JP2016150293A - 水銀回収システム及び水銀回収方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】水銀を含む物質(水銀含有ダストD3)を間接加熱して該物質に含まれる水銀を揮発させる間接加熱装置4と、間接加熱装置に高酸素濃度ガスA1を供給する高酸素濃度ガス供給装置(ガス導入部4d)と、間接加熱装置の排ガス(搬送用ガスG1)から集塵する集塵装置5と、集塵装置の排ガスに含まれる水銀を回収する水銀回収装置7とを備える水銀回収システム1。高酸素濃度ガスによって水銀を含む物質に含まれる未燃カーボンの燃焼を促進して未燃カーボンを消失させ、水銀除去物質をセメント原料として利用する。酸素濃度が30容量%以上100容量%以下の高酸素濃度ガスを用いて間接加熱装置に高酸素雰囲気を形成することができる。
【選択図】図1
Description
2 ホッパ
3 スクリューコンベア
4 外熱キルン
4a キルン
4b ジャケット
4c ダスト供給部
4d ガス導入部
4e ガス排出部
4f ダスト排出部
5 バグフィルタ
6 ファン
7 活性炭吸着塔
A1 高酸素濃度空気
A2 希釈用空気
D1 キルンダスト
D2 水銀除去ダスト
D3 水銀含有ダスト
D4 水銀除去ダスト
G1 搬送用ガス
G2 水銀含有ガス
G3 水銀希釈ガス
G4 水銀除去ガス
Claims (7)
- 水銀を含む物質を間接加熱して該物質に含まれる水銀を揮発させる間接加熱装置と、
該間接加熱装置に高酸素濃度ガスを供給する高酸素濃度ガス供給装置と、
前記間接加熱装置の排ガスから集塵する集塵装置と、
該集塵装置の排ガスに含まれる水銀を回収する水銀回収装置とを備えることを特徴とする水銀回収システム。 - 前記間接加熱装置は、前記揮発水銀を含む搬送用ガスを排出するガス排出部と、前記水銀を含む物質から水銀が除去されて生じた水銀除去物質を排出する物質排出部とを備えることを特徴とする請求項1に記載の水銀回収システム。
- 前記間接加熱装置は、外熱キルンであることを特徴とする請求項1又は2に記載の水銀回収システム。
- 水銀を含む物質を高酸素雰囲気下で間接加熱して該物質に含まれる水銀を揮発させ、
該揮発水銀を含む搬送用ガスから集塵し、
該集塵後のガスに含まれる水銀を回収することを特徴とする水銀回収方法。 - 前記間接加熱時に、酸素濃度が30容量%以上100容量%以下の高酸素濃度ガスを用いて前記高酸素雰囲気を形成することを特徴とする請求項4に記載の水銀回収方法。
- 前記間接加熱によって生じた揮発水銀を含むガスと水銀除去物質とを互いに分離し、該揮発水銀を含むガスを前記搬送用ガスとすることを特徴とする請求項4又は5に記載の水銀回収方法。
- 前記水銀を含む物質は、セメントキルンの排ガスから回収したダスト又は石炭灰であることを特徴とする請求項4、5又は6に記載の水銀回収方法。
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