JP2016025128A - 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子ビーム描画装置100は、試料216が載置されるステージ105と、電子ビーム200を出射する電子銃201、電子子ビームの軌道を制御する偏向電極を備えた主偏向器208および副偏向器209が配置された電子鏡筒102と、電子鏡筒102内にオゾンを導入するオゾン発生器161を有する。主偏向器208には、偏向電圧を印加させるDACアンプユニット133と、負の直流電圧を印加させるDF電源ユニット134とが接続し、偏向電圧と負の直流電圧とが併せて印加される。主偏向器208は、静電レンズを兼ねるとともに、負の直流電圧の印加による、オゾンからの正イオンの引き付け効果を示す。
【選択図】図1
Description
荷電粒子ビームを出射する荷電粒子銃と、荷電粒子ビームの軌道を制御する複数の偏向電極からなる偏向器とが配置された電子鏡筒と、
電子鏡筒内にオゾンを導入するオゾン導入機構と、
複数の偏向電極に、荷電粒子ビームを偏向する偏向電圧を印加する第1の電圧供給手段と、
複数の偏向電極に、同一の負の直流電圧を印加する第2の電圧供給手段とを有し、
試料の描画中、偏向器の複数の偏向電極には、偏向電圧と負の直流電圧とを併せて負となる電圧が印加されることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置に関する。
荷電粒子ビームの照射位置を合わせるために試料に向けてその荷電粒子ビームを照射する工程と、
偏向器の複数の偏向電極に同一の負の直流電圧を印加して、荷電粒子ビームの照射位置測定をする工程と、
偏向器の複数の偏向電極に偏向電圧を印加し、荷電粒子ビームの照射位置にずれが生じないことを確認する工程と、
荷電粒子ビーム描画装置内にオゾンを導入しながら、偏向器の複数の偏向電極に、偏向電圧と負の直流電圧とを併せて負となる電圧を印加し、試料への荷電粒子ビーム描画を行う描画工程と
を有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法に関する。
以下に示す本発明の実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。すなわち、荷電粒子ビーム描画装置の一例として、荷電粒子銃の例である電子銃を備えた電子ビーム描画装置の構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限定するものではなく、イオンビーム等の他の荷電粒子を用いたビームでも構わない。
電子鏡筒102内へのオゾンガスの導入は、例えば、電子鏡筒102の成形偏向器205と第2の成形アパーチャ206との間の領域に向けて行われることが好ましい。成形偏向器205の下部は十分に小さい開口のため、オゾンガスは、導入の後、副偏向器209および主偏向器208のある下流側に拡散することができる。
次に、本発明の第2実施形態の荷電粒子ビーム描画方法について説明するが、荷電粒子ビームの一例として、電子ビームを用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限定するものではなく、イオンビーム等の他の荷電粒子を用いたビームでも構わない。
102 電子鏡筒
103 描画室
105 ステージ
106 反射ミラー
110 制御計算機
120 偏向制御回路
121 偏向量演算部
124 偏向信号生成部
132,133 DACアンプユニット
134 DF電源ユニット
144 記憶装置
145 レーザ測長機
150 描画部
160 制御部
161 オゾン発生器
162 真空ポンプ
163 ピエゾバルブ
164 圧力計
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203 第1の成形アパーチャ
204 投影レンズ
205 成形偏向器
206 第2の成形アパーチャ
207 対物レンズ
208 主偏向器
209 副偏向器
212 ブランキング偏向器
214 ブランキングアパーチャ
216 試料
51 描画されるパターン
52 フレーム領域
53 副偏向領域
Claims (6)
- 試料が載置されるステージと、
荷電粒子ビームを出射する荷電粒子銃と、前記荷電粒子ビームの軌道を制御する複数の偏向電極からなる偏向器とが配置された電子鏡筒と、
前記電子鏡筒内にオゾンを導入するオゾン導入機構と、
前記複数の偏向電極に、前記荷電粒子ビームを偏向する偏向電圧を印加する第1の電圧供給手段と、
前記複数の偏向電極に、同一の負の直流電圧を印加する第2の電圧供給手段とを有し、
前記試料の描画中、前記複数の偏向電極には、前記偏向電圧と前記負の直流電圧とを併せて負となる電圧が印加されることを特徴とする荷電粒子ビーム描画装置。 - 前記偏向電極は、前記第2の電圧供給によって前記負の直流電圧が印加されて、静電レンズを兼ねた偏向電極を構成することを特徴とする請求項1に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 前記第2の電圧供給手段によって前記偏向電極に印加される負の直流電圧は、前記第1の電圧供給手段によって印加される前記偏向電圧より大きな絶対値を有することを特徴とする請求項1または2に記載の荷電粒子ビーム描画装置。
- 荷電粒子ビームを出射する荷電粒子銃と、複数の偏向電極からなる偏向器とが配置された荷電粒子ビーム描画装置内にオゾンを導入する工程と、
前記荷電粒子ビームの照射位置を合わせるために試料に向けて該荷電粒子ビームを照射する工程と、
前記偏向器の複数の偏向電極に同一の負の直流電圧を印加して、前記荷電粒子ビームの照射位置測定をする工程と、
前記偏向器の複数の偏向電極に偏向電圧を印加し、前記荷電粒子ビームの照射位置にずれが生じないことを確認する工程と、
前記荷電粒子ビーム描画装置内にオゾンを導入しながら、前記偏向器の複数の偏向電極に、偏向電圧と前記負の直流電圧とを併せて負となる電圧を印加し、前記試料への荷電粒子ビーム描画を行う描画工程と
を有することを特徴とする荷電粒子ビーム描画方法。 - 前記荷電粒子ビーム描画装置内には、さらに、前記荷電粒子ビームの照射位置を合わせるための電磁レンズが配置され、
前記荷電粒子ビームの照射位置にずれが生じないことを確認する工程の前に、
前記電磁レンズと前記偏向器とを用い、前記荷電粒子ビームの所望の照射位置を実現しながら、該偏向器の複数の偏向電極に印加される前記負の直流電圧がより大きな値となるように調整する工程を設けることを特徴とする請求項4に記載の荷電粒子ビーム描画方法。 - 前記描画工程で前記偏向電極に印加される前記負の直流電圧は、該描画工程で該偏向電極に印加される偏向電圧より大きな絶対値を有することを特徴とする請求項4または5に記載の荷電粒子ビーム描画方法。
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