JP2019051494A - 水銀含有物質の処理装置及び処理方法 - Google Patents
水銀含有物質の処理装置及び処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019051494A JP2019051494A JP2017178637A JP2017178637A JP2019051494A JP 2019051494 A JP2019051494 A JP 2019051494A JP 2017178637 A JP2017178637 A JP 2017178637A JP 2017178637 A JP2017178637 A JP 2017178637A JP 2019051494 A JP2019051494 A JP 2019051494A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mercury
- external heat
- heat kiln
- kiln
- dust
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Processing Of Solid Wastes (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
【課題】外熱キルンを用いて水銀含有物質から水銀を揮発除去する際に、外熱キルンの内面に付着したダスト等の成長を防止して処理装置の安定運転を確保する。【解決手段】水銀含有物質(水銀含有ダスト)D3を加熱して該物質に含まれる水銀を揮発させる外熱キルン5と、外熱キルンから排出される水銀含有ガスG2から水銀を回収する水銀回収装置(活性炭吸着塔)8とを備える水銀含有物質の処理装置1であって、外熱キルンに、外熱キルンの回転に伴って転動し、外熱キルンの内面に付着した水銀含有物質由来の付着物を粉砕する粉砕媒体Pを供給する供給装置(スクリューコンベア)4を備える処理装置1等。外熱キルンから排出される水銀除去物質と粉砕媒体とを分離する分離装置9と、分離装置によって分離された粉砕媒体を外熱キルンに戻す搬送装置とを備えてもよい。粉砕媒体として、粒径がφ5mm以上、φ50mm以下のものを用いることができる。【選択図】図1
Description
本発明は、セメント焼成装置のプレヒータの排ガスから回収したダストや、火力発電所で石炭を燃焼させた際に発生する灰等の水銀含有物質を処理する装置及び方法に関する。
近年、様々な廃棄物等を再利用する試みがなされているが、再利用の対象となる物質に有害成分が含まれる場合には、再利用の前に予め有害成分を回収する必要がある。人体に悪影響を及ぼすと共に大気汚染を引き起こすおそれがある水銀は、このような有害成分の代表例であり、水銀含有物質の再利用あたっては、水銀含有物質から水銀を予め回収しておく必要がある。
セメント製造分野においても、様々な廃棄物等を再利用する試みが積極的になされ、水銀含有物質の再利用も行っている。例えば、特許文献1には、セメント焼成装置のプレヒータの排ガスから回収したダスト(キルンダスト)や、火力発電所で石炭を燃焼させた際に発生する灰(石炭灰)をセメント原料として利用することが記載されている。キルンダスト等は水銀を含むため、同文献には、キルンダスト等を外熱式ロータリーキルン(外熱キルン)で間接加熱してキルンダスト等に含まれる水銀を揮発させ、揮発した水銀を含むガスから水銀を回収し、水銀除去ダスト等をセメント原料として利用することが提案されている。
上記特許文献1に記載の処理方法では、常温のキルンダストや石炭灰を外熱キルンに投入すると、外熱キルン内が高温であることからキルンダスト等の粘性が増加して外熱キルンの内面に付着し、この内面に付着したダスト等が成長してダムとなり、外熱キルン内のダスト等の流動を阻害するおそれがあった。
そこで、本発明は、上記従来技術における問題点に鑑みてなされたものであって、外熱キルンを用いて水銀含有物質から水銀を揮発除去する際に、外熱キルンの内面に付着したダスト等の成長を防止して処理装置の安定運転を確保することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明は、水銀含有物質を加熱して該物質に含まれる水銀を揮発させる外熱キルンと、該外熱キルンから排出される水銀含有ガスから水銀を回収する水銀回収装置とを備える水銀含有物質の処理装置であって、前記外熱キルンに、該外熱キルンの回転に伴って転動し、該外熱キルンの内面に付着した前記水銀含有物質由来の付着物を粉砕する粉砕媒体を供給する供給装置を備えることを特徴とする。
本発明によれば、外熱キルンの内面に水銀含有物質由来の物質が付着しても、外熱キルンの回転によって外熱キルン内を転動する粉砕媒体がこの付着物を粉砕することができるため、付着物の成長を防止することができる。これによって、外熱キルン内の水銀含有物質の流動性を安定させることができ、処理装置の安定運転を確保することができる。また、この粉砕媒体が転動する際に、熱源となるキルンシェルに接触して加熱されて温度上昇することで、水銀含有物質を加熱する熱源ともなり、加熱効率を高めることもできる。
上記水銀含有物質の処理装置において、前記外熱キルンから排出される水銀除去物質と粉砕媒体とを分離する分離装置と、該分離装置によって分離された粉砕媒体を前記外熱キルンに戻す搬送装置とを設けることで、水銀除去物質を回収すると共に、粉砕媒体を循環利用することができる。
また、本発明は、水銀含有物質を外熱キルンで加熱して該物質に含まれる水銀を揮発させ、該揮発した水銀を含むガスから水銀を回収する水銀含有物質の処理方法であって、前記外熱キルンに、該外熱キルンの回転に伴って転動し、該外熱キルンの内面に付着した前記水銀含有物質由来の付着物を粉砕する粉砕媒体を供給することを特徴とする。
本発明によれば、外熱キルンの内面に水銀含有物質由来の物質が付着しても、外熱キルン内を転動する粉砕媒体がこの付着物を粉砕することができるため、付着物の成長を防止し、外熱キルン内の水銀含有物質の流動性を安定させ、処理装置の安定運転を確保することができる。これに加え、粉砕媒体が転動する際に、熱源となるキルンシェルに接触して加熱されて温度上昇し、水銀含有物質を加熱する熱源ともなるため、加熱効率を高めることもできる。
上記水銀含有物質の処理方法において、前記外熱キルンから排出される水銀除去物質と粉砕媒体とを分離し、該分離した粉砕媒体を前記外熱キルンに戻すことで、粉砕媒体を循環利用することができる。
また、前記粉砕媒体として、粒径がφ5mm以上、φ50mm以下のものを用いることで、水銀含有物質由来の付着物の粉砕効率と、粉砕媒体の昇温効率のバランスをとり、水銀含有物質の加熱効率をより一層高めることができる。
前記水銀含有物質は、セメント焼成装置のプレヒータの排ガスから回収したダスト又は火力発電所で石炭を燃焼させた際に発生する灰であって、前記外熱キルンから排出される水銀除去物質をセメント原料として用いることができる。
以上のように、本発明によれば、外熱キルンを用いて水銀含有物質から水銀を揮発除去する際に、外熱キルンの内面に付着したダスト等の成長を防止して処理装置の安定運転を確保することなどが可能となる。
次に、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。尚、以下では、本発明に係る水銀含有物質の処理装置において、水銀含有物質としてセメント焼成装置のプレヒータの排ガスから回収したダスト(キルンダスト)を処理する場合を例にとって説明する。
図1は、本発明に係る水銀含有物質の処理装置の一実施の形態を示し、この処理装置1は、キルンダストD1を貯留するホッパ2と、粉砕媒体Pを貯留するホッパ3と、ホッパ2から供給されたキルンダストD1等を運搬するスクリューコンベア4と、スクリューコンベア4から供給された水銀含有ダストD3を間接加熱する外熱キルン5と、外熱キルン5から排出された水銀含有ガスG2から集塵するバグフィルタ6と、バグフィルタ6から排出された水銀含有ガスG3に空気Aを添加して水銀希釈ガスG4とするファン7と、水銀希釈ガスG4に含まれる水銀を吸着して回収する活性炭吸着塔8と、外熱キルン5から排出された水銀除去ダストD4と粉砕媒体Pを篩分ける篩分装置9とを備える。
外熱キルン5は、回転式のキルン5aと、キルン5aを囲繞するように設けられ、高温ガス等の加熱媒体が導入されてキルン5aの外面を加熱するジャケット5bと、スクリューコンベア4から水銀含有ダストD3と粉砕媒体Pが供給されるダスト供給部5cと、キャリヤガス供給装置(不図示)から供給された不活性ガスや空気等のキャリヤガスG1が導入されるガス導入部5dと、水銀含有ダストD3から揮発した水銀を含む水銀含有ガスG2を排出するガス排出部5eと、水銀含有ダストD3から水銀が揮発除去された水銀除去ダストD4と粉砕媒体Pを排出するダスト排出部5fとを有する。
外熱キルン5は、加熱対象物である水銀含有ダストD3を加熱媒体(ジャケット5b内の高温ガス)と接触させずに間接的に加熱する間接加熱装置である。外熱キルン5を用いることで、ガス等の加熱媒体を大量に使用しなくても水銀含有ダストD3を均一に加熱することができるため、キャリヤガスG1や水銀含有ガスG2の量を少なくすることができる。このため、これらのガスが通過する外熱キルン5、バグフィルタ6、活性炭吸着塔8を小型化することができる。尚、外熱キルン5に供給された粉砕媒体Pも同様に加熱され、加熱された粉砕媒体Pが水銀含有ダストD3の加熱媒体となる。
また、外熱キルン5において、ガス排出部5eとダスト排出部5fとを別々に設けることで、水銀含有ダストD3中の水銀とダストとを別々に外熱キルン5から排出することができる。これにより、外熱キルン5に導入するキャリヤガスG1を少量にしてもキルン5a内で揮発した水銀を水銀含有ガスG2として活性炭吸着塔8まで搬送することができ、外熱キルン5、バグフィルタ6及び活性炭吸着塔8に導入するガス量が減少し、これらの装置を小型化して設備コストを低減することができる。
尚、ガス排出部5eとダスト排出部5fとを別々に設けず、水銀含有ガスG2と水銀除去ダストD4との排出部が共通するような外熱キルンを用いることもできる。この場合において、水銀含有ガスG2中の水銀除去ダストD4の濃度が高くなった場合は、集塵装置で水銀除去ダストD4を回収して対応することができる。
集塵装置としてのバグフィルタ6には、900℃程度までの耐熱性を有する高耐熱型、又は通常の耐熱性を有するバグフィルタを使用することができる。水銀含有ダストD3から水銀が除去されたダストの大部分はダスト排出部5fから排出されるが、このダストのうちの一部は水銀含有ガスG2と共にガス排出部5eから排出され、このようなダストはバグフィルタ6において回収される。尚、バグフィルタ6以外の集塵装置を用いることもできる。
ファン7は、水銀含有ガスG3を希釈して水銀含有ガスG3の水銀濃度を活性炭吸着塔8での吸着に適した濃度(1,000mg/m3以下)に調整するために備えられる。ここで、ファン7から供給される空気Aの温度を20℃以上80℃以下にすることで、水銀含有ガスG3を希釈するだけでなく冷却することもでき、活性炭吸着塔8での吸着効率を高めることができる。尚、希釈用ガスであれば空気A以外のものを用いてもよく、例えば、不活性ガスを用いることができる。
水銀回収装置としての活性炭吸着塔8は、水銀希釈ガスG4中の水銀を吸着して回収するために備えられる。活性炭吸着塔8で使用される活性炭としては、市販の活性炭の中で水銀回収能力に特に優れる活性炭を選定することが望ましく、具体的には、水銀吸着用として調整された硫黄添着処理が施されている活性炭が好適である。尚、活性炭吸着塔8以外の水銀回収装置を用いることもできる。
分離装置としての篩分装置9は、外熱キルン5のダスト排出部5fから排出された水銀除去ダストD4と、粉砕媒体Pを篩分けるために備えられる。この篩分装置9には、一般的な振動篩等を用いることができる。また、図示を省略するが、篩分けした粉砕媒体Pをホッパ3に戻すための搬送装置が設けられる。
次に、上記構成を有する水銀含有物質の処理装置1の動作について図1及び図2を参照しながら説明する。
外熱キルン5のジャケット5bに高温ガスを導入してジャケット5bを加熱し、高温になったジャケット5bがキルン5aの外面を加熱し、これによってキルン5aの内部が間接的に加熱される。次に、ホッパ2、3に貯留したキルンダストD1と粉砕媒体Pの各々を、スクリューコンベア4を介してダスト供給部5cからキルン5aに供給する。
ここで、キルン5aに供給する粉砕媒体Pは、球状でキルン5a内の温度(380〜500℃程度)でも溶融しない材質のものが好ましく、例えば、アルミナやCr鋼等を用いることができる。また、この粉砕媒体Pとしては、後述するキルンダストの粉砕効率と、粉砕媒体Pの昇温効率のバランスを考慮し、粒径がφ5mm以上、φ50mm以下のものが好ましい。
キルン5aに供給された水銀含有ダストD3としてのキルンダストは、図2に示すキルン5aの回転に伴って転動しながら、キルン5aの高温となった内面と、キルン5aによって加熱された粉砕媒体Pの表面に接触して加熱され、キルンダストに含まれる水銀が揮発する。
ここで、外熱キルン5の運転の継続と共に、キルン5aの内面にキルンダストが付着し、このダストが成長してダムとなることもあるが、キルン5aの回転によってキルン5a内を転動する粉砕媒体Pが付着ダストを粉砕し、付着ダストの成長を防止することができる。これよって、キルン5a内部でのキルンダストの流動性を安定させることができ、外熱キルン5の安定運転を確保することができる。また、粉砕媒体Pの表面積の分だけキルンダストに接する熱源の面積が増加すると共に、粉砕媒体Pの転動によってキルンダストの撹拌混合が良好に行われ、キルンダストを均一かつ効率的に加熱することができる。
一方、キャリヤガスG1をガス導入部5dからキルン5aに導入し、キルン5a内で揮発している水銀をキャリヤガスG1によりガス排出部5eまで搬送し、これらを水銀含有ガスG2としてガス排出部5eから排出する。さらに、水銀含有ガスG2をバグフィルタ6に導入して集塵ダストD2を回収する。
バグフィルタ6から排出された水銀含有ガスG3にファン7から空気Aを添加し、水銀含有ガスG3を希釈して水銀希釈ガスG4とし、水銀希釈ガスG4中の水銀を活性炭吸着塔8で吸着して回収する。活性炭吸着塔8から排出された水銀除去ガスG5は、適切な排ガス処理をした後大気に放出する。一方、バグフィルタ6で回収した集塵ダストD2は、多少水銀が含まれているため、スクリューコンベア4に戻し、スクリューコンベア4に供給したキルンダストD1と共に水銀含有ダストD3としてダスト供給部5cに供給する。
さらに、水銀含有ダストD3から水銀が除去された水銀除去ダストD4と粉砕媒体Pをダスト排出部5fから排出し、これらを篩分装置9に供給して分離する。篩分装置9から排出した水銀除去ダストD5をセメント原料として利用することができる。ここで、水銀除去ダストD5には水銀がほとんど含まれていないため、これをセメント原料として利用しても、セメントキルン排ガスの水銀濃度を増加させるおそれがない。一方、分離した粉砕媒体Pをホッパ3に戻して再利用する。粉砕媒体Pをキルン5a内で溶融しないものとすることで、そのまま循環利用することができる。
尚、上記実施の形態では、キルンダストD1を処理する場合について説明したが、火力発電所で石炭を燃焼させた際に発生する灰(石炭灰)等の水銀を含む物質であれば、その他の物質を処理することも可能である。
1 水銀含有物質の処理装置
2、3 ホッパ
4 スクリューコンベア
5 外熱キルン
5a キルン
5b ジャケット
5c ダスト供給部
5d ガス導入部
5e ガス排出部
5f ダスト排出部
6 バグフィルタ
7 ファン
8 活性炭吸着塔
9 篩分装置
A 空気
D1 キルンダスト
D2 集塵ダスト
D3 水銀含有ダスト
D4 水銀除去ダスト
G1 キャリヤガス
G2 水銀含有ガス
G3 水銀含有ガス
G4 水銀希釈ガス
G5 水銀除去ガス
P 粉砕媒体
2、3 ホッパ
4 スクリューコンベア
5 外熱キルン
5a キルン
5b ジャケット
5c ダスト供給部
5d ガス導入部
5e ガス排出部
5f ダスト排出部
6 バグフィルタ
7 ファン
8 活性炭吸着塔
9 篩分装置
A 空気
D1 キルンダスト
D2 集塵ダスト
D3 水銀含有ダスト
D4 水銀除去ダスト
G1 キャリヤガス
G2 水銀含有ガス
G3 水銀含有ガス
G4 水銀希釈ガス
G5 水銀除去ガス
P 粉砕媒体
Claims (6)
- 水銀含有物質を加熱して該物質に含まれる水銀を揮発させる外熱キルンと、該外熱キルンから排出される水銀含有ガスから水銀を回収する水銀回収装置とを備える水銀含有物質の処理装置であって、
前記外熱キルンに、該外熱キルンの回転に伴って転動し、該外熱キルンの内面に付着した前記水銀含有物質由来の付着物を粉砕する粉砕媒体を供給する供給装置を備えることを特徴とする水銀含有物質の処理装置。 - 前記外熱キルンから排出される水銀除去物質と粉砕媒体とを分離する分離装置と、
該分離装置によって分離された粉砕媒体を前記外熱キルンに戻す搬送装置とを備えることを特徴とする請求項1に記載の水銀含有物質の処理装置。 - 水銀含有物質を外熱キルンで加熱して該物質に含まれる水銀を揮発させ、該揮発した水銀を含むガスから水銀を回収する水銀含有物質の処理方法であって、
前記外熱キルンに、該外熱キルンの回転に伴って転動し、該外熱キルンの内面に付着した前記水銀含有物質由来の付着物を粉砕する粉砕媒体を供給することを特徴とする水銀含有物質の処理方法。 - 前記外熱キルンから排出される水銀除去物質と粉砕媒体とを分離し、
該分離した粉砕媒体を前記外熱キルンに戻すことを特徴とする請求項3に記載の水銀含有物質の処理方法。 - 前記粉砕媒体として、粒径がφ5mm以上、φ50mm以下のものを用いることを特徴とする請求項3又は4に記載の水銀含有物質の処理方法。
- 前記水銀含有物質は、セメント焼成装置のプレヒータの排ガスから回収したダスト又は火力発電所で石炭を燃焼させた際に発生する灰であって、
前記外熱キルンから排出される水銀除去物質をセメント原料として用いることを特徴とする請求項3、4又は5に記載の水銀含有物質の処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017178637A JP2019051494A (ja) | 2017-09-19 | 2017-09-19 | 水銀含有物質の処理装置及び処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017178637A JP2019051494A (ja) | 2017-09-19 | 2017-09-19 | 水銀含有物質の処理装置及び処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019051494A true JP2019051494A (ja) | 2019-04-04 |
Family
ID=66013692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017178637A Pending JP2019051494A (ja) | 2017-09-19 | 2017-09-19 | 水銀含有物質の処理装置及び処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2019051494A (ja) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0719440A (ja) * | 1993-06-22 | 1995-01-20 | Chichibu Onoda Cement Corp | フライアッシュの処理方法及びその装置 |
JPH07232155A (ja) * | 1994-02-25 | 1995-09-05 | Hitachi Zosen Corp | 飛灰の処理装置 |
JPH08259950A (ja) * | 1995-03-23 | 1996-10-08 | Topy Ind Ltd | 粉砕機構を備えた乾留炉 |
JPH09273725A (ja) * | 1996-04-04 | 1997-10-21 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 廃棄物処理装置 |
JP2010236842A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Kubota Corp | 焼却灰の溶融処理方法と溶融処理設備 |
JP2015166299A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | 住友大阪セメント株式会社 | 排ガスの処理システムおよび排ガスの処理方法 |
JP2016150293A (ja) * | 2015-02-17 | 2016-08-22 | 太平洋セメント株式会社 | 水銀回収システム及び水銀回収方法 |
-
2017
- 2017-09-19 JP JP2017178637A patent/JP2019051494A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0719440A (ja) * | 1993-06-22 | 1995-01-20 | Chichibu Onoda Cement Corp | フライアッシュの処理方法及びその装置 |
JPH07232155A (ja) * | 1994-02-25 | 1995-09-05 | Hitachi Zosen Corp | 飛灰の処理装置 |
JPH08259950A (ja) * | 1995-03-23 | 1996-10-08 | Topy Ind Ltd | 粉砕機構を備えた乾留炉 |
JPH09273725A (ja) * | 1996-04-04 | 1997-10-21 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | 廃棄物処理装置 |
JP2010236842A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Kubota Corp | 焼却灰の溶融処理方法と溶融処理設備 |
JP2015166299A (ja) * | 2014-03-04 | 2015-09-24 | 住友大阪セメント株式会社 | 排ガスの処理システムおよび排ガスの処理方法 |
JP2016150293A (ja) * | 2015-02-17 | 2016-08-22 | 太平洋セメント株式会社 | 水銀回収システム及び水銀回収方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104289513B (zh) | 一种汞污染土壤热脱附处理装置及处理方法 | |
JP5449479B2 (ja) | 石炭乾留装置及びこれを利用する改質石炭製造設備 | |
JP6452484B2 (ja) | 水銀回収システム及び水銀回収方法 | |
JP2013036883A (ja) | 放射性セシウム処理方法 | |
JP5496734B2 (ja) | セメントキルン排ガスの処理装置及び処理方法 | |
US8679234B2 (en) | Heavy metal removing apparatus and cement production system | |
WO2006135047A1 (ja) | セメント製造設備における有機塩素化合物の低減方法、およびセメント製造設備 | |
JP6282054B2 (ja) | セメントキルン排ガスの処理装置及び処理方法 | |
JP2019051494A (ja) | 水銀含有物質の処理装置及び処理方法 | |
JP2005125234A (ja) | セメント製造設備の集塵装置及び集塵方法 | |
JP6392139B2 (ja) | 水銀回収システム | |
JP6845665B2 (ja) | 水銀含有物質の処理方法 | |
JP6446249B2 (ja) | 水銀回収システム及び水銀回収方法 | |
JP4516830B2 (ja) | 汚染土壌の加熱浄化装置 | |
JP2018015688A (ja) | 水銀を吸着した粉粒体の処理装置及び処理方法 | |
JP6912184B2 (ja) | 水銀含有物質の処理装置及び処理方法 | |
JP6366187B2 (ja) | 水銀回収システム及び水銀回収方法 | |
JP6370237B2 (ja) | 水銀回収システム及び水銀回収方法 | |
JP2009203117A (ja) | セメントキルン排ガスの処理装置及び処理方法 | |
JPWO2018131277A1 (ja) | セメントキルン排ガスの水銀低減方法及びその装置 | |
JP5958797B2 (ja) | 揮発性物質の除去装置、及び、除去方法 | |
JP5636717B2 (ja) | セメント製造装置およびセメント製造方法 | |
JP5013598B2 (ja) | 加熱粉砕装置、有害物質の処理システム及び処理方法 | |
JP2016108604A (ja) | 水銀回収装置及び水銀回収方法 | |
JP2000215811A (ja) | 水銀付着ガラスからの水銀回収方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200313 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210518 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20211124 |