JP2016025303A - リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、半導体装置の多面付け体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】リードフレームの多面付け体MSは、枠体F内にリードフレーム10が多面付けされ、リードフレーム10の一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体MSにおいて、枠体Fには、枠体Fの一方の面側から他方の面側に通じる貫通孔Hが形成され、貫通孔Hの開口部は、枠体Fの一方の面側から他方の面側に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されることを特徴とする。
【選択図】図4
Description
このような半導体装置は、多面付けされたリードフレーム(リードフレームの多面付け体)に樹脂層を形成して樹脂付きリードフレームの多面付け体を作製し、半導体素子を電気的に接続し、封止樹脂層を形成した後に、パッケージ単位に個片化することによって同時に複数製造される。
このリードフレームの多面付け体の中には、リードフレームを多面付けする枠体に貫通孔や未貫通の穴が形成されており、この貫通孔等が、加工等のマークとして利用されている。例えば、この貫通孔等は、半導体装置をパッケージ単位に個片化する場合に、多面付けされたリードフレーム間を切断(ダイシング)する刃物の位置決めを行うダイシングマークとして利用される。
ここで、リードフレームの多面付け体に樹脂層を形成する場合、リードフレームの多面付け体を成形用金型に配置し、枠体の表面側の端部から多面付けされるリードフレームに向かって樹脂が充填されるため、枠体に形成された貫通孔等の内側にも樹脂が充填されてしまうこととなる。
この枠体上に形成された樹脂は、製品となる樹脂層ではないので、樹脂の硬化後に除去されることとなるが、上述の貫通孔等にも樹脂が充填されていると、樹脂が貫通孔内の突起に引っ掛かり枠体から外せなくなったり、除去する際に枠体やリードフレームが変形したり、貫通孔内に不要な樹脂が残存してしまったりする場合があった。
第2の発明は、第1の発明のリードフレームの多面付け体(MS)において、前記貫通孔(H)の内壁は、連続した曲面又は平面によって形成されていること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第3の発明は、第1の発明又は第2の発明のリードフレームの多面付け体(MS)において、前記貫通孔(H)は、前記枠体(F)に多面付けされた前記リードフレーム(10)を個片化するダイシングマークであり、前記リードフレームの1パッケージの幅寸法毎に複数形成されること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第4の発明は、枠体(F)内にリードフレーム(10)が多面付けされ、前記リードフレームの一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体(MS)において、前記枠体には、前記枠体の一方の面側又は他方の面側から窪んだ穴(h)が形成され、前記穴の開口部(h1)は、前記枠体の一方の面側又は他方の面側から底面(h2)に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第5の発明は、第4の発明のリードフレームの多面付け体(MS)において、前記穴(h)の内壁は、連続した曲面又は平面によって形成されていること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第6の発明は、第4の発明又は第5の発明のリードフレームの多面付け体(MS)において、前記穴(h)は、前記枠体(F)に多面付けされた前記リードフレーム(10)を個片化するダイシングマークであり、前記リードフレームの1パッケージの幅寸法毎に複数形成されること、を特徴とするリードフレームの多面付け体である。
第7の発明は、第1の発明から第6の発明までのいずれかのリードフレームの多面付け体(MS)と、少なくとも前記リードフレーム(10)の外周部に形成される樹脂層(20)と、を備える樹脂付きリードフレームの多面付け体(R)である。
第8の発明は、第7の発明の樹脂付きリードフレームの多面付け体(R)と、前記リードフレーム(10)に接続される半導体素子(2)と、前記リードフレームの前記半導体素子が接続される側の面に形成され、前記半導体素子を覆う第2樹脂層(30)と、を備える半導体装置の多面付け体である。
以下、図面等を参照して、本発明の第1実施形態について説明する。
図1は、本実施形態の光半導体装置1の全体構成を示す図である。
図1(a)、図1(b)、図1(c)は、それぞれ、光半導体装置1の平面図、側面図、裏面図を示す。図1(d)は、図1(a)のd−d断面図を示す。
図2は、本実施形態のリードフレームの多面付け体MSの平面図である。
図3は、本実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図3(a)は、リードフレームの多面付け体MSの平面図を示し、図2のa部詳細図である。図3(b)は、リードフレームの多面付け体MSの裏面図を示し、図3(c)、図3(d)は、それぞれ図3(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
図4は、本実施形態の枠体の詳細を説明する図である。図4(a)は、枠体Fの拡大平面図を示しており、図3(a)のa部詳細図である。図4(b)は、図4(a)のb−b断面図を示す。
図5は、本実施形態の樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの全体図である。図5(a)、図5(b)、図5(c)は、それぞれ、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの平面図、裏面図、側面図を示す。
図6は、本実施形態の樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの詳細を説明する図である。図6(a)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの平面図を示し、図5(a)のa部詳細図を示す。図6(b)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの裏面図を示し、図6(c)、図6(d)は、それぞれ図6(a)のc−c断面図と、d−d断面図を示す。
各図において、光半導体装置(リードフレーム)の平面図における端子部11、12の配列方向をX方向とし、リードフレームの平面内におけるX方向に垂直な方向をY方向とし、端子部の厚み方向(XY平面に直交する方向)をZ方向とする。また、リードフレーム等のLED素子が接続される側(+Z側)の面を表面とし、−Z側の面を裏面とする。
光半導体装置1は、多面付けされたリードフレーム10(リードフレームの多面付け体MS、図2参照)に光反射樹脂層20を形成して樹脂付きリードフレームの多面付け体R(図5参照)を作製し、LED素子2を電気的に接続し、透明樹脂層30を形成して、パッケージ単位に切断(ダイシング)することによって製造される(詳細は後述する)。
LED素子2は、発光層として一般に用いられるLED(発光ダイオード)の素子であり、例えば、GaP、GaAs、GaAlAs、GaAsP、AlInGaP等の化合物半導体単結晶、又は、InGaN等の各種GaN系化合物半導体単結晶からなる材料を適宜選ぶことにより、紫外光から赤外光に渡る発光波長を選択することができる。
端子部11、12は、それぞれ導電性のある材料、例えば、銅、銅合金、42合金(Ni40.5%〜43%のFe合金)等により形成されており、本実施形態では、熱伝導及び強度の観点から銅合金から形成されている。
端子部11、12は、図3に示すように、互いに対向する辺の間に空隙部Sが形成されており、電気的に独立している。端子部11、12は、1枚の金属基板(銅版)をプレス又はエッチング加工することにより形成されるため、両者の厚みは同等である。
端子部12は、その表面にLED素子2のボンディングワイヤ2aが接続されるLED端子面12aが形成され、また、その裏面に外部機器に実装される外部端子面12bが形成される、いわゆるリード側端子部を構成する。
端子部11、12は、その表面及び裏面にめっき層Cが形成されており(図7(e)参照)、表面側のめっき層Cは、LED素子2の発する光を反射する反射層としての機能を有し、裏面側のめっき層Cは、外部機器に実装されるときの半田の溶着性を高める機能を有する。なお、図1〜図6等において、めっき層Cの図示は省略している。
凹部Mは、リードフレーム10の裏面側から見て、各端子部11、12の外周部に形成された窪みであり、その窪みの厚みは、端子部11、12の厚みの1/3〜2/3程度に形成されている。
連結部13は、端子部11、12を形成する各辺のうち、端子部11、12が対向する辺を除いた辺に形成されている。
連結部13cは、端子部12の上側の辺と、上側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の下側の辺とを接続し、また、端子部12の下側の辺と、下側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の上側の辺とを接続する。枠体Fに隣接する端子部12に対しては、連結部13cは、端子部12の上側又は下側の辺と、枠体Fとを接続している。
具体的には、連結部13dは、端子部12の上側の辺と、上側に隣接する他のリードフレーム10の端子部11の下側の辺とを接続し、また、端子部11の下側の辺と、下側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の上側の辺とを接続する。また、枠体Fに隣接する端子部11、12に対しては、連結部13dは、端子部12の上側の辺又は端子部11の下側の辺と、枠体Fとを接続している。
また、光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の裏面には、図6(b)に示すように、矩形状の外部端子面11b、12bが表出することとなり、光半導体装置1の外観を向上させることができることに加え、半田で基板に実装する場合に、基板側への半田印刷を容易にしたり、半田を均一に塗布したり、リフロー後に半田内へのボイドの発生を抑制したりすることができる。また、光半導体装置1の面内(XY平面内)の中心線に対して線対称であることから、熱応力等に対する信頼性を向上させることができる。
枠体Fは、リードフレーム10の集合体P毎に、リードフレーム10を固定する部材であり、その外形が矩形状に形成される。なお、枠体Fは、1枚の金属基板をプレス加工又はエッチング加工することによってリードフレームとともに形成されるので、その厚みが各端子部の厚みと同等である。
枠体Fには、その矩形状の各辺に、表面側から裏面側に通じる貫通孔Hが複数形成されている。この貫通孔Hは、多面付けされたリードフレーム(光半導体装置)を個片化するために、リードフレームの多面付け体MSに対して切断用の刃物の位置決めを行う加工用のマーク、いわゆるダイシングマークであり、枠体Fの各辺上において、1パッケージの幅寸法毎に形成されている。
貫通孔Hは、厚み方向(Z方向)から見て、長方形の長手方向の両端に半円をつなぎ合わせた形状、いわゆるレーストラック型の形状に形成されており、表面側の開口部H1が裏面側の開口部H2に比して広く形成されている。
なお、本実施形態では、表面側の開口部H1及び裏面側の開口部H2の半円部分の中心位置が厚み方向から見てそれぞれ重なるように形成されており、0.25mmの枠体Fの厚みに対して、開口部H1の半円部分の半径r1が0.25mm、開口部H2の半円部分の半径r2が0.15mm、半円部分の中心点間の距離lが2.4mmに形成されている。
フレーム樹脂部20aは、端子部11、12の外周側面(リードフレーム10の外周及び空隙部S)だけでなく、各端子部に設けられた凹部Mや、連結部13の裏面にも形成される。フレーム樹脂部20aは、リードフレーム10の厚みとほぼ同等の厚みに形成されている。
リフレクタ樹脂部20bは、リードフレーム10の表面側(リードフレーム10のLED素子2が接続される側)に突出するように形成され、リードフレーム10に接続されるLED素子2から発光する光の方向等を制御するリフレクタを構成する。このリフレクタ樹脂部20bは、端子部11、12のLED端子面11a、12aを囲むようにして、リードフレーム10の表面側に突出しており、LED端子面11aに接続されるLED素子2から発光する光を反射させて、光半導体装置1から光を効率よく照射させる。
光反射樹脂層20を形成する樹脂は、樹脂充填に関しては、樹脂形成時には流動性が高いことが、端子部との接着性に関しては、分子内に反応基を導入しやすいためにリードフレームとの化学接着性を得られることが必要なため、熱硬化性樹脂が望ましい。
例えば、熱可塑性樹脂としては、ポリアミド、ポリフタルアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルサルホン、ポリブチレンテレフタレート、ポリオレフィン等を用いることができる。
また、熱硬化性樹脂としては、シリコーン、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリウレタン及びポリブチレンアクリレート等を用いることができる。
さらに、これらの樹脂中に光反射材として、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素のうちいずれかを添加することによって、光の反射率を増大させることができる。
また、ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂や、アリル基を有する熱可塑性樹脂、複数のアリル基を有する化合物を添加した樹脂を成形した後に、電子線を照射することで架橋させる方法を用いた、いわゆる電子線硬化樹脂を用いてもよい。
透明樹脂層30は、光の取り出し効率を向上させるために、LED素子2の発光波長において光透過率が高く、また、屈折率が高い材料を選択するのが望ましい。例えば、耐熱性、耐光性、及び機械的強度が高いという特性を満たす樹脂として、エポキシ樹脂や、シリコーン樹脂を選択することができる。特に、LED素子2に高輝度LED素子を用いる場合、透明樹脂層30は、強い光にさらされるため、高い耐光性を有するシリコーン樹脂からなることが好ましい。また、波長変換用の蛍光体を使用してもよく、透明樹脂に分散させてもよい。
図7は、本実施形態のリードフレーム10の製造過程を説明する図である。
図7(a)は、レジストパターンを形成した金属基板100を示す平面図と、その平面図のa−a断面図とを示す。図7(b)は、エッチング加工されている金属基板100を示す図である。図7(c)は、エッチング加工後の金属基板100を示す図である。図7(d)は、レジストパターンが除去された金属基板100を示す図である。図7(e)は、めっき処理が施された金属基板100を示す図である。
図15は、比較例の枠体F‘を示す図である。図15(a)は、比較例の枠体の詳細を示す平面拡大図であり、図4(a)に対応する図である。図15(b)は、図15(a)のb−b断面図であり、図4(b)に対応する図である。
なお、図7においては、1つのリードフレーム10の製造過程について図示するが、実際には、1枚の金属基板100からリードフレームの多面付け体MSが製造される。
次に、図7(b)に示すように、レジストパターン40a、40bを耐エッチング膜として、金属基板100に腐食液でエッチング処理を施す。腐食液は、使用する金属基板100の材質に応じて適宜選択することができる。本実施形態では、金属基板100として銅板を使用しているため、塩化第二鉄水溶液を使用し、金属基板100の両面からスプレーエッチングすることができる。
端子部11、12の外周部や、空隙部Sに対しては、金属基板100の両面にレジストパターンを形成しないようにし、金属基板100の両面からハーフエッチング処理をして、貫通した空間を形成する。また、凹部Mや、連結部13の裏面に対しては、厚みが薄くなる側とは反対側の面にのみレジストパターンを形成して、レジストパターンがない面のみをハーフエッチング処理をして、窪んだ空間を形成する。
そのため、本実施形態では、枠体Fの貫通孔Hに対してのみハーフエッチング処理ではなく、通常のエッチング処理を適用し、その表面側からのみ腐食液をスプレーして、裏面側に通じる貫通孔Hを形成する。
これにより、枠体Fには、図4に示すように、表面側から裏面側に向かうにつれて開口部が狭くなる貫通孔Hが形成され、その貫通孔Hの内壁は、凹凸が無く滑らかに形成される。
そして、図7(e)に示すように、リードフレーム10が形成された金属基板100にめっき処理を行い、端子部11、12にめっき層Cを形成する。めっき処理は、例えば、シアン化銀を主成分とした銀めっき液を用いた電界めっきを施すことにより行われる。
なお、めっき層Cを形成する前に、例えば、電解脱脂工程、酸洗工程、銅ストライク工程を適宜選択し、その後、電解めっき工程を経てめっき層Cを形成してもよい。
以上により、リードフレーム10が、図2及び図3に示すように、枠体Fに多面付けされた状態で製造される(リードフレームの多面付け体MS)。
図8は、本実施形態の光半導体装置1の製造過程を説明する図である。
図8(a)は、光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の断面図であり、図8(b)は、LED素子2が電気的に接続されたリードフレーム10の断面図を示す。図8(c)は、透明樹脂層30が形成されたリードフレーム10の断面図を示す。図8(d)は、ダイシングにより個片化された光半導体装置1の断面図を示す。
図9は、本実施形態の光半導体装置の多面付け体を示す図である。
なお、図8においては、1台の光半導体装置1の製造過程について図示するが、実際には、1枚の金属基板100から複数の光半導体装置1が製造されるものとする。また、図8(a)〜(d)は、それぞれ図7(a)の断面図に基づくものである。
以上により、図5及び図6に示す樹脂付きのリードフレームの多面付け体Rが形成される。
透明樹脂層30は平坦な形状のほかレンズ形状、屈折率勾配等、光学的な機能を持たせてもよい。以上により、図9に示すように、光半導体装置の多面付け体が製造される。
最後に、図8(d)に示すように、光半導体装置1の外形に合わせて、光反射樹脂層20及び透明樹脂層30とともに、リードフレーム10の連結部13を切断(ダイシング、パンチング、カッティング等)して、1パッケージに分離(個片化)された光半導体装置1(図1参照)を得る。このとき、切断用の刃物は、ダイシングマークとして枠体Fに設けられた貫通孔Hに対して位置決めされるので、光半導体装置1を適正に個片化させることができる。
図10は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rを製造する金型及びその製造工程を説明する図である。図10(a)〜図10(c)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rが完成するまでの工程を説明する図である。
図11は、ゲート樹脂部Gの除去前の樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘を示す図である。図11(a)、図11(b)、図11(c)は、それぞれ、樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘の平面図、裏面図、側面図を示す。
図12は、ゲート樹脂部Gの除去前の樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘の詳細を示す図である。図12(a)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体R’の平面図を示し、図11(a)のa部詳細図である。図12(b)は、リードフレームの多面付け体MSの裏面図を示し、図12(c)は、図12(a)のc−c断面図を示す。図12(d)は、図12(a)のd−d断面の拡大図を示す。
金型120は、上から順に、ベースプレート121、ストリッパープレート122、固定側モールドベース123(上型)、可動側モールドベース124、イジェクタープレート125等が積層された構成を有する。
ベースプレート121は、ノズル部130から射出された樹脂をストリッパープレート122のスプルー部Uへと導くプレートであり、その表面上のノズル部130と対向する位置に、開口部が半球状に形成されたノズルタッチ部121aが設けられている。
なお、スプルー部Uは、射出成形後においてスプルー部Uに残存する樹脂を容易に取り除く観点から、下側の流路径が上側の流路径よりも大きくなるようにテーパー状に形成されている。
ランナー部Vは、固定側モールドベース123の表面上に形成されており、スプルー部Uに対応する位置を中心にして複数本、放射状に形成された樹脂の流路溝であり、スプルー部Uから流し出される樹脂を複数に分岐する。本実施形態では、リードフレームの多面付け体MSが、図2に示すように、4つの集合体Pから形成されており、各集合体PのY方向の両端側から樹脂を充填するために、ランナー部は8本設けられている。
なお、スプルーランナー部Wは、射出成形後にランナー部V及びスプルーランナー部Wに残存する樹脂を容易に取り除く観点から、上側の流路径が下側の流路径よりも大きくなるようにテーパー状に形成されている。
イジェクターピンQは、イジェクタープレート125が可動側モールドベース124側に不図示の駆動機構により移動することによって、その先端部が、金型空間124aの底面から突出し、被成形体を金型空間124aから押し出す。イジェクターピンQは、より安定して可動側モールドベース124から被成形体を離型する観点から、複数箇所に設けられているのが望ましい。本実施形態では、イジェクターピンQは、8本設けられ、そのそれぞれが樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘の各ゲート樹脂部Gを押し出すようにしている。ここで、ゲート樹脂部Gは、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの製造後に除去されてしまう部分なので、イジェクターピンQの接触する部分にすることによって、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの製品となる部分に傷等がついてしまうのを回避することができる。
ノズル部130は、樹脂を金型120内へ射出する噴射装置である。
まず、作業者は、図10(a)に示すように、固定側モールドベース123及び可動側モールドベース124間にリードフレームの多面付け体MSを配置して、金型120を閉じる(型締め)。
そして、図10(b)に示すように、ノズル部130をベースプレート121のノズルタッチ部121aに配置して、光反射樹脂層20を形成する樹脂を金型120内に射出する。ノズル部130から射出された樹脂は、ストリッパープレート122のスプルー部Uを通過し、固定側モールドベース123のランナー部Vにより8つに均等に分岐され、各スプルーランナー部Wを通過した上で、リードフレームの多面付け体MSが配置された金型空間124a内へと充填される(樹脂充填工程)。このとき、金型空間124a内へ充填された樹脂は、リードフレームの多面付け体MSの側面を介して表面側から、リードフレーム10の外周部や空隙部S等に流れ込むとともに、枠体FのY方向側の端部に設けられた貫通孔H内へも流れ込む。
そして、樹脂付きリードフレームの多面付け体R‘からゲート樹脂部Gや、余分なバリ等を除去することによって、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rが完成する。
上述の比較例の枠体F‘のように、貫通孔H‘の内壁に突起Kが形成されている場合(図15参照)、貫通孔H‘内の樹脂と一体になったゲート樹脂部を枠体F’から引き剥がして除去する際に、ゲート樹脂部が枠体F‘から外せなくなったり、枠体F’やリードフレームが変形したり、樹脂が貫通孔H‘内に残存したりしてしまう場合があった。
しかし、本実施形態の枠体Fの貫通孔Hは、上述したように、ゲート樹脂部Gが形成される表面側から裏面側に向かうにつれて開口部が狭くなるように、表面側の開口部H1が、裏面側の開口部H2よりも広く形成され、貫通孔Hの内壁が、凹凸が無く滑らかに形成されている。ここで、凹凸が無く滑らかに形成されているとは、その内壁が連続した曲面又は平面によって形成されているこという。そのため、ゲート樹脂部Gを枠体Fから引き剥がす場合に、貫通孔H内の樹脂が内壁に引っ掛かってしまうのを回避することができ、円滑にゲート樹脂部Gを枠体Fから除去することができる。
(1)本実施形態のリードフレームの多面付け体MSは、貫通孔Hの開口部が、樹脂が充填される枠体Fの一方の面(表面)側から他方の面(裏面)側に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されているので、貫通孔Hの内壁に突起等の凹凸が形成されてしまうのを回避することができる。これにより、貫通孔H内に樹脂が充填されてしまったとしても、不要となるゲート樹脂部Gを枠体Fから容易に引き剥がすことができる。また、ゲート樹脂部Gの除去とともに、不要となる貫通孔H内の樹脂も容易に除去することができる。
(2)枠体Fに設けられた貫通孔は、ダイシングマークとして用いられているので、多面付けされた光半導体装置を効率よく、正確に個片化することができる。
また、上述したように、引き剥がしによる不具合を防ぐことが出来るため、ゲート樹脂部Gの形状を貫通孔H上に配置することができ、ゲート樹脂部Gの主目的である製品部分への樹脂充填の機能を追求した形状とすることができる。
特に、リフレクタ樹脂部20bを有するカップ型の光半導体装置1を形成するリードフレームの多面付け体MSでは、ダイシングマークが光半導体装置(リードフレーム)の各パッケージ間に配置され、このダイシングマークの端子部の配列方向(X方向)とそれに垂直な方向(Y方向)との延長線上に、主要な流路となるリフレクタ樹脂部の表面側への突出部が配置されることになるため、このダイシングマークの上にゲート樹脂部Gによる樹脂の流路が確保できることは、ゲート樹脂部Gが形成される部分と枠体Fよりも内側の領域とにおいて均一な樹脂の充填が可能となり、非常に有用である。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
図13は、第2実施形態の枠体の詳細を説明する図である。図13(a)は、枠体Fの拡大平面図を示しており、図4(a)に対応する図である。図13(b)は、図13(a)のb部断面図を示す。図13(c)は、枠体の他の形態例を示す図であり、図13(b)に対応する図である。図13(d)は、ゲート樹脂部G等が形成された枠体の他の形態例を示す図であり、図13(c)に対応する図である。
なお、以下の説明及び図面において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
枠体Fは、その矩形状の各辺の表面側に、未貫通の穴hが複数形成されている。この穴hは、多面付けされたリードフレーム(光半導体装置)を個片化するために、リードフレームの多面付け体MSに対して切断用の刃物の位置決めを行う加工用のマーク、いわゆるダイシングマークであり、枠体Fの各辺上において、1パッケージの幅寸法毎に形成されている。
本実施形態のリードフレームの多面付け体が金型内に配置され、光反射樹脂層20を形成する樹脂が金型内に充填された場合、穴h内にも樹脂が充填され、その樹脂がゲート樹脂部と一体となる。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。
図14は、第3実施形態の枠体の詳細を説明する図である。図14(a)は、枠体Fの拡大断面図を示しており、図13(b)に対応する図である。図14(b)は、図14(a)に示す枠体に樹脂が充填され、ゲート樹脂部G及び光反射樹脂層20が形成された状態を示す。
なお、以下の説明及び図面において、前述した各実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
枠体Fは、その矩形状の各辺の裏面側に、未貫通の穴hが複数形成されている。この穴hは、多面付けされたリードフレーム(光半導体装置)を個片化するために、リードフレームの多面付け体MSに対して切断用の刃物の位置決めを行う加工用のマーク、いわゆるダイシングマークであり、枠体Fの各辺上において、1パッケージの幅寸法毎に形成されている。
また、穴hの底面h2が、開口部h1よりも狭く形成されているので、凹みh‘が形成されてしまう面積を極力小さくすることができ、凹みh’内における樹脂の接触面積を減らすことができ、これによっても、ゲート樹脂部G及び凹みh‘内の樹脂の除去をより容易にすることができる。
(1)各実施形態において、枠体Fに設けられた貫通孔Hや未貫通の穴hは、多面付けされたリードフレーム(光半導体装置)を1パッケージに個片化するダイシングマークである例を示したが、これに限定されるものでない。例えば、貫通孔Hや穴hは、組立工程における位置決めマークや、アライメントマーク、ダイシング時のブレード摩耗を低減するために設けられるスリット、検査用のマーク等に用いるようにしてもよい。
2 LED素子
10 リードフレーム
11 端子部
12 端子部
13 連結部
20 光反射樹脂層
20a フレーム樹脂部
20b リフレクタ樹脂部
30 透明樹脂層
110 成形装置
120 金型
121 ベースプレート
122 ストリッパープレート
123 固定側モールドベース
124 可動側モールドベース
125 イジェクタープレート
130 ノズル部
F 枠体
G ゲート樹脂部
H 貫通孔
h 未貫通の穴
MS リードフレームの多面付け体
P 集合体
R、R‘ 樹脂付きリードフレームの多面付け体
Claims (8)
- 枠体内にリードフレームが多面付けされ、前記リードフレームの一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体において、
前記枠体には、前記枠体の一方の面側から他方の面側に通じる貫通孔が形成され、
前記貫通孔の開口部は、前記枠体の一方の面側から他方の面側に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されること、
を特徴とするリードフレームの多面付け体。 - 請求項1に記載のリードフレームの多面付け体において、
前記貫通孔の内壁は、連続した曲面又は平面によって形成されていること、
を特徴とするリードフレームの多面付け体。 - 請求項1又は請求項2に記載のリードフレームの多面付け体において、
前記貫通孔は、前記枠体に多面付けされた前記リードフレームを個片化するダイシングマークであり、前記リードフレームの1パッケージの幅寸法毎に複数形成されること、
を特徴とするリードフレームの多面付け体。 - 枠体内にリードフレームが多面付けされ、前記リードフレームの一方の面側から樹脂が充填されるリードフレームの多面付け体において、
前記枠体には、前記枠体の一方の面側又は他方の面側から窪んだ穴が形成され、
前記穴の開口部は、前記枠体の一方の面側又は他方の面側から底面に向かうにつれて徐々に狭くなるように形成されること、
を特徴とするリードフレームの多面付け体。 - 請求項4に記載のリードフレームの多面付け体において、
前記穴の内壁は、連続した曲面又は平面によって形成されていること、
を特徴とするリードフレームの多面付け体。 - 請求項4又は請求項5に記載のリードフレームの多面付け体において、
前記穴は、前記枠体に多面付けされた前記リードフレームを個片化するダイシングマークであり、前記リードフレームの1パッケージの幅寸法毎に複数形成されること、
を特徴とするリードフレームの多面付け体。 - 請求項1から請求項6までのいずれか1項に記載のリードフレームの多面付け体と、
少なくとも前記リードフレームの外周部に形成される樹脂層と、
を備える樹脂付きリードフレームの多面付け体。 - 請求項7に記載の樹脂付きリードフレームの多面付け体と、
前記リードフレームに接続される半導体素子と、
前記リードフレームの前記半導体素子が接続される側の面に形成され、前記半導体素子を覆う第2樹脂層と、
を備える半導体装置の多面付け体。
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