JP2016170133A - 撮像装置及び撮像方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、第1の実施形態に係る撮像装置の構成を模式的に示した図である。なお、図1では、説明を容易にするため、水平方向をX軸方向、垂直方向をY軸方向、紙面に垂直な方向をZ軸方向とする。
次に、第2の実施形態について説明する。なお、基本的な構成は第1の実施形態と類似しているため、第1の実施形態で述べた事項の説明は省略する。
光源と、
撮像対象が載置され、所定方向に走査されるステージと、
前記光源からの光を前記ステージ上に載置された撮像対象に供給する照明光学系と、
前記照明光学系によって照明された前記撮像対象の像を結像させる結像光学系と、
前記結像光学系によって結像された前記撮像対象の像を検出する検出器と、
を備え、
前記照明光学系は、所定位置に配置された複数のミラーを含み、
前記複数のミラーは、異なった傾きを有し、前記所定方向から見て間隙のない複数の照明部分で形成された照明領域を前記撮像対象の表面に形成する
ことを特徴とする撮像装置。
前記所定位置は、前記照明光学系の瞳位置又は瞳位置の近傍に対応する
ことを特徴とする付記1に記載の撮像装置。
前記複数のミラーは、入射光の光軸を回転軸として異なる角度で傾いている
ことを特徴とする付記1に記載の撮像装置。
前記複数の照明部分は、前記所定方向に垂直な方向に直線状に配列されている
ことを特徴とする付記1に記載の撮像装置。
前記検出器の検出領域の長手方向は、前記複数の照明部分の配列方向に対応する
ことを特徴とする付記1に記載の撮像装置。
前記検出器は、前記検出領域の長手方向に複数の画素が配列された1次元検出器である
ことを特徴とする付記5に記載の撮像装置。
前記撮像対象は、リソグラフィ用のマスク基板である
ことを特徴とする付記1に記載の撮像装置。
光源と、
撮像対象が載置され、所定方向に走査されるステージと、
前記光源からの光を前記ステージ上に載置された撮像対象に供給する照明光学系と、
前記照明光学系によって照明された前記撮像対象の像を結像させる結像光学系と、
前記結像光学系によって結像された前記撮像対象の像を検出する検出器と、
を備え、
前記照明光学系は、所定位置に配置された複数のミラーを含み、
前記複数のミラーは、入射光の光軸方向に互いにずれており、前記所定方向から見て間隙のない複数の照明部分で形成された照明領域を前記撮像対象の表面に形成する
ことを特徴とする撮像装置。
前記所定位置は、前記光源の共役位置又は共役位置の近傍に対応する
ことを特徴とする付記8に記載の撮像装置。
前記複数のミラーは、出射光の光軸方向から見てステップ状に配列されている
ことを特徴とする付記8に記載の撮像装置。
前記複数のミラーは、互いに平行である
ことを特徴とする付記8に記載の撮像装置。
前記複数の照明部分は、出射光の光軸方向から見た前記複数のミラーの配列に対応した配列を有している
ことを特徴とする付記8に記載の撮像装置。
前記検出器の検出領域は複数の検出部分を有し、前記複数の検出部分の配列は前記複数の照明部分の配列に対応する
ことを特徴とする付記8に記載の撮像装置。
前記複数の検出部分は、ステップ状に配列されている
ことを特徴とする付記13に記載の撮像装置。
前記撮像対象は、リソグラフィ用のマスク基板である
ことを特徴とする付記8に記載の撮像装置。
撮像対象が載置されたステージを所定方向に走査することと、
光源からの光を前記ステージ上に載置された撮像対象に照明光学系によって供給することと、
前記照明光学系によって照明された前記撮像対象の像を結像光学系によって結像させることと、
前記結像光学系によって結像された前記撮像対象の像を検出器によって検出することと、
を備え、
前記照明光学系は、所定位置に配置された複数のミラーを含み、
前記複数のミラーは、異なった傾きを有し、前記所定方向から見て間隙のない複数の照明部分で形成された照明領域を前記撮像対象の表面に形成する
ことを特徴とする撮像方法。
前記所定位置は、前記照明光学系の瞳位置又は瞳位置の近傍に対応する
ことを特徴とする付記16に記載の撮像方法。
撮像対象が載置されたステージを所定方向に走査することと、
光源からの光を前記ステージ上に載置された撮像対象に照明光学系によって供給することと、
前記照明光学系によって照明された前記撮像対象の像を結像光学系によって結像させることと、
前記結像光学系によって結像された前記撮像対象の像を検出器によって検出することと、
を備え、
前記照明光学系は、所定位置に配置された複数のミラーを含み、
前記複数のミラーは、入射光の光軸方向に互いにずれており、前記所定方向から見て間隙のない複数の照明部分で形成された照明領域を前記撮像対象の表面に形成する
ことを特徴とする撮像方法。
前記所定位置は、前記光源の共役位置又は共役位置の近傍に対応する
ことを特徴とする付記18に記載の撮像方法。
14…楕円鏡 15…分割平面鏡 15a、15b、15c…ミラー
16…楕円鏡 17…平面鏡 18…照明領域
18a、18b、18c…照明部分 19…凹面鏡
20…凸面鏡 21…検出器 22…検出領域
22p…画素 23…結像領域 23a、23b、23c…結像部分
31…分割平面鏡 31a、31b、31c…ミラー
32…照明領域 32a、32b、32c…照明部分
33…検出器 34…検出領域 34a、34b、34c…検出部分
35…結像領域 35a、35b、35c…結像部分
Claims (6)
- 光源と、
撮像対象が載置され、所定方向に走査されるステージと、
前記光源からの光を前記ステージ上に載置された撮像対象に供給する照明光学系と、
前記照明光学系によって照明された前記撮像対象の像を結像させる結像光学系と、
前記結像光学系によって結像された前記撮像対象の像を検出する検出器と、
を備え、
前記照明光学系は、所定位置に配置された複数のミラーを含み、
前記複数のミラーは、異なった傾きを有し、前記所定方向から見て間隙のない複数の照明部分で形成された照明領域を前記撮像対象の表面に形成する
ことを特徴とする撮像装置。 - 前記所定位置は、前記照明光学系の瞳位置又は瞳位置の近傍に対応する
ことを特徴とする請求項1に記載の撮像装置。 - 光源と、
撮像対象が載置され、所定方向に走査されるステージと、
前記光源からの光を前記ステージ上に載置された撮像対象に供給する照明光学系と、
前記照明光学系によって照明された前記撮像対象の像を結像させる結像光学系と、
前記結像光学系によって結像された前記撮像対象の像を検出する検出器と、
を備え、
前記照明光学系は、所定位置に配置された複数のミラーを含み、
前記複数のミラーは、入射光の光軸方向に互いにずれており、前記所定方向から見て間隙のない複数の照明部分で形成された照明領域を前記撮像対象の表面に形成する
ことを特徴とする撮像装置。 - 前記所定位置は、前記光源の共役位置又は共役位置の近傍に対応する
ことを特徴とする請求項3に記載の撮像装置。 - 撮像対象が載置されたステージを所定方向に走査することと、
光源からの光を前記ステージ上に載置された撮像対象に照明光学系によって供給することと、
前記照明光学系によって照明された前記撮像対象の像を結像光学系によって結像させることと、
前記結像光学系によって結像された前記撮像対象の像を検出器によって検出することと、
を備え、
前記照明光学系は、所定位置に配置された複数のミラーを含み、
前記複数のミラーは、異なった傾きを有し、前記所定方向から見て間隙のない複数の照明部分で形成された照明領域を前記撮像対象の表面に形成する
ことを特徴とする撮像方法。 - 撮像対象が載置されたステージを所定方向に走査することと、
光源からの光を前記ステージ上に載置された撮像対象に照明光学系によって供給することと、
前記照明光学系によって照明された前記撮像対象の像を結像光学系によって結像させることと、
前記結像光学系によって結像された前記撮像対象の像を検出器によって検出することと、
を備え、
前記照明光学系は、所定位置に配置された複数のミラーを含み、
前記複数のミラーは、入射光の光軸方向に互いにずれており、前記所定方向から見て間隙のない複数の照明部分で形成された照明領域を前記撮像対象の表面に形成する
ことを特徴とする撮像方法。
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