JP2016141607A - 半導体ウエハ支持基板 - Google Patents
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Abstract
Description
Xc:結晶化度
Ic:結晶質部分によるX線回折強度の積分値
Ia:非晶質部分によるX線回折強度の積分値
上記構成によれば、弾性率の高い半導体ウエハ支持基板を容易に得ることができる。
Claims (7)
- 結晶化ガラスからなることを特徴とする半導体ウエハ支持基板。
- 主結晶としてβ─石英固溶体が析出している結晶化ガラスからなることを特徴とする請求項1に記載の半導体ウエハ支持基板。
- 結晶化度が質量%で60%以上である結晶化ガラスからなることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体ウエハ支持基板。
- 弾性率が88GPa以上である結晶化ガラスからなることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の半導体ウエハ支持基板。
- ガラス組成として質量%で、SiO2 55〜75%、Al2O3 15〜25%、Li2O 2〜5%、Na2O 0〜1%、K2O 0〜1%、MgO 0〜3%、BaO 0〜2%、TiO2 1〜3%、ZrO2 0〜3%、TiO2+ZrO2 3〜5%、P2O5 0〜3%、SnO2 0.1〜0.5%を含有する結晶化ガラスからなることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の半導体ウエハ支持基板。
- 表面粗さが0.1〜100nmであることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載の半導体ウエハ支持基板。
- 厚みが0.5〜4mmであることを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載の半導体ウエハ支持基板。
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