JP2016025303A - リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、半導体装置の多面付け体 - Google Patents

リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、半導体装置の多面付け体 Download PDF

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Abstract

【課題】枠体上に形成された不要な樹脂部分を容易に除去することができるリードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、半導体装置の多面付け体を提供する。
【解決手段】リードフレームの多面付け体MSは、枠体F内にリードフレーム10が多面付けされ、リードフレーム10の一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体MSにおいて、枠体Fには、枠体Fの一方の面側から他方の面側に通じる貫通孔Hが形成され、貫通孔Hの開口部は、枠体Fの一方の面側から他方の面側に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されることを特徴とする。
【選択図】図4

Description

本発明は、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、半導体装置の多面付け体に関するものである。
従来、LED素子等の半導体素子は、電気的に絶縁され、周囲に樹脂層を設けた複数の端子部を有するリードフレームに固定され、その上部を封止樹脂層により封止され、半導体装置として基板に実装されていた(例えば、特許文献1)。
このような半導体装置は、多面付けされたリードフレーム(リードフレームの多面付け体)に樹脂層を形成して樹脂付きリードフレームの多面付け体を作製し、半導体素子を電気的に接続し、封止樹脂層を形成した後に、パッケージ単位に個片化することによって同時に複数製造される。
このリードフレームの多面付け体の中には、リードフレームを多面付けする枠体に貫通孔や未貫通の穴が形成されており、この貫通孔等が、加工等のマークとして利用されている。例えば、この貫通孔等は、半導体装置をパッケージ単位に個片化する場合に、多面付けされたリードフレーム間を切断(ダイシング)する刃物の位置決めを行うダイシングマークとして利用される。
この貫通孔等は、リードフレームの母材となる金属板(例えば、銅板)をハーフエッチング加工することによって形成される。そのため、貫通孔が形成された場合は、孔の内壁に複数の突起が形成されてしまったり、表面側の開口部が、裏面側の開口部よりも狭く形成されてしまったりする場合があった(図15参照)。また、未貫通の穴が形成された場合も、穴の内壁に突起が形成されてしまう場合があった。
ここで、リードフレームの多面付け体に樹脂層を形成する場合、リードフレームの多面付け体を成形用金型に配置し、枠体の表面側の端部から多面付けされるリードフレームに向かって樹脂が充填されるため、枠体に形成された貫通孔等の内側にも樹脂が充填されてしまうこととなる。
この枠体上に形成された樹脂は、製品となる樹脂層ではないので、樹脂の硬化後に除去されることとなるが、上述の貫通孔等にも樹脂が充填されていると、樹脂が貫通孔内の突起に引っ掛かり枠体から外せなくなったり、除去する際に枠体やリードフレームが変形したり、貫通孔内に不要な樹脂が残存してしまったりする場合があった。
特開2011−151069号公報
本発明の課題は、枠体上に形成された不要な樹脂部分を容易に除去することができるリードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、半導体装置の多面付け体を提供することである。
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。また、符号を付して説明した構成は、適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替してもよい。
第1の発明は、枠体(F)内にリードフレーム(10)が多面付けされ、前記リードフレームの一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体(MS)において、前記枠体には、前記枠体の一方の面側から他方の面側に通じる貫通孔(H)が形成され、前記貫通孔の開口部は、前記枠体の一方の面側から他方の面側に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第2の発明は、第1の発明のリードフレームの多面付け体(MS)において、前記貫通孔(H)の内壁は、連続した曲面又は平面によって形成されていること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第3の発明は、第1の発明又は第2の発明のリードフレームの多面付け体(MS)において、前記貫通孔(H)は、前記枠体(F)に多面付けされた前記リードフレーム(10)を個片化するダイシングマークであり、前記リードフレームの1パッケージの幅寸法毎に複数形成されること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第4の発明は、枠体(F)内にリードフレーム(10)が多面付けされ、前記リードフレームの一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体(MS)において、前記枠体には、前記枠体の一方の面側又は他方の面側から窪んだ穴(h)が形成され、前記穴の開口部(h1)は、前記枠体の一方の面側又は他方の面側から底面(h2)に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第5の発明は、第4の発明のリードフレームの多面付け体(MS)において、前記穴(h)の内壁は、連続した曲面又は平面によって形成されていること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第6の発明は、第4の発明又は第5の発明のリードフレームの多面付け体(MS)において、前記穴(h)は、前記枠体(F)に多面付けされた前記リードフレーム(10)を個片化するダイシングマークであり、前記リードフレームの1パッケージの幅寸法毎に複数形成されること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第7の発明は、第1の発明から第6の発明までのいずれかのリードフレームの多面付け体(MS)と、少なくとも前記リードフレーム(10)の外周部に形成される樹脂層(20)と、を備える樹脂付きリードフレームの多面付け体(R)である。
第8の発明は、第7の発明の樹脂付きリードフレームの多面付け体(R)と、前記リードフレーム(10)に接続される半導体素子(2)と、前記リードフレームの前記半導体素子が接続される側の面に形成され、前記半導体素子を覆う第2樹脂層(30)と、を備える半導体装置の多面付け体である。
本発明によれば、枠体上に形成された不要な樹脂部分を容易に除去することができる。
第1実施形態の光半導体装置の全体構成を示す図である。 第1実施形態のリードフレームの多面付け体の全体図である。 第1実施形態のリードフレームの多面付け体の詳細を説明する図である。 第1実施形態の枠体の詳細を説明する図である。 第1実施形態の樹脂付きリードフレームの多面付け体の全体図である。 第1実施形態の樹脂付きリードフレームの多面付け体の詳細を説明する図である。 第1実施形態のリードフレームの製造過程を説明する図である。 第1実施形態の光半導体装置の製造過程を説明する図である。 第1実施形態の光半導体装置の多面付け体を示す図である。 樹脂付きリードフレームの多面付け体を製造する金型及びその製造工程を説明する図である。 ゲート樹脂部の除去前の樹脂付きリードフレームの多面付け体を示す図である。 ゲート樹脂部Gの除去前の樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘の詳細を示す図である。 第2実施形態の枠体の詳細を説明する図である。 第3実施形態の枠体の詳細を説明する図である。 比較例の貫通孔を示す図である。
(第1実施形態)
以下、図面等を参照して、本発明の第1実施形態について説明する。
図1は、本実施形態の光半導体装置1の全体構成を示す図である。
図1(a)、図1(b)、図1(c)は、それぞれ、光半導体装置1の平面図、側面図、裏面図を示す。図1(d)は、図1(a)のd−d断面図を示す。
図2は、本実施形態のリードフレームの多面付け体MSの平面図である。
図3は、本実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図3(a)は、リードフレームの多面付け体MSの平面図を示し、図2のa部詳細図である。図3(b)は、リードフレームの多面付け体MSの裏面図を示し、図3(c)、図3(d)は、それぞれ図3(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
図4は、本実施形態の枠体の詳細を説明する図である。図4(a)は、枠体Fの拡大平面図を示しており、図3(a)のa部詳細図である。図4(b)は、図4(a)のb−b断面図を示す。
図5は、本実施形態の樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの全体図である。図5(a)、図5(b)、図5(c)は、それぞれ、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの平面図、裏面図、側面図を示す。
図6は、本実施形態の樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの詳細を説明する図である。図6(a)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの平面図を示し、図5(a)のa部詳細図を示す。図6(b)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの裏面図を示し、図6(c)、図6(d)は、それぞれ図6(a)のc−c断面図と、d−d断面図を示す。
各図において、光半導体装置(リードフレーム)の平面図における端子部11、12の配列方向をX方向とし、リードフレームの平面内におけるX方向に垂直な方向をY方向とし、端子部の厚み方向(XY平面に直交する方向)をZ方向とする。また、リードフレーム等のLED素子が接続される側(+Z側)の面を表面とし、−Z側の面を裏面とする。
光半導体装置1は、外部機器等の基板に取り付けられることによって、実装したLED素子2が発光する照明装置である。光半導体装置1は、図1に示すように、LED素子2(半導体素子)、リードフレーム10、光反射樹脂層20(樹脂層)、透明樹脂層30(第2樹脂層)を備える。
光半導体装置1は、多面付けされたリードフレーム10(リードフレームの多面付け体MS、図2参照)に光反射樹脂層20を形成して樹脂付きリードフレームの多面付け体R(図5参照)を作製し、LED素子2を電気的に接続し、透明樹脂層30を形成して、パッケージ単位に切断(ダイシング)することによって製造される(詳細は後述する)。
LED素子2は、発光層として一般に用いられるLED(発光ダイオード)の素子であり、例えば、GaP、GaAs、GaAlAs、GaAsP、AlInGaP等の化合物半導体単結晶、又は、InGaN等の各種GaN系化合物半導体単結晶からなる材料を適宜選ぶことにより、紫外光から赤外光に渡る発光波長を選択することができる。
リードフレーム10は、一対の端子部、すなわち、LED素子2が載置、接続される端子部11と、ボンディングワイヤ2aを介してLED素子2に接続される端子部12とから構成される。
端子部11、12は、それぞれ導電性のある材料、例えば、銅、銅合金、42合金(Ni40.5%〜43%のFe合金)等により形成されており、本実施形態では、熱伝導及び強度の観点から銅合金から形成されている。
端子部11、12は、図3に示すように、互いに対向する辺の間に空隙部Sが形成されており、電気的に独立している。端子部11、12は、1枚の金属基板(銅版)をプレス又はエッチング加工することにより形成されるため、両者の厚みは同等である。
端子部11は、図1に示すように、その表面にLED素子2が載置、接続されるLED端子面11aが形成され、また、その裏面に外部機器に実装される外部端子面11bが形成される、いわゆるダイパッドを構成する。端子部11は、LED素子2が載置されるため、端子部12に比べ、その外形が大きく形成されている。
端子部12は、その表面にLED素子2のボンディングワイヤ2aが接続されるLED端子面12aが形成され、また、その裏面に外部機器に実装される外部端子面12bが形成される、いわゆるリード側端子部を構成する。
端子部11、12は、その表面及び裏面にめっき層Cが形成されており(図7(e)参照)、表面側のめっき層Cは、LED素子2の発する光を反射する反射層としての機能を有し、裏面側のめっき層Cは、外部機器に実装されるときの半田の溶着性を高める機能を有する。なお、図1〜図6等において、めっき層Cの図示は省略している。
端子部11、12は、図3に示すように、それぞれの裏面側の外周部に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、リードフレーム10の裏面側から見て、各端子部11、12の外周部に形成された窪みであり、その窪みの厚みは、端子部11、12の厚みの1/3〜2/3程度に形成されている。
リードフレーム10は、端子部11、12の周囲や、端子部11、12間の空隙部S等に、光反射樹脂層20を形成する樹脂が充填される場合に、図6に示すように、凹部Mにも樹脂が充填され、光反射樹脂層20と各端子部11、12との接触面積を大きくしている。また、厚み(Z)方向において、リードフレーム10と光反射樹脂層20とを交互に構成することができる。これにより、凹部Mは、光反射樹脂層20が、平面方向(X方向、Y方向)及び厚み方向において、リードフレーム10から剥離してしまうのを抑制することができる。
連結部13は、枠体F内に多面付けされた各リードフレーム10の端子部11、12を、隣接する他のリードフレーム10の端子部や、枠体Fに連結している。連結部13は、多面付けされた各リードフレーム10上にLED素子2等が搭載され、光半導体装置の多面付け体(図9参照)が形成された場合に、リードフレーム10を形成する外形線(図3、図9中の破線)でダイシング(切断)される。
連結部13は、端子部11、12を形成する各辺のうち、端子部11、12が対向する辺を除いた辺に形成されている。
具体的には、連結部13aは、図3(a)に示すように、端子部12の右(+X)側の辺と、右側に隣接する他のリードフレーム10の端子部11の左(−X)側の辺とを接続し、また、端子部11の左側の辺と、左側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の右側の辺とを接続している。枠体Fに隣接する端子部11、12に対しては、連結部13aは、端子部11の左側の辺又は端子部12の右側の辺と、枠体Fとを接続している。
連結部13bは、端子部11の上(+Y)側の辺と、上側に隣接する他のリードフレーム10の端子部11の下(−Y)側の辺とを接続し、また、端子部11の下側の辺と、下側に隣接する他のリードフレーム10の端子部11の上側の辺とを接続する。枠体Fに隣接する端子部11に対しては、連結部13bは、端子部11の上側又は下側の辺と、枠体Fとを接続している。
連結部13cは、端子部12の上側の辺と、上側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の下側の辺とを接続し、また、端子部12の下側の辺と、下側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の上側の辺とを接続する。枠体Fに隣接する端子部12に対しては、連結部13cは、端子部12の上側又は下側の辺と、枠体Fとを接続している。
連結部13dは、端子部11及び端子部12間の空隙部Sの延長上を横切るようにして形成される。ここで、空隙部Sの延長上とは、空隙部Sを上下(Y)方向に延長させた領域をいう。本実施形態では、連結部13dは、一の端子部(12、11)と、その端子部の空隙部Sを挟んだ対向する側に位置し、上又は下に隣接する他のリードフレームの端子部(11、12)とを連結するために、端子部11の上側の辺及び端子部12の下側の辺に対して、傾斜(例えば、45度)した形状に形成される。
具体的には、連結部13dは、端子部12の上側の辺と、上側に隣接する他のリードフレーム10の端子部11の下側の辺とを接続し、また、端子部11の下側の辺と、下側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の上側の辺とを接続する。また、枠体Fに隣接する端子部11、12に対しては、連結部13dは、端子部12の上側の辺又は端子部11の下側の辺と、枠体Fとを接続している。
連結部13dが設けられることによって、リードフレームの多面付け体MSは、光反射樹脂層20を形成する工程において、端子部11と端子部12との間隔がずれたり、各端子部11、12が枠体Fに対して捩れたりするのを抑制することができる。また、連結部13dは、光半導体装置1の空隙部Sの強度を向上させることができ、空隙部Sにおいて破損してしまうのを抑制することができる。
なお、端子部11、12は、連結部13によって、隣り合う他のリードフレーム10の端子部11、12と電気的に導通されるが、光半導体装置1の多面付け体を形成した後に、光半導体装置1(リードフレーム10)の外形(図3(a)の破線)に合わせて各連結部13を切断(ダイシング)することによって絶縁される。また、個片化された場合に、各々の個片を同じ形状にすることができる。
連結部13は、図3(b)、図3(c)に示すように、端子部11、12の厚みよりも薄く、かつ、その表面が端子部11、12の表面と同一平面内に形成されている。具体的には、連結部13は、その裏面が、各端子部11、12の凹部Mの底面(窪んだ部分)と略同一面内に形成されている。これにより、光反射樹脂層20の樹脂が充填された場合に、図6(b)〜図6(d)に示すように、連結部13の裏面にも樹脂が流れ込み、光反射樹脂層20がリードフレーム10から剥離してしまうのを抑制することができる。
また、光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の裏面には、図6(b)に示すように、矩形状の外部端子面11b、12bが表出することとなり、光半導体装置1の外観を向上させることができることに加え、半田で基板に実装する場合に、基板側への半田印刷を容易にしたり、半田を均一に塗布したり、リフロー後に半田内へのボイドの発生を抑制したりすることができる。また、光半導体装置1の面内(XY平面内)の中心線に対して線対称であることから、熱応力等に対する信頼性を向上させることができる。
リードフレームの多面付け体MSは、上述のリードフレーム10を枠体F内に多面付けしたものをいう。本実施形態では、図2及び図3に示すように、縦横に複数個、連結部13によって連結されたリードフレーム10の集合体Pを、複数組(本実施形態では4組、P1〜P4)、左右方向に配列させて枠体F内に形成したものである。
枠体Fは、リードフレーム10の集合体P毎に、リードフレーム10を固定する部材であり、その外形が矩形状に形成される。なお、枠体Fは、1枚の金属基板をプレス加工又はエッチング加工することによってリードフレームとともに形成されるので、その厚みが各端子部の厚みと同等である。
枠体Fには、その矩形状の各辺に、表面側から裏面側に通じる貫通孔Hが複数形成されている。この貫通孔Hは、多面付けされたリードフレーム(光半導体装置)を個片化するために、リードフレームの多面付け体MSに対して切断用の刃物の位置決めを行う加工用のマーク、いわゆるダイシングマークであり、枠体Fの各辺上において、1パッケージの幅寸法毎に形成されている。
ここで、貫通孔Hは、その開口部が、光反射樹脂層20を形成する樹脂が充填される枠体Fの一方の面側から、他方の面側に向かうにつれて狭くなるように形成されており、この貫通孔Hの内壁は、凹凸なく滑らかに形成されている。本実施形態では、光反射樹脂層20を形成する樹脂が枠体Fの表面側から充填されるので(詳細は後述する)、貫通孔Hは、図4に示すように、その開口部が表面側から裏面側に向かうにつれて狭くなるように形成される。
貫通孔Hは、厚み方向(Z方向)から見て、長方形の長手方向の両端に半円をつなぎ合わせた形状、いわゆるレーストラック型の形状に形成されており、表面側の開口部H1が裏面側の開口部H2に比して広く形成されている。
なお、本実施形態では、表面側の開口部H1及び裏面側の開口部H2の半円部分の中心位置が厚み方向から見てそれぞれ重なるように形成されており、0.25mmの枠体Fの厚みに対して、開口部H1の半円部分の半径r1が0.25mm、開口部H2の半円部分の半径r2が0.15mm、半円部分の中心点間の距離lが2.4mmに形成されている。
光反射樹脂層20は、図5及び図6に示すように、フレーム樹脂部20aと、リフレクタ樹脂部20bとから構成される。
フレーム樹脂部20aは、端子部11、12の外周側面(リードフレーム10の外周及び空隙部S)だけでなく、各端子部に設けられた凹部Mや、連結部13の裏面にも形成される。フレーム樹脂部20aは、リードフレーム10の厚みとほぼ同等の厚みに形成されている。
リフレクタ樹脂部20bは、リードフレーム10の表面側(リードフレーム10のLED素子2が接続される側)に突出するように形成され、リードフレーム10に接続されるLED素子2から発光する光の方向等を制御するリフレクタを構成する。このリフレクタ樹脂部20bは、端子部11、12のLED端子面11a、12aを囲むようにして、リードフレーム10の表面側に突出しており、LED端子面11aに接続されるLED素子2から発光する光を反射させて、光半導体装置1から光を効率よく照射させる。
リフレクタ樹脂部20bは、リードフレーム10の多面付け体MSの状態において、その外形が、枠体Fの内周縁に沿うようにして形成されており、その厚み(高さ)寸法が、LED端子面11aに接続されるLED素子2の厚み寸法よりも大きい寸法で形成される。リフレクタ樹脂部20bは、端子部11、12の外周縁に形成されたフレーム樹脂部20aの表面に形成されており、フレーム樹脂部20aと結合している。
光反射樹脂層20は、リードフレーム10に載置されるLED素子2の発する光を反射させるために、光反射特性を有する熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂が用いられる。
光反射樹脂層20を形成する樹脂は、樹脂充填に関しては、樹脂形成時には流動性が高いことが、端子部との接着性に関しては、分子内に反応基を導入しやすいためにリードフレームとの化学接着性を得られることが必要なため、熱硬化性樹脂が望ましい。
例えば、熱可塑性樹脂としては、ポリアミド、ポリフタルアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルサルホン、ポリブチレンテレフタレート、ポリオレフィン等を用いることができる。
また、熱硬化性樹脂としては、シリコーン、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリウレタン及びポリブチレンアクリレート等を用いることができる。
さらに、これらの樹脂中に光反射材として、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素のうちいずれかを添加することによって、光の反射率を増大させることができる。
また、ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂や、アリル基を有する熱可塑性樹脂、複数のアリル基を有する化合物を添加した樹脂を成形した後に、電子線を照射することで架橋させる方法を用いた、いわゆる電子線硬化樹脂を用いてもよい。
透明樹脂層30は、リードフレーム10上に載置されたLED素子2を保護するとともに、発光したLED素子2の光を外部に透過させるために設けられた透明又は略透明に形成された樹脂層である。透明樹脂層30は、光反射樹脂層20のリフレクタ樹脂部20bによって囲まれたLED端子面11a、12a上に形成される。
透明樹脂層30は、光の取り出し効率を向上させるために、LED素子2の発光波長において光透過率が高く、また、屈折率が高い材料を選択するのが望ましい。例えば、耐熱性、耐光性、及び機械的強度が高いという特性を満たす樹脂として、エポキシ樹脂や、シリコーン樹脂を選択することができる。特に、LED素子2に高輝度LED素子を用いる場合、透明樹脂層30は、強い光にさらされるため、高い耐光性を有するシリコーン樹脂からなることが好ましい。また、波長変換用の蛍光体を使用してもよく、透明樹脂に分散させてもよい。
次に、リードフレーム10の製造方法について説明する。
図7は、本実施形態のリードフレーム10の製造過程を説明する図である。
図7(a)は、レジストパターンを形成した金属基板100を示す平面図と、その平面図のa−a断面図とを示す。図7(b)は、エッチング加工されている金属基板100を示す図である。図7(c)は、エッチング加工後の金属基板100を示す図である。図7(d)は、レジストパターンが除去された金属基板100を示す図である。図7(e)は、めっき処理が施された金属基板100を示す図である。
図15は、比較例の枠体F‘を示す図である。図15(a)は、比較例の枠体の詳細を示す平面拡大図であり、図4(a)に対応する図である。図15(b)は、図15(a)のb−b断面図であり、図4(b)に対応する図である。
なお、図7においては、1つのリードフレーム10の製造過程について図示するが、実際には、1枚の金属基板100からリードフレームの多面付け体MSが製造される。
リードフレーム10の製造において、金属基板100を加工してリードフレーム10を形成するが、その加工は、プレス加工でも良いが、薄肉部を形成しやすいエッチング処理が望ましい。以下にエッチング処理によるリードフレーム10の製造方法について説明する。
まず、平板状の金属基板100を用意し、図7(a)に示すように、その表面及び裏面のエッチング加工を施さない部分にレジストパターン40a、40bを形成する。なお、レジストパターン40a、40bの材料及び形成方法は、エッチング用レジストとして従来公知の技術を用いる。
次に、図7(b)に示すように、レジストパターン40a、40bを耐エッチング膜として、金属基板100に腐食液でエッチング処理を施す。腐食液は、使用する金属基板100の材質に応じて適宜選択することができる。本実施形態では、金属基板100として銅板を使用しているため、塩化第二鉄水溶液を使用し、金属基板100の両面からスプレーエッチングすることができる。
ここで、リードフレーム10には、端子部11、12の外周部や、各端子部11、12間の空隙部Sのように貫通した空間と、凹部Mや、連結部13の裏面のように貫通せずに厚みが薄くなった窪んだ空間とが存在する(図3参照)。本実施形態では、金属基板100の板厚の半分程度までをエッチング加工する、いわゆるハーフエッチング処理を主に行う。
端子部11、12の外周部や、空隙部Sに対しては、金属基板100の両面にレジストパターンを形成しないようにし、金属基板100の両面からハーフエッチング処理をして、貫通した空間を形成する。また、凹部Mや、連結部13の裏面に対しては、厚みが薄くなる側とは反対側の面にのみレジストパターンを形成して、レジストパターンがない面のみをハーフエッチング処理をして、窪んだ空間を形成する。
ここで、枠体Fの貫通孔Hは、上述の空隙部Sと同様に貫通した空間であるが、ハーフエッチング処理のように、金属基板100の両面側から加工すると、図15(b)に示すように、貫通孔H‘の内側の壁面に突起Kが形成されてしまうこととなる。
そのため、本実施形態では、枠体Fの貫通孔Hに対してのみハーフエッチング処理ではなく、通常のエッチング処理を適用し、その表面側からのみ腐食液をスプレーして、裏面側に通じる貫通孔Hを形成する。
これにより、枠体Fには、図4に示すように、表面側から裏面側に向かうにつれて開口部が狭くなる貫通孔Hが形成され、その貫通孔Hの内壁は、凹凸が無く滑らかに形成される。
エッチング処理により金属基板100には、図7(c)に示すように、凹部Mが形成された端子部11、12が形成されるとともに、貫通孔Hが形成された枠体Fが形成される。
次に、図7(d)に示すように、金属基板100(リードフレーム10)からレジストパターン40を除去する。
そして、図7(e)に示すように、リードフレーム10が形成された金属基板100にめっき処理を行い、端子部11、12にめっき層Cを形成する。めっき処理は、例えば、シアン化銀を主成分とした銀めっき液を用いた電界めっきを施すことにより行われる。
なお、めっき層Cを形成する前に、例えば、電解脱脂工程、酸洗工程、銅ストライク工程を適宜選択し、その後、電解めっき工程を経てめっき層Cを形成してもよい。
以上により、リードフレーム10が、図2及び図3に示すように、枠体Fに多面付けされた状態で製造される(リードフレームの多面付け体MS)。
次に、光半導体装置1の製造方法について説明する。
図8は、本実施形態の光半導体装置1の製造過程を説明する図である。
図8(a)は、光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の断面図であり、図8(b)は、LED素子2が電気的に接続されたリードフレーム10の断面図を示す。図8(c)は、透明樹脂層30が形成されたリードフレーム10の断面図を示す。図8(d)は、ダイシングにより個片化された光半導体装置1の断面図を示す。
図9は、本実施形態の光半導体装置の多面付け体を示す図である。
なお、図8においては、1台の光半導体装置1の製造過程について図示するが、実際には、1枚の金属基板100から複数の光半導体装置1が製造されるものとする。また、図8(a)〜(d)は、それぞれ図7(a)の断面図に基づくものである。
図8(a)に示すように、金属基板100上にエッチング加工により形成されたリードフレーム10の外周等に上述の光反射特性を有する樹脂を充填し、光反射樹脂層20を形成する。光反射樹脂層20は、射出成形用金型にリードフレーム10(リードフレームの多面付け体MS)をインサートし、樹脂を注入する方法によって形成される(詳細は後述する)。このとき、樹脂は、各端子部11、12の外周側から凹部Mや、連結部13の裏面へと流れ込み、フレーム樹脂部20aが形成されるとともに、リフレクタ樹脂部20bが表面側に形成され、リードフレーム10と接合する。
以上により、図5及び図6に示す樹脂付きのリードフレームの多面付け体Rが形成される。
次に、図8(b)に示すように、端子部11のLED端子面11aに、ダイアタッチペーストや半田等の放熱性接着剤を介してLED素子2を載置し、また、端子部12のLED端子面12aに、ボンディングワイヤ2aを介してLED素子2を電気的に接続する。ここで、LED素子2とボンディングワイヤ2aは複数あってもよく、一つのLED素子2に複数のボンディングワイヤ2aが接続されてもよく、ボンディングワイヤ2aをダイパッドに接続させてもよい。また、LED素子2を載置面で電気的に接続してもよい。ここで、ボンディングワイヤ2aは、例えば、金(Au)、銅(Cu)、銀(Ag)等の導電性の良い材料からなる。
そして、図8(c)に示すように、リードフレームの多面付け体MSの表面にLED素子2を覆うようにして透明樹脂層30を形成する。
透明樹脂層30は平坦な形状のほかレンズ形状、屈折率勾配等、光学的な機能を持たせてもよい。以上により、図9に示すように、光半導体装置の多面付け体が製造される。
最後に、図8(d)に示すように、光半導体装置1の外形に合わせて、光反射樹脂層20及び透明樹脂層30とともに、リードフレーム10の連結部13を切断(ダイシング、パンチング、カッティング等)して、1パッケージに分離(個片化)された光半導体装置1(図1参照)を得る。このとき、切断用の刃物は、ダイシングマークとして枠体Fに設けられた貫通孔Hに対して位置決めされるので、光半導体装置1を適正に個片化させることができる。
次に、上述の図8(a)におけるリードフレーム10に光反射樹脂層20を形成する射出成形処理に使用する成形装置について説明する。
図10は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rを製造する金型及びその製造工程を説明する図である。図10(a)〜図10(c)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rが完成するまでの工程を説明する図である。
図11は、ゲート樹脂部Gの除去前の樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘を示す図である。図11(a)、図11(b)、図11(c)は、それぞれ、樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘の平面図、裏面図、側面図を示す。
図12は、ゲート樹脂部Gの除去前の樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘の詳細を示す図である。図12(a)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体R’の平面図を示し、図11(a)のa部詳細図である。図12(b)は、リードフレームの多面付け体MSの裏面図を示し、図12(c)は、図12(a)のc−c断面図を示す。図12(d)は、図12(a)のd−d断面の拡大図を示す。
成形装置110は、図10(a)に示すように、金型120、ノズル部130等から構成されている。
金型120は、上から順に、ベースプレート121、ストリッパープレート122、固定側モールドベース123(上型)、可動側モールドベース124、イジェクタープレート125等が積層された構成を有する。
ベースプレート121は、ノズル部130から射出された樹脂をストリッパープレート122のスプルー部Uへと導くプレートであり、その表面上のノズル部130と対向する位置に、開口部が半球状に形成されたノズルタッチ部121aが設けられている。
ストリッパープレート122は、金型を成形機の固定側プラテン(図示せず)に固定し、かつ、その表面から裏面に貫通するスプルー部Uが形成されたプレートであり、ベースプレート121のノズルタッチ部121aを介してノズル部130から射出された樹脂を、固定側モールドベース123のランナー部Vへと導く。
なお、スプルー部Uは、射出成形後においてスプルー部Uに残存する樹脂を容易に取り除く観点から、下側の流路径が上側の流路径よりも大きくなるようにテーパー状に形成されている。
固定側モールドベース123は、複数のランナー部Vと、そのランナー部のそれぞれに接続された複数のスプルーランナー部Wとが形成されたプレートである。
ランナー部Vは、固定側モールドベース123の表面上に形成されており、スプルー部Uに対応する位置を中心にして複数本、放射状に形成された樹脂の流路溝であり、スプルー部Uから流し出される樹脂を複数に分岐する。本実施形態では、リードフレームの多面付け体MSが、図2に示すように、4つの集合体Pから形成されており、各集合体PのY方向の両端側から樹脂を充填するために、ランナー部は8本設けられている。
スプルーランナー部Wは、ランナー部Vのスプルー部U側とは反対側の端部に設けられた流路であり、固定側モールドベース123の表面側から裏面側に貫通しており、ランナー部Vに流れる樹脂を可動側モールドベース124側へと導く。本実施形態では、上述したようにランナー部Vが8本設けられているので、スプルーランナー部Wも8本設けられている。
各スプルーランナー部Wは、可動側モールドベース124に配置されるリードフレームの多面付け体MSの集合体PのY方向の端部に対応する位置よりも外側に設けられており、これにより、各集合体PのY方向の各端部側(図2中の+Y端部側、−Y端部側)のそれぞれから樹脂を流し込むことができる。
なお、スプルーランナー部Wは、射出成形後にランナー部V及びスプルーランナー部Wに残存する樹脂を容易に取り除く観点から、上側の流路径が下側の流路径よりも大きくなるようにテーパー状に形成されている。
可動側モールドベース124は、その表面に、リードフレームの多面付け体MSが配置され、配置されたリードフレームの多面付け体MSの周囲に樹脂が流し込まれる金型空間(キャビティ)124aが設けられたプレートである。本実施形態では、リードフレームの多面付け体MSは、その表面(光反射樹脂層20が形成される側の面)が下側を向くようにして金型空間124a内に配置され、その裏面側から樹脂が充填されることによって、光反射樹脂層20が成形される。
なお、金型空間124aは、リードフレームの多面付け体MSの幅よりも広い幅に形成され、配置されたリードフレームの多面付け体MSのY方向の側面側に余剰空間Jが設けられており、スプルーランナー部Wから流入する樹脂をリードフレームの多面付け体MSの側面を介して表面側に効率よく流している。そのため、金型空間124aから取り出された樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘には、図11に示すように、余剰空間Jに対応するようにして、Y方向の側面や枠体Fの表面上にゲート樹脂部Gが形成されることとなる。
イジェクタープレート125は、複数のイジェクターピンQが設けられたプレートであり、イジェクターピンQによって、金型空間124aから被成形体(樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘)を離型する。
イジェクターピンQは、イジェクタープレート125が可動側モールドベース124側に不図示の駆動機構により移動することによって、その先端部が、金型空間124aの底面から突出し、被成形体を金型空間124aから押し出す。イジェクターピンQは、より安定して可動側モールドベース124から被成形体を離型する観点から、複数箇所に設けられているのが望ましい。本実施形態では、イジェクターピンQは、8本設けられ、そのそれぞれが樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘の各ゲート樹脂部Gを押し出すようにしている。ここで、ゲート樹脂部Gは、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの製造後に除去されてしまう部分なので、イジェクターピンQの接触する部分にすることによって、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの製品となる部分に傷等がついてしまうのを回避することができる。
ノズル部130は、樹脂を金型120内へ射出する噴射装置である。
次に、上述の図8(a)におけるリードフレームの多面付け体MSに光反射樹脂層20を形成する射出成形の成形工程について説明する。
まず、作業者は、図10(a)に示すように、固定側モールドベース123及び可動側モールドベース124間にリードフレームの多面付け体MSを配置して、金型120を閉じる(型締め)。
そして、図10(b)に示すように、ノズル部130をベースプレート121のノズルタッチ部121aに配置して、光反射樹脂層20を形成する樹脂を金型120内に射出する。ノズル部130から射出された樹脂は、ストリッパープレート122のスプルー部Uを通過し、固定側モールドベース123のランナー部Vにより8つに均等に分岐され、各スプルーランナー部Wを通過した上で、リードフレームの多面付け体MSが配置された金型空間124a内へと充填される(樹脂充填工程)。このとき、金型空間124a内へ充填された樹脂は、リードフレームの多面付け体MSの側面を介して表面側から、リードフレーム10の外周部や空隙部S等に流れ込むとともに、枠体FのY方向側の端部に設けられた貫通孔H内へも流れ込む。
金型空間124a内に適量の樹脂が充填され、所定の時間保持した後に、作業者は、図10(c)に示すように、固定側モールドベース123を可動側モールドベース124から開き、イジェクターピンQによって、光反射樹脂層20が形成された樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘を可動側モールドベース124から取り出す。
そして、樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘からゲート樹脂部Gや、余分なバリ等を除去することによって、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rが完成する。
ここで、リードフレームの多面付け体MSの枠体Fに設けられた貫通孔Hのうち、枠体FのY方向側の端部に設けられた貫通孔Hには、樹脂が充填されてしまい(図12参照)、その樹脂がゲート樹脂部Gと一体になっている。
上述の比較例の枠体F‘のように、貫通孔H‘の内壁に突起Kが形成されている場合(図15参照)、貫通孔H‘内の樹脂と一体になったゲート樹脂部を枠体F’から引き剥がして除去する際に、ゲート樹脂部が枠体F‘から外せなくなったり、枠体F’やリードフレームが変形したり、樹脂が貫通孔H‘内に残存したりしてしまう場合があった。
しかし、本実施形態の枠体Fの貫通孔Hは、上述したように、ゲート樹脂部Gが形成される表面側から裏面側に向かうにつれて開口部が狭くなるように、表面側の開口部H1が、裏面側の開口部H2よりも広く形成され、貫通孔Hの内壁が、凹凸が無く滑らかに形成されている。ここで、凹凸が無く滑らかに形成されているとは、その内壁が連続した曲面又は平面によって形成されているこという。そのため、ゲート樹脂部Gを枠体Fから引き剥がす場合に、貫通孔H内の樹脂が内壁に引っ掛かってしまうのを回避することができ、円滑にゲート樹脂部Gを枠体Fから除去することができる。
本実施形態の発明には、以下のような効果がある。
(1)本実施形態のリードフレームの多面付け体MSは、貫通孔Hの開口部が、樹脂が充填される枠体Fの一方の面(表面)側から他方の面(裏面)側に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されているので、貫通孔Hの内壁に突起等の凹凸が形成されてしまうのを回避することができる。これにより、貫通孔H内に樹脂が充填されてしまったとしても、不要となるゲート樹脂部Gを枠体Fから容易に引き剥がすことができる。また、ゲート樹脂部Gの除去とともに、不要となる貫通孔H内の樹脂も容易に除去することができる。
(2)枠体Fに設けられた貫通孔は、ダイシングマークとして用いられているので、多面付けされた光半導体装置を効率よく、正確に個片化することができる。
また、上述したように、引き剥がしによる不具合を防ぐことが出来るため、ゲート樹脂部Gの形状を貫通孔H上に配置することができ、ゲート樹脂部Gの主目的である製品部分への樹脂充填の機能を追求した形状とすることができる。
特に、リフレクタ樹脂部20bを有するカップ型の光半導体装置1を形成するリードフレームの多面付け体MSでは、ダイシングマークが光半導体装置(リードフレーム)の各パッケージ間に配置され、このダイシングマークの端子部の配列方向(X方向)とそれに垂直な方向(Y方向)との延長線上に、主要な流路となるリフレクタ樹脂部の表面側への突出部が配置されることになるため、このダイシングマークの上にゲート樹脂部Gによる樹脂の流路が確保できることは、ゲート樹脂部Gが形成される部分と枠体Fよりも内側の領域とにおいて均一な樹脂の充填が可能となり、非常に有用である。
(第2実施形態)
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
図13は、第2実施形態の枠体の詳細を説明する図である。図13(a)は、枠体Fの拡大平面図を示しており、図4(a)に対応する図である。図13(b)は、図13(a)のb部断面図を示す。図13(c)は、枠体の他の形態例を示す図であり、図13(b)に対応する図である。図13(d)は、ゲート樹脂部G等が形成された枠体の他の形態例を示す図であり、図13(c)に対応する図である。
なお、以下の説明及び図面において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
本実施形態のリードフレームの多面付け体MSは、貫通孔Hが形成される代わりに、枠体Fの表面側に未貫通の穴hが形成されている点で、上述の第1実施形態と相違する。
枠体Fは、その矩形状の各辺の表面側に、未貫通の穴hが複数形成されている。この穴hは、多面付けされたリードフレーム(光半導体装置)を個片化するために、リードフレームの多面付け体MSに対して切断用の刃物の位置決めを行う加工用のマーク、いわゆるダイシングマークであり、枠体Fの各辺上において、1パッケージの幅寸法毎に形成されている。
穴hは、図13に示すように、その開口部h1が底面h2に向かうにつれて狭くなるように形成されており、この穴hの内壁は、凹凸なく滑らかに形成されている。ここで、凹凸が無く滑らかに形成されているとは、その内壁が連続した曲面又は平面によって形成されているこという。本実施形態では、穴hは、厚み方向(Z方向)から見て、長方形の長手方向の両端に半円をつなぎ合わせた形状、いわゆるレーストラック型の形状に形成されており、開口部h1が底面h2に比して広くなるように形成されている。
本実施形態のリードフレームの多面付け体が金型内に配置され、光反射樹脂層20を形成する樹脂が金型内に充填された場合、穴h内にも樹脂が充填され、その樹脂がゲート樹脂部と一体となる。
しかし、上述したように、穴hの開口部h1が底面h2に向かうにつれて狭くなるように形成されているので、穴hの内壁に突起等の凹凸が形成されてしまうのを回避することができる。これにより、リードフレームの多面付け体MSに光反射樹脂層20を形成する樹脂が充填され、穴h内に樹脂が充填されたとしても、不要となるゲート樹脂部を枠体Fから容易に引き剥がすことができる。また、ゲート樹脂部の除去とともに穴h内の樹脂も容易に除去することができる。
(第3実施形態)
次に、本発明の第3実施形態について説明する。
図14は、第3実施形態の枠体の詳細を説明する図である。図14(a)は、枠体Fの拡大断面図を示しており、図13(b)に対応する図である。図14(b)は、図14(a)に示す枠体に樹脂が充填され、ゲート樹脂部G及び光反射樹脂層20が形成された状態を示す。
なお、以下の説明及び図面において、前述した各実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
本実施形態のリードフレームの多面付け体MSは、未貫通の穴hが枠体Fの裏面側に形成されている点で、上述の第2実施形態と相違する。
枠体Fは、その矩形状の各辺の裏面側に、未貫通の穴hが複数形成されている。この穴hは、多面付けされたリードフレーム(光半導体装置)を個片化するために、リードフレームの多面付け体MSに対して切断用の刃物の位置決めを行う加工用のマーク、いわゆるダイシングマークであり、枠体Fの各辺上において、1パッケージの幅寸法毎に形成されている。
穴hは、図14(a)に示すように、その開口部h1が底面h2に向かうにつれて狭くなるように形成されており、この穴hの内壁は、凹凸なく滑らかに形成されている。ここで、凹凸が無く滑らかに形成されているとは、その内壁が連続した曲面又は平面によって形成されているこという。本実施形態では、穴hは、厚み方向(Z方向)から見て、長方形の長手方向の両端に半円をつなぎ合わせた形状、いわゆるレーストラック型の形状に形成されており、開口部h1が底面h2に比して広くなるように形成されている。
本実施形態のリードフレームの多面付け体MSが金型内に配置され、光反射樹脂層20を形成する樹脂が金型内に充填された場合、枠体Fの表面側にも樹脂が充填され、ゲート樹脂部Gが形成される。ここで、枠体Fは、穴hが形成された部分が、樹脂の圧力によって、図14(b)に示すように、裏面側(−Z側)に向けて凹んでしまう場合があり、その凹みh‘にも樹脂が充填されることとなる。この凹みh’に充填された樹脂は、ゲート樹脂部Gと一体となるが、凹みh‘の内側が滑らかに形成されるので、不要となるゲート樹脂部G及び凹みh’内の樹脂を容易に枠体Fから引き剥がすことができる。
また、穴hの底面h2が、開口部h1よりも狭く形成されているので、凹みh‘が形成されてしまう面積を極力小さくすることができ、凹みh’内における樹脂の接触面積を減らすことができ、これによっても、ゲート樹脂部G及び凹みh‘内の樹脂の除去をより容易にすることができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、後述する変形形態のように種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。また、実施形態に記載した効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、実施形態に記載したものに限定されない。なお、前述した実施形態及び後述する変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。
(変形形態)
(1)各実施形態において、枠体Fに設けられた貫通孔Hや未貫通の穴hは、多面付けされたリードフレーム(光半導体装置)を1パッケージに個片化するダイシングマークである例を示したが、これに限定されるものでない。例えば、貫通孔Hや穴hは、組立工程における位置決めマークや、アライメントマーク、ダイシング時のブレード摩耗を低減するために設けられるスリット、検査用のマーク等に用いるようにしてもよい。
(2)各実施形態において、貫通孔Hや未貫通の穴hは、レーストラック状に形成される例を説明したが、これに限定されるものでない。貫通孔Hや未貫通の穴hは、例えば、円状や、楕円状、多角形状等に形成されるようにしてもよい。
(3)各実施形態において、半導体素子としてLED素子2をリードフレーム10に接続し、光半導体装置1が製造される例を説明したが、これに限定されるものでなく、トランジスタ等の半導体素子が接続された半導体装置が製造されるようにしてもよい。なお、この場合、半導体素子を封止する樹脂は、透明である必要がなく、適宜不透明な樹脂を使用してもよい。
(4)各実施形態において、金型120のランナー部V及びスプルーランナー部Wは、それぞれ8本設けられる例を示したが、これに限定されるものでなく、リードフレームの多面付け体MSの形状や、集合体Pの数等に応じて適宜8本以外の数を設けるようにしてもよい。
1 光半導体装置
2 LED素子
10 リードフレーム
11 端子部
12 端子部
13 連結部
20 光反射樹脂層
20a フレーム樹脂部
20b リフレクタ樹脂部
30 透明樹脂層
110 成形装置
120 金型
121 ベースプレート
122 ストリッパープレート
123 固定側モールドベース
124 可動側モールドベース
125 イジェクタープレート
130 ノズル部
F 枠体
G ゲート樹脂部
H 貫通孔
h 未貫通の穴
MS リードフレームの多面付け体
P 集合体
R、R‘ 樹脂付きリードフレームの多面付け体

Claims (8)

  1. 枠体内にリードフレームが多面付けされ、前記リードフレームの一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体において、
    前記枠体には、前記枠体の一方の面側から他方の面側に通じる貫通孔が形成され、
    前記貫通孔の開口部は、前記枠体の一方の面側から他方の面側に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されること、
    を特徴とするリードフレームの多面付け体。
  2. 請求項1に記載のリードフレームの多面付け体において、
    前記貫通孔の内壁は、連続した曲面又は平面によって形成されていること、
    を特徴とするリードフレームの多面付け体。
  3. 請求項1又は請求項2に記載のリードフレームの多面付け体において、
    前記貫通孔は、前記枠体に多面付けされた前記リードフレームを個片化するダイシングマークであり、前記リードフレームの1パッケージの幅寸法毎に複数形成されること、
    を特徴とするリードフレームの多面付け体。
  4. 枠体内にリードフレームが多面付けされ、前記リードフレームの一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体において、
    前記枠体には、前記枠体の一方の面側又は他方の面側から窪んだ穴が形成され、
    前記穴の開口部は、前記枠体の一方の面側又は他方の面側から底面に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されること、
    を特徴とするリードフレームの多面付け体。
  5. 請求項4に記載のリードフレームの多面付け体において、
    前記穴の内壁は、連続した曲面又は平面によって形成されていること、
    を特徴とするリードフレームの多面付け体。
  6. 請求項4又は請求項5に記載のリードフレームの多面付け体において、
    前記穴は、前記枠体に多面付けされた前記リードフレームを個片化するダイシングマークであり、前記リードフレームの1パッケージの幅寸法毎に複数形成されること、
    を特徴とするリードフレームの多面付け体。
  7. 請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載のリードフレームの多面付け体と、
    少なくとも前記リードフレームの外周部に形成される樹脂層と、
    を備える樹脂付きリードフレームの多面付け体。
  8. 請求項7に記載の樹脂付きリードフレームの多面付け体と、
    前記リードフレームに接続される半導体素子と、
    前記リードフレームの前記半導体素子が接続される側の面に形成され、前記半導体素子を覆う第2樹脂層と、
    を備える半導体装置の多面付け体。
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