JP2016024287A - Antireflection article and image display device - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection article with a moth-eye structure that has reduced glare compared with conventional one.SOLUTION: There is provided an antireflection article 1 having fine projections 5 arranged tightly close to each other, where the interval between the adjacent fine projections 5 is equal to or less than the minimum wavelength of a wavelength band of an electromagnetic wave designed to prevent reflection, the antireflection article 1 including a light diffusion layer 7 including light diffusion particles.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下の間隔で多数の微小突起を密接配置して反射防止を図る反射防止物品に関するものである。   The present invention relates to an antireflection article for preventing reflection by closely arranging a large number of minute protrusions at intervals equal to or shorter than the shortest wavelength of an electromagnetic wave wavelength band for preventing reflection.

近年、フィルム形状の反射防止物品である反射防止フィルムに関して、透明基材（透明フィルム）の表面に多数の微小突起を密接して配置することにより、反射防止を図る方法が提案されている（特許文献１〜３参照）。この方法は、いわゆるモスアイ（ｍｏｔｈ ｅｙｅ（蛾の目））構造の原理を利用したものであり、入射光に対する屈折率を基板の厚み方向に連続的に変化させ、これにより屈折率の不連続界面を消失させて反射防止を図るものである。   In recent years, regarding an antireflection film, which is a film-shaped antireflection article, there has been proposed a method for preventing reflection by arranging a large number of microprotrusions closely on the surface of a transparent substrate (transparent film) (patent) References 1-3). This method utilizes the principle of a so-called moth-eye structure, and the refractive index for incident light is continuously changed in the thickness direction of the substrate, whereby a discontinuous interface of refractive index is obtained. Is eliminated to prevent reflection.

このモスアイ構造に係る反射防止物品では、隣接する微小突起の間隔ｄが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎ以下（ｄ≦Λｍｉｎ）となるように、微小突起が密接して配置される。また各微小突起は、透明基材に植立するように、さらに透明基材より先端側に向かうに従って徐々に断面積が小さくなるように（先細りとなるように）作製される。   In the antireflection article according to this moth-eye structure, the microprojections are closely arranged so that the distance d between adjacent microprojections is equal to or less than the shortest wavelength Λmin (d ≦ Λmin) of the wavelength band of the electromagnetic wave to prevent reflection. The Moreover, each microprotrusion is produced so that a cross-sectional area may become small gradually toward the front end side from a transparent base material so that it may be planted on a transparent base material.

また特許文献４にはこの種の反射防止物品に関して、微小突起の作成周期に比して大きな周期によりうねりを呈するように微小突起の付け根部分を作成した構成が開示されている。またこの特許文献４には、賦型用樹脂を使用した賦型処理により基材の表面に微小突起を作成してこの種の反射防止物品を作成する構成が開示されている。   Further, Patent Document 4 discloses a configuration in which the base portion of the microprojection is formed so as to exhibit undulation with a period larger than that of the microprojection with respect to this type of antireflection article. Further, this Patent Document 4 discloses a configuration in which this type of antireflection article is created by creating minute protrusions on the surface of a substrate by a molding process using a molding resin.

ところで従来の反射防止フィルムを粘着剤等により画像表示パネルの表面に貼り付け、画像表示パネルを点灯させると、ぎらつきが発生する場合がある。このぎらつきは、シンチレーションとも呼ばれ、反射防止フィルムの表面での反射光と、ディスプレイの内部光の干渉により発生すると考えられ、ディスプレイの内部構造や画素サイズにも依存する。このぎらつきは、反射防止フィルムにＡＲ（Anti-Reflection）層、ＡＧ（Anti-Glare）層を備えた基材を使用すると一般に観察される現象であり、かつ画素が小さいほど明確に視認されることが判明している。   By the way, when a conventional antireflection film is attached to the surface of the image display panel with an adhesive or the like and the image display panel is turned on, glare may occur. This glare, also called scintillation, is thought to occur due to interference between the reflected light on the surface of the antireflection film and the internal light of the display, and also depends on the internal structure of the display and the pixel size. This glare is a phenomenon generally observed when a base material having an anti-reflection film with an AR (Anti-Reflection) layer and an AG (Anti-Glare) layer is used. It has been found.

特開昭５０−７００４０号公報Japanese Patent Laid-Open No. 50-70040 特表２００３−５３１９６２号公報Special Table 2003-531962 特許第４６３２５８９号公報Japanese Patent No. 4632589 特許第４７９４３５１号公報Japanese Patent No. 4794351

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、モスアイ構造の反射防止物品に関して、従来に比して一段とぎらつきを低減することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to further reduce glare as compared with the conventional antireflection article having a moth-eye structure.

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、光拡散粒子を備えた光拡散層を設ける、との着想に至り、本発明を完成するに至った。   The inventor has conducted extensive research to solve the above problems, and has come to the idea that a light diffusion layer provided with light diffusion particles is provided, thereby completing the present invention.

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。     Specifically, the present invention provides the following.

（１） 微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品において、
光拡散粒子を備えた光拡散層を備える。 (1) In an antireflection article in which microprotrusions are closely arranged, and an interval between the adjacent microprotrusions is equal to or less than the shortest wavelength of the wavelength band of electromagnetic waves for antireflection,
A light diffusion layer including light diffusion particles is provided.

（１）によれば、光拡散層によりぎらつきに係る成分を散乱させて、ぎらつきを低減することができる。   According to (1), it is possible to reduce the glare by scattering the component related to the glare by the light diffusion layer.

（２） （１）において、
透明フィルム材による基材の表面に、前記光拡散層、前記微小突起が順次作製された。 (2) In (1),
The light diffusion layer and the fine protrusions were sequentially formed on the surface of the base material made of a transparent film material.

（２）によれば、基材の表面に光拡散層を作成した後、微小突起を作成して、又は微小突起の作製に供する賦型樹脂層に光拡散粒子を混入して反射防止物品を作成することができる。   According to (2), after creating the light diffusion layer on the surface of the base material, the microprojections are created, or the light diffusing particles are mixed into the shaping resin layer used for the production of the microprojections. Can be created.

（３） （１）において、透明フィルム材による基材の表面に前記微小突起が作製され、前記基材の前記微小突起とは逆側面に、前記光拡散層が作製された。   (3) In (1), the microprotrusions were produced on the surface of the base material made of a transparent film material, and the light diffusion layer was produced on the side surface opposite to the microprotrusions of the base material.

（３）によれば、光拡散層を作成してなる透明フィルム材を有効に利用して、反射防止物品を作製することができる。   According to (3), it is possible to produce an antireflection article by effectively using a transparent film material formed by forming a light diffusion layer.

（４） （１）又は（２）において、前記微小突起は、賦型用金型を使用した賦型用樹脂の賦型処理により作製され、
前記光拡散層は、前記賦型用樹脂に前記光拡散粒子が混入されて、前記微小突起と一体に作製された。 (4) In (1) or (2), the microprotrusions are produced by a molding process of a molding resin using a molding mold,
The light diffusing layer was produced integrally with the microprotrusions by mixing the light diffusing particles in the shaping resin.

（４）によれば、微小突起と一体に光拡散層を作製して、効率良く反射防止物品を作製することができる。   According to (4), it is possible to produce an antireflection article efficiently by producing a light diffusion layer integrally with the fine protrusions.

（５） （１）、（２）、（３）、（４）の何れかに記載の反射防止物品を、画像表示パネルのパネル面に配置した画像表示装置。   (5) An image display device in which the antireflection article according to any one of (1), (2), (3), and (4) is disposed on the panel surface of the image display panel.

（５）によれば、従来に比して一段とぎらつきを低減してなるモスアイ構造による反射防止フィルムを備えた画像表示装置を提供することができる。   According to (5), it is possible to provide an image display device including an antireflection film having a moth-eye structure in which glare is further reduced as compared with the conventional case.

モスアイ構造の反射防止物品に関して、従来に比して一段とぎらつきを低減することができる。   With respect to the antireflection article having the moth-eye structure, glare can be further reduced as compared with the conventional art.

本発明の第１実施形態に係る反射防止物品を示す概念斜視図である。1 is a conceptual perspective view showing an antireflection article according to a first embodiment of the present invention. 図１の反射防止物品に係る多峰性微小突起の詳細を示す図である。It is a figure which shows the detail of the multimodal microprotrusion which concerns on the antireflection article | item of FIG. 多峰性微小突起の写真である。It is a photograph of multimodal microprotrusions. 隣接突起の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of an adjacent protrusion. 極大点の説明に供する図である。It is a figure where it uses for description of the maximum point. ドロネー図を示す図である。It is a figure which shows a Delaunay figure. 隣接突起間距離の計測に供する度数分布図である。It is a frequency distribution diagram used for measurement of the distance between adjacent protrusions. 微小突起の高さの説明に供する度数分布図である。It is a frequency distribution diagram used for description of the height of the minute protrusions. 微小突起の高さの分布の説明に供する度数分布図である。It is a frequency distribution diagram used for description of the distribution of the height of the microprojections. 微小突起の高さの分布の計測結果を示す図表である。It is a graph which shows the measurement result of distribution of the height of a microprotrusion. 図１の反射防止物品の製造工程を示す図である。It is a figure which shows the manufacturing process of the antireflection article | item of FIG. 図１の反射防止物品に係るロール版を示す図である。It is a figure which shows the roll plate which concerns on the reflection preventing article of FIG. 図１２のロール版の作製工程を示す図である。It is a figure which shows the preparation processes of the roll plate of FIG. 陽極酸化処理とエッチング処理との詳細説明に供する図である。It is a figure where it uses for detailed description of an anodizing process and an etching process. 本発明の第２実施形態に係る反射防止物品を示す概念斜視図である。It is a conceptual perspective view which shows the reflection preventing article which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第３実施形態に係る反射防止物品を示す概念斜視図である。It is a conceptual perspective view which shows the reflection preventing article which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 実施例の計測結果を示す図である。It is a figure which shows the measurement result of an Example. 包絡面がうねりを呈する場合の例を示す図である。It is a figure which shows the example in case an envelope surface exhibits a wave | undulation.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態を詳述する。なお以下において、適宜、頂点を複数有する微小突起を多峰性微小突起と呼び、頂点が１つのみの微小突起を単峰性の微小突起と呼ぶ。また以下において、単に微小突起と呼称する場合は単峰性微小突起及び多峰性微小突起の両方を包含するものとする。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following, a microprotrusion having a plurality of vertices will be referred to as a multimodal microprotrusion, and a microprotrusion having only one apex will be referred to as a unimodal microprotrusion. Further, in the following, when simply referred to as a microprojection, both a single-peak microprojection and a multimodal microprojection are included.

〔第１実施形態〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る反射防止物品を示す図（概念斜視図）である。この反射防止物品１は、全体形状がフィルム形状により形成された反射防止フィルムである。この実施形態に係る画像表示装置では、この反射防止物品１が画像表示パネルの視聴者側面（パネル面）に貼り付けられて保持され、この反射防止物品１により日光、電燈光等の外来光の画面における反射を低減して視認性を向上する。 [First Embodiment]
FIG. 1 is a diagram (conceptual perspective view) showing an antireflection article according to a first embodiment of the present invention. This antireflection article 1 is an antireflection film whose overall shape is formed by a film shape. In the image display device according to this embodiment, the antireflection article 1 is attached to and held on the viewer side surface (panel surface) of the image display panel, and the antireflection article 1 prevents external light such as sunlight and electric light. Visibility is improved by reducing reflection on the screen.

ここで反射防止物品１は、透明フィルムの形状（形態）の基材２の表面に多数の微小突起５、５Ａ、５Ｂを密接配置して作製される。ここで基材２は、例えばＴＡＣ（Triacetylcellulose）、等のセルロース(纖維素)系樹脂、ＰＭＭＡ(ポリメチルメタクリレート)等のアクリル系樹脂、ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）等のポリエステル系樹脂、ＰＰ（ポリプロピレン）等のポリオレフィン系樹脂、ＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）等のビニル系樹脂、ＰＣ（Polycarbonate）等の各種透明樹脂フィルムを適用することができる。   Here, the antireflection article 1 is produced by closely arranging a large number of minute protrusions 5, 5 </ b> A, 5 </ b> B on the surface of the base material 2 in the shape (form) of a transparent film. Here, the base material 2 is, for example, a cellulose resin such as TAC (Triacetylcellulose), an acrylic resin such as PMMA (polymethyl methacrylate), a polyester resin such as PET (Polyethylene terephthalate), or PP (polypropylene). Polyolefin resins such as PVC, vinyl resins such as PVC (polyvinyl chloride), and various transparent resin films such as PC (polycarbonate) can be applied.

反射防止物品１は、基材２上に、微小突起群からなる微細な凹凸形状の受容層となる未硬化状態の樹脂層（いわゆる賦型樹脂層であり、適宜、受容層とも呼ぶ）を形成し、該受容層を賦型処理して硬化せしめ、これにより基材２の表面に微小突起が密接して配置される。この実施形態では、この受容層４に、賦型処理に供する賦型用樹脂の１つであるアクリレート系紫外線硬化性樹脂が適用され、基材２上に紫外線硬化性樹脂層により受容層４が形成される。反射防止物品１は、この微小突起による凹凸形状により厚み方向に徐々に屈折率が変化するように作製され、モスアイ構造の原理により広い波長範囲で入射光の反射を低減する。   The antireflective article 1 forms an uncured resin layer (a so-called shaping resin layer, which is also referred to as a receiving layer as appropriate), which becomes a fine uneven receiving layer made of a group of minute protrusions, on a substrate 2. Then, the receiving layer is subjected to a molding treatment and cured, whereby the fine protrusions are arranged in close contact with the surface of the substrate 2. In this embodiment, an acrylate ultraviolet curable resin, which is one of the molding resins used for the molding process, is applied to the receptor layer 4, and the receptor layer 4 is formed on the substrate 2 by the ultraviolet curable resin layer. It is formed. The antireflection article 1 is manufactured so that the refractive index gradually changes in the thickness direction due to the uneven shape by the microprotrusions, and reduces the reflection of incident light in a wide wavelength range by the principle of the moth-eye structure.

この実施形態において、反射防止物品１は、基材２の表面に、受容層４の密着力を強化する下地層３が作製される。ここで下地層３は、基材２と受容層４に係る樹脂材料との密着力を強化することが可能な各種の材料層を広く適用できるものの、この実施形態ではハードコート層の作製に使用するアクリル系の樹脂が適用される。   In this embodiment, in the antireflection article 1, the base layer 3 that reinforces the adhesion of the receiving layer 4 is produced on the surface of the substrate 2. Here, the base layer 3 can be widely applied to various material layers capable of strengthening the adhesion between the base material 2 and the resin material related to the receiving layer 4, but in this embodiment, it is used for producing a hard coat layer. Acrylic resin is applied.

さらにこの実施形態において、受容層４の作製に供する紫外線硬化性樹脂には、光拡散粒子が混入される。ここでこの光拡散粒子は、この反射防止物品において、反射防止に供する最短波長に比して十分に大きく、透過光を散乱可能な大きさにより作製され、その結果、微小突起５の付け根部分より各段に大きな大きさにより構成される。より具体的に、光拡散粒子は、粒径２μｍ以上、１０μｍ以下により構成される。これにより反射防止物品１は、後述する賦型処理により微小突起５を作製して、微小突起５の付け根側に光拡散粒子が混入してなる光拡散層４Ａが構成されると共に、この光拡散層４Ａの上に微小突起５が作製され、これにより透明フィルム材による基材２の表面に、光拡散層４Ａ、微小突起５が順次作製され、光拡散粒子を備えた光拡散層を備えるように構成される。   Further, in this embodiment, light diffusing particles are mixed in the ultraviolet curable resin used for producing the receiving layer 4. Here, in the antireflection article, the light diffusing particles are sufficiently large as compared with the shortest wavelength to be used for antireflection, and have a size capable of scattering the transmitted light. Each stage has a large size. More specifically, the light diffusing particles have a particle size of 2 μm or more and 10 μm or less. As a result, the antireflection article 1 is formed with a light diffusing layer 4A in which the microprotrusions 5 are produced by a shaping process described later, and the light diffusing particles are mixed on the base side of the microprotrusions 5. The microprotrusions 5 are formed on the layer 4A, whereby the light diffusing layer 4A and the microprotrusions 5 are sequentially formed on the surface of the substrate 2 made of a transparent film material so that the light diffusing layer including the light diffusing particles is provided. Configured.

このように光拡散層４Ａを設ける場合には、この光拡散層４Ａにより、ぎらつきの発生原因である反射防止物品１の表面での反射光、画像表示パネルの内部光を散乱させて、これら反射光、内部光の干渉を低減することができ、その結果、従来に比してぎらつきを低減することができる。またこのように光拡散層４Ａを設ける場合にあっては、従来に比して写り込みを低減することができ、一段とモスアイ構造に係る反射防止物品について、外来光の反射防止物品による品位の低下を防止することができる。   When the light diffusing layer 4A is provided in this way, the light diffusing layer 4A scatters the reflected light on the surface of the antireflection article 1 that causes glare and the internal light of the image display panel. Interference between light and internal light can be reduced, and as a result, glare can be reduced as compared with the prior art. Further, in the case where the light diffusion layer 4A is provided in this way, the reflection can be reduced as compared with the conventional case, and the quality of the antireflection article according to the moth-eye structure is further deteriorated by the antireflection article of the external light. Can be prevented.

ここでぎらつきにあっては、各サブ画素（色画素）の大きさにも依存し、各サブ画素にあっては正面視して長方形形状により作製されていることにより、この長方形形状に係る短辺の長さの２．７％以上、１４％以下の大きさにより光拡散粒子の粒径が構成される。またこの光拡散粒子は、添加量が少ない場合には十分にぎらつきを低減できないのに対し、添加量が多すぎる場合には、却ってさらつき感が生じるようになる。そこで光拡散粒子は、光拡散層４Ａに対して重量比により２割以上、５割以下、添加される。またこのように添加量を設定しても、光拡散層４Ａの厚みが薄い場合には、十分に透過光を拡散し得ず、ぎらつきが発生するのに対し、光拡散層４Ａの厚みが厚い場合には、透過光の拡散が過ぎることになる。これによりこの実施形態において、光拡散層４Ａは厚み５μｍ以上、５０μｍ以下により構成される。なお光拡散粒子にあっては、受容層を構成する樹脂材料に対して屈折率の異なるアクリル系等の樹脂材料、シリカに代表される白色の材料等、種々の材料を広く適用することができる。   Here, the glare depends on the size of each sub-pixel (color pixel), and each sub-pixel has a rectangular shape when viewed from the front. The particle size of the light diffusing particles is constituted by the size of 2.7% or more and 14% or less of the length of the short side. In addition, the light diffusing particles cannot sufficiently reduce the glare when the addition amount is small, whereas when the addition amount is too large, the light diffusing particles have a feeling of stickiness. Therefore, the light diffusion particles are added to the light diffusion layer 4A in an amount of 20% to 50% by weight ratio. Even if the addition amount is set in this way, if the thickness of the light diffusion layer 4A is thin, the transmitted light cannot be sufficiently diffused and glare occurs, whereas the thickness of the light diffusion layer 4A is When it is thick, the transmitted light is too diffused. Thus, in this embodiment, the light diffusion layer 4A is configured with a thickness of 5 μm or more and 50 μm or less. For the light diffusion particles, various materials such as an acrylic resin material having a refractive index different from that of the resin material constituting the receiving layer, and a white material typified by silica can be widely applied. .

これらによりこの実施形態では、モスアイ構造による反射防止機能を充分に確保した上で、ぎらつきを低減し、さらには写り込みを低減する。   As a result, in this embodiment, the anti-reflection function by the moth-eye structure is sufficiently secured, glare is reduced, and reflection is further reduced.

〔微小突起の形状〕
反射防止物品１では、単峰性微小突起と多峰性微小突起５Ａ、５Ｂとが混在するように設定される。ここで多峰性微小突起５Ａ、５Ｂは、頂点を複数有する微小突起であり、単峰性微小突起は、頂点が１つのみの微小突起である。これによりこの実施形態では、反射防止物品の耐擦傷性を向上する。 [Shape of microprojection]
In the antireflection article 1, the single-peak microprojections and the multi-peak microprojections 5A and 5B are set to be mixed. Here, the multimodal microprotrusions 5A and 5B are microprotrusions having a plurality of apexes, and the single-peak microprotrusions are microprotrusions having only one apex. Thereby, in this embodiment, the scratch resistance of the antireflection article is improved.

すなわち図２は、この多峰性微小突起５Ａ、５Ｂ及び単峰性微小突起の説明に供する図である。なおこの図２は、理解を容易にするために模式的に示す図であり、図２（ａ）は、連続する微小突起の頂点を結ぶ折れ線により断面を取って示す図である。この図２（ｂ）及び（ｃ）において、ｘｙ方向は、基材２の面内方向であり、ｚ方向は微小突起の高さ方向である。   That is, FIG. 2 is a diagram for explaining the multimodal microprotrusions 5A and 5B and the single-peak microprotrusions. Note that FIG. 2 is a diagram schematically showing for easy understanding, and FIG. 2A is a diagram showing a cross section by a broken line connecting the vertices of continuous minute protrusions. 2 (b) and 2 (c), the xy direction is the in-plane direction of the substrate 2, and the z direction is the height direction of the microprojections.

反射防止物品１において、多くの微小突起５は、基材２より離れて頂点に向かうに従って徐々に断面積（高さ方向に直交する面（図２においてＸＹ平面と平行な面）で切断した場合の断面積）が小さくなって、頂点が１つにより作製される。しかしながら中には、複数の微小突起が結合したかのように、先端部分に溝ｇが形成され、頂点が２つになったもの（５Ａ）、頂点が３つになったもの（５Ｂ）、さらには頂点が４つ以上のもの（図示略）を存在させることができる。単峰性微小突起５の形状は、概略、回転放物面の様な頂部の丸い形状、或いは円錐の様な頂点の尖った形状で近似することができる。一方、多峰性微小突起５Ａ、５Ｂの形状は、概略、単峰性微小突起５の頂部近傍に溝状の凹部を切り込んで、頂部を複数の峰に分割したような形状で近似される。   In the antireflection article 1, many microprotrusions 5 are gradually cut in a cross-sectional area (a plane perpendicular to the height direction (a plane parallel to the XY plane in FIG. 2)) as they move away from the base material 2 toward the top. The cross-sectional area) is reduced, and one vertex is produced. However, in some cases, as if a plurality of microprotrusions were combined, a groove g was formed at the tip, and the apex was two (5A), the apex was three (5B), Furthermore, there can be one having four or more vertices (not shown). The shape of the unimodal microprotrusions 5 can be approximated by a round shape at the top, such as a paraboloid of revolution, or a sharp shape at the apex, such as a cone. On the other hand, the shape of the multimodal microprotrusions 5A and 5B is approximately approximated by a shape in which a groove-shaped recess is cut in the vicinity of the top of the single-peak microprotrusion 5 and the top is divided into a plurality of peaks.

このような頂点を複数有する多峰性微小突起は、単峰性微小突起に比して、頂点近傍の寸法に対する裾の部分の太さが相対的に太く、多峰性微小突起に比して周長が長い。これにより、多峰性微小突起は、単峰性微小突起に比して機械的強度が優れていると言える。これにより頂点を複数有する多峰性微小突起が存在する場合、反射防止物品では、単峰性微小突起のみによる場合に比して耐擦傷性が向上することになる。具体的に反射防止物品に外力が加わった場合、単峰性微小突起のみの場合に比して、外力をより多くの頂点で分散して受ける為、各頂点に加わる外力を低減し、微小突起が損傷し難いようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができる。更に、多峰性微小突起は、外力を先ず各峰部分が受止めて犠牲的に損傷することによって、該多峰性微小突起の峰より低い本体部分、及び該多峰性微小突起よりも高さの低い微小突起の損耗を防ぐことができる。これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。   The multimodal microprotrusions having a plurality of vertices are relatively thicker at the hem than the unimodal microprotrusions, compared to the multimodal microprotrusions. Long perimeter. Thereby, it can be said that the multimodal microprotrusions are superior in mechanical strength to the single-peak microprotrusions. As a result, when multi-peaked microprojections having a plurality of vertices are present, the anti-reflective article has improved scratch resistance compared to the case of using only single-peaked microprojections. Specifically, when external force is applied to the anti-reflective article, the external force is distributed and received at more vertices than when only single-peaked microprotrusions are received. Can be made difficult to damage, thereby reducing local deterioration of the antireflection function and further reducing the occurrence of poor appearance. Moreover, even if a microprotrusion is damaged, the area of the damaged portion can be reduced. In addition, the multi-peak microprojections are higher than the multi-peak micro-projections and lower body parts than the multi-peak micro-projections by first receiving each external force and sacrificing damage. It is possible to prevent wear of small protrusions. This also reduces local deterioration of the antireflection function and further reduces the occurrence of appearance defects.

なお多峰性微小突起は、その存在により耐擦傷性を向上できるものの、充分に存在しない場合には、この耐擦傷性を向上する効果を十分に発揮できないことは言うまでもない。係る観点より、表面に存在する全微小突起中における多峰性微小突起の個数の比率は１０％以上とすることが望まれる。特に多峰性微小突起による耐擦傷性を向上する効果を十分に奏する為には、該多峰性微小突起の比率は３０％以上、好ましくは５０％以上であることが望まれる。又、多峰性微小突起の比率を増やすに伴い製造工程の管理の難度が増す為、当該比率は好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下とする。またこのように単峰性微小突起の存在比率を設定することにより、スティッキングを生じ難くすることができ、その結果、スティッキングによる特性の劣化を有効に回避することができる。またさらに単峰性微小突起と多峰性微小突起とを混在させる場合には、アスペクト比の異なる単峰性微小突起を混在させた場合と同様に、広い波長帯域で反射率を低減することができる。   Needless to say, although the multimodal microprotrusions can improve the scratch resistance due to their presence, if they do not exist sufficiently, the effect of improving the scratch resistance cannot be fully exhibited. From such a viewpoint, it is desirable that the ratio of the number of multimodal microprotrusions in all the microprotrusions existing on the surface be 10% or more. In particular, in order to sufficiently exhibit the effect of improving the scratch resistance by the multimodal microprotrusions, the ratio of the multimodal microprotrusions is desired to be 30% or more, preferably 50% or more. Further, since the difficulty of managing the manufacturing process increases as the ratio of the multimodal microprotrusions increases, the ratio is preferably 90% or less, more preferably 80% or less. In addition, by setting the existence ratio of the single-peaked microprotrusions in this manner, sticking can be made difficult to occur, and as a result, deterioration of characteristics due to sticking can be effectively avoided. Furthermore, when unimodal microprojections are mixed with multimodal microprojections, the reflectance can be reduced over a wide wavelength band, as with unimodal microprojections with different aspect ratios. it can.

なおアスペクト比とは、微小突起の高さＨを谷底における径Ｗ（幅又は太さと言う事もできる）で除した比、Ｈ／Ｗとして定義される。ここで、谷底における径とは、微小突起の谷底近傍の形状が円柱であれば、該円柱の（底面の）直径と一致する。微小突起の谷底近傍形状が円柱では無く、谷底を連ねた仮想的平面と微小突起とが交叉して得られる底面の径の大きさが面内方向によって異なる場合は、その最大値を該微小突起の径とする。例えば、微小突起の底面形状が楕円の場合は、径はその長径となる。又、微小突起の底面形状が多角形の場合は、径はその最大の対角線長となる。又、谷底部（高さの極小点からなる領域）の幅が径に比べて小さく２割以下の場合には、各微小突起のアスペクト比Ｈ／Ｗの平均値（Ｈ／Ｗ）ａｖｅは、設計上は実質、Ｈａｖｅ／ｄａｖｅと見做すことができる。   The aspect ratio is defined as H / W, which is a ratio obtained by dividing the height H of the minute protrusions by the diameter W (also referred to as width or thickness) at the bottom of the valley. Here, the diameter at the bottom of the valley coincides with the diameter (at the bottom) of the column if the shape of the microprotrusion near the bottom of the valley is a column. If the shape of the vicinity of the valley bottom of the microprojection is not a cylinder and the diameter of the bottom surface obtained by crossing the virtual plane connecting the valley bottom and the microprojection differs depending on the in-plane direction, the maximum value is set to the microprojection. Of the diameter. For example, when the bottom shape of the microprojection is an ellipse, the diameter is the major axis. In addition, when the bottom surface shape of the minute protrusion is a polygon, the diameter is the maximum diagonal length. In addition, when the width of the bottom of the valley (region consisting of the minimum point of the height) is smaller than the diameter and 20% or less, the average value (H / W) ave of the aspect ratio H / W of each microprotrusion is In terms of design, it can be substantially regarded as Have / dave.

図３は、頂点が複数の微小突起を示す写真であり、図３（ａ）は、ＡＦＭによるものであり、図３（ｂ）及び（ｃ）は、ＳＥＭによるものである。図３（ａ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起（２峰の多峰性微小突起）を見て取ることができ、図３（ｂ）では、溝ｇ及び４つの頂点を有する微小突起（４峰の多峰性微小突起）、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図３（ｃ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起（３峰の多峰性微小突起）、溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができる。   FIG. 3 is a photograph showing a plurality of minute protrusions at the apex, FIG. 3 (a) is based on AFM, and FIGS. 3 (b) and 3 (c) are based on SEM. In FIG. 3 (a), a groove g and a microprotrusion having three vertices and a microprotrusion having a groove g and two vertices (two-peaked multimodal microprotrusions) can be seen. In FIG. 3 (c), the groove g and the microprotrusions having four vertices (four-peaked multimodal microprotrusions) and the groove g and the microprotrusions having two vertices can be seen. One can see microprojections with three vertices (three-peak multimodal microprojections), groove g and microprojections with two vertices.

［隣接突起間距離］
反射防止物品１に作製される微小突起は、隣接する微小突起の間隔ｄが、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎ以下（ｄ≦Λｍｉｎ）となるように密接して配置される。この実施形態では、画像表示パネルに配置して視認性を向上させることを主目的とするため、この最短波長は、個人差、視聴条件を加味した可視光領域の最短波長（３８０ｎｍ）に設定され、間隔ｄは、ばらつきを考慮して１００〜３００ｎｍとされる。またこの間隔ｄに係る隣接する微小突起は、いわゆる隣り合う微小突起であり、基材２側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している突起である。反射防止物品１では微小突起が密接して配置されることにより、微小突起間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作製すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔ｄに係る隣接する微小突起は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。 [Distance between adjacent protrusions]
The microprotrusions produced in the antireflection article 1 are closely arranged so that the distance d between adjacent microprotrusions is equal to or less than the shortest wavelength Λmin (d ≦ Λmin) of the wavelength band of the electromagnetic wave to prevent reflection. In this embodiment, since the main purpose is to improve visibility by arranging the image display panel, the shortest wavelength is set to the shortest wavelength (380 nm) in the visible light region in consideration of individual differences and viewing conditions. The distance d is set to 100 to 300 nm in consideration of variation. The adjacent minute protrusions related to the distance d are so-called adjacent minute protrusions, which are in contact with the hem portions of the minute protrusions, which are the base portions on the base 2 side. In the anti-reflective article 1, the minute protrusions are closely arranged so that when a line segment is formed so as to sequentially follow the valley portions between the minute protrusions, a large number of polygonal regions surrounding each minute protrusion are connected in plan view. Thus, a mesh-like pattern is produced. The adjacent minute protrusions related to the distance d are protrusions that share a part of the line segments constituting the mesh pattern.

なお微小突起に関しては、より詳細には以下のように定義される。モスアイ構造による反射防止では、透明基材表面とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものであることから、微小突起に関しては一定の条件を満足することが必要である。この条件のうちの１つである突起の間隔に関して、例えば特開昭５０−７００４０号公報、特許第４６３２５８９号公報等に開示のように、微小突起が一定周期で規則正しく配置されている場合、隣接する微小突起の間隔ｄは、突起配列の周期Ｐ（ｄ＝Ｐ）となる。これにより可視光線帯域の最長波長をλｍａｘ、最短波長をλｍｉｎとした場合に、最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最小限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘであるため、Ｐ≦λｍａｘとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、Ｐ≦λｍｉｎとなる。   The minute protrusions are defined in more detail as follows. In the antireflection by the moth-eye structure, the effective refractive index at the interface between the transparent substrate surface and the adjacent medium is continuously changed in the thickness direction to prevent reflection. It is necessary to satisfy the following conditions. With respect to the protrusion interval, which is one of these conditions, when the minute protrusions are regularly arranged at a constant period as disclosed in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 50-70040 and Japanese Patent No. 4632589, the adjacent spaces are adjacent to each other. The interval d between the minute projections to be performed is the projection arrangement period P (d = P). Thus, when the longest wavelength in the visible light band is λmax and the shortest wavelength is λmin, the minimum necessary condition that can exhibit the antireflection effect at the longest wavelength in the visible light band is Λmin = λmax. P ≦ λmax, and the necessary and sufficient condition that can exhibit the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is Λmin = λmin, and therefore P ≦ λmin.

なお波長λｍａｘ、λｍｉｎは、観察条件、光の強度（輝度）、個人差等にも依存して多少幅を持ち得るが、標準的には、λｍａｘ＝７８０ｎｍ及びλｍｉｎ＝３８０ｎｍとされる。これらにより可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄ≦３００ｎｍであり、より好ましい条件は、斜め方向（基材２表面の法線に対して４５度以上に角度をなす方向）から見た場合の白濁感を低減させる点から、ｄ≦２００ｎｍとなる。なお反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、周期ｄの下限値は、通常、ｄ≧５０ｎｍ、好ましくは、ｄ≧１００ｎｍとされる。これに対して突起の高さＨは、十分な反射防止効果を発現させる観点より、Ｈ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍ（λｍａｘ＝７８０ｎｍとして）とされる。   The wavelengths λmax and λmin may have some width depending on observation conditions, light intensity (luminance), individual differences, and the like, but are typically λmax = 780 nm and λmin = 380 nm. A preferable condition that can more reliably exhibit the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is d ≦ 300 nm, and a more preferable condition is an oblique direction (at least 45 degrees with respect to the normal of the surface of the substrate 2). D ≦ 200 nm from the viewpoint of reducing the cloudiness when viewed from an angle direction. Note that the lower limit value of the period d is usually d ≧ 50 nm, preferably d ≧ 100 nm, for reasons such as the expression of the antireflection effect and the securing of the isotropic (low angle dependency) of the reflectance. On the other hand, the height H of the protrusion is set to H ≧ 0.2 × λmax = 156 nm (assuming λmax = 780 nm) from the viewpoint of exhibiting a sufficient antireflection effect.

しかしながらこの実施形態のように、微小突起が不規則に配置されている場合には、隣接する微小突起間の間隔ｄはばらつきを有することになる。より具体的には、図４に示すように、基材の表面又は裏面の法線方向から見て平面視した場合に、微小突起が一定周期で規則正しく配列されていない場合、突起の繰り返し周期Ｐによっては隣接突起間の間隔ｄは規定し得ず、また隣接突起の概念すら疑念が生じることになる。そこでこのような場合、以下のように算定される。   However, when the minute protrusions are irregularly arranged as in this embodiment, the distance d between the adjacent minute protrusions varies. More specifically, as shown in FIG. 4, when the microprojections are not regularly arranged at a constant period when viewed from the normal direction of the front or back surface of the substrate, the repetition period P of the protrusions In some cases, the distance d between adjacent protrusions cannot be defined, and even the concept of adjacent protrusions is suspicious. Therefore, in such a case, it is calculated as follows.

（１）すなわち先ず、原子間力顕微鏡（Ａｔｏｍｉｃ Ｆｏｒｃｅ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ（以下、AFMと呼ぶ））又は走査型電子顕微鏡（Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ（以下、SEMと呼ぶ））を用いて突起の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。なお図４は、実際に原子間力顕微鏡により求められた拡大写真である。ＡＦＭのデータには微小突起群の高さの面内分布データを付随するため、この写真は輝度により高さの面内分布を示す写真であると言える。   (1) That is, first, an in-plane arrangement (projection arrangement) of projections using an atomic force microscope (Atomic Force Microscope (hereinafter referred to as AFM)) or a scanning electron microscope (hereinafter referred to as SEM). ) Is detected. FIG. 4 is an enlarged photograph actually obtained by an atomic force microscope. Since the AFM data is accompanied by the in-plane distribution data of the height of the microprojections, this photo can be said to be a photo showing the in-plane distribution of height by luminance.

（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と呼ぶ）を検出する。ここで極大点とは、高さが、其の近傍周辺の何れの点と比べても大（極大値）となる点を意味する。なお極大点を求める方法としては、（ａ）平面視形状の拡大写真上における平面座標とこれと対応する断面形状から求めた高さデータとを逐次対比して極大点を求める方法、（ｂ）ＡＦＭで得られた基材上の平面座標における高さ分布データを２次元画像化してなる平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。図４はＡＦＭによる拡大写真（画像濃度が高さに対応する）であり、図５は、図４に示した拡大写真に係る画像データの処理による極大点の検出結果を示す図であり、この図において黒点により示す個所がそれぞれ各突起の極大点である。なおこの処理では４．５×４．５画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に画像データを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また８画素×８画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより１ｎｍ（＝１画素）単位で極大点を求めた。   (2) Subsequently, the maximum point of the height of each protrusion (hereinafter simply referred to as the maximum point) is detected from the obtained in-plane arrangement. Here, the maximum point means a point where the height is maximum (maximum value) compared to any point in the vicinity thereof. As a method for obtaining the maximum point, (a) a method for obtaining the maximum point by sequentially comparing the plane coordinates on the enlarged photograph of the planar view shape and the height data obtained from the corresponding cross-sectional shape, (b) Various methods such as a method of obtaining a local maximum point by image processing of a planar view enlarged photograph obtained by converting the height distribution data in the plane coordinates on the base material obtained by AFM into a two-dimensional image can be applied. 4 is an enlarged photograph (corresponding to the image density is high) by AFM, and FIG. 5 is a diagram showing a detection result of the maximum point by processing of image data related to the enlarged photograph shown in FIG. In the figure, each point indicated by a black dot is the maximum point of each protrusion. In this process, image data is processed in advance by a low-pass filter having a Gaussian characteristic of 4.5 × 4.5 pixels, thereby preventing erroneous detection of the maximum point due to noise. Further, a maximum point was obtained in units of 1 nm (= 1 pixel) by sequentially scanning a filter for detecting a maximum value of 8 pixels × 8 pixels.

（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ Ｄｉａｇｒａｍ）を作製する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。図６は、図５から求められるドロネー図（白色の線分により表される図である）を図５による原画像と重ね合わせた図である。ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直２等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。   (3) Next, a Delaunay diagram (Delaunary Diagram) having the detected maximum point as a generating point is created. Here, Delaunay diagram is obtained by dividing the Voronoi region adjacent to the Voronoi region when the Voronoi division is performed with each local maximum as the generating point, and connecting the adjacent generating points with line segments. This is a net-like figure made up of triangular aggregates. Each triangle is called a Delaunay triangle, and a side of each triangle (a line segment connecting adjacent generating points) is called a Delaunay line. FIG. 6 is a diagram in which the Delaunay diagram (represented by white line segments) obtained from FIG. 5 is superimposed on the original image of FIG. The Delaunay diagram has a dual relationship with the Voronoi diagram. Voronoi division means that a plane is divided by a net-like figure made up of a closed polygon aggregate defined by perpendicular bisectors of line segments (Droney lines) connecting between adjacent generating points. A network figure obtained by Voronoi division is a Voronoi diagram, and each closed region is a Voronoi region.

（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（以下、隣接突起間距離と呼ぶ）の度数分布を求める。図７は、図６のドロネー図から作製した度数分布のヒストグラムである。なお図４において符号５Ａ及び５Ｂにより示すように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に***している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に***している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作製する。   (4) Next, the frequency distribution of the line segment length of each Delaunay line, that is, the frequency distribution of the distance between adjacent maximum points (hereinafter referred to as the distance between adjacent protrusions) is obtained. FIG. 7 is a histogram of the frequency distribution created from the Delaunay diagram of FIG. In addition, as shown by reference numerals 5A and 5B in FIG. 4, when a concave portion such as a groove exists at the top of the protrusion, or when the top is divided into a plurality of peaks, from the obtained frequency distribution, A frequency distribution is created by removing data resulting from a fine structure having a concave portion at the top of the protrusion and a fine structure in which the top is split into a plurality of peaks, and selecting only the data of the protrusion main body itself.

具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に***している多峰性微小突起に係る微細構造においては、このような微細構造を備えてい無い単峰性微小突起の場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図４に示すような微小突起（群）の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに小さい方向に外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。図７の例では、隣接極大点間距離が５６ｎｍ以下のデータ（矢印Ａにより示す左端の小山）を除外する。なお図５は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。   Specifically, in the fine structure in which there is a concave portion on the top of the protrusion, or in the fine structure related to a multi-peak microprotrusion in which the top is divided into a plurality of peaks, the single peak property that does not have such a fine structure From the numerical range in the case of a microprotrusion, the distance between adjacent maximum points is clearly greatly different. Thus, by removing the corresponding data using this feature, only the data of the projection body itself is selected and the frequency distribution is detected. More specifically, for example, about 5 to 20 adjacent single-peak microprojections are selected from an enlarged photograph of the microprojections (group) as shown in FIG. A value that deviates in a direction that is clearly smaller than the numerical range obtained by sampling this value (usually the value is ½ or less of the average distance between adjacent maximum points obtained by sampling) Frequency distribution is detected. In the example of FIG. 7, data having a distance between adjacent maximal points of 56 nm or less (the leftmost small mountain indicated by the arrow A) is excluded. FIG. 5 shows a frequency distribution before performing such exclusion processing. Incidentally, such exclusion processing may be executed by setting the above-described maximum inspection filter.

（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布から平均値ｄ_ＡＶＧ及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値ｄ_ＡＶＧ及び標準偏差σを求めると、図７の例では、平均値ｄ_ＡＶＧ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍとなった。これにより隣接突起間距離ｄの最大値を、ｄｍａｘ＝ｄ_ＡＶＧ＋２σとし、この例ではｄｍａｘ＝２３４ｎｍとなる。 (5) The average value d _AVG and the standard deviation σ are obtained from the frequency distribution of the distance d between adjacent protrusions thus obtained. Here, when the frequency distribution obtained in this way is regarded as a normal distribution and the average value d _AVG and the standard deviation σ are obtained, the average value d _AVG = 158 nm and the standard deviation σ = 38 nm are obtained in the example of FIG. As a result, the maximum value of the distance d between adjacent protrusions is set to dmax = d _AVG + 2σ, and in this example, dmax = 234 nm.

なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図８は、このようにして求められる突起付け根位置を基準（高さ０）とした突起高さＨの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値Ｈ_ＡＶＧ、標準偏差σを求める。ここでこの図８の例では、平均値Ｈ_ＡＶＧ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍである。これによりこの例では、突起の高さは、平均値Ｈ_ＡＶＧ＝１７８ｎｍとなる。なお図８に示す突起高さＨのヒストグラムにおいて、多峰性微小突起の場合は、頂点を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。また麓部を共有する全峰が同一高さの場合は、其の同一の高さを以って該微小突起の高さとする。 The same method is applied to define the height of the protrusion. In this case, a relative height difference of each local maximum point position from a specific reference position is acquired from the local maximum point obtained by the above (2), and is histogrammed. FIG. 8 is a diagram showing a histogram of the frequency distribution of the protrusion height H with the protrusion root position obtained in this way as a reference (height 0). The average value _HAVG of the protrusion height and the standard deviation σ are obtained from the frequency distribution based on the histogram. Here in the example of FIG. 8, the mean value _H AVG = 178 nm, the standard deviation sigma = 30 nm. Thus in this example, the height of the projections is an average value _H AVG = 178 nm. In the histogram of the protrusion height H shown in FIG. 8, in the case of a multi-peak microprotrusion, the plurality of data is mixed for one protrusion because of having a plurality of vertices. Therefore, in this case, the frequency distribution is obtained by adopting the vertex having the highest height from among the plurality of vertices belonging to the same microprotrusion as the protuberance. Moreover, when all the peaks which share a collar part are the same height, let it be the height of this microprotrusion with the same height.

なお上述した突起の高さを測る際の基準位置は、隣接する微小突起の間の谷底（高さの極小点）を高さ０の基準とする。但し、例えば後述するように、谷底の高さが微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でウネリを有する場合において、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合は、（１）先ず、基材２の表面又は裏面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が收束するに足る面積の中で算出する。（２）次いで、該平均値の高さを持ち、基材２の表面又は裏面と平行な面を基準面として考える。（３）その後、該基準面を改めて高さ０として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。   In addition, the reference position when measuring the height of the protrusion described above is based on the valley bottom (minimum point of height) between the adjacent minute protrusions as a reference of height 0. However, as will be described later, for example, when the height of the valley bottom has ridges with a period larger than the distance between adjacent projections of the microprojections, if the height of the valley bottom itself varies depending on the location, (1) The average value of the height of each valley bottom measured from the front surface or the back surface of the base material 2 is calculated within an area sufficient for the average value to be collected. (2) Next, a surface having the height of the average value and parallel to the front surface or the back surface of the substrate 2 is considered as a reference surface. (3) Then, the height of each microprotrusion from the reference plane is calculated by setting the reference plane to 0 again.

突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘ＝ｄ_ＡＶＧ＋２σ、突起の高さの平均値Ｈ_ＡＶＧが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することが必要であることが判った。具体的には、反射防止効果を発現する微小突起間距離の条件は、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎとなる。最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最短限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘであるため、ｄｍａｘ≦λｍａｘとなり、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、ｄｍａｘ≦λｍｉｎとなる。そして、可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄｍａｘ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄｍａｘ≦２００ｎｍである。また反射防止効果の発現及び反射率の等方性（低角度依存性）の確保等の理由から、通常、ｄｍａｘ≧５０ｎｍであり、好ましくは、ｄｍａｘ≧１００ｎｍとされる。また突起高さについては、十分な反射防止効果を発現する為には、Ｈ_ＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍ（λｍａｘ＝７８０ｎｍとして）とされる。しかしながら実用上十分な程度に反射防止機能を確保する観点からは、平均突起間距離ｄａｖｅを、ｄａｖｅ≦λｍｉｎとしても良い。 If the protrusions are irregularly arranged, when this way the maximum value of the adjacent protrusions distance obtained by dmax = d AVG ₊ 2σ, average H _AVG height of projections are arranged regularly It has been found necessary to satisfy the above conditions. Specifically, the condition of the distance between the microprotrusions that exhibits the antireflection effect is dmax ≦ Λmin. The minimum necessary condition that can exhibit the antireflection effect at the longest wavelength in the visible light band is Λmin = λmax, and therefore dmax ≦ λmax, and the antireflection effect can be achieved for all wavelengths in the visible light band. The necessary and sufficient condition is Λmin = λmin, and therefore dmax ≦ λmin. A preferable condition that can more reliably exhibit the antireflection effect for all wavelengths in the visible light band is dmax ≦ 300 nm, and a more preferable condition is dmax ≦ 200 nm. Also, dmax ≧ 50 nm is usually satisfied and dmax ≧ 100 nm is preferable because of the antireflection effect and ensuring the isotropic (low angle dependency) of the reflectance. The height of the protrusion is set to _HAVG ≧ 0.2 × λmax = 156 nm (assuming λmax = 780 nm) in order to exhibit a sufficient antireflection effect. However, from the viewpoint of ensuring the antireflection function to a practically sufficient level, the average inter-protrusion distance dave may be set so that dave ≦ λmin.

因みに、図４〜図８の例により説明するとｄｍａｘ＝２３４ｎｍ≦λｍａｘ＝７８０ｎｍとなり、ｄｍａｘ≦λｍａｘの条件を満足して十分に反射防止効果を奏し得ることが判る。また可視光線帯域の最短波長λｍｉｎが３８０ｎｍであることから、可視光線の全波長帯域において反射防止効果を発現する十分条件ｄｍａｘ≦λｍｉｎも満たすことが判る。またｄａｖｅ≦ｄｍａｘであることから、ｄａｖｅ≦λｍｉｎの条件も満足していることが判る。また平均突起高さＨ_ＡＶＧ＝１７８ｎｍであることにより、平均突起高さＨ_ＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとなり（可視光波長帯域の最長波長λｍax＝７８０ｎｍとして）、十分な反射防止効果を実現するための突起の高さに関する条件も満足していることが判る。なお標準偏差σ＝３０ｎｍであることから、Ｈ_ＡＶＧ−σ＝１４８ｎｍ＜０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとの関係式が成立することから、統計学上、全突起の５０％以上、８４％以下が、突起の高さに係る条件（１７８ｎｍ以上）の条件を満足していることが判る。なおＡＦＭ及びＳＥＭによる観察結果、並びに微小突起の高さ分布の解析結果から、多峰性微小突起は相対的に高さの低い微小突起よりも高さの高い微小突起でより多く生じる傾向にあることが判明した。 4 to 8, dmax = 234 nm ≦ λmax = 780 nm, and it can be seen that the antireflection effect can be sufficiently achieved by satisfying the condition of dmax ≦ λmax. In addition, since the shortest wavelength λmin in the visible light band is 380 nm, it can be seen that the sufficient condition dmax ≦ λmin for exhibiting the antireflection effect in all visible light wavelength bands is also satisfied. Since dave ≦ dmax, it can be seen that the condition of dave ≦ λmin is also satisfied. When the average protrusion the height _H AVG = 178 nm Also, the average projection height _{H AVG} ≧ 0.2 × λmax = _156nm becomes (as the longest wavelength .lambda.max = 780 nm in the visible light wavelength band), realizing a sufficient antireflection effect It can be seen that the conditions regarding the height of the protrusions to satisfy are also satisfied. Note since the standard deviation sigma = 30 _nm, since the relationship between the _{H AVG -σ = 148nm <0.2 ×} λmax = 156nm is satisfied, statistically, more than 50% of the total protrusions, 84% or less It can be seen that the condition of the height of the protrusion (178 nm or more) is satisfied. In addition, from the observation result by AFM and SEM and the analysis result of the height distribution of the microprojections, the multi-peak microprojections tend to be generated more frequently in the microprojections having a higher height than the microprojections having a relatively low height. It has been found.

なお上述の図７、図８の計測結果は、隣接突起間距離の説明に供するための測定結果であり、この実施形態に係る計測結果とは異なるものである。   Note that the measurement results in FIGS. 7 and 8 described above are measurement results for explaining the distance between adjacent protrusions, and are different from the measurement results according to this embodiment.

〔高さ分布〕
ここで、反射防止物品上に形成される多峰性の微小突起は、上述の可視光域に係る入射光に対する反射防止機能を向上させるために、以下の条件を満たすようにして形成される必要がある。 [Height distribution]
Here, the multi-peak microprotrusions formed on the antireflection article need to be formed so as to satisfy the following conditions in order to improve the antireflection function for the incident light in the visible light region described above. There is.

図９は、反射防止物品に形成される微小突起の高さｈの度数分布の例を示す図である。図９に示すように、微小突起の高さｈの度数分布における高さの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、ｈ＜ｍ−σの領域を微小突起の低高度領域とし、ｍ−σ≦ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、ｍ＋σ＜ｈの領域を高高度領域とした場合に、各領域内の多峰性の微小突起の数Ｎｍと、度数分布全体における微小突起の総数Ｎｔとの比率が、以下の（ａ）、（ｂ）の関係を満たすように作製される。
（ａ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ
（ｂ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ FIG. 9 is a diagram illustrating an example of the frequency distribution of the height h of the fine protrusions formed on the antireflection article. As shown in FIG. 9, the average value of the heights in the frequency distribution of the height h of the microprojections is m, the standard deviation is σ, the region of h <m−σ is the low altitude region of the microprojections, and m− When the region of σ ≦ h ≦ m + σ is a medium altitude region and the region of m + σ <h is a high altitude region, the number Nm of multimodal microprojections in each region and the total number of microprojections in the entire frequency distribution It is fabricated so that the ratio to Nt satisfies the following relationships (a) and (b).
(A) Nm / Nt in the middle altitude region> Nm / Nt in the low altitude region
(B) Nm / Nt in middle altitude region> Nm / Nt in high altitude region

図１０は、この実施形態に係る反射防止物品の高さの計測結果を示す図である。この図１３において、微小突起の高さの平均値がｍ＝１４５．７ｎｍであり、その標準偏差がσ＝２２．１ｎｍである。ここで、微小突起の高さｈの度数分布において、低高度領域は、ｈ＜ｍ−σ＝１２３．６ｎｍとなり、中高度領域は、ｍ−σ＝１２３．６ｎｍ≦ｈ≦ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなり、高高度領域は、ｈ＞ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなる。   FIG. 10 is a diagram showing the measurement results of the height of the antireflection article according to this embodiment. In FIG. 13, the average value of the heights of the microprojections is m = 145.7 nm, and the standard deviation is σ = 22.1 nm. Here, in the frequency distribution of the height h of the microprotrusions, the low altitude region is h <m−σ = 123.6 nm, and the middle altitude region is m−σ = 13.6 nm ≦ h ≦ m + σ = 167.8 nm. Thus, the high altitude region is h> m + σ = 167.8 nm.

度数分布全体の微小突起の総数Ｎｔは、２６３個である。また、中高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、２３個であるので、中高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０８７となる。低高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、２個であるので、低高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．００８となる。高高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、５個であるので、高高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０１９となる。   The total number Nt of microprojections in the entire frequency distribution is 263. In addition, since the number Nm of multi-modal microprotrusions in the middle altitude region is 23, Nm / Nt in the middle altitude region is 0.087. Since the number Nm of multimodal microprotrusions in the low altitude region is two, Nm / Nt in the low altitude region is 0.008. Since the number Nm of multi-modal microprotrusions in the high altitude region is 5, Nm / Nt in the high altitude region is 0.019.

従って、本実施例の反射防止物品は、上述の（ａ）、（ｂ）の関係、すなわち、
（ａ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．００８
（ｂ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０１９
を満足する。 Therefore, the antireflection article of the present example has the above-described relationships (a) and (b), that is,
(A) Nm / Nt in the middle altitude region = 0.087> Nm / Nt = 0.008 in the low altitude region
(B) Nm / Nt = 0.087 in the medium altitude region> Nm / Nt = 0.19 in the high altitude region
Satisfied.

このように中高度領域における多峰性の微小突起の数（Ｎｍ）と度数分布における微小突起の総数（Ｎｔ）との比率（Ｎｍ／Ｎｔ）が、低高度領域及び高高度領域の比率よりも大きくなるように多峰性の微小突起を形成することにより可視光域に係る入射光に対する反射率を低減することができ、反射防止物品の反射防止機能の広帯域化を図ることができる。   Thus, the ratio (Nm / Nt) of the number of multi-protrusion microprojections (Nm) in the medium altitude region to the total number of microprojections (Nt) in the frequency distribution is higher than the ratio of the low altitude region and the high altitude region. By forming multi-peak microprojections so as to be large, the reflectance with respect to incident light in the visible light region can be reduced, and the antireflection article can have a broad antireflection function.

また、この反射防止物品は、このような高さ分布において、多峰性の微小突起（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができるので、視野角特性を制限すると共に、光学干渉による虹ムラを抑制し、視聴者にとって低反射かつ視覚上好ましい画面を作ることができる。また、効率良く多峰性の微小突起の耐擦傷性を向上させることができる。   In addition, this anti-reflective article has an average value of almost the same height for multi-peak microprojections (two and three vertices are indicated by two peaks and three peaks, respectively) in such a height distribution. Therefore, the viewing angle characteristic is limited and rainbow unevenness due to optical interference is suppressed, and a screen that is low in reflection and visually favorable for the viewer can be created. In addition, the scratch resistance of the multimodal microprotrusions can be improved efficiently.

更に、上述の構成にすることによって、反射防止物品は、高さが高い（１８０ｎｍ以上）微小突起に分布する多峰性の微小突起の比率が小さく、単峰性の微小突起の比率が多いので、他の物体が微小突起に摩擦接触したとしても、高さの高い単峰性の微小突起が先に接触することとなり、反射防止機能を主に向上させる多峰性の微小突起に接触してしまうのを抑制することができる。   Further, by adopting the above-described configuration, the anti-reflection article has a small ratio of multi-peak microprojections distributed in microprojections having a high height (180 nm or more), and a large ratio of single-peak microprojections. Even if other objects come into frictional contact with the microprojections, the high unimodal microprotrusions come into contact first, and contact with the multimodal microprojections that mainly improve the antireflection function. Can be suppressed.

なお、これら多峰性の微小突起の特徴は、賦型用金型の対応する形状を備えた微細穴により作製される多峰性の微小突起の固有の特徴であり、特開２０１２−０３７６７０号公報に開示の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起によっては得ることができない特徴である。すなわち樹脂の充填不良による多峰性の微小突起は、本来、単峰性の微小突起として作製される微細穴に十分に樹脂が充填されないことにより作製されるものであるので、頂点間の間隔が極めて微小であり、これにより耐擦傷性を十分に向上することが困難であり、また上述したような光学特性の向上も困難である。   Note that the characteristics of these multimodal microprotrusions are unique characteristics of the multimodal microprotrusions produced by the microholes having the corresponding shapes of the shaping mold, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-037670. This is a feature that cannot be obtained by the multi-modal microprotrusions caused by the resin filling failure disclosed in the publication. That is, the multi-peak microprotrusions due to poor filling of the resin are produced by not sufficiently filling the fine holes that are originally produced as single-peak microprotrusions, so that there is a gap between the vertices. Therefore, it is difficult to sufficiently improve the scratch resistance, and it is also difficult to improve the optical characteristics as described above.

また、充填不良による多峰性の微小突起にあっては、再現性が乏しく、これにより均一な製品を量産できない欠点もあり、これに対して、この実施形態に係る多峰性の微小突起は、いわゆる金型により高い再現性を確保することができる。また、上述の実施例について詳述するように、多峰性の微小突起の高さ分布について制御できるのに対し、充填不良の多峰性の微小突起については、このような制御が困難である。   In addition, in the multi-peak microprojections due to poor filling, there is a disadvantage that the reproducibility is poor, and thus a uniform product cannot be mass-produced, whereas the multi-peak micro-projections according to this embodiment are High reproducibility can be ensured by a so-called mold. In addition, as described in detail for the above-described embodiments, the height distribution of multimodal microprojections can be controlled, whereas such control is difficult for poorly filled multimodal microprojections. .

〔製造工程〕
図１１は、この反射防止物品１の製造工程を示す図である。この製造工程１０は、樹脂供給工程において、ダイ１１により帯状フィルム形態の基材２に下地層３の塗工液を塗布した後、乾燥、硬化して下地層３が作製される。また続いてダイ１２により受容層４を構成する未硬化で液状のアクリレート系紫外線硬化性樹脂を塗布する。なおこれらの塗工液の塗布については、ダイ１２による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いてこの製造工程１０は、押圧ローラ１４により、反射防止物品の賦型用金型であるロール版１３の周側面に基材２を加圧押圧し、これにより基材２に未硬化状態で液状の紫外線硬化性樹脂を密着させると共に、ロール版１３の周側面に作製された微細な凹凸形状の凹部に紫外線硬化性樹脂を充分に充填する。この製造工程は、この状態で、紫外線の照射により紫外線硬化性樹脂を硬化させ、これにより基材２の表面に微小突起群を作製する。この製造工程は、続いて剥離ローラ１５を介してロール版１３から、硬化した紫外線硬化性樹脂と一体に基材２を剥離する。製造工程１０は、必要に応じてこの基材２に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止物品１を作製する。これにより反射防止物品１は、ロール材による長尺の基材２に、賦型用金型であるロール版１３の周側面に作製された微細形状を順次賦型して、効率良く大量生産される。 〔Manufacturing process〕
FIG. 11 is a diagram illustrating a manufacturing process of the antireflection article 1. In the manufacturing process 10, in the resin supply process, the base layer 3 is prepared by applying a coating liquid for the base layer 3 to the base material 2 in the form of a strip film using the die 11, and then drying and curing. Subsequently, an uncured and liquid acrylate ultraviolet curable resin constituting the receiving layer 4 is applied by the die 12. In addition, about application | coating of these coating liquids, not only the case by the die | dye 12 but various methods are applicable. Subsequently, in this manufacturing process 10, the substrate 2 is pressed and pressed onto the peripheral side surface of the roll plate 13 which is a mold for shaping the antireflection article by the pressing roller 14, and thereby the substrate 2 is uncured. A liquid ultraviolet curable resin is brought into close contact, and the concave and convex portions formed on the peripheral side surface of the roll plate 13 are sufficiently filled with the ultraviolet curable resin. In this state, in this manufacturing process, the ultraviolet curable resin is cured by irradiation with ultraviolet rays, and thereby a microprojection group is produced on the surface of the substrate 2. In this manufacturing process, the substrate 2 is peeled off from the roll plate 13 through the peeling roller 15 together with the cured ultraviolet curable resin. In the production process 10, an anti-reflection article 1 is produced by producing an adhesive layer or the like on the substrate 2 as necessary, and then cutting it into a desired size. Accordingly, the antireflection article 1 is mass-produced efficiently by sequentially molding the fine shape produced on the peripheral side surface of the roll plate 13 which is a mold for molding on the long base material 2 made of a roll material. The

〔ロール版作製工程〕
図１２は、ロール版１３の構成を示す斜視図である。ロール版１３は、円筒形状の金属材料である母材の周側面に、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製され、この微細な凹凸形状が基材２に賦型される。このためロール版１３は、少なくとも周側面に純度の高いアルミニウム層が設けられた円柱形状又は円筒形状の部材が母材に適用される。より具体的に、この実施形態では、母材に中空のステンレスパイプが適用され、直接に又は各種の中間層を介して、純度の高いアルミニウム層が、谷底の包絡面６に対応する曲面形状により設けられる。なおステンレスパイプに代えて、銅やアルミニウム等のパイプ材等を適用してもよい。ロール版１３は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより、母材の周側面に微細穴が密に作製され、この微細穴を掘り進めると共に、開口部に近付くに従ってより大きな径となるようにこの微細穴の穴径を徐々に拡大して凹凸形状が作製される。これによりロール版１３は、深さ方向に徐々に穴径が小さくなる微細穴が密に作製され、反射防止物品１には、この微細穴に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる多数の微小突起により微細な凹凸形状が作製される。 [Roll plate making process]
FIG. 12 is a perspective view showing the configuration of the roll plate 13. In the roll plate 13, a fine concavo-convex shape is produced on the peripheral side surface of the base material, which is a cylindrical metal material, by repetition of anodizing treatment and etching treatment, and this fine concavo-convex shape is formed on the substrate 2. The For this reason, as for the roll plate 13, a columnar or cylindrical member in which a high purity aluminum layer is provided at least on the peripheral side surface is applied to the base material. More specifically, in this embodiment, a hollow stainless steel pipe is applied to the base material, and a high-purity aluminum layer has a curved shape corresponding to the envelope surface 6 of the valley bottom, either directly or through various intermediate layers. Provided. In addition, it may replace with a stainless steel pipe and may apply pipe materials, such as copper and aluminum. In the roll plate 13, fine holes are densely formed on the peripheral side surface of the base material by repeating the anodizing treatment and the etching treatment, and the fine holes are dug, and the diameter of the roll plate 13 increases as it approaches the opening. The concavo-convex shape is produced by gradually increasing the diameter of the fine holes. As a result, the roll plate 13 is closely formed with fine holes whose diameter gradually decreases in the depth direction, and the diameter of the antireflection article 1 gradually decreases as it approaches the top corresponding to the fine holes. A fine concavo-convex shape is produced by a large number of fine protrusions.

図１３は、ロール版１３の製造工程を示す図である。この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の周側面を超鏡面化する（電解研磨）。   FIG. 13 is a diagram showing a manufacturing process of the roll plate 13. In this manufacturing process, the peripheral side surface of the base material is made into a super mirror surface by an electrolytic composite polishing method that combines electrolytic elution action and abrasion action by abrasive grains (electrolytic polishing).

アルミニウム層形成工程において、母材の周側面にアルミニウムをスパッタリングし、純度の高いアルミニウム層を作製する。続いてこの工程は、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮ、エッチング工程Ｅ１、…、ＥＮを交互に繰り返して母材を処理し、ロール版１３を作製する。   In the aluminum layer forming step, aluminum is sputtered on the peripheral side surface of the base material to produce a high purity aluminum layer. Subsequently, in this process, the base material is processed by alternately repeating the anodic oxidation processes A1,..., AN, and the etching processes E1,.

より具体的に、この製造工程において、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮでは、陽極酸化法により母材の周側面に微細な穴を作製し、さらにこの作製した微細な穴を掘り進める。ここで陽極酸化工程では、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ（蓚）酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程Ａ１、…、ＡＮは、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な穴をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製する。   More specifically, in this manufacturing process, in the anodic oxidation process A1,..., AN, a fine hole is produced on the peripheral side surface of the base material by an anodic oxidation method, and the produced fine hole is further dug. Here, in the anodic oxidation step, various methods applied to the anodic oxidation of aluminum can be widely applied, for example, when a carbon rod, a stainless steel plate, or the like is used for the negative electrode. Further, as the solution, various neutral and acidic solutions can be used, and more specifically, for example, sulfuric acid aqueous solution, oxalic acid aqueous solution, phosphoric acid aqueous solution and the like can be used. In the manufacturing steps A1,..., AN, the fine holes are formed in shapes corresponding to the target depth and the shape of the fine protrusions, respectively, by managing the liquid temperature, the applied voltage, the time for anodization, and the like.

続くエッチング工程Ｅ１、…、ＥＮは、母材をエッチング液に浸漬し、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮにより作製、掘り進めた微細な穴の穴径をエッチングにより拡大し、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に穴径が小さくなるように、これら微細な穴を整形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回実行することにより、賦型に供する微細穴を母材の周側面に作製する。尚、陽極酸化処理で用いたシュウ酸水溶液等の陽極酸化処理液自体は、電圧を印加することなく、母材に接触させればエッチング液として機能する。従って、陽極酸化処理液とエッチング液とを同じ液とし、同液を入れた槽中に母材を浸漬したまま、順次、所定時間所定電圧を印加することで陽極酸化処理を行い、電圧無印加で所定時間浸漬することによってエッチング処理を行うこともできる。   In the subsequent etching step E1,..., EN, the base material is immersed in an etching solution, the hole diameter of the fine hole produced and dug in the anodizing step A1,. These fine holes are shaped so that the hole diameter becomes smaller and smoother. As the etching solution, various etching solutions that are applied to this type of treatment can be widely applied. More specifically, for example, a sulfuric acid aqueous solution, an oxalic acid aqueous solution, a phosphoric acid aqueous solution, or the like can be used. As a result, in this manufacturing process, the anodizing process and the etching process are alternately performed a plurality of times, so that fine holes for forming are formed on the peripheral side surface of the base material. The anodizing solution itself such as an oxalic acid aqueous solution used in the anodizing treatment functions as an etching solution if it is brought into contact with the base material without applying a voltage. Therefore, the anodizing treatment solution and the etching solution are the same solution, and the anodizing treatment is performed by sequentially applying a predetermined voltage for a predetermined time while the base material is immersed in a bath containing the same solution, and no voltage is applied. Etching can also be performed by immersing in a predetermined time.

〔陽極酸化処理、エッチング処理の詳細〕
図１４は、このような単峰性微小突起と多峰性微小突起とを混在させる場合について、図１３における陽極酸化処理、エッチング処理を詳細に示す図である。ここで陽極酸化処理の印加電圧と作製される微細穴のピッチとは比例関係である。しかしながら実際上、処理に供するアルミニウムの粒界等により微細穴のピッチは種々にばらつく。但し、この図１４においては、このようなばらつきが無いものとして、また微細穴が規則正しい配列により作製されるものとして説明する。なお図１４（ａ）〜（ｅ）は、それぞれ各工程により作製される微細穴を平面視した図、及びａ−ａ線により切り取って示す対応する断面図である。 [Details of anodizing and etching]
FIG. 14 is a diagram showing in detail the anodic oxidation process and the etching process in FIG. 13 in the case where such single-peak microprojections and multi-peak microprojections are mixed. Here, the applied voltage of the anodizing treatment is proportional to the pitch of the fine holes to be produced. In practice, however, the pitch of the fine holes varies depending on the grain boundaries of aluminum used for processing. However, in FIG. 14, it is assumed that there is no such variation, and that the fine holes are formed by regular arrangement. 14A to 14E are a plan view and a corresponding cross-sectional view cut out along the line aa, respectively, of the fine hole produced by each step.

ここで始めにこの実施形態では、低い印加電圧Ｖ１により第１の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理（以下、適宜、第１工程と呼ぶ）を実行し、これにより図１４（ａ）に示すように、この低い印加電圧Ｖ１に係る基本ピッチによる微細穴ｆ１を作製する。ここでこの第１の陽極酸化処理は、アルミニウム層の表面に、後続する陽極酸化のきっかけを作製するものである。なおこの場合、必要に応じてこの第１工程のエッチング処理を省略してもよい。   First, in this embodiment, after performing the first anodizing process with the low applied voltage V1, the etching process (hereinafter, referred to as the first process as appropriate) is performed, whereby FIG. As shown, a fine hole f1 with a basic pitch according to this low applied voltage V1 is produced. Here, the first anodic oxidation treatment is to produce a trigger for the subsequent anodic oxidation on the surface of the aluminum layer. In this case, the etching process in the first step may be omitted as necessary.

続いてこの実施形態では、第１の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）により第２の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第２工程と呼ぶ）。ここでこの場合、図１４（ｂ）に示すように、印加電圧を上昇させたことにより、第１の陽極酸化処理により作製された微細穴ｆ１のうち、この第２の陽極酸化処理に係る印加電圧に対応する微細穴のみ深さ方向に掘り進められ（符号ｆ２により示す）、エッチング処理されることになる。これによりこの第２の工程により、例えば２段階により印加電圧を可変すれば、深さの異なる分布を呈する微細穴を混在させることができる。   Subsequently, in this embodiment, the second anodic oxidation process is performed with the applied voltage V2 (V2> V1) higher than that during the first anodic oxidation, and then the etching process is performed (hereinafter referred to as a second process as appropriate). ). Here, in this case, as shown in FIG. 14 (b), the applied voltage related to the second anodizing treatment among the fine holes f1 produced by the first anodizing treatment by increasing the applied voltage. Only the fine hole corresponding to the voltage is dug in the depth direction (indicated by reference numeral f2) and etched. Accordingly, if the applied voltage is varied in two steps, for example, fine holes having different depth distributions can be mixed in the second step.

続いてこの実施形態では、第２の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ３（Ｖ３＞Ｖ２）により第３の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第３工程と呼ぶ）（図１４（ｃ））。ここでこの第３工程は、ピッチの異なる微細穴を作製するための工程である。このためこの工程では、第２の陽極酸化工程における印加電圧Ｖ２から徐々に印加電圧を上昇させる。ここでこの印加電圧の上昇を離散的に（段階的に）実行すると、微小突起の高さ分布を離散的に設定することができ、深さの分布が異なる微細穴を混在させることができる。またこの印加電圧の上昇を連続的に変化させると、深さ分布を正規分布に設定することができる。   Subsequently, in this embodiment, the third anodic oxidation process is performed with the applied voltage V3 (V3> V2) higher than that during the second anodic oxidation, and then the etching process is performed (hereinafter referred to as a third process as appropriate). (FIG. 14 (c)). Here, the third step is a step for producing fine holes having different pitches. Therefore, in this step, the applied voltage is gradually increased from the applied voltage V2 in the second anodic oxidation step. Here, when the increase in the applied voltage is executed discretely (stepwise), the height distribution of the microprotrusions can be set discretely, and microholes having different depth distributions can be mixed. Further, when the increase in the applied voltage is continuously changed, the depth distribution can be set to a normal distribution.

さらにこの第３の工程において、陽極酸化に係る特定電圧の印加時間、エッチング処理の時間が、第１、第２工程よりも長く設定され、これにより符号ｆ３により示すように、第１工程、第２工程で作製された微細穴ｆ１、ｆ２を飲み込むように、これら微細穴ｆ１、ｆ２と合体して底部の略平坦な微細穴が作製される。   Further, in this third step, the application time of the specific voltage related to the anodic oxidation and the time of the etching process are set longer than those in the first and second steps, so that the first step, The fine holes f1 and f2 formed in the two steps are combined with the fine holes f1 and f2 so as to form a substantially flat fine hole at the bottom.

続いてこの実施形態では、第３の陽極酸化時より高い印加電圧Ｖ４（Ｖ４＞Ｖ３）により第４の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（以下、適宜、第４工程と呼ぶ）（図１４（ｄ））。ここでこの第４工程は、目的とする突起間間隔によるピッチにより微細穴を作製するための工程であり、これによりこの印加電圧Ｖ４はこのピッチに対応する電圧である。この第４工程において、印加電圧を上昇させることにより、第３工程により大きく掘り進められた微細穴の一部がさらに一段と掘り進められて、この掘り進められた微細穴が単峰性微小突起に対応する微細穴ｆ４となる。   Subsequently, in this embodiment, after performing the fourth anodic oxidation process with the applied voltage V4 (V4> V3) higher than that in the third anodic oxidation, the etching process is performed (hereinafter, referred to as a fourth process as appropriate). (FIG. 14D). Here, the fourth step is a step for producing a fine hole with a pitch according to a target interprotrusion interval, and the applied voltage V4 is a voltage corresponding to this pitch. In this fourth step, by increasing the applied voltage, a part of the fine hole dug deeply in the third step is further dug further, and the dug fine hole becomes a unimodal microprotrusion. The corresponding fine hole f4 is obtained.

続いてこの実施形態では、第１工程における印加電圧Ｖ１により第５の陽極酸化処理を実行した後、エッチング処理を実行する（図１４（ｅ））。ここでこの第５の工程において、第３工程により底面が平坦面とされた微細穴であって、第４の工程の陽極酸化処理の影響を受けていない微細穴について、底面に微細な穴が複数個形成され、これにより多峰突起用の微細穴ｆ５が作製される。ここでこの第５工程の印加電圧Ｖ１の大きさを調整することによって、底面に形成される微細な穴ｆ５の数を増やしたり、減らしたりすることができる。   Subsequently, in this embodiment, the fifth anodic oxidation process is performed by the applied voltage V1 in the first process, and then the etching process is performed (FIG. 14E). Here, in the fifth step, a fine hole whose bottom surface is flattened by the third step and is not affected by the anodizing treatment of the fourth step, a fine hole is formed on the bottom surface. A plurality of microholes f5 for multi-peak protrusions are formed. Here, by adjusting the magnitude of the applied voltage V1 in the fifth step, the number of fine holes f5 formed on the bottom surface can be increased or decreased.

ここでこの一連の工程では、第１及び第２の工程により作製された深さの異なる微細穴ｆ１、ｆ２を、第３の工程で掘り進めて底面の略平坦な微小突起ｆ３を作製し、第４の工程において、単峰性微小突起に係る微細穴を作製し、また第５の工程において、底面が平坦な微小突起ｆ３の底面を加工して単峰性微小突起に係る微細穴を作製していることにより、これら第１〜第４の工程に係る陽極酸化処理の印加電圧、処理時間、エッチング処理の処理時間等を制御して各工程で作製される微細穴の深さ等を制御することにより、微小突起の高さの分布、多峰性微小突起の高さの分布を制御することができる。なおこれら第１〜第５の工程は、必要に応じて省略したり、繰り返したり、工程を一体化してもよいことは言うまでも無い。   In this series of steps, the fine holes f1 and f2 having different depths produced in the first and second steps are dug in the third step to produce a substantially flat microprojection f3 on the bottom surface. In the fourth step, a fine hole related to the single-peaked microprojection is formed, and in the fifth step, the bottom surface of the microprojection f3 having a flat bottom surface is processed to form a microhole related to the single-peaked microprojection. By controlling the applied voltage, the processing time, the etching processing time, etc. of the anodizing treatment according to these first to fourth steps, the depth of the fine hole produced in each step is controlled. By doing so, it is possible to control the height distribution of the microprojections and the height distribution of the multimodal microprojections. Needless to say, these first to fifth steps may be omitted, repeated, or integrated as necessary.

なおこの実施形態では、高さ分布を上述したように正規分布の特性とすることにより、陽極酸化工程とエッチング工程とを５回繰り返すようにして、第１回目の陽極酸化工程の印加電圧をＶ１（１５Ｖ〜３５Ｖの範囲の一定電圧である）とし、第２回目、第３回目、第４回目、第５回目の陽極酸化工程の印加電圧をそれぞれ２Ｖ１、３．５Ｖ１、５Ｖ１、Ｖ１とした。なお陽極酸化処理は、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を使用して１００秒実施した。エッチング工程は、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を使用して４５秒間エッチング処理した後、濃度１．０Ｍのリン酸水溶液を使用して１１０秒間エッチング処理した。   In this embodiment, the height distribution is set to a normal distribution characteristic as described above, so that the anodizing step and the etching step are repeated five times, and the applied voltage in the first anodizing step is V1. The voltage applied in the second, third, fourth, and fifth anodic oxidation steps was 2V1, 3.5V1, 5V1, and V1, respectively. The anodizing treatment was performed for 100 seconds using an oxalic acid aqueous solution having a concentration of 0.02M. In the etching step, an etching process was performed for 45 seconds using an aqueous oxalic acid solution having a concentration of 0.02M, and then an etching process was performed for 110 seconds using an aqueous solution of phosphoric acid having a concentration of 1.0M.

以上の構成によれば、光拡散層４Ａを設けることにより、ぎらつきの発生原因である反射防止物品１の表面での反射光、画像表示パネルの内部光を散乱させて、これら反射光、内部光の干渉を低減することができ、その結果、従来に比してぎらつきを低減することができる。また従来に比して写り込みを低減することができ、一段とモスアイ構造に係る反射防止物品について、外来光の反射防止物品による品位の低下を防止することができる。   According to the above configuration, by providing the light diffusing layer 4A, the reflected light on the surface of the antireflection article 1 that causes glare and the internal light of the image display panel are scattered, and the reflected light and internal light are scattered. Interference can be reduced, and as a result, glare can be reduced as compared with the conventional case. Further, the reflection can be reduced as compared with the conventional case, and the deterioration of the quality of the antireflection article having the moth-eye structure due to the antireflection article of extraneous light can be prevented.

〔第２実施形態〕
図１５は、図１との対比により本発明の第２実施形態に係る反射防止物品を示す図である。この反射防止物品２１は、受容層４に代えて下地層３に光拡散粒子が混入され、これにより受容層４に代えて下地層３が光拡散層３Ａとして機能する。この反射防止物品２１は、この光拡散層３Ａに関する構成が異なる点を除いて、第１実施形態に係る反射防止物品１と同一に構成される。 [Second Embodiment]
FIG. 15 is a diagram showing an antireflection article according to a second embodiment of the present invention in comparison with FIG. In this antireflection article 21, light diffusing particles are mixed in the underlayer 3 instead of the receiving layer 4, whereby the underlayer 3 functions as the light diffusing layer 3 </ b> A instead of the receiving layer 4. The antireflection article 21 is configured in the same manner as the antireflection article 1 according to the first embodiment except that the configuration relating to the light diffusion layer 3A is different.

なおこれによりこの反射防止物品２１においては、光拡散層３Ａに係る光拡散粒子の粒径、混入量が、第１実施形態に係る反射防止物品１と同一に設定されて、下地層３により受容層４と基材２との密着力を充分に確保できるように、かつこの下地層３が光拡散層３Ａとして十分に機能してぎらつき、写り込みを防止できるように、厚み１μｍ以上、１０μｍ以下により作製される。   As a result, in this antireflection article 21, the particle size and mixing amount of the light diffusing particles related to the light diffusion layer 3 </ b> A are set to be the same as those of the antireflection article 1 according to the first embodiment, and are received by the underlayer 3. A thickness of 1 μm or more and 10 μm so that the adhesion between the layer 4 and the substrate 2 can be sufficiently secured, and the underlayer 3 functions sufficiently as the light diffusion layer 3A to prevent glare and reflection. It is produced by the following.

この第２実施形態のように、下地層に光拡散粒子を混入して光拡散層を構成するようにしても、第１実施形態と同様の効果を得ることができる。またこのように下地層を光拡散層として機能させることにより、受容層については、微小突起形状を充分に賦型できるように材料、製造条件等を選定することができ、生産管理を簡略化して生産性を向上することができる。   As in the second embodiment, the same effect as that of the first embodiment can be obtained even if the light diffusion layer is configured by mixing light diffusion particles in the base layer. In addition, by making the underlayer function as a light diffusing layer in this way, the material, manufacturing conditions, etc. can be selected for the receiving layer so that the shape of the microprojections can be sufficiently shaped, simplifying production management. Productivity can be improved.

〔第３実施形態〕
図１６は、図１との対比により本発明の第２実施形態に係る反射防止物品を示す図である。この反射防止物品３１は、基材２の受容層３とは逆側面に光拡散層７Ａが設けられる。この反射防止物品３１は、この光拡散層７Ａに関する構成が異なる点を除いて、反射防止物品１、２１と同一に構成される。 [Third Embodiment]
FIG. 16 is a diagram showing an antireflection article according to a second embodiment of the present invention in comparison with FIG. This antireflection article 31 is provided with a light diffusion layer 7 </ b> A on the side surface of the substrate 2 opposite to the receiving layer 3. The antireflection article 31 is configured in the same manner as the antireflection articles 1 and 21, except that the configuration relating to the light diffusion layer 7A is different.

ここで光拡散層７Ａは、例えば光拡散粒子を混入したハードコート層により構成するようにしてもよく、種々の作製手法を広く適用することができる。なおこれによりこの反射防止物品３１においては、光拡散層７Ａに係る光拡散粒子の粒径、混入量が、第１実施形態に係る反射防止物品１と同一に設定されて、光拡散層７Ａとして十分に機能してぎらつき、写り込みを防止できるように、厚み５μｍ以上、３０μｍ以下により作製される。   Here, the light diffusing layer 7A may be constituted by, for example, a hard coat layer mixed with light diffusing particles, and various manufacturing methods can be widely applied. As a result, in this antireflection article 31, the particle size and mixing amount of the light diffusing particles according to the light diffusion layer 7A are set to be the same as those of the antireflection article 1 according to the first embodiment, and the light diffusion layer 7A is obtained. It is manufactured with a thickness of 5 μm or more and 30 μm or less so as to function sufficiently and prevent glare and reflection.

この第３実施形態のように、基材２の受容層３とは逆側面に光拡散層７Ａを構成するようにしても、第１実施形態、第２実施形態と同様の効果を得ることができる。またこのように基材２の受容層３とは逆側面に光拡散層７Ａを設けることにより、受容層、下地層に係る材料、製造条件等を自由に選定することができ、生産管理を簡略化して生産性を向上することができる。   Even if the light diffusion layer 7A is configured on the side surface opposite to the receiving layer 3 of the substrate 2 as in the third embodiment, the same effects as in the first embodiment and the second embodiment can be obtained. it can. In addition, by providing the light diffusion layer 7A on the side surface opposite to the receiving layer 3 of the base material 2 in this way, materials, manufacturing conditions, etc. relating to the receiving layer and the base layer can be freely selected, and production management is simplified. To improve productivity.

〔比較検討結果〕
図１７は、実施例の検討結果を示す図表である。この図１７において、比較例は、上述の第１実施形態の構成において、光拡散粒子の混入を中止した構成である。より具体的に比較例においては、基材２に厚み８０μｍのＴＡＣフィルムを適用した。またペンタエリスリトールトリアクリレート又はイソホロンジイソシアネートを溶剤により希釈して塗工液を作製し、この塗工液の塗布、乾燥、硬化により厚み１μｍによる下地層を作製した。またポリエチレングリコールジアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートとの７０ｗｔ％及び３０ｗｔ％による混合物、又はポリエチレングリコールジアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの７０ｗｔ％及び３０ｗｔ％による混合物を溶剤により希釈し、シリコーンオイル系の重合性樹脂に係る塗工液を作製し、この塗工液を塗工、乾燥、賦型処理して微小突起を作製してなる受容層を厚み４０〜５０μｍにより作製した。 [Results of comparative study]
FIG. 17 is a chart showing the examination results of the examples. In FIG. 17, the comparative example is a configuration in which mixing of light diffusion particles is stopped in the configuration of the first embodiment described above. More specifically, in the comparative example, a TAC film having a thickness of 80 μm was applied to the substrate 2. Further, pentaerythritol triacrylate or isophorone diisocyanate was diluted with a solvent to prepare a coating solution, and a base layer having a thickness of 1 μm was prepared by applying, drying and curing the coating solution. In addition, a 70 wt% and 30 wt% mixture of polyethylene glycol diacrylate and pentaerythritol triacrylate, or a 70 wt% and 30 wt% mixture of polyethylene glycol diacrylate and hexamethylene diisocyanate is diluted with a solvent to form a silicone oil-based polymerizability. A coating solution relating to the resin was prepared, and a receiving layer formed by forming fine protrusions by coating, drying and shaping the coating solution was prepared with a thickness of 40 to 50 μm.

また実施例１−１、実施例１−２は、上述の第１実施形態の構成である。実施例１−１及び実施例１−２において、基材、下地層は、比較例と同一である。また受容層に係る樹脂材料は、比較例と同一であり、この樹脂材料にアクリル系樹脂による光拡散粒子を混入させて光拡散層を作製した。ここでこの光拡散粒子は、受容層に係る樹脂材料と重量比１：１により混入し、実施例１−１、実施例１−２でそれぞれ粒径５μｍ、８μｍである。また受容層の厚みは比較例と同一である。   In addition, Example 1-1 and Example 1-2 are the configurations of the above-described first embodiment. In Example 1-1 and Example 1-2, the base material and the base layer are the same as those in the comparative example. Moreover, the resin material which concerns on a receiving layer is the same as that of a comparative example, The light-diffusion layer was produced by mixing the light-diffusion particle | grains by acrylic resin in this resin material. Here, the light diffusing particles are mixed with the resin material related to the receiving layer at a weight ratio of 1: 1, and have a particle diameter of 5 μm and 8 μm, respectively, in Example 1-1 and Example 1-2. The thickness of the receiving layer is the same as that of the comparative example.

実施例２−１、実施例２−２は、上述の第２実施形態の構成である。実施例２−１、実施例２−２において、基材、受容層は、比較例と同一である。実施例２−１、実施例２−２において、下地層は、比較例と同一の樹脂材料に、光拡散粒子を混入して適用した。より具体的に、下地層は、ペンタエリスリトールトリアクリレート又はイソホロンジイソシアネートに対して、光拡散粒子を重量比１：１により混入した後、溶剤により希釈して塗工液を作製し、この塗工液の塗布、乾燥、硬化により作製した。実施例２−１、実施例２−２では、この光拡散粒子が、粒径３μｍのアクリル系樹脂であり、それぞれ膜厚３〜４μｍ、６〜７μｍにより下地層（光拡散層）を作製した。   Example 2-1 and Example 2-2 are the configurations of the second embodiment described above. In Example 2-1 and Example 2-2, the base material and the receiving layer are the same as those in the comparative example. In Example 2-1 and Example 2-2, the base layer was applied by mixing light diffusion particles in the same resin material as in the comparative example. More specifically, the undercoat layer is prepared by mixing light diffusing particles with pentaerythritol triacrylate or isophorone diisocyanate at a weight ratio of 1: 1 and then diluting with a solvent to prepare a coating solution. It was prepared by coating, drying and curing. In Example 2-1 and Example 2-2, the light diffusing particles were acrylic resin having a particle size of 3 μm, and the underlayer (light diffusing layer) was formed with a film thickness of 3 to 4 μm and 6 to 7 μm, respectively. .

図１７の計測結果は、これら比較例、実施例を画像表示パネルのパネル面に貼り付け、この画像表示パネルで白色を表示した状態で計測した。なおこの画像表示パネルは、８インチの液晶表示パネルであり、解像度は縦軸８００×横軸４８０であり、ドットピッチは０．２１８ｍｍ（１１０〜１３０ｐｐｉ）である。計測は、輝度計（ＰＲＯＭＥＴＲＩＣ）により計測した。   The measurement results in FIG. 17 were measured in a state where these comparative examples and examples were pasted on the panel surface of the image display panel and white was displayed on the image display panel. This image display panel is an 8-inch liquid crystal display panel, the resolution is 800 on the vertical axis and 480 on the horizontal axis, and the dot pitch is 0.218 mm (110 to 130 ppi). The measurement was performed with a luminance meter (PROMETRIC).

シンチレーション係数は、シンチレーションであるぎらつきの程度を数値化したものであり、複数個所で計測した輝度値の平均値を、標準偏差により割り算した係数である。この図１７の例では、計測対象から２００ｍｍ離間した位置で、計測対象の４隅と中央との計５か所で輝度分布を計測してシンチレーション係数を算出した。ここで別途、サンプルを作製して同一の画像表示パネルを使用した計測結果によれば、シンチレーション係数が２３．９以下になると、ぎらつきが知覚されなくなることが判った。   The scintillation coefficient is a coefficient obtained by quantifying the degree of glare that is a scintillation, and is a coefficient obtained by dividing an average value of luminance values measured at a plurality of locations by a standard deviation. In the example of FIG. 17, the scintillation coefficient is calculated by measuring the luminance distribution at a total of five locations, ie, at the four corners and the center of the measurement object, at a position 200 mm away from the measurement object. Here, according to a measurement result using a sample prepared separately and using the same image display panel, it was found that the glare is not perceived when the scintillation coefficient is 23.9 or less.

この図１７の計測結果では、目視によりシンチレーションの判定では、比較例以外では十分にぎらつきが低減されており、ぎらつきが知覚できないことが確認できた。またシンチレーション係数にあっても、このことを裏付ける計測値が得られた。   In the measurement result of FIG. 17, it was confirmed by visual inspection that the scintillation was judged so that glare was sufficiently reduced except for the comparative example, and that glare could not be perceived. In addition, even in the scintillation coefficient, a measured value supporting this was obtained.

またヘイズ値にあっては、十分に小さな値が得られており、また透過率にあっても、十分に大きな値が得られており、これらにより何ら実用に問題の無いことが判る。また反射率にあっても、０．４％以下であることにより、正面物体の写り込みを充分に防止できることが判る。   In addition, a sufficiently small value is obtained for the haze value, and a sufficiently large value is obtained for the transmittance, and it can be understood that there is no problem in practical use. It can also be seen that the reflection of the front object can be sufficiently prevented when the reflectance is 0.4% or less.

これらによりこれら実施例によれば、十分にぎらつきを防止し、さらには写り込みを低減できることが判る。   Accordingly, it can be seen that according to these embodiments, the glare can be sufficiently prevented and the reflection can be reduced.

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更し、さらには従来構成と組み合わせることができる。 [Other Embodiments]
The specific configuration suitable for the implementation of the present invention has been described in detail above. However, the present invention can be variously modified from the configuration of the above-described embodiment without departing from the spirit of the present invention, and further the conventional configuration. Can be combined.

すなわち上述の実施形態では、基材の上に下地層等を順次作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、種々の作成手法を広く適用することができ、例えば押し出し成型により基材と一体に微小突起を作製するようにして、この成型に係る樹脂材料に光拡散粒子を混入して基材自体が光拡散層として機能するように設定してもよい。   That is, in the above-described embodiment, the case where the base layer or the like is sequentially formed on the base material has been described. However, the present invention is not limited to this, and various production methods can be widely applied. It may be set so that the microprojections are produced integrally with the material, and the base material itself functions as a light diffusion layer by mixing light diffusion particles into the resin material according to this molding.

また上述の実施形態では、ロール版を使用した賦型処理によりフィルム形状による反射防止物品を生産する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により反射防止物品を作成する場合等、賦型処理に係る工程、金型は、反射防止物品の形状に係る透明基材の形状に応じて適宜変更することができる。   Moreover, although the above-mentioned embodiment described the case where the anti-reflective article by a film shape was produced by the shaping process using a roll plate, this invention is not limited to this, The transparent base material which concerns on the shape of an anti-reflective article Depending on the shape, for example, when creating an antireflection article by processing a sheet using a shaping mold with a specific curved shape, such as a flat plate, the process related to the shaping process, the mold is the antireflection article It can change suitably according to the shape of the transparent base material which concerns on a shape.

また上述の実施形態では、賦型用樹脂にアクリレート系の紫外線硬化性樹脂を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、エポキシ系、ポリエステル系等の各種紫外線硬化性樹脂、或いはアクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電子線硬化性樹脂、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を使用する場合にも広く適用することができ、さらには例えば加熱した熱可塑性の樹脂を押圧して賦型する場合等にも広く適用することができる。   In the above-described embodiment, the case where an acrylate-based ultraviolet curable resin is applied to the shaping resin has been described. However, the present invention is not limited thereto, and various ultraviolet curable resins such as epoxy-based and polyester-based resins, or Also when using various materials such as acrylate-based, epoxy-based, polyester-based electron beam curable resins, urethane-based, epoxy-based, polysiloxane-based thermosetting resins, and various types of curing resins The present invention can be widely applied. Further, for example, the present invention can be widely applied to the case of shaping by pressing a heated thermoplastic resin.

また、上述の実施形態では、図１に図示の如く、基材に下地層、受容層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、実用上十分な密着力を確保できる場合には、下地層を省略してもよく、また下地層を多層構造としても良い。   In the above-described embodiment, as shown in FIG. 1, the case where the base layer and the receiving layer are formed on the base material has been described. However, the present invention is not limited to this, and a practically sufficient adhesion can be secured. The base layer may be omitted, and the base layer may have a multilayer structure.

更に、上述の実施形態では、図１にも図示の如く、基材２の一方の面上にのみ（直接或いは他の層を介して）微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・を形成しているが、本発明はかかる形態には限定され無い。基材２の両面上に（直接或いは他の層を介して）各々微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・を形成した構成であっても良い。
また、図示は略すが、図１等に図示の如き本発明の反射防止物品１において、基材２の微小突起群形成面とは反対側の面（図１においては基材２の下側面）に各種接着剤層を形成し、更に該接着剤層表面に離型フィルム（離型紙）を剥離可能に積層してなる接着加工品の形態とすることも出来る。かかる形態においては、離型フィルムを剥離除去して接着剤層を露出せしめ、該接着剤層により所望の物品の所望の表面上に本発明の反射防止物品１を貼り合わせ、積層することが出来、簡便に所望の物品に反射防止性能を付与することが出来る。接着剤としては、粘着剤（感圧接着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱熔融型接着剤等の公知の接着形態のものが各種使用出来る。 Further, in the above-described embodiment, as shown in FIG. 1, the microprojections 5, 5A, 5B,... Are formed only on one surface of the base material 2 (directly or via another layer). However, the present invention is not limited to such a form. The microprojection groups 5, 5A, 5B,... May be formed on both surfaces of the substrate 2 (directly or via other layers).
Although not shown, in the antireflection article 1 of the present invention as shown in FIG. 1 and the like, the surface opposite to the surface on which the microprojections are formed of the substrate 2 (the lower surface of the substrate 2 in FIG. 1). Various adhesive layers are formed on the adhesive layer, and a release film (release paper) is laminated on the surface of the adhesive layer so as to be peelable. In such a form, the release film is peeled and removed to expose the adhesive layer, and the antireflection article 1 of the present invention can be laminated and laminated on the desired surface of the desired article by the adhesive layer. The antireflection performance can be easily imparted to a desired article. As the adhesive, various types of known adhesive forms such as a pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive adhesive), a two-component curable adhesive, an ultraviolet curable adhesive, a thermosetting adhesive, and a hot melt adhesive can be used. .

また、図示は略すが、図１等に図示の如き本発明の反射防止物品１において、微小突起群５、５Ａ、５Ｂ、・・形成面上に剥離可能な保護フィルムを仮接着した状態で保管、搬送、売買、後加工乃至施工を行い、しかる後に適時、該保護フィルムを剥離除去する形態とすることも出来る。かかる形態においては、保管、搬送等の間に微小突起群が損傷乃至は汚染して反射防止性能が低下することを防止することが出来る。   Although not shown, in the antireflection article 1 of the present invention as shown in FIG. 1 etc., the microprojections 5, 5 A, 5 B,... The protective film may be peeled and removed at an appropriate time after carrying, carrying, buying and selling, post-processing or construction. In such a form, it is possible to prevent the antireflection performance from being deteriorated due to damage or contamination of the microprojection group during storage, transportation and the like.

また、上述の実施形態では、図１、図２（ａ）に示すように、各隣接微小突起間の谷底（高さの極小点）を連ねた面は高さが一定な平面であったが、本発明はこれに限らず、図１８に示すように、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、可視光線帯域の最長波長λｍａｘ以上の周期Ｄ（すなわちＤ＞λｍａｘである）でうねった構成としてもよい。又該周期的なうねりは、基材２の表裏面に平行なＸＹ平面（図２参照）における１方向（例えばＸ方向）のみでこれと直交する方向（例えばＹ方向）には一定高さであっても良いし、或いはＸＹ平面における２方向（Ｘ方向及びＹ方向）共にうねりを有していても良い。Ｄ＞λｍａｘを満たす周期Ｄでうねった凹凸面６が多数の微小突起からなる微小突起群に重畳することによって、微小突起群で完全に反射防止し切れずに残った反射光を散乱し、残留反射光、とくに鏡面反射光を更に視認し難くし、以って、反射防止効果を一段と向上させることができる。   In the above-described embodiment, as shown in FIG. 1 and FIG. 2A, the surface connecting valley bottoms (minimum points of height) between adjacent minute protrusions is a flat surface having a constant height. However, the present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 18, the envelope surface connecting the valley bottoms between the microprotrusions undulates with a period D (that is, D> λmax) equal to or longer than the longest wavelength λmax of the visible light band. It is good also as a structure. In addition, the periodic undulation is only in one direction (for example, the X direction) on the XY plane (see FIG. 2) parallel to the front and back surfaces of the substrate 2 and at a constant height in the direction (for example, the Y direction). There may be waviness or both directions in the XY plane (X direction and Y direction) may have undulations. The uneven surface 6 wavy with a period D satisfying D> λmax is superimposed on a microprojection group consisting of a large number of microprojections, so that the reflected light remaining without being completely prevented from being reflected by the microprojection group is scattered and remains. Reflected light, particularly specularly reflected light, can be made more difficult to visually recognize, and the antireflection effect can be further improved.

尚、係る凹凸面６の周期Ｄが前面に渡って一定では無く分布を有する場合は、該凹凸面について凸部間距離の度数分布を求め、その平均値をＤ_ＡＶＧ、標準偏差をΣとしたときの、
Ｄ_ＭＩＮ＝Ｄ_ＡＶＧ―２Σ
として定義する最小隣接突起間距離を以って周期Ｄの代わりとして設計する。即ち、微小突起群の殘留反射光の散乱効果を十分奏し得る条件は、
Ｄ_ＭＩＮ＞λｍａｘ
である。通常、Ｄ又はＤ_ＭＩＮは１〜２００μｍ、好ましくは１０〜１００μｍとされる。
各微小突起の谷底を連ねた包絡面形が、Ｄ（又はＤ_ＭＩＮ）＞λｍａｘ、なる凹凸面６を呈する樣な微小突起群を形成する具体的な製造方法の一例を挙げると以下の通りである。即ち、ロール版１３の製造工程において、円筒（又は円柱）形状の母材の表面にサンドブラスト又はマット（つや消し）メッキによって凹凸面６の凹凸形状に対応する凹凸形状を賦形する。次いで、該凹凸形状の面上に、直接或いは必要に応じて適宜の中間層を形成した後、アルミニウム層を積層する。その後、該凹凸形状表面に対応した表面形状を賦形されたアルミニウム層に上述の実施形態と同様にして陽極酸化処理及びエッチング処理を施して微小突起５、５Ａ、５Ｂを含む微小突起群を形成する。 In addition, when the period D of the uneven surface 6 has a distribution that is not constant over the front surface, the frequency distribution of the distance between the protrusions is obtained for the uneven surface, and the average value is D _AVG and the standard deviation is Σ. When
D _MIN = D _AVG -2Σ
Designed as an alternative to period D with a minimum inter-protrusion distance defined as That is, conditions that can sufficiently exhibit the scattering effect of the reflected light of the microprojections are as follows:
D _MIN > λmax
It is. Usually, D or D _MIN is 1 to 200 μm, preferably 10 to 100 μm.
An example of a specific manufacturing method for forming a concavo-convex microprojection group having an uneven surface 6 in which the envelope surface connecting the valley bottoms of each microprojection is D (or D _MIN )> λmax is as follows. is there. That is, in the manufacturing process of the roll plate 13, a concavo-convex shape corresponding to the concavo-convex shape of the concavo-convex surface 6 is formed on the surface of a cylindrical (or columnar) base material by sandblasting or mat (matte) plating. Next, an appropriate intermediate layer is formed directly or if necessary on the uneven surface, and then an aluminum layer is laminated. Thereafter, an aluminum layer formed with a surface shape corresponding to the uneven surface is subjected to anodizing treatment and etching treatment in the same manner as in the above embodiment to form a microprojection group including microprojections 5, 5A, 5B. To do.

また上述の実施形態では、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにより微細穴を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、フォトリソグラフィーの手法を適用して微細穴を作製する場合にも広く適用することができる。   Further, in the above-described embodiment, the case where the fine hole is produced by repeating the anodizing treatment and the etching treatment has been described. However, the present invention is not limited to this, and the case where the fine hole is produced by applying a photolithography technique. Can also be widely applied.

また上述の実施形態では、反射防止フィルムに係る画像表示パネルにフィルム形状による反射防止物品を配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、種々の用途に適用することができる。具体的には、画像表示パネルの画面上に間隙を介して設置されるタッチパネル、各種の窓材、各種光学フィルタ等による表面側部材の裏面（画像表示パネル側）に配置する用途に適用することができる。   Moreover, although the above-mentioned embodiment described the case where the anti-reflective article by a film shape is arrange | positioned to the image display panel which concerns on an anti-reflective film, this invention is applicable not only to this but to various uses. Specifically, it should be applied to applications that are placed on the back surface (image display panel side) of the surface side member such as a touch panel, various window materials, various optical filters, etc. installed on the screen of the image display panel through a gap. Can do.

また店舗のショウウインドウや商品展示箱、美術館の展示物の展示窓や展示箱等に使用する硝子板表面（外界側）、或いは表面及び裏面（商品又は展示物側面）の両面に配置するようにしても良い。なおこの場合、該硝子板表面の光反射防止による商品、美術品等の顧客や観客に対する視認性を向上することができる。   In addition, it is arranged on the glass plate surface (external side) used for the store show window and product display box of the store, the display window and display box of the exhibition of the museum, or both of the front and back surfaces (product or display side). May be. In this case, it is possible to improve the visibility for customers and spectators of products, artworks, etc. by preventing light reflection on the surface of the glass plate.

また眼鏡、望遠鏡、写真機、ビデオカメラ、銃砲の照準鏡（狙撃用スコープ）、双眼鏡、潜望鏡等の各種光学機器に用いるレンズ又はプリズムの表面に配置する場合にも広く適用することができる。この場合、レンズ又はプリズム表面の光反射防止による視認性を向上することができる。またさらに書籍の印刷部（文字、写真、図等）表面に配置する場合にも適用して、文字等の表面の光反射を防止し、文字等の視認性向上することができる。また看板、ポスター、其の他各種店頭、街頭、外壁等における各種表示（道案内、地図、或いは禁煙、入口、非常口、立入禁止等）の表面に配置して、これらの視認性を向上することができる。またさらに白熱電球、発光ダイオード、螢光燈、水銀燈、ＥＬ（電場発光）等を用いた照明器具の窓材（場合によっては、拡散板、集光レンズ、光学フィルタ等も兼ねる）の入光面側に配置するようにして、窓材入光面の光反射を防止し、光源光の反射損失を低減し、光利用効率を向上することができる。またさらに時計、其の他各種計測機器の表示窓表面（表示観察者側）に配置して、これら表示窓表面の光反射を防止し、視認性を向上することができる。   Further, the present invention can be widely applied to the case where the lens or prism is used on various optical devices such as glasses, a telescope, a camera, a video camera, a gun sighting mirror (sniper scope), binoculars, a periscope, and the like. In this case, the visibility by preventing light reflection on the lens or prism surface can be improved. Furthermore, it can also be applied to the case where it is arranged on the surface of a printed part (characters, photos, drawings, etc.) of a book to prevent light reflection on the surface of characters and the like and improve the visibility of characters and the like. In addition, it should be placed on the surface of signs (posters, posters, various other stores, streets, exterior walls, etc.) (road guidance, maps, smoking cessation, entrances, emergency exits, no entry, etc.) to improve visibility. Can do. In addition, a light entrance surface of a window material for a lighting fixture using incandescent bulbs, light emitting diodes, fluorescent lamps, mercury lamps, EL (electroluminescence), etc. (in some cases, it also serves as a diffuser plate, condenser lens, optical filter, etc.) By arranging it on the side, it is possible to prevent the light reflection of the light incident surface of the window material, reduce the reflection loss of the light source light, and improve the light utilization efficiency. Furthermore, it can arrange | position on the display window surface (display observer side) of a timepiece and other various measuring devices, the light reflection of these display window surfaces can be prevented, and visibility can be improved.

またさらに、自動車、鉄道車両、船舶、航空機等の乗物の操縦室（運転室、操舵室）の窓の室内側、室外側、あるいはその両側の表面に配置して窓における室内外光を反射防止して、操縦者（運転者、操舵者）の外界視認性を向上することができる。またさらに、防犯等の監視、銃砲の照準、天体観測等に用いる暗視装置のレンズないしは窓材表面に配置して、夜間、暗闇での視認性を向上することができる。   Furthermore, it is placed on the inside, outside, or both sides of the windows of the cockpits (driver's cabs, wheelhouses) of vehicles such as automobiles, railway vehicles, ships, and aircraft to prevent reflection of indoor and outdoor light from the windows. Thus, it is possible to improve the visibility of the outside world of the driver (driver, driver). Furthermore, it can be arranged on the surface of a night vision device lens or window material used for crime prevention monitoring, gun sighting, astronomical observation, etc. to improve visibility at night and in the dark.

またさらに、住宅、店舗、事務所、学校、病院等の建築物の窓、扉、間仕切、壁面等を構成する透明基板(窓硝子等)の表面（室内側、室外側、あいはその両側）の表面に配置して、外界の視認性、あるいは採光効率を向上することができる。またさらに、温室、農業用ビニールハウスの透明シート、ないしは透明板（窓材）の表面に配置して、太陽光の採光効率を向上することができる。さらにまた、太陽電池表面に配置して、太陽光の利用効率（発電効率）を向上することができる。   Furthermore, the surface of the transparent substrate (window glass, etc.) that constitutes windows, doors, partitions, wall surfaces, etc. of buildings such as houses, stores, offices, schools, hospitals, etc. (inside, outside, or both sides) It is possible to improve the visibility of the outside world or the daylighting efficiency. Furthermore, it can arrange | position on the surface of a greenhouse, the transparent sheet | seat of an agricultural greenhouse, or a transparent board (window material), and can improve the sunlight lighting efficiency. Furthermore, it can arrange | position on the solar cell surface and can improve the utilization efficiency (power generation efficiency) of sunlight.

またさらに透明の部位以外の、不透明な部位についても、広く適用して、反射防止を図る場合に広く適用することができる。   Further, it can be widely applied to an opaque portion other than a transparent portion in order to prevent the reflection widely.

またさらに、上述の実施形態においては、反射防止を図る電磁波の波長帯域を、専ら、可視光線帯域（の全域又は一部帯域）としたが、本発明はこれに限らず、反射防止を図る電磁波の波長帯域を赤外線、紫外線等の可視光線以外の波長帯域に設定しても良い。その場合は前記の各条件式中において、電磁波の波長帯域の最短波長Λｍｉｎを、それぞれ、赤外線、紫外線等の波長帯域における反射防止効果を希望する最短波長に設定すれば良い。例えば、最短波長Λｍｉｎが８５０ｎｍの赤外線帯域の反射防止を希望する場合は、隣接突起間距離ｄ（乃至は其の最大値ｄｍａｘ）を８５０ｎｍ以下、例えば、ｄ（ｄｍａｘ）＝８００ｎｍと設計すれば良い。尚、この場合は、可視光線帯域（３８０〜７８０ｎｍ）においては反射防止効果は期待し得ず、專ら波長８５０ｎｍ以上の赤外線に対しての反射防止効果を奏する反射防止物品が得られる。   Furthermore, in the above-described embodiment, the wavelength band of the electromagnetic wave for preventing reflection is exclusively the visible light band (all or part of the visible light band), but the present invention is not limited to this, and the electromagnetic wave for preventing reflection. May be set to a wavelength band other than visible light rays such as infrared rays and ultraviolet rays. In that case, the shortest wavelength Λmin in the wavelength band of the electromagnetic wave may be set to the shortest wavelength in which the antireflection effect in the wavelength band of infrared rays, ultraviolet rays, etc. is desired in each conditional expression. For example, when it is desired to prevent reflection in the infrared band where the shortest wavelength Λmin is 850 nm, the distance d between adjacent protrusions (or its maximum value dmax) may be designed to be 850 nm or less, for example, d (dmax) = 800 nm. . In this case, an antireflection effect cannot be expected in the visible light band (380 to 780 nm), and an antireflection article exhibiting an antireflection effect for infrared rays having a wavelength of 850 nm or more can be obtained.

以上例示の各種実施形態において、硝子板等の透明基板の表面、裏面、或いは表裏両面に本発明のフィルム状の反射防止物品を配置する場合、該透明基板の全面に亙って配置、被覆する以外に、一部分の領域にのみ配置することも出来る。かかる例としては、例えば、１枚の窓硝子について、其の中央部分の正方形領域において、室内側表面にのみフィルム状の反射防止物品を粘着剤で貼着し、その他領域には反射防止物品を貼着し無い場合を挙げることが出来る。透明基板の一部分の領域にのみ反射防止物品を配置する形態の場合は、特別な表示や衝突防止柵等の設置無しでも、該透明基板の存在を視認し易くして、人が該透明基板に衝突、負傷する危険性を低減する効果、及び室内（屋内）の覗き見防止と該透明基板の（該反射防止物品の配置領域における）透視性とが両立出来ると言う効果を奏し得る。   In the various exemplary embodiments described above, when the film-shaped antireflection article of the present invention is disposed on the front surface, back surface, or both front and back surfaces of a transparent substrate such as a glass plate, it is disposed and covered over the entire surface of the transparent substrate. In addition, it can be arranged only in a partial area. As an example of this, for example, for a single window glass, a film-shaped antireflection article is attached to the indoor side surface only with an adhesive in a square area at the center, and an antireflection article is provided in the other areas. The case where it does not stick can be mentioned. In the case where the antireflection article is arranged only in a partial area of the transparent substrate, it is easy to visually recognize the presence of the transparent substrate without special display or a collision prevention fence, etc. The effect of reducing the risk of collision and injury, and the effect that both the prevention of peeping indoors (indoors) and the transparency of the transparent substrate (in the region where the antireflection article is disposed) can be achieved.

１、２１、３１ 反射防止物品
２ 基材
４ 紫外線硬化性樹脂層、受容層
５、５Ａ、５Ｂ 微小突起
６ 凹凸面
１０ 製造工程
１２ ダイ
１３ ロール版
１４、１５ ローラ
２１ 母材
ｇ 溝 1, 21, 31 Anti-reflective article 2 Base material 4 UV curable resin layer, receiving layer 5, 5A, 5B Microprojections 6 Concavity and convexity 10 Manufacturing process 12 Die 13 Roll plate 14, 15 Roller 21 Base material g Groove

Claims (5)

微小突起が密接して配置され、隣接する前記微小突起の間隔が、反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長以下である反射防止物品において、
光拡散粒子を備えた光拡散層を備える
反射防止物品。 In the antireflection article in which the microprotrusions are closely arranged and the interval between the adjacent microprotrusions is equal to or less than the shortest wavelength of the wavelength band of the electromagnetic wave to prevent reflection,
An antireflection article comprising a light diffusing layer comprising light diffusing particles. 透明フィルム材による基材の表面に、前記光拡散層、前記微小突起が順次作製された
請求項１に記載の反射防止物品。 The antireflection article according to claim 1, wherein the light diffusion layer and the minute protrusions are sequentially formed on a surface of a base material made of a transparent film material. 透明フィルム材による基材の表面に前記微小突起が作製され、前記基材の前記微小突起とは逆側面に、前記光拡散層が作製された
請求項１に記載の反射防止物品。 The antireflection article according to claim 1, wherein the microprotrusions are formed on a surface of a base material made of a transparent film material, and the light diffusion layer is formed on a side surface opposite to the microprotrusions of the base material. 前記微小突起は、賦型用金型を使用した賦型用樹脂の賦型処理により作製され、
前記光拡散層は、前記賦型用樹脂に前記光拡散粒子が混入されて、前記微小突起と一体に作製された
請求項１又は請求項２に記載の反射防止物品。 The microprojections are produced by a molding process of a molding resin using a molding mold,
The antireflection article according to claim 1, wherein the light diffusing layer is manufactured integrally with the microprojections by mixing the light diffusing particles in the shaping resin. 請求項１、請求項２、請求項３、請求項４の何れかに記載の反射防止物品を、画像表示パネルのパネル面に配置した画像表示装置。   An image display device in which the antireflection article according to any one of claims 1, 2, 3, and 4 is disposed on a panel surface of an image display panel.