JP2016194482A - 検査方法および検査装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】試料の第1の部分に照明光を照射し、第1の部分の透過光の第1の光学画像または第1の部分の反射光の第2の光学画像を取得し、第1の参照画像と第1の光学画像の第1の比較または第2の参照画像と第2の光学画像の第2の比較を、第1の欠陥判断閾値により行い、第1の部分の第1の欠陥の有無を判断し、第1の部分に第1の欠陥を有りと判断した場合には、第1の欠陥の第1の座標と、第1の欠陥判断閾値と、第1の光学画像または第2の光学画像と、第1の参照画像または第2の参照画像と、を保存し、第1の部分の第1の欠陥数を欠陥合計数として計算し、欠陥合計数が欠陥数閾値より大きい場合には、第1の欠陥判断閾値を所定量増加の第2の欠陥判断閾値を計算し、欠陥合計数が欠陥数閾値以下である場合は、第2の欠陥判断閾値を第1の欠陥判断閾値と等しくする。
【選択図】図3
Description
実施形態の検査方法は、被検査試料の第1の部分に照明光を照射し、第1の部分を透過した照明光を結像した第1の光学画像または第1の部分によって反射された照明光を結像した第2の光学画像を取得し、第1の光学画像の参照となる第1の参照画像と第1の光学画像の第1の比較または第2の光学画像の参照となる第2の参照画像と第2の光学画像の第2の比較を、第1の欠陥判断閾値に基づきおこない、第1の部分の第1の欠陥の有無を判断し、第1の部分は第1の欠陥を有すると判断された場合には、第1の欠陥の第1の座標と、第1の欠陥判断閾値と、第1の光学画像または第2の光学画像と、第1の参照画像または第2の参照画像と、を保存し、第1の部分の第1の欠陥数を欠陥合計数として計算し、欠陥合計数が欠陥数閾値より大きい場合には、第1の欠陥判断閾値を所定量増加させた第2の欠陥判断閾値を計算し、欠陥合計数が欠陥数閾値以下である場合には、第2の欠陥判断閾値を第1の欠陥判断閾値と等しくする。
20 第2の部分
30 第3の部分
40 第4の部分
50 第5の部分
60 第6の部分
100 保持部
200 ステージ
210a 第1のモーター
210b 第2のモーター
210c 第3のモーター
220 レーザー測長計
300 移動制御部
310 走査範囲設定機構
320 モーター制御機構
400 照明部
410 光源
420 第1の照明部用レンズ
430 第2の照明部用レンズ
440 第1の照明部用ミラー
450 コンデンサレンズ
460 第1の照明部用光束分配手段
470 第2の照明部用ミラー
480 第2の照明部用光束分配手段
490 対物レンズ
500 結像部
510 第1の光検出器
520 第1の結像部用レンズ
530 第2の光検出器
540 第2の結像部用レンズ
550 分離ミラー
600 制御部
610 比較部
620 参照部
622 展開部
630 パターンデータ記憶部
631 欠陥判断閾値記憶部
633 限界欠陥判断閾値記憶部
635 欠陥数閾値記憶部
637 欠陥情報記憶部
638 欠陥合計数記憶部
639 欠陥判断アルゴリズム記憶部
640 位置検出部
650 制御計算機
660 判断部
670 バスライン
680 レビュー部
700 オートフォーカス部
710 オートフォーカス光束分配手段
720 フォーカスずれ検出機構
730 フォーカス制御機構
740 オートフォーカス部用モーター
800 インターフェース
1000 検査装置
2000 リソグラフィシミュレータ
2010 転写像作成部
2020 転写像比較部
2030 転写像判断部
M マスク
A1、A2、A3、A4 アライメントマーク
S 基板
Claims (5)
- 被検査試料の第1の部分に照明光を照射し、
前記第1の部分を透過した前記照明光を結像した第1の光学画像または前記第1の部分によって反射された前記照明光を結像した第2の光学画像を取得し、
前記第1の光学画像の参照となる第1の参照画像と前記第1の光学画像の第1の比較または前記第2の光学画像の参照となる第2の参照画像と前記第2の光学画像の第2の比較を、第1の欠陥判断閾値に基づきおこない、
前記第1の部分の第1の欠陥の有無を判断し、
前記第1の部分は前記第1の欠陥を有すると判断された場合には、
前記第1の欠陥の第1の座標と、前記第1の欠陥判断閾値と、前記第1の光学画像または前記第2の光学画像と、前記第1の参照画像または前記第2の参照画像と、を保存し、
前記第1の部分の第1の欠陥数を欠陥合計数として計算し、
前記欠陥合計数が欠陥数閾値より大きい場合には、前記第1の欠陥判断閾値を所定量増加させた第2の欠陥判断閾値を計算し、前記欠陥合計数が前記欠陥数閾値以下である場合には、前記第2の欠陥判断閾値を前記第1の欠陥判断閾値と等しくする、
検査方法。 - 前記欠陥合計数が前記欠陥数閾値より大きい場合には、前記第1の欠陥判断閾値を前記所定量増加させた前記第2の欠陥判断閾値を計算する場合において、
さらに前記第2の欠陥判断閾値が限界欠陥判断閾値より大きい場合には、前記第2の欠陥判断閾値を前記限界欠陥判断閾値と等しくすることを特徴とする、請求項1記載の検査方法。 - 前記欠陥合計数が前記欠陥数閾値より大きい場合には、前記第1の欠陥判断閾値を前記所定量増加させた前記第2の欠陥判断閾値を計算し、前記欠陥合計数が前記欠陥数閾値以下である場合には、前記第2の欠陥判断閾値を前記第1の欠陥判断閾値と等しくする後に、
前記被検査試料の第2の部分に照明光を照射し、
前記第2の部分を透過した前記照明光を結像した第3の光学画像または前記第2の部分によって反射された前記照明光を結像した第4の光学画像を取得し、
前記第3の光学画像の参照となる第3の参照画像と前記第3の光学画像の第3の比較または前記第4の光学画像の参照となる第4の参照画像と前記第4の光学画像の第4の比較を、前記第2の欠陥判断閾値に基づきおこない、
前記第2の部分の第2の欠陥の有無を判断し、
前記第2の部分は前記第2の欠陥を有すると判断された場合には、
前記第2の欠陥の第2の座標と、前記第2の欠陥判断閾値と、前記第3の光学画像または前記第4の光学画像と、前記第3の参照画像または前記第4の参照画像と、を保存し、
前記第2の部分の第2の欠陥数を計算し、
前記第1の欠陥数と前記第2の欠陥数を加算して前記欠陥合計数を計算し、
前記欠陥合計数が前記欠陥数閾値より大きい場合には、前記第2の欠陥判断閾値を前記所定量増加させた第3の欠陥判断閾値を計算し、前記欠陥合計数が前記欠陥数閾値以下である場合には、前記第3の欠陥判断閾値を前記第2の欠陥判断閾値と等しくすることを特徴とする、
請求項1または請求項2記載の検査方法。 - 前記欠陥合計数が前記欠陥数閾値より大きい場合には、前記第1の欠陥判断閾値を前記所定量増加させた前記第2の欠陥判断閾値を計算し、前記欠陥合計数が前記欠陥数閾値以下である場合には、前記第2の欠陥判断閾値を前記第1の欠陥判断閾値と等しくする後に、
前記第1の光学画像または前記第2の光学画像に基づいて空間転写像を作成し、
前記第1の参照画像または前記第2の参照画像に基づいて参照転写像を作成し、
前記空間転写像と前記参照転写像の第3の比較をおこない、
前記第3の比較に基づいて前記第1の欠陥の補正の要否を判断する、
請求項1ないし請求項3いずれか一項記載の検査方法。 - 被検査試料の第1の部分に照明光を照射する照明部と、
前記第1の部分を透過した前記照明光を結像した第1の光学画像または前記第1の部分によって反射された前記照明光を結像した第2の光学画像を取得する結像部と、
前記第1の光学画像の参照となる第1の参照画像と前記第1の光学画像の第1の比較または前記第2の光学画像の参照となる第2の参照画像と前記第2の光学画像の第2の比較を、第1の欠陥判断閾値に基づきおこなう比較部と、
前記第1の部分の第1の欠陥の有無を判断する判断部と、
前記第1の欠陥判断閾値を保存する欠陥判断閾値記憶部と、
前記第1の欠陥の第1の座標と、前記第1の欠陥判断閾値と、前記第1の光学画像または前記第2の光学画像と、前記第1の参照画像または前記第2の参照画像と、を保存する欠陥情報記憶部と、
前記第1の部分における第1の欠陥数を欠陥合計数として保存する欠陥合計数記憶部と、
欠陥数閾値を保存する欠陥数閾値記憶部と、
を備える検査装置。
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