JP2016126823A - ビーム条件設定装置、及び荷電粒子線装置 - Google Patents
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- 荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを、当該荷電粒子ビームの光軸から離軸するように偏向して、当該光軸に対して前記荷電粒子ビームを傾斜して照射する偏向器、及び傾斜ステージの少なくとも1つを備えた荷電粒子線装置のビーム照射条件を設定する演算装置を備えたビーム条件設定装置において、
前記荷電粒子ビームによる観察点、前記荷電粒子ビームの傾斜角度、及び当該傾斜した荷電粒子ビームの傾斜方向の少なくとも2つの情報を設定する情報設定部を備え、前記演算装置は、前記試料の設計データを参照して、前記少なくとも2つの情報に基づいて設定されるビーム照射軌道が、前記試料上に形成されているパターンに遮蔽されるか否かを判定、或いは前記パターンに遮蔽されない前記荷電粒子ビームの照射角度、及び前記傾斜方向の少なくとも1つを演算することを特徴とするビーム条件設定装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記設定された観察点、及び荷電粒子ビームの傾斜角度と、前記設計データに基づいて、前記荷電粒子ビームが前記観察点に至るまでに、前記パターンに遮蔽されない前記荷電粒子ビームの照射方向、或いは前記パターンに遮蔽される前記荷電粒子ビームの照射方向を求めることを特徴とするビーム条件設定装置。 - 請求項2において、
前記演算装置は、前記パターンに遮蔽されない前記荷電粒子ビームの照射方向を、前記荷電粒子ビームの照射条件として、前記荷電粒子線装置を動作させるときのレシピを作成することを特徴とするビーム条件設定装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記設定された観察点、及び荷電粒子ビームの照射方向と、前記設計データに基づいて、前記荷電粒子ビームが前記観察点に至るまでに、前記パターンに遮蔽されない前記荷電粒子ビームの照射角度、或いは前記パターンに遮蔽される前記荷電粒子ビームの照射角度を求めることを特徴とするビーム条件設定装置。 - 請求項4において、
前記演算装置は、前記パターンに遮蔽されない前記荷電粒子ビームの照射角度を、前記荷電粒子ビームの照射条件として、前記荷電粒子線装置を動作させるときのレシピを作成することを特徴とするビーム条件設定装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記設計データに基づいて、前記試料上に形成されたパターンの三次元モデルを構築し、当該三次元モデルを用いて、前記パターンに遮蔽されない前記荷電粒子ビームの傾斜角度、及び前記照射方向の少なくとも1つを演算することを特徴とするビーム条件設定装置。 - 請求項6において、
前記演算装置は、前記観察点を含む所定領域の大きさが所定の条件を満たす前記荷電粒子ビームの傾斜角度、及び照射方向を選択することを特徴とするビーム条件設定装置。 - 請求項7において、
前記演算装置は、前記観察点を含む所定領域の大きさが、最も大きい、或いは所定の閾値以上の面積となる前記荷電粒子ビームの傾斜角度、及び照射方向を選択することを特徴とするビーム条件設定装置。 - 請求項1において、
前記演算装置は、前記ビームの傾斜角度、及び照射方向について、過去情報がある場合、当該ビーム傾斜角度、及び照射方向を、前記ビーム照射条件として、当該ビーム照射軌道が、前記試料上に形成されているパターンに遮蔽されるか否かを判定することを特徴とするビーム条件設定装置。 - 荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを、当該荷電粒子ビームの光軸から離軸するように偏向して、当該光軸に対して前記荷電粒子ビームを傾斜して照射する偏向器、及び傾斜ステージの少なくとも1つを備え、当該偏向器、及び傾斜ステージの少なくとも1つの条件を演算する演算装置を備えた荷電粒子線装置において、
前記荷電粒子ビームによる観察点、前記荷電粒子ビームの傾斜角度、及び当該傾斜した荷電粒子ビームの傾斜方向の少なくとも2つの情報を設定する情報設定部を備え、前記演算装置は、前記試料の設計データを参照して、前記少なくとも2つの情報に基づいて設定されるビーム照射軌道が、前記試料上に形成されているパターンに遮蔽されるか否かを判定、或いは前記パターンに遮蔽されない前記荷電粒子ビームの照射角度、及び前記傾斜方向の少なくとも1つを演算することを特徴とする荷電粒子線装置。
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