JP2016105459A - 基板処理システム - Google Patents
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Abstract
Description
34 保持プレート
35 基板保持部材
35a 把持部
36a 第1側面部
36b 第2側面部
36c 第3側面部
38 液流案内部
40 処理流体供給部(処理液供給手段)
Claims (12)
- 基板を処理する基板処理システムにおいて、
鉛直軸回りに回転自在に設けられた保持プレートと、
前記保持プレートに設けられ、前記基板を保持する基板保持部材と、
前記基板保持部材に保持された基板を予め決められた方向に回転させる回転駆動部と、
前記基板保持部材に保持された基板に処理液を供給する処理流体供給部と、を備え、
前記基板保持部材は、基板と対向する位置に設けられた第1側面部と前記第1側面部に隣接する第2側面部および第3側面部とを有し、
前記第1側面部は、基板の端面を把持する把持部を有し、
前記第2側面部は、前記第1側面部との間で尖端部を形成し、基板に供給された後の処理液を基板の下方へ案内する液流案内部を備えたことを特徴とする基板処理システム。 - 前記液流案内部は、前記第2側面部の表面から突出しており、前記第1側面部に近い側の下面は基板よりも上方に配置され、前記第1側面部から遠い側の下面は基板よりも下方に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理システム。
- 前記尖端部は、鋭角であることを特徴とする請求項1ないし2に記載の基板処理システム。
- 前記把持部は、第1側面部の表面から突出し、第1側面部の幅よりも狭いことを特徴とする請求項1ないし3に記載の基板処理システム。
- 前記把持部は、第1側面部の表面に凹状に形成したことを特徴とする請求項1ないし3に記載の基板処理システム。
- 前記把持部は、凹状の屈曲部分が前記基板の端縁と接触して前記基板を把持することを特徴とする請求項5に記載の基板処理システム。
- 前記基板保持部材は、平面視において略四角形であって柱状の第1本体部と、平面視において略三角形であって柱状の第2本体部とを備え、
前記第2本体部は、前記第1側面部と前記第2側面部と前記第3側面部とを備え、前記第1側面部と前記第3側面部は、第1本体部の側面と連続して形成され、前記液流案内部を有する第2側面部は、前記第1本体部の対角線に沿って形成されていることを特徴とする請求項1ないし5に記載の基板処理システム。 - 前記基板保持部材は、前記基板を保持する爪部を前記基板の回転方向に間隔をあけて複数設け、少なくともいずれかの爪部に前記第1〜第3側面部を形成したことを特徴とする請求項1ないし7に記載の基板処理システム。
- 前記基板保持部材は、前記基板を保持する爪部を前記基板の回転方向に間隔をあけて複数設け、全ての爪部に前記第1〜第3側面部を形成したことを特徴とする請求項1ないし7に記載の基板処理システム。
- 前記複数の爪部の間隔は、平行に形成されていることを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の基板処理システム。
- 前記複数の爪部の間隔は、後方へ向けて漸次広げて形成されていることを特徴とする請求項8又は請求項9に記載の基板処理システム。
- 前記複数の爪部の間隔は、少なくともいずれかの爪部に形成した前記把持部が前記基板を把持するように形成されていることを特徴とする請求項8ないし11に記載の基板処理システム。
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