの凹面反射鏡ＣＣＭ
の焦点距離をｆＣＣとし、凸面反射鏡ＣＶＭの焦点距離
をｆＣＶとするとき、以下の（２）式の関係を満足する
ことが望ましい。 −１．６＜ ｆＣＣ ／ ｆＣＶ＜−０．６ （２） 上記（２）式は、投影光学系ＰＬが十分な作動距離を確
保しつつ、全長（第１の物体面から凹面反射鏡ＣＣＭま
での距離）を短く保ちつつ、コマ収差を良好に補正する
ための条件式である。ここで（２）式の下限を下回る場
合、上回る場合ともにコマ収差が大きく発生するため好
ましくない。
の焦点距離をｆＣＣとし、凸面反射鏡ＣＶＭの焦点距離
をｆＣＶとするとき、以下の（２）式の関係を満足する
ことが望ましい。 −１．６＜ ｆＣＣ ／ ｆＣＶ＜−０．６ （２） 上記（２）式は、投影光学系ＰＬが十分な作動距離を確
保しつつ、全長（第１の物体面から凹面反射鏡ＣＣＭま
での距離）を短く保ちつつ、コマ収差を良好に補正する
ための条件式である。ここで（２）式の下限を下回る場
合、上回る場合ともにコマ収差が大きく発生するため好
ましくない。
【００１９】また、投影光学系ＰＬ中の第１負レンズ群
ＧＮ１は、第１正レンズ群ＧＰ１及び第２正レンズ群Ｇ
Ｐ２から生じる球面収差を補正する機能を有している。
ここで、投影光学系ＰＬは、第１負レンズ群ＧＮ１の焦
点距離をｆ１ＮＬＧとし、第１正レンズ群ＧＰ１の焦点
距離をｆ１ＰＬＧとするとき、 −３＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ１ＰＬＧ＜−０．６ （３） を満足することが好ましい。
ＧＮ１は、第１正レンズ群ＧＰ１及び第２正レンズ群Ｇ
Ｐ２から生じる球面収差を補正する機能を有している。
ここで、投影光学系ＰＬは、第１負レンズ群ＧＮ１の焦
点距離をｆ１ＮＬＧとし、第１正レンズ群ＧＰ１の焦点
距離をｆ１ＰＬＧとするとき、 −３＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ１ＰＬＧ＜−０．６ （３） を満足することが好ましい。
【００２０】また、投影光学系ＰＬは、第１負レンズ群
ＧＮ１の焦点距離をｆ１ＮＬＧとし、第２正レンズ群Ｇ
Ｐ２の焦点距離をｆ２ＰＬＧとするとき、 −２＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ２ＰＬＧ＜−０．５ （４） を満足することが好ましい。ここで、上記（３）式の上
限または下限を外れる場合、並びに上記（４）式の上限
または下限を外れる場合には、全系の球面収差が大きく
発生するため好ましくない。
ＧＮ１の焦点距離をｆ１ＮＬＧとし、第２正レンズ群Ｇ
Ｐ２の焦点距離をｆ２ＰＬＧとするとき、 −２＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ２ＰＬＧ＜−０．５ （４） を満足することが好ましい。ここで、上記（３）式の上
限または下限を外れる場合、並びに上記（４）式の上限
または下限を外れる場合には、全系の球面収差が大きく
発生するため好ましくない。
【００２１】そして、以下の表１には、図１に示した投
影光学系の諸元の値を掲げる。但し、左端の数字は物体
側からの前記凸面反射鏡ＣＶＭまでの順序を示し、ｒは
レンズ面又は反射面の曲率半径、ｄはレンズ面間隔、ｎ
は露光波長の光（ｇ線：４３６ｎｍ）に対する媒質（光
学材料）の屈折率を示している。なお、表１において、
面間隔ｄ及び屈折率ｎは光線が反射面にて反射される毎
に符号が正負に反転するものとしている。
影光学系の諸元の値を掲げる。但し、左端の数字は物体
側からの前記凸面反射鏡ＣＶＭまでの順序を示し、ｒは
レンズ面又は反射面の曲率半径、ｄはレンズ面間隔、ｎ
は露光波長の光（ｇ線：４３６ｎｍ）に対する媒質（光
学材料）の屈折率を示している。なお、表１において、
面間隔ｄ及び屈折率ｎは光線が反射面にて反射される毎
に符号が正負に反転するものとしている。
【００２２】
【表１】 〔第１実施例〕 ｒ ｄ ｎ １ −１４６０．２ １００ １．４８０８８ Ｌ１ ２ −１３２３．６ １０ １．０００００ ３ ７１２５．９ １１０ １．４８０８８ Ｌ２ ４ −１５０３．９ １０ １．０００００ ５ ２６９１．２ １１０ １．４８０８８ Ｌ３ ６ −２７１８．３ ２３９ １．０００００ ７ −４１５６．２ ８０ １．６０３８４ Ｌ４ ８ ２０５４．３ ９０ １．０００００ ９ −１６８３．３ −９０ −１．０００００ ＣＣＭ １０ ２０５４．３ −８０ −１．６０３８４ Ｌ４ １１ −４１５６．２ −２３９ −１．０００００ １２ −２７１８．３ −１１０ −１．４８０８８ Ｌ３ １３ ２６９１．２ −１０ −１．０００００ １４ −１５０３．９ −１１０ −１．４８０８８ Ｌ２ １５ ７１２５．９ −１０ −１．０００００ １６ −１３２３．６ −１００ −１．４８０８８ Ｌ１ １７ −１４６０．２ ０ −１．０００００ １８ −１４６０．２ ０ １．０００００ ＣＶＭ 《第１実施例の条件対応値》 （１） ｆ２ＰＬＧ−ｆ１ＰＬ＝０≧０ （２） ｆＣＣ ／ ｆＣＶ＝−１．１５ （３）ｆ１ＮＬＧ／ｆ１ＰＬＧ＝−１．７８ （４）ｆ１ＮＬＧ／ｆ２ＰＬＧ＝−１．７８ なお、表１に示す第１実施例では、像高は２２０ｍｍで
あり、倍率１倍、ＮＡ（開口数）は０．１２である。
あり、倍率１倍、ＮＡ（開口数）は０．１２である。
【００２３】次に、図２を参照しながら投影光学系ＰＬ
の第２実施例について説明する。図２において、投影光
学系ＰＬは、Ｘ軸方向に沿った光軸Ａｘを有し、この光
軸Ａｘ上には、凹面反射鏡ＣＣＭと、この凹面反射鏡Ｃ
ＣＭ側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ１と
両凸形状の正レンズＬ２とから構成され全体で正の屈折
力を有する第１正レンズ群ＧＰ１と、凹面反射鏡ＣＣＭ
側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ３から構
成され負の屈折力を有する第１負レンズ群ＧＮ１と、両
凸形状の正レンズＬ２、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸面を向
けたメニスカス正レンズＬ１、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸
面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ４、及び凹面反
射鏡側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ５か
ら構成され全体で正の屈折力を有する第２正レンズ群Ｇ
Ｐ２と、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸面を向けた凸面反射鏡
ＣＶＭとが配置されている。
の第２実施例について説明する。図２において、投影光
学系ＰＬは、Ｘ軸方向に沿った光軸Ａｘを有し、この光
軸Ａｘ上には、凹面反射鏡ＣＣＭと、この凹面反射鏡Ｃ
ＣＭ側に凸面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ１と
両凸形状の正レンズＬ２とから構成され全体で正の屈折
力を有する第１正レンズ群ＧＰ１と、凹面反射鏡ＣＣＭ
側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ３から構
成され負の屈折力を有する第１負レンズ群ＧＮ１と、両
凸形状の正レンズＬ２、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸面を向
けたメニスカス正レンズＬ１、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸
面を向けたメニスカス形状の正レンズＬ４、及び凹面反
射鏡側に凸面を向けたメニスカス形状の負レンズＬ５か
ら構成され全体で正の屈折力を有する第２正レンズ群Ｇ
Ｐ２と、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凸面を向けた凸面反射鏡
ＣＶＭとが配置されている。
【００２４】図２の投影光学系ＰＬにおいて、図示なき
マスクからの光は、レンズＬ１、レンズＬ２及びレンズ
Ｌ３を順に通過して（第１正レンズ群ＧＰ１、第１負レ
ンズ群ＧＮ１を順に通過して）凹面反射鏡ＣＣＭに達
し、この凹面反射鏡ＣＣＭで反射された光は、レンズＬ
３、レンズＬ２、レンズＬ１、レンズＬ４及びレンズＬ
５を順に通過して（第１負レンズ群ＧＮ１、第２正レン
ズ群ＧＰ２を順に通過して）凸面反射鏡ＣＶＭへ至る。
この凸面反射鏡ＣＶＭで反射された光は、レンズＬ５、
レンズＬ４、レンズＬ１、レンズＬ２及びレンズＬ３の
順に通過して（第２正レンズ群ＧＰ２及び第１負レンズ
群ＧＮ１を順に通過して）凹面反射鏡ＣＣＭへ達する。
凹面反射鏡ＣＣＭにて反射された光は、レンズＬ３、レ
ンズＬ２及びレンズＬ１の順に通過して（第１負レンズ
群ＧＮ１及び第１正レンズ群ＧＰ１の順に通過して）投
影光学系ＰＬから射出されて像面へ向かう。なお、図２
の例では、マスク及び第１正レンズ群ＧＰ１の間の光路
中に配置される光路折り曲げミラーと、第１正レンズ群
ＧＰ１及び基板（像）の間の光路中に配置される光路折
り曲げミラーとは図示省略している。
マスクからの光は、レンズＬ１、レンズＬ２及びレンズ
Ｌ３を順に通過して（第１正レンズ群ＧＰ１、第１負レ
ンズ群ＧＮ１を順に通過して）凹面反射鏡ＣＣＭに達
し、この凹面反射鏡ＣＣＭで反射された光は、レンズＬ
３、レンズＬ２、レンズＬ１、レンズＬ４及びレンズＬ
５を順に通過して（第１負レンズ群ＧＮ１、第２正レン
ズ群ＧＰ２を順に通過して）凸面反射鏡ＣＶＭへ至る。
この凸面反射鏡ＣＶＭで反射された光は、レンズＬ５、
レンズＬ４、レンズＬ１、レンズＬ２及びレンズＬ３の
順に通過して（第２正レンズ群ＧＰ２及び第１負レンズ
群ＧＮ１を順に通過して）凹面反射鏡ＣＣＭへ達する。
凹面反射鏡ＣＣＭにて反射された光は、レンズＬ３、レ
ンズＬ２及びレンズＬ１の順に通過して（第１負レンズ
群ＧＮ１及び第１正レンズ群ＧＰ１の順に通過して）投
影光学系ＰＬから射出されて像面へ向かう。なお、図２
の例では、マスク及び第１正レンズ群ＧＰ１の間の光路
中に配置される光路折り曲げミラーと、第１正レンズ群
ＧＰ１及び基板（像）の間の光路中に配置される光路折
り曲げミラーとは図示省略している。
【００２５】そして、以下の表２には、図２に示した投
影光学系の諸元の値を掲げる。但し、左端の数字は物体
側からの凸面反射鏡ＣＶＭまでの順序を示し、ｒはレン
ズ面又は反射面の曲率半径、ｄはレンズ面間隔、ｎは露
光波長の光（ｇ線：４３６ｎｍ）に対する媒質（光学材
料）の屈折率を示している。なお、表２においても、面
間隔ｄ及び屈折率ｎは光線が反射面にて反射される毎に
符号が正負に反転するものとしている。
影光学系の諸元の値を掲げる。但し、左端の数字は物体
側からの凸面反射鏡ＣＶＭまでの順序を示し、ｒはレン
ズ面又は反射面の曲率半径、ｄはレンズ面間隔、ｎは露
光波長の光（ｇ線：４３６ｎｍ）に対する媒質（光学材
料）の屈折率を示している。なお、表２においても、面
間隔ｄ及び屈折率ｎは光線が反射面にて反射される毎に
符号が正負に反転するものとしている。
【００２６】
【表２】 〔第２実施例〕 ｒ ｄ ｎ １ −５６０１．８ １００ １．４８０８８ Ｌ１ ２ −６７１．６ １０ １．０００００ ３ ３４７２．４ １１０ １．４８０８８ Ｌ２ ４ −７００６．８ ４８ １．０００００ ５ −１０５８．６ ８０ １．６０３８４ Ｌ３ ６ −１３２３３ ５１ １．０００００ ７ −１２１０．０ −５１ −１．０００００ ＣＣＭ ８ −１３２３３ −８０ −１．６０３８４ Ｌ３ ９ −１０５８．６ −４８ −１．０００００ １０ −７００６．８ −１１０ −１．４８０８８ Ｌ２ １１ ３４７２．４ −１０ −１．０００００ １２ −６７１．６ −１００ −１．４８０８８ Ｌ１ １３ −５６０１．８ −７６ −１．０００００ １４ −４８０．２ −５０ −１．４８０８８ Ｌ４ １５ −１０８４．０ −１４ −１．０００００ １６ −１５３２２ −４０ −１．４８０８８ Ｌ５ １７ −６６１．４ −１６ −１．０００００ １８ −７９１．５ ０ １．０００００ ＣＶＭ 《第２実施例の条件対応値》 （１） ｆ２ＰＬＧ−ｆ１ＰＬＧ＝５１３．７≧０ （２） ｆＣＣ ／ ｆＣＶ＝−１．５３ （３）ｆ１ＮＬＧ／ｆ１ＰＬＧ＝−０．６９ （４）ｆ１ＮＬＧ／ｆ２ＰＬＧ＝−０．５９ なお、表２において、像高は２２０ｍｍであり、倍率１
倍、ＮＡ（開口数）は０．１２である。
倍、ＮＡ（開口数）は０．１２である。
【００２７】次に、図３を参照しながら投影光学系ＰＬ
の第３実施例について説明する。図３において、投影光
学系ＰＬは、Ｘ軸方向に沿った光軸Ａｘを有し、この光
軸Ａｘ上には、凹面反射鏡ＣＣＭと、両凸形状の正レン
ズＬ１とから構成され全体で正の屈折力を有する第１正
レンズ群ＧＰ１と、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凹面を向けた
メニスカス形状の負レンズＬ２から構成され負の屈折力
を有する第１負レンズ群ＧＮ１と、両凸形状の正レンズ
Ｌ１、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凹面を向けたメニスカス形
状の負レンズＬ４、及び凹面反射鏡側に凸面を向けたメ
ニスカス形状の正レンズＬ５から構成され全体で正の屈
折力を有する第２正レンズ群ＧＰ２と、凹面反射鏡ＣＣ
Ｍ側に凸面を向けた凸面反射鏡ＣＶＭとが配置されてい
る。
の第３実施例について説明する。図３において、投影光
学系ＰＬは、Ｘ軸方向に沿った光軸Ａｘを有し、この光
軸Ａｘ上には、凹面反射鏡ＣＣＭと、両凸形状の正レン
ズＬ１とから構成され全体で正の屈折力を有する第１正
レンズ群ＧＰ１と、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凹面を向けた
メニスカス形状の負レンズＬ２から構成され負の屈折力
を有する第１負レンズ群ＧＮ１と、両凸形状の正レンズ
Ｌ１、凹面反射鏡ＣＣＭ側に凹面を向けたメニスカス形
状の負レンズＬ４、及び凹面反射鏡側に凸面を向けたメ
ニスカス形状の正レンズＬ５から構成され全体で正の屈
折力を有する第２正レンズ群ＧＰ２と、凹面反射鏡ＣＣ
Ｍ側に凸面を向けた凸面反射鏡ＣＶＭとが配置されてい
る。
【００２８】図３の投影光学系ＰＬにおいて、図示なき
マスクからの光は、レンズＬ１及びレンズＬ２（第１正
レンズ群ＧＰ１及び第１負レンズ群ＧＮ１）を順に介し
て凹面反射鏡ＣＣＭに達する。凹面反射鏡ＣＣＭにて反
射された光は、レンズＬ２、レンズＬ１、レンズＬ４及
びレンズＬ５を順に通過して（第１負レンズ群ＧＮ１及
び第２正レンズ群ＧＰ２を順に通過して）凸面反射鏡Ｃ
ＶＭに至る。凸面反射鏡ＣＶＭにて反射された光は、レ
ンズＬ５、レンズＬ４、レンズＬ１及びレンズＬ２を順
に通過して（第２正レンズ群及び第１負レンズ群を順に
通過して）凹面反射鏡ＣＣＭへ達し、凹面反射鏡ＣＣＭ
にて反射された光は、レンズＬ２及びレンズ１を順に通
過して（第１負レンズ群ＧＮ１及び第１正レンズ群ＧＰ
１を順に通過して）投影光学系ＰＬから射出されて像面
へ向かう。なお、図３の例においても、マスク及び第１
正レンズ群ＧＰ１の間の光路中に配置される光路折り曲
げミラーと、第１正レンズＧＰ１群及び基板（像）の間
の光路中に配置される光路折り曲げミラーとは図示省略
している。
マスクからの光は、レンズＬ１及びレンズＬ２（第１正
レンズ群ＧＰ１及び第１負レンズ群ＧＮ１）を順に介し
て凹面反射鏡ＣＣＭに達する。凹面反射鏡ＣＣＭにて反
射された光は、レンズＬ２、レンズＬ１、レンズＬ４及
びレンズＬ５を順に通過して（第１負レンズ群ＧＮ１及
び第２正レンズ群ＧＰ２を順に通過して）凸面反射鏡Ｃ
ＶＭに至る。凸面反射鏡ＣＶＭにて反射された光は、レ
ンズＬ５、レンズＬ４、レンズＬ１及びレンズＬ２を順
に通過して（第２正レンズ群及び第１負レンズ群を順に
通過して）凹面反射鏡ＣＣＭへ達し、凹面反射鏡ＣＣＭ
にて反射された光は、レンズＬ２及びレンズ１を順に通
過して（第１負レンズ群ＧＮ１及び第１正レンズ群ＧＰ
１を順に通過して）投影光学系ＰＬから射出されて像面
へ向かう。なお、図３の例においても、マスク及び第１
正レンズ群ＧＰ１の間の光路中に配置される光路折り曲
げミラーと、第１正レンズＧＰ１群及び基板（像）の間
の光路中に配置される光路折り曲げミラーとは図示省略
している。
【００２９】そして、以下の表３には、図３に示した光
学系の諸元の値を掲げる。但し、左端の数字は物体側か
らの凸面反射鏡までの順序を示し、ｒはレンズ面又は反
射面の曲率半径、ｄはレンズ面間隔、ｎは露光波長の光
（ｇ線：４３６ｎｍ）に対する媒質（光学材料）の屈折
率を示している。なお、表３においても、面間隔ｄ及び
屈折率ｎは光線が反射面にて反射される毎に符号の正負
が反転するものとしている。
学系の諸元の値を掲げる。但し、左端の数字は物体側か
らの凸面反射鏡までの順序を示し、ｒはレンズ面又は反
射面の曲率半径、ｄはレンズ面間隔、ｎは露光波長の光
（ｇ線：４３６ｎｍ）に対する媒質（光学材料）の屈折
率を示している。なお、表３においても、面間隔ｄ及び
屈折率ｎは光線が反射面にて反射される毎に符号の正負
が反転するものとしている。
【００３０】
【表３】 〔第３実施例〕 ｒ ｄ ｎ １ ８２５．５ １３０ １．６０３８４ Ｌ１ ２ −１６７４．４ １０ １．０００００ ３ ９８３．３ １００ １．４８０８８ Ｌ２ ４ ５３７．０ １５７ １．０００００ ５ −２５２９．３ −１５７ −１．０００００ ＣＣＭ ６ ５３７．０ −１００ −１．４８０８８ Ｌ２ ７ ９８３．３ −１０ −１．０００００ ８ −１６７４．４ −１３０ −１．６０３８４ Ｌ１ ９ ８２５．５ −１１３ −１．０００００ １０ ４７８．８ −５０ −１．４８０８８ Ｌ４ １１ ３０１７．０ −１ −１．０００００ １２ −４９３．６ −４０ −１．４８０８８ Ｌ５ １３ −８７１．５ −１９ −１．０００００ １４ −３７０７．８ １．０００００ ＣＶＭ 《第３実施例の条件対応値》 （１） ｆ２ＰＬＧ−ｆ１ＰＬＧ＝４４６≧０ （２） ｆＣＣ ／ ｆＣＶ＝−０．６８２ （３）ｆ１ＮＬＧ／ｆ１ＰＬＧ＝−２．８ （４）ｆ１ＮＬＧ／ｆ２ＰＬＧ＝−１．９ なお、表３において、像高は２２０ｍｍであり、倍率１
倍、ＮＡ（開口数）は０．１２である。
倍、ＮＡ（開口数）は０．１２である。
【００３１】以上において説明した各実施例にかかる投
影光学系ＰＬの光学性能を評価する指標として波面収差
量を導入する。この場合、波面収差のＲＭＳ値での評価
を採用すると、良く知られているように理想レンズの条
件としてマレシャル(Marechal)の条件を満足するとき無
収差とする。従って、波面収差のＲＭＳ値をＷrmsとす
ると、無収差の条件式は、λを波長とするとき、 Ｗrms≦λ／１４＝０．０７λ （５） となる。
影光学系ＰＬの光学性能を評価する指標として波面収差
量を導入する。この場合、波面収差のＲＭＳ値での評価
を採用すると、良く知られているように理想レンズの条
件としてマレシャル(Marechal)の条件を満足するとき無
収差とする。従って、波面収差のＲＭＳ値をＷrmsとす
ると、無収差の条件式は、λを波長とするとき、 Ｗrms≦λ／１４＝０．０７λ （５） となる。
【００３２】図４は、表１に示した第１実施例の投影光
学系の横軸に像高としたときの波面収差のＲＭＳ値を縦
軸に表わしている。前記条件式（５）を満足する像高
は、１７０ｍｍから２８０ｍｍまでの領域であることが
分かる。即ち、第１実施例では、幅が１１０ｍｍの円弧
領域が無収差であることが分かる。図５は、表２に示し
た第２実施例の投影光学系の横軸に像高としたときの波
面収差のＲＭＳ値を縦軸に表わしている。前記条件式
（５）を満足する像高は、１８５ｍｍから２４５ｍｍま
での領域であることが分かる。即ち、第２実施例では、
幅が６０ｍｍの円弧領域が無収差であることが分かる。
学系の横軸に像高としたときの波面収差のＲＭＳ値を縦
軸に表わしている。前記条件式（５）を満足する像高
は、１７０ｍｍから２８０ｍｍまでの領域であることが
分かる。即ち、第１実施例では、幅が１１０ｍｍの円弧
領域が無収差であることが分かる。図５は、表２に示し
た第２実施例の投影光学系の横軸に像高としたときの波
面収差のＲＭＳ値を縦軸に表わしている。前記条件式
（５）を満足する像高は、１８５ｍｍから２４５ｍｍま
での領域であることが分かる。即ち、第２実施例では、
幅が６０ｍｍの円弧領域が無収差であることが分かる。
【００３３】図６は、表３に示した第３実施例投影光学
系の横軸に像高としたときの波面収差のＲＭＳ値を縦軸
に表わしている。前記条件式（５）を満足する像高は、
１８５ｍｍから２５０ｍｍまでの領域であることが分か
る。即ち、第３実施例では、幅が６５ｍｍの円弧領域が
無収差であることが分かる。このように、上述の各実施
例によれば、フィールドサイズとして円弧の長さが４０
０ｍｍで、円弧の幅が５５ｍｍ以上可能となり広フィー
ルドの一括走査露光が可能となる。
系の横軸に像高としたときの波面収差のＲＭＳ値を縦軸
に表わしている。前記条件式（５）を満足する像高は、
１８５ｍｍから２５０ｍｍまでの領域であることが分か
る。即ち、第３実施例では、幅が６５ｍｍの円弧領域が
無収差であることが分かる。このように、上述の各実施
例によれば、フィールドサイズとして円弧の長さが４０
０ｍｍで、円弧の幅が５５ｍｍ以上可能となり広フィー
ルドの一括走査露光が可能となる。
【００３４】なお、上記実施例においては、照明光学系
が供給する照明光の波長をｇ線（４３６ｎｍ）としてい
るが、その代わりに（或いはそれに加えて）ｈ線（４０
４ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）を用いることもできる。
さらには、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）やＡｒ
Ｆエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、ＹＡＧレーザ等の高
調波などの遠紫外域の照明光も使用可能である。
が供給する照明光の波長をｇ線（４３６ｎｍ）としてい
るが、その代わりに（或いはそれに加えて）ｈ線（４０
４ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）を用いることもできる。
さらには、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）やＡｒ
Ｆエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、ＹＡＧレーザ等の高
調波などの遠紫外域の照明光も使用可能である。
【００３５】なお、上述の実施例においては、光路折曲
げミラーとして平面反射鏡ＰＭ１，ＰＭ２を用いている
が、これら平面反射鏡のうちの一方を、Ｙ方向において
像を反転させるためのダハミラー（ルーフミラー）に置
き換えた構成でも良い。また、本発明にかかる反射屈折
型投影光学系を２組用いて、１組目の反射屈折型投影光
学系で形成された中間像を２組目の反射屈折型投影光学
系で基板上に再結像させる構成も可能である。上記の構
成により基板上にはマスクの正立正像が形成される。こ
のようにマスクの正立正像を作る投影光学系を複数準備
しておき、これらを例えば特開平７−１８３２０４号に
開示されるように配置しても良い。また、例えば特開平
７−１８３２１２号の図１１に示されるような倍率調整
機構を、第１平面反射鏡ＰＭ１とマスク１０との間の光
路中及び第２平面反射鏡ＰＭ２と基板３０との間の光路
中の少なくとも一方に配置しても良い。
げミラーとして平面反射鏡ＰＭ１，ＰＭ２を用いている
が、これら平面反射鏡のうちの一方を、Ｙ方向において
像を反転させるためのダハミラー（ルーフミラー）に置
き換えた構成でも良い。また、本発明にかかる反射屈折
型投影光学系を２組用いて、１組目の反射屈折型投影光
学系で形成された中間像を２組目の反射屈折型投影光学
系で基板上に再結像させる構成も可能である。上記の構
成により基板上にはマスクの正立正像が形成される。こ
のようにマスクの正立正像を作る投影光学系を複数準備
しておき、これらを例えば特開平７−１８３２０４号に
開示されるように配置しても良い。また、例えば特開平
７−１８３２１２号の図１１に示されるような倍率調整
機構を、第１平面反射鏡ＰＭ１とマスク１０との間の光
路中及び第２平面反射鏡ＰＭ２と基板３０との間の光路
中の少なくとも一方に配置しても良い。
【００３６】このように、本発明は上述の実施の形態に
限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構
成を取り得る。
限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構
成を取り得る。
【００３７】
【発明の効果】以上の通り、本発明によれば、高解像
力、広フィールドを有する比較的小さな投影光学系によ
り、露光領域が大きな場合においても、スループットを
低下させず、良好なる光学性能のもとで投影露光を行う
ことができる露光装置を提供できる。
力、広フィールドを有する比較的小さな投影光学系によ
り、露光領域が大きな場合においても、スループットを
低下させず、良好なる光学性能のもとで投影露光を行う
ことができる露光装置を提供できる。
【図１】本発明による第１実施例を示すレンズ構成図で
ある。
ある。
【図２】本発明による第２実施例を示すレンズ構成図で
ある。
ある。
【図３】本発明による第３実施例を示すレンズ構成図で
ある。
ある。
【図４】本発明による第１実施例の像高に対応した波面
収差図である。
収差図である。
【図５】本発明による第２実施例の像高に対応した波面
収差図である。
収差図である。
【図６】本発明による第３実施例の像高に対応した波面
収差図である。
収差図である。
ＰＬ‥‥‥投影光学系 ＧＰ１‥‥第１正レンズ群 ＧＮ１‥‥第１負レンズ群 ＧＰ２‥‥第２正レンズ群 ＣＣＭ‥‥凹面反射鏡 ＣＶＭ‥‥凸面反射鏡 １０‥‥‥マスク ２０‥‥‥基板
Claims (8)
- 【請求項１】第１の物体と第２の物体とを移動させつ
つ、前記第１の物体の像を前記第２の物体上へ実質的に
等倍の倍率で投影露光する走査型投影露光装置におい
て、 前記第１の物体の像を前記第２の物体上に形成する反射
屈折型投影光学系を含み、 前記反射屈折型投影光学系は、第１の物体側及び第２の
物体側が共にテレセントリックな光学系であり、正の屈
折力を有する第１正レンズ群と、負の屈折力を有する第
１負レンズ群と、第１凹面反射面と、正の屈折力を有す
る第２正レンズ群と、凸面反射鏡と、第２凹面反射面と
を有し、 前記第１の物体からの光が前記第１正レンズ群及び前記
第１負レンズ群を順に介して前記第１凹面反射面に達
し、前記第１凹面反射面にて反射された光が、前記第１
負レンズ群及び前記第２正レンズ群を順に介して前記凸
面反射鏡に達し、該凸面反射鏡にて反射された光が前記
第２正レンズ群及び前記第１負レンズ群を順に介して前
記第２凹面反射面に達し、前記第２凹面反射面にて反射
された光が前記第１負レンズ群及び前記第１正レンズ群
を順に介して前記第２の物体へ到達し、前記第２の物体
上に前記像を形成するように前記反射屈折型投影光学系
が構成されることを特徴とする走査型投影露光装置。 - 【請求項２】前記反射屈折型投影光学系中の前記第１正
レンズ群の焦点距離をｆ１ＰＬＧとし、前記反射屈折型
投影光学系中の前記第２正レンズ群の焦点距離をｆ２Ｐ
ＬＧとするとき、 ｆ２ＰＬＧ−ｆ１ＰＬＧ≧０ を満足することを特徴とする請求項１記載の走査型投影
露光装置。 - 【請求項３】前記第１正レンズ群と前記第２正レンズ群
とは一体に形成されることを特徴とする請求項１または
２記載の走査型投影露光装置。 - 【請求項４】前記反射屈折型投影光学系中の前記第１及
び第２凹面反射面は、１つの凹面反射鏡上に形成される
ことを特徴とする請求項１，２または３記載の走査型投
影露光装置。 - 【請求項５】前記反射屈折型投影光学系中の前記凹面反
射鏡の焦点距離をｆＣＣとし、前記反射屈折型投影光学
系中の前記凸面反射鏡の焦点距離をｆＣＶとするとき、 −１．６＜ ｆＣＣ ／ ｆＣＶ＜−０．６ を満足することを特徴とする請求項４記載の走査型投影
露光装置。 - 【請求項６】前記第１負レンズ群の焦点距離をｆ１ＮＬ
Ｇとし、前記第１正レンズ群の焦点距離をｆ１ＰＬＧと
し、前記第２正レンズ群の焦点距離をｆ２ＰＬＧとする
とき、 −３＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ１ＰＬＧ＜−０．６ −２＜ｆ１ＮＬＧ／ｆ２ＰＬＧ＜−０．５ のうち少なくとも一方の条件式を満足することを特徴と
する請求項１，２，３，４または５記載の走査型投影露
光装置。 - 【請求項７】前記第１の物体と前記第１正レンズ群との
間の光路中には、第１の光路折曲げミラーが配置され、 前記第１正レンズ群と前記第２の物体との間の光路中に
は、第２の光路折曲げミラーが配置されることを特徴と
する請求項１，２，３，４，５または６記載の走査型投
影露光装置。 - 【請求項８】第１の物体の像を第２物体上に形成する反
射屈折型投影光学系において、 凹面反射鏡と；該凹面反射鏡側に凸面を向けて前記凹面
反射鏡と共軸に配置された凸面反射鏡と；前記凹面反射
鏡と前記凸面反射鏡との間に配置されて、前記凹面反射
鏡と共軸な第１正レンズ群と；前記第１正レンズ群と前
記凹面反射鏡との間に配置されて、前記凹面反射鏡と共
軸な第１負レンズ群と；前記第１負レンズ群と前記凸面
反射鏡との間に配置されて、前記凹面反射鏡と共軸な第
２正レンズ群と；前記第１物体からの光を前記第１正レ
ンズ群へ導くための第１の反射面と；前記第１正レンズ
群からの光を前記第２物体へ導くための第２の反射面
と；を備えることを特徴とする反射屈折型投影光学系。
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|---|---|---|---|
| JP13484998A JP4182304B2 (ja) | 1998-05-18 | 1998-05-18 | 走査型投影露光装置及び該露光装置に好適な投影光学系 |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP13484998A JP4182304B2 (ja) | 1998-05-18 | 1998-05-18 | 走査型投影露光装置及び該露光装置に好適な投影光学系 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| JPH11329935A true JPH11329935A (ja) | 1999-11-30 |
| JP4182304B2 JP4182304B2 (ja) | 2008-11-19 |
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ID=15137917
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|---|---|---|---|
| JP13484998A Expired - Fee Related JP4182304B2 (ja) | 1998-05-18 | 1998-05-18 | 走査型投影露光装置及び該露光装置に好適な投影光学系 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4182304B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001237165A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Canon Inc | 露光装置 |
| US6750951B2 (en) | 2000-04-19 | 2004-06-15 | Nikon Corporation | Optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| JP2011048086A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Olympus Corp | 光学系 |
| CN102768397A (zh) * | 2011-05-05 | 2012-11-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影光刻物镜 |
| CN103105664A (zh) * | 2011-11-10 | 2013-05-15 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻投影物镜 |
| CN103135356A (zh) * | 2011-11-23 | 2013-06-05 | 上海微电子装备有限公司 | 反射式光刻投影物镜 |
| JP2016080870A (ja) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | 財団法人國家實驗研究院 | 共役共通光路リソグラフィレンズ |
| JP2016218299A (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-22 | 財団法人國家實驗研究院 | 単一非球面共通光学素子露光機レンズセット |
| CN112083563A (zh) * | 2019-06-12 | 2020-12-15 | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 | 用于显微镜的光学装置 |
-
1998
- 1998-05-18 JP JP13484998A patent/JP4182304B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001237165A (ja) * | 2000-02-23 | 2001-08-31 | Canon Inc | 露光装置 |
| US6750951B2 (en) | 2000-04-19 | 2004-06-15 | Nikon Corporation | Optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| JP2011048086A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Olympus Corp | 光学系 |
| CN102768397A (zh) * | 2011-05-05 | 2012-11-07 | 上海微电子装备有限公司 | 一种投影光刻物镜 |
| CN103105664A (zh) * | 2011-11-10 | 2013-05-15 | 上海微电子装备有限公司 | 光刻投影物镜 |
| CN103135356A (zh) * | 2011-11-23 | 2013-06-05 | 上海微电子装备有限公司 | 反射式光刻投影物镜 |
| JP2016080870A (ja) * | 2014-10-17 | 2016-05-16 | 財団法人國家實驗研究院 | 共役共通光路リソグラフィレンズ |
| JP2016218299A (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-22 | 財団法人國家實驗研究院 | 単一非球面共通光学素子露光機レンズセット |
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|---|---|
| JP4182304B2 (ja) | 2008-11-19 |
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