JP2015531953A - プロセスモジュール及びその製造方法と、プロセスモジュールを用いた基板処理方法 - Google Patents
プロセスモジュール及びその製造方法と、プロセスモジュールを用いた基板処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015531953A JP2015531953A JP2015532984A JP2015532984A JP2015531953A JP 2015531953 A JP2015531953 A JP 2015531953A JP 2015532984 A JP2015532984 A JP 2015532984A JP 2015532984 A JP2015532984 A JP 2015532984A JP 2015531953 A JP2015531953 A JP 2015531953A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate processing
- cell
- substrate
- carrier member
- processing method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
- G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
- G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
- G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
- G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
- G06F3/0443—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133351—Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/13338—Input devices, e.g. touch panels
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
- G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
- G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Human Computer Interaction (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
本発明は、プロセスモジュール(process module)及びその製造方法と、プロセスモジュールを用いた基板処理方法に関係する。前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従ってキャリア部材に接着剤で固定された構造であることを特徴とし、その製造は、前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板を前記キャリア部材に接着させる工程とを含んで実施される。前記基板処理方法は、前記プロセスモジュールを一体にして前記複数のセル基板に対して同時に前記基板処理工程を実施することを特徴とし、選択的に前記基板処理工程での前記複数のセル基板に対する整列基準を前記プロセスモジュールでのセル基板の整列状態に補正する工程を含みうる。【選択図】図1
Description
本発明は、プロセスモジュール(process module)及びその製造方法と、プロセスモジュールを用いた基板処理方法に関する。
ここで、前記「基板(substrate)」は、ディスプレイ機器に使用される面要素(surface element)と関係がある。
また、前記「処理」は、基板に対して表面文様のような装飾的な要素を提供するための工程と、薄膜のような機能的な要素を提供するための工程とを含む。
最近、ディスプレイ機器に使用される基板の中で、ディスプレイ機器の外面を構成するカバーガラスまたはタッチスクリーン用ガラスは、摩耗と衝撃から保護されうるように表面の強化されたガラスを採択している。特に、携帯性が高くベゼル幅を最小化した形態(narrow bezel)のディスプレイ機器、例えばスマートフォンに用いられる基板の場合、基板の側面が外部衝撃に最も脆弱なために、微細な亀裂を軽減させて強度を増加させるための機械的または化学的研磨が行われるか、基板の表面に対して強度を補強する強化処理を行うか、またはこのような工程をすべて行っている。また、通常の強化ガラスの他にもサファイアのような超高強度素材を採用する場合もある。
前記基板に対しては、表面文様などのような装飾的な要素を印刷したり、タッチスクリーン機能具現のためのセンサ層、電極層などのような薄膜を形成する基板処理工程が行われるが、従来、このような基板処理方法は、「シート方式」または「セル方式」で行われている。
「シート方式」は、大面積の原板シートを対象に強化させた後、シート上に区画されたセル領域に対してのみ選択的に印刷または薄膜形成工程を行い、原板シートを区画されたセル単位で切断して分離する方式により行われる。このような「シート方式」は、印刷または薄膜工程のような基板処理工程をシート単位で行うことによって、生産性が高くかつ製造費用が低いという長所がある。
しかしながら、表面強化された原板シートをセル単位で切断し難く切断工程から発生する微細亀裂によって、切断面、すなわち基板側面の強度が低下して製品の耐久性が低下するという問題と、加工難易度によって収率が低くなるという問題がある。「シート方式」においてこのような問題点を改善するための一例として、韓国特許出願10−2012−7007863は、パルスレーザーを利用して化学強化されたガラスシートをカットする方法を開示しており、韓国特許出願10−2012−0014156は、物理的切断時に発生する微細亀裂を化学的エッチングにより緩和したり、切断面を研磨することに関して開示している。前記先行文献らが開示している切断及び研磨工程は、直線形態の側面加工時、ある程度の側面強度を補完できるが、基本的に表面強化された原板シートを対象にするために、曲線形態の側面または基板内部のホールなどを加工し難いため、基板の外形デザインに制約があり、後工程で強化処理をしても十分な強度を確保し難いため、製品の耐久性にも問題があり、量産適用が容易でない状態にある。
このような「シート方式」において切断工程中に発生する問題点を改善しようとする前記のような努力にもかかわらず、伝統的な「シート方式」は、切断されて露出したセルの側面部位には十分な強度を付与することができないから、側面部がケースまたはフレームなどの器具的な要素によりカバーされることによって補完された、すなわちベゼル幅が広くても十分なディスプレイの大きさを確保することができる一部のタブレットまたはノートパソコン用ディスプレイ機器分野に使用される基板を製作するのに制限されている。すなわち、「シート方式」は、ベゼル幅を最小化した形態のディスプレイ機器に使用される基板のうち、低い程度の側面強度が求められる基板製作のみに限定的に適用されうる本質的な限界を有する。
また、「セル方式」では、基板処理工程の前にセル基板に対して500℃以上の温度でNa+とK+イオン交換を利用した化学強化処理を介して基板の耐久性を確保しているが、このような化学強化処理を「シート方式」に採用する場合に、既に形成された印刷層または薄膜層が高温の化学物質により損傷しうるため、セル基板の側面部位に対する強化は、「シート方式」では現実的に不可能である。
一方、本願の出願人による韓国特許出願10−2013−0011942では、シートの厚さの一部分をまず切断し、化学強化を行った後にシート単位で基板処理を行い、最終的に残りの切断しない部分を切断することによって、基本的に「シート方式」が有する長所を維持しながらも切断面に対する側面強度を補完することに対して開示している。
しかしながら、前記韓国特許出願10−2013−0011942による方法は、切断面に対する側面強度確保のために部分切断される厚さの大きさを最大にしなければならないために、後続のシート単位の基板処理工程中に切断されない部分が容易に破損する可能性を伴う。
上述ように、伝統的な「シート方式」は、工程が単純でかつ生産性が高いという長所にもかかわらず、切断面の強度補強が充分でなく強化処理が難しい本質的な限界を有するから、特にスマートフォンのように携帯性が高く、かつベゼル幅を最小化した形態のディスプレイ機器に適用されうる基板製作は、原板シートをセル単位でまず切断した後、個別セル基板を対象に研磨、強化処理及び基板処理工程を実施する、いわゆる「セル方式」が現実的な方案として一般に採択されている。
「セル方式」では、セル単位で切断された状態で強化工程を行うから、前述した「シート方式」が有する切断面での加工品質及び側面強度問題を効果的に解決できるという長所があるが、基板処理工程は、セル基板がバラで個別治具に収容された状態で行われるために、「シート方式」に比べて基本的に生産性及び価格競争力が低いという問題がある。
なお、「セル方式」は、基板処理工程の前に切断工程を行うことに伴われる現実的な問題がある。すなわち、現在の加工技術の限界上、切断されたセル基板には、±30μm範囲の加工公差がある。このような加工公差によってセル基板の側面と治具の内壁面とに間には、数十マイクロメートル大きさ以上のギャップが発生し、前記ギャップは、数マイクロメートル単位で行われる印刷層または薄膜層の形成などの基板処理工程において相対的に大きな数値である。
結果的に、従来の「セル方式」に従って該当基板処理工程を実施するためには、治具に収容された基板に対して別途の精密な整列工程と整列された状態で治具下端に備えられる真空チャック装置などを利用して暫定的に固定する工程が行われなければならず、複数の基板処理工程を実施する場合、このような基板整列及び暫定固定工程は、各々の基板処理工程ごとに毎度繰り返し的に行われなければならないために、「セル方式」での生産性低下の問題がさらに深刻化する。
また、「セル方式」においてこのような複数の基板処理工程を時間的にまたは空間的に分離して行わなければならないという制約条件がある場合、ある一つの基板処理工程が完了した後、次の基板処理工程のためにセル基板の各々が独立して取り扱われなければならず、この工程でセル基板自体が外部環境に直接的に露出して損傷する可能性と、これを防止するための付帯費用が増加するという問題がある。
以上のように、基板、スマートフォンのように携帯性が高く、かつベゼル幅を最小化した形態のディスプレイ機器に使用されるウィンドウ基板を処理するのにおいて、伝統的な「シート方式」は、切断面の加工品質または側面強度が低下する未解決問題を有しており、伝統的な「セル方式」は、生産性が低下し価格競争力が低くなるという未解決の問題を有しているから、このような諸問題を同時に解決できる新しい基板処理方法が必要である。
本発明の目的は、ディスプレイ機器に使用される基板の切断面に対する加工品質及び/または側面強度を維持しながらも高い生産性を有する新しい基板処理方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、各々の基板処理工程が時間的にまたは空間的に分離された状況でも、基板が損傷する可能性を減少させながら高い生産効率性を維持できる新しい基板処理方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、特にスマートフォンのように携帯性が高く、かつベゼル幅を最小化した形態のディスプレイ機器に使用される基板の製作に適した新しい基板処理方法を提供することにある。
本発明のさらに他の目的は、上述の基板処理方法に利用されるプロセスモジュール及びその製造方法を提供することにある。
本発明者らは、特にスマートフォンのように携帯性が高く、かつベゼル幅を最小化した形態のディスプレイ機器に使用されるのに適した基板を高い生産性と収率で製造できる新しい基板処理方法を開発する工程において、基板側面に対する加工品質または強度を確保するためには、従来の「セル方式」に従って基板に対するセル単位分離工程及び/または強化処理工程が基板処理工程の前に行われなければならないという限界に基づくものの、従来の「セル方式」に従う基板処理工程上の非効率性を改善する必要性を認知した。
具体的に本発明者らは、従来の「セル方式」の非効率性は、各々の基板処理工程中、個別基板に対する整列工程と整列された状態で暫定的に固定する工程を個別基板単位で繰り返し的に行わなければならないことが主な原因であると認識し、このような問題を解決するために、複数のセル基板が整列された状態で別途のキャリア部材上に一体に具現化された構造のプロセスモジュールを製作して、このようなプロセスモジュールを基板処理工程の単位で導入する方式を考案して、これを「セル方式」に従う基板処理工程上の非効率性を改善するための本発明の基本的な技術的思想として導入した。
このような基本的な技術的思想をさらに具体化する工程において本発明者らは、基板処理工程上の実質的な効率性を期待するためには、(a)プロセスモジュールを製作する工程において、少なくともプロセスモジュールでのセル基板の整列状態(以下、「モジュールテンプレート」とする)が複数のプロセスモジュールの間で同一で、さらに好ましくは、このような「モジュールテンプレート」が処理工程において要求される複数のセル基板に対する整列基準(以下、「工程テンプレート」とする)と同一に再現され、(b)前記「モジュールテンプレート」が少なくとも1つの基板処理工程の前後で変わらず維持され、(c)基板処理工程が完了した後、セル基板がプロセスモジュールから容易に分離されるのをさらに他の主要解決課題として認識した。
特に、前記(a)と関連しては、現在技術水準において原板シートをセル基板で切断する際に発生するセル基板に対する加工公差と、前記プロセスモジュールを製作するのに利用される治具などの道具製作の際に発生する加工公差を考慮した解決手段を具体化し、前記(b)及び(c)と関連しては、各々の基板処理工程での工程条件と、分離工程での容易性と共に分離後のセル基板とキャリア部材の損傷抑制を考慮した解決手段を具体化して、本発明に至った。一方、前記基板処理工程が複数から構成され、各々の基板処理工程が時間的にまたは空間的に分離された場合、前記プロセスモジュールから基板を分離する工程は、最後の基板処理工程が行われた以後に行われることを予定できる。
以上の解決課題に対する認識及びこれに基づいた解決手段に関する本発明の要旨は、以下のとおりである。
(1)原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法であって、前記複数のセル基板が整列された状態でキャリア部材に接着された構造のプロセスモジュールを製作する工程と、前記プロセスモジュールを一体にして前記基板処理工程を実施する工程とを含む基板処理方法。
(2)前記セル基板は、プロセスモジュールの形成前に表面強化処理されたことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(3)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用したことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(4)前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする前記(3)による基板処理方法。
(5)前記少なくとも1つの基板処理工程は、装飾的な要素または機能的な要素のうちのいずれか1つ以上を提供することを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(6)前記基板処理工程は、複数工程から構成され、時間的にまたは空間的に分離されていることを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(7)前記機能的な要素は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする前記(5)による基板処理方法。
(8)前記基板処理工程は、最終寸法で加工された素子を対象として、これらの素子を互いに接合する工程であることを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(9)前記キャリア部材は、セル基板と同じ熱膨脹係数を有することを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(10)前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(11)前記基板処理工程以後に前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程をさらに含むことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(12)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、水に浸す方式により行われることを特徴とする前記(11)による基板処理方法。
(13)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、UVを照射する方式により行われることを特徴とする前記(11)による基板処理方法。
(14)前記キャリア部材から分離されたセル基板を洗浄する工程をさらに含むことを特徴とする前記(11)による基板処理方法。
(15)前記プロセスモジュールを製作する工程は、
前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板をキャリア部材に接着させる工程とを含むことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(16)前記複数のセル基板を整列する工程は、
中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする前記(15)による基板処理方法。
(17)前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする前記(16)による基板処理方法。
(18)前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする前記(15)による基板処理方法。
(19)原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法に利用されるプロセスモジュールであって、前記複数のセル基板は、予め設定された整列基準に従ってキャリア部材に接着剤で固定された構造であることを特徴とするプロセスモジュール。
(20)前記セル基板は、表面強化処理されたことを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(21)前記接着剤は、解体性接着剤であることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(22)前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする前記(21)によるプロセスモジュール。
(23)前記キャリア部材は、セル基板と熱膨脹係数が同じであることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(24)前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(25)前記キャリア部材は、複数の貫通部を具備し、前記セル基板の各々は、前記複数の貫通部の間のブリッジに接着されることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(26)前記キャリア部材は、セル基板を収容するリセスを備えたことを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(27)前記キャリア部材の上面でセル基板の間を充填するフィラーが備えられたことを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(28)前記キャリア部材のリセス側部には、吹出溝が形成されたことを特徴とする前記(26)によるプロセスモジュール。
(29)前記キャリア部材のリセスの底には、貫通ホールが形成されたことを特徴とする前記(26)によるプロセスモジュール。
(30)前記キャリア部材には、整列用マークが提供されることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(31)前記セル基板は、印刷層、薄膜層またはこれらを組み合わせた層を備えることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(32)前記薄膜層は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする前記(31)によるプロセスモジュール。
(33)原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法に利用されるプロセスモジュールを製造する方法であって、前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板を前記キャリア部材に接着させる工程とを含むプロセスモジュールの製造方法。
(34)前記複数のセル基板を整列する工程は、中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする前記(33)によるプロセスモジュールの製造方法。
(35)前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする前記(33)によるプロセスモジュールの製造方法。
(36)前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする前記(33)によるプロセスモジュールの製造方法。
(37)前記複数のセル基板を整列する工程以後に、前記複数のセル基板を真空吸着で一時固定する工程をさらに含むことを特徴とする前記(33)によるプロセスモジュールの製造方法。
(38)原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法であって、前記複数のセル基板を整列された状態でキャリア部材に接着された構造のプロセスモジュールを製作した後、前記プロセスモジュールを一体にして前記複数のセル基板に対して同時に前記基板処理工程を実施するとともに、前記基板処理工程での前記複数のセル基板に対する整列基準は前記プロセスモジュールでのセル基板の整列状態に補正されることを特徴とする基板処理方法。
(39)前記セル基板は、プロセスモジュールの形成前に表面強化処理されたことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(40)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用したことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(41)前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする前記(40)による基板処理方法。
(42)前記少なくとも1つの基板処理工程は、装飾的な要素または機能的な要素のうちのいずれか1つ以上を提供することを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(43)前記基板処理工程は、複数工程から構成され、時間的にまたは空間的に分離されていることを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(44)前記機能的な要素は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする前記(42)による基板処理方法。
(45)前記基板処理工程は、最終寸法で加工された素子を対象として、これらの素子を互いに接合する工程であることを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(46)前記キャリア部材は、セル基板と同じ熱膨脹係数を有することを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(47)前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(48)前記基板処理工程以後に前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程をさらに含むことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(49)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、水に浸す方式により行われることを特徴とする前記(48)による基板処理方法。
(50)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、UVを照射する方式により行われることを特徴とする前記(48)による基板処理方法。
(51)前記キャリア部材から分離されたセル基板を洗浄する工程をさらに含むことを特徴とする前記(48)による基板処理方法。
(52)前記プロセスモジュールを製作する工程は、前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板をキャリア部材に接着させる工程とを含むことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(53)前記複数のセル基板を整列する工程は、中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする前記(52)による基板処理方法。
(54)前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする前記(53)による基板処理方法。
(55)前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする請求項52による基板処理方法。
(1)原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法であって、前記複数のセル基板が整列された状態でキャリア部材に接着された構造のプロセスモジュールを製作する工程と、前記プロセスモジュールを一体にして前記基板処理工程を実施する工程とを含む基板処理方法。
(2)前記セル基板は、プロセスモジュールの形成前に表面強化処理されたことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(3)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用したことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(4)前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする前記(3)による基板処理方法。
(5)前記少なくとも1つの基板処理工程は、装飾的な要素または機能的な要素のうちのいずれか1つ以上を提供することを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(6)前記基板処理工程は、複数工程から構成され、時間的にまたは空間的に分離されていることを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(7)前記機能的な要素は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする前記(5)による基板処理方法。
(8)前記基板処理工程は、最終寸法で加工された素子を対象として、これらの素子を互いに接合する工程であることを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(9)前記キャリア部材は、セル基板と同じ熱膨脹係数を有することを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(10)前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(11)前記基板処理工程以後に前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程をさらに含むことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(12)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、水に浸す方式により行われることを特徴とする前記(11)による基板処理方法。
(13)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、UVを照射する方式により行われることを特徴とする前記(11)による基板処理方法。
(14)前記キャリア部材から分離されたセル基板を洗浄する工程をさらに含むことを特徴とする前記(11)による基板処理方法。
(15)前記プロセスモジュールを製作する工程は、
前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板をキャリア部材に接着させる工程とを含むことを特徴とする前記(1)による基板処理方法。
(16)前記複数のセル基板を整列する工程は、
中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする前記(15)による基板処理方法。
(17)前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする前記(16)による基板処理方法。
(18)前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする前記(15)による基板処理方法。
(19)原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法に利用されるプロセスモジュールであって、前記複数のセル基板は、予め設定された整列基準に従ってキャリア部材に接着剤で固定された構造であることを特徴とするプロセスモジュール。
(20)前記セル基板は、表面強化処理されたことを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(21)前記接着剤は、解体性接着剤であることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(22)前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする前記(21)によるプロセスモジュール。
(23)前記キャリア部材は、セル基板と熱膨脹係数が同じであることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(24)前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(25)前記キャリア部材は、複数の貫通部を具備し、前記セル基板の各々は、前記複数の貫通部の間のブリッジに接着されることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(26)前記キャリア部材は、セル基板を収容するリセスを備えたことを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(27)前記キャリア部材の上面でセル基板の間を充填するフィラーが備えられたことを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(28)前記キャリア部材のリセス側部には、吹出溝が形成されたことを特徴とする前記(26)によるプロセスモジュール。
(29)前記キャリア部材のリセスの底には、貫通ホールが形成されたことを特徴とする前記(26)によるプロセスモジュール。
(30)前記キャリア部材には、整列用マークが提供されることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(31)前記セル基板は、印刷層、薄膜層またはこれらを組み合わせた層を備えることを特徴とする前記(19)によるプロセスモジュール。
(32)前記薄膜層は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする前記(31)によるプロセスモジュール。
(33)原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法に利用されるプロセスモジュールを製造する方法であって、前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板を前記キャリア部材に接着させる工程とを含むプロセスモジュールの製造方法。
(34)前記複数のセル基板を整列する工程は、中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする前記(33)によるプロセスモジュールの製造方法。
(35)前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする前記(33)によるプロセスモジュールの製造方法。
(36)前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする前記(33)によるプロセスモジュールの製造方法。
(37)前記複数のセル基板を整列する工程以後に、前記複数のセル基板を真空吸着で一時固定する工程をさらに含むことを特徴とする前記(33)によるプロセスモジュールの製造方法。
(38)原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法であって、前記複数のセル基板を整列された状態でキャリア部材に接着された構造のプロセスモジュールを製作した後、前記プロセスモジュールを一体にして前記複数のセル基板に対して同時に前記基板処理工程を実施するとともに、前記基板処理工程での前記複数のセル基板に対する整列基準は前記プロセスモジュールでのセル基板の整列状態に補正されることを特徴とする基板処理方法。
(39)前記セル基板は、プロセスモジュールの形成前に表面強化処理されたことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(40)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用したことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(41)前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする前記(40)による基板処理方法。
(42)前記少なくとも1つの基板処理工程は、装飾的な要素または機能的な要素のうちのいずれか1つ以上を提供することを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(43)前記基板処理工程は、複数工程から構成され、時間的にまたは空間的に分離されていることを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(44)前記機能的な要素は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする前記(42)による基板処理方法。
(45)前記基板処理工程は、最終寸法で加工された素子を対象として、これらの素子を互いに接合する工程であることを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(46)前記キャリア部材は、セル基板と同じ熱膨脹係数を有することを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(47)前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(48)前記基板処理工程以後に前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程をさらに含むことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(49)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、水に浸す方式により行われることを特徴とする前記(48)による基板処理方法。
(50)前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、UVを照射する方式により行われることを特徴とする前記(48)による基板処理方法。
(51)前記キャリア部材から分離されたセル基板を洗浄する工程をさらに含むことを特徴とする前記(48)による基板処理方法。
(52)前記プロセスモジュールを製作する工程は、前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板をキャリア部材に接着させる工程とを含むことを特徴とする前記(38)による基板処理方法。
(53)前記複数のセル基板を整列する工程は、中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする前記(52)による基板処理方法。
(54)前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする前記(53)による基板処理方法。
(55)前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする請求項52による基板処理方法。
本発明に係るプロセスモジュールを用いた基板処理方法は、複数の基板処理工程をプロセスモジュール単位で行って、各々の基板処理工程において繰り返し的に行われなければならない個別基板に対する繰り返し的な整列及び暫定的な固定作業を解消することによって、各々の基板処理工程が時間的にまたは空間的に分離された状況でも、高い生産性及び価格競争力を確保することができ、基板の損傷可能性を最大限抑制できる。
また、本発明に係るプロセスモジュールを用いた基板処理方法は、特にカバーガラス一体型タッチスクリーンの製作時、基板に対する側面強度が従来の「セル方式」と同等に維持できることによって、スマートフォンのように携帯性が高く、かつベゼル幅を最小化した形態のディスプレイ機器に使用される基板の製作に特に有利に採用されうる。
また、本発明に係るプロセスモジュールを用いた基板処理方法は、従来の「シート方式」のように基板処理工程以後に切断及び研磨により製品の最終寸法を調節する方式を採用し難いセル基板、例えば強化ガラスまたはサファイアのような高強度材質の基板を処理するのに特に有利に採用されうる。
また、本発明に係る前記処理方法は、最終寸法で加工された素子を対象として互いに接合する工程に応用されることによって、該当工程の生産性を画期的に向上させることができる。
以下、添付された図面を参照して、本発明の実施形態について詳細に説明する。図面で同一または均等物に対しては、同一または類似の参照番号を付している。
また、明細書全体にわたって、ある部分がある構成要素を「含む」ということは、別途の記載がない限り、他の構成要素を除くことではなく、他の構成要素をさらに含むことができるということを意味する。
また、ある構成要素が「選択的に」提供、具備または含まれるということは、本発明が解決しようとする課題のための必須的に採用される構成要素ではないが、そのような解決課題と関連性を有し任意で採用されうることを意味する。
(全体的な基板処理方法)
図1は、本発明の実施形態に係る基板処理方法に関する概念図である。基板処理方法は、原板シート10から分離された複数のセル基板110を分離する工程を含む基板加工工程(S10)、複数のセル基板110がキャリア部材210に接着された構造のプロセスモジュール20の形成工程(S20)、及び前記プロセスモジュール20を一体にして複数のセル基板110に対して同時に基板処理を行う工程(S30)を含む。
図1は、本発明の実施形態に係る基板処理方法に関する概念図である。基板処理方法は、原板シート10から分離された複数のセル基板110を分離する工程を含む基板加工工程(S10)、複数のセル基板110がキャリア部材210に接着された構造のプロセスモジュール20の形成工程(S20)、及び前記プロセスモジュール20を一体にして複数のセル基板110に対して同時に基板処理を行う工程(S30)を含む。
前記「セル基板110」は、ディスプレイ機器に使用される面要素(surface element)であって、特に、このようなセル基板110は、ベゼル幅を最小化した形態のディスプレイ機器に使用されうるように側面に対して良質の加工品質、所定以上の強度または両方を含む特性が求められるカバーガラス、タッチスクリーン用ガラスまたはこれと類似の面要素を含む。
前記「処理」は、例えば、前記セル基板110に対して色相、ロゴまたは表面文様のような装飾的な要素を提供するための工程(S30a)、またはタッチスクリーン機能を付与するセンサ層または電極層薄膜のような機能的な要素を提供するための工程(S30b)を含む。ただし、このような処理工程(S30a、S30b)は、セル基板の用途によって増減及び変更されてもよい。
前記装飾的な要素を提供する処理には、例えば、セル基板110に対して前景色、背景色、ロゴ、アイコン、カメラウィンドウ、赤外線ウィンドウ、光遮断層などを形成する工程がありうる。このような装飾的な要素の形成は、有機または無機顔料と、溶媒、分散剤、バインダーなどを混合したインキを利用して前景色、背景色、枠、ロゴ、アイコン、カメラウィンドウ、赤外線ウィンドウ、光差断層などを段階的に印刷する方式により行われてもよい。この場合、印刷方式は、インクジェットプリンタまたはシルクスクリーンプリンタなどの印刷機器を利用することができる。また、前記装飾的な要素の形成は、有機物パターンをインプリンティングしたり、薄膜蒸着後にフォトエッチングするか、または有色PRをリソグラフィする方式でありうる。
前記機能的な要素を提供する処理には、例えば、タッチセンサを構成する透明導電層及び回路層、屈折率差を緩和させるインデックスマッチング層、層間絶縁層、透明導電性パターンの端部に形成される金属層などを形成する工程でありうる。このような機能的な要素の形成は、スパッタリングまたは化学気相蒸着などを介して薄膜を蒸着し、該当薄膜をフォトエッチングしてパターンを形成する方式でありうる。この場合、導電性パターンの導電性を向上させるための熱処理工程が含まれてもよい。また、透明導電性パターンの端部に形成される金属層は、印刷方式、蒸着及びフォトエッチング方式で形成されうる。
また、このような「処理」工程は、一つ以上含まれることができ、時間的にまたは空間的に連続または分離されうる。ここで、「処理」工程が時間的にまたは空間的に分離されるということは、例えば、セル基板110の種類に応じてA、B、C処理工程が順次に予定されており、A処理工程後にプロセスモジュール20からセル基板110を分離せずに、A処理工程と時間的にまたは場所的に隔絶されている後続BまたはC処理工程を行うことを意味する。
前記「プロセスモジュール20」は、従来の「セル方式」に従う基板処理方法の非効率性を改善するために、前記「処理」工程に利用される単位であって、複数のセル基板110の集合である。プロセスモジュール20は、複数のセル基板110が「整列」された状態で、別途のキャリア部材210に「一体」に「接着」された構造を特徴とする。
一方、このようなプロセスモジュール20は、ベア(bare)状態のセル基板110がキャリア部材210に接着された構造だけでなく、上述した「処理」工程の一部が行われた後、後述する分離する工程(S40)を行わない半製品形態の構造を含む。
前記「整列」は、基板処理工程において求められる複数のセル基板110に対する整列基準を「工程テンプレート」とするとき、このような「工程テンプレート」に従って複数のセル基板110がキャリア部材210に配置されることを意味する。ここで、結果物としてのプロセスモジュール20でのセル基板の整列状態を「モジュールテンプレート」と名づける。前記「工程テンプレート」は、基板処理工程に従って予め設定されていることが期待される。このような「工程テンプレート」は、例えば印刷、エッチングなどを含む基板処理工程におけるプリンティング、スクリーン製版製作、フィルム製作、露光などのための基準座標として活用されうる。
全体処理工程の効率性の側面において、少なくとも複数のプロセスモジュール20の間で「モジュールテンプレート」が同一に再現されなければならない。複数のプロセスモジュール20の相互間で「モジュールテンプレート」が異なると、各々のプロセスモジュール20の「モジュールテンプレート」に従って「処理」工程での「工程テンプレート」が繰り返し的に補正(calibration)されなければならないため、全体工程の効率性が阻害されうる。
このような複数のプロセスモジュール20の間での「モジュールテンプレート」の同一性は、後述するように整列用治具を利用する場合において、セル基板110の中央またはコーナーを基準点として決めて、整列用治具に備えられた収容部の中央またはコーナーに整列する方式によって実現されうる。
なお、複数のプロセスモジュール20の間で「モジュールテンプレート」が同一に再現されると共に、前記「モジュールテンプレート」は、「工程テンプレート」と同一に再現されることがさらに好ましい。なお、「モジュールテンプレート」が「工程テンプレート」と異なっても、本発明の目的は達成できるが、この場合、「処理」工程での「工程テンプレート」を「モジュールテンプレート」に合うように標準化ないし補正(calibration)する追加作業(S25)が必要となる。
このような「モジュールテンプレート」と「工程テンプレート」との間の同一性は、後述するようにセル基板110の中央を基準点として整列する方式によって実現されうる。より具体的には、中心整列用直交座標線が備えられた整列用治具を利用しつつ、前記セル基板110に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方法で可能である。
全体処理工程の効率性に関するさらに他の側面において、前記プロセスモジュール20の「モジュールテンプレート」が少なくとも1つの基板処理工程の前後で同一に維持されなければならず、さらに好ましくは、基板処理工程を最終完了した後、プロセスモジュール20をセル基板110とキャリア部材210とに容易に分離できなければならない。これと関連して、基本的には、複数のセル基板110がキャリア部材210に一体に「接着」された構造を有し、両方を「接着」させるために使用される接着剤220は、処理工程において求められる耐久性、耐アルカリ性、耐酸性または耐熱性などのような工程条件、接着及び分離の容易性、セル基板の損傷抑制などを考慮して選択されることが好ましい。
前記基板処理方法は、前記プロセスモジュール20を分離する工程(S40)、及びプロセスモジュール20から分離されたセル基板110を洗浄する工程(S50)を選択的にさらに含むことができ、これにより、基板処理工程の完了したセル基板110が最終製品として製造される。
(基板の準備)
伝統的にタッチスクリーン機能、特に静電容量型タッチスクリーン機能付きディスプレイ機器は、カバーガラス、タッチパネル及びディスプレイパネルの積層された構造を有する。このような伝統的な方式でのタッチパネルは、フィルムセンサまたはガラスセンサ形態で別に製作されて、カバーガラスとディスプレイパネルとの間に位置する。フィルムセンサには、GFF、GF2、GF1などのタイプがあり、ガラスセンサには、GG2、GGなどのタイプがある。最近では、カバーガラスにタッチスクリーン機能の一部または全てが具現化されるG1、G1F、G2などの方式が採用されており、タッチスクリーン機能がディスプレイパネルに一体型で具現化されるオンセル(on−cell)、インセル(in−cell)または両方を組み合わせたハイブリッド(in/on−cell hybrid)方式もある。
伝統的にタッチスクリーン機能、特に静電容量型タッチスクリーン機能付きディスプレイ機器は、カバーガラス、タッチパネル及びディスプレイパネルの積層された構造を有する。このような伝統的な方式でのタッチパネルは、フィルムセンサまたはガラスセンサ形態で別に製作されて、カバーガラスとディスプレイパネルとの間に位置する。フィルムセンサには、GFF、GF2、GF1などのタイプがあり、ガラスセンサには、GG2、GGなどのタイプがある。最近では、カバーガラスにタッチスクリーン機能の一部または全てが具現化されるG1、G1F、G2などの方式が採用されており、タッチスクリーン機能がディスプレイパネルに一体型で具現化されるオンセル(on−cell)、インセル(in−cell)または両方を組み合わせたハイブリッド(in/on−cell hybrid)方式もある。
以下、本発明に係る基板処理方法が特に有利に採用されうる上述したタッチスクリーン機能付きディスプレイ機器のカバーガラスまたはタッチスクリーン用ガラスを例に挙げて、セル基板の準備について説明する。
ただし、上述したように、本発明において「セル基板110」は、基本的にディスプレイ機器に使用される面要素全般を含みうるために、セル基板の用途に応じてセル基板を準備する工程や後述する基板処理工程は変更されうる。したがって、以下のセル基板を準備する工程や後述する基板処理工程は、実施形態により制限されるものと解析されてはならない。
図2は、本発明の実施形態に係るセル基板がディスプレイ機器のカバーガラスまたはタッチスクリーン用ガラスとして使用される場合におけるセル基板に対する準備工程を示す。実施形態においてセル基板110は、原板シート10から分離、形状加工、切断面の研磨、表面強化処理及び検査工程を介して準備される。
まず、セル基板110は、原板シート10からレーザーカット、ウォータージェット、ワイヤーカット、ホイールカットなどの物理的方式またはケミカルエッチングなどの化学的方式により切断される。各々の切断方式は、特有の加工公差を有し、例えば加工公差の少ないワイヤーカットの加工精密度は、±5μmの範囲であることが知られている。
前記原板シート10は、強度の高いアルミノシリカ系またはホウ酸シリカ系のガラス、ソーダ石灰(soda−lime)ガラスまたはサファイアなどでありえ、セル基板1が使用されるディスプレイ機器のサイズに応じてカットされる。
セル基板110は、必要によってCNC加工やケミカルエッチングを利用して表面またはコーナーに対する研磨または光沢工程、セル基板110の内部に対するホール112加工工程などの形状加工などを伴うことができる。
形状加工が完了したセル基板110に対しては、側面を含め熱強化または化学強化方式により表面強化処理される。セル基板の厚さが薄いほど、化学強化方式が主に利用される。化学強化は、例えば、約500℃の工程温度下で、Na+イオン成分を含有したガラス材質のセル基板110をK+イオンを含有した塩浴に接触させることによって、セル基板110の表面においてNa+とK+のイオン交換を誘導する方式を含んでもよい。この場合、K+イオンの半径(1.33Å)がNa+イオンの半径(0.98Å)より大きいために、Na+イオンとK+イオンとの交換により、セル基板11の表面に圧縮応力が誘導されて強度が高まる。
このように形状加工及び表面強化処理がなされたセル基板110は、プロセスモジュールで製作されて基板処理工程に投入される前に加工寸法の適合性及び表面の欠陥有無を検査して、良品と不良品とに分類する。
前記検査方式としては、取扱時に発生できる表面スクラッチなどの問題を考慮して、非接触方式の3次元スキャニング方式が好ましい。
(プロセスモジュールの構造)
図3及び図4は、本発明の実施形態に係るプロセスモジュールの平面図と断面図である。本発明において基板処理工程の単位として導入されるプロセスモジュール20は、複数のセル基板110が整列された状態で別途のキャリア部材210に接着剤220で固定されて一体になった構造である。
図3及び図4は、本発明の実施形態に係るプロセスモジュールの平面図と断面図である。本発明において基板処理工程の単位として導入されるプロセスモジュール20は、複数のセル基板110が整列された状態で別途のキャリア部材210に接着剤220で固定されて一体になった構造である。
前記複数のセル基板110は、実施形態のようにディスプレイ機器のカバーガラス、タッチスクリーン用ガラスまたは両方の用途を兼ねて使用される場合には、側面を含んで表面強化処理された状態でありうる。
また、前記複数のセル基板110は、予定された基板処理工程の一部が行われた状態でありうる。例えば、セル基板110の用途がモバイルディスプレイ機器のカバーガラスであり、装飾層及びタッチスクリーン機能層の両方が直接的にセル基板110に具現化される場合には、装飾層を形成するための印刷工程のみが行われた状態でありうる(図示せず)。
これは、実質的には、ベア(bare)状態の複数のセル基板110が装着されたプロセスモジュール20に対して一部の基板処理工程のみを行い、セル基板110をプロセスモジュール20から分離しない状態で認識される半製品形態のプロセスモジュール20とみなすことができる。
このような半製品形態のプロセスモジュール20は、例えば、印刷、蒸着、フォトエッチングなどの基板処理工程を時間的にまたは空間的に分離せざるをえない制約された状況でも、「モジュールテンプレート」が一定に維持された状態であるため、後続基板処理工程において「工程テンプレート」に単純整列された後、別途の作業がなくても後続基板処理工程にすぐに投入できる。これにより、全体基板処理工程の効率性は大きく向上しうる。
前記キャリア部材210は、複数のセル基板110を装着するための要素であって、その材質は、特に制限されるものではなく、基板処理工程を行った後、セル基板110を分離して再び使用可能側面と基板処理工程において求められる工程条件とを考慮して、ガラス、金属、無機材料、プラスチックまたは複合材等から適宜に選択されうる。また、キャリア部材210は、互いに異なる材料が複層からなってもよい。
ただし、高温の基板処理工程が予定される場合には、前記キャリア部材210は、セル基板110と同じ熱膨脹係数を有する材質から選択されることが好ましい。これは、セル基板110がキャリア部材210との熱膨脹係数の差によって、基板処理工程を実施する途中に意図せずキャリア部材210から分離したり、変形損傷したりするのを防止するためである。
また、前記キャリア部材210には、基板処理工程において「モジュールテンプレート」を「工程テンプレート」に一致させてプロセスモジュール20を整列させるための整列用マーク212が備えられる。整列用マーク212は、特に制限されず、点、線、図形などのような表面印刷型マークや貫通部(図示せず)のような形状加工型マークで提供されうる。
前記接着剤220は、基板処理工程を行った後にプロセスモジュール20から剥離することを予定しているために、必要時に分離、分解の可能な解体性接着剤が好ましい。このような解体性接着剤は、液状または両面テープ形態で提供されてもよい。
このような解体性接着剤は、再剥離性接着剤、ホットメルト(hot−melt)接着剤、Rework用接着剤、リサイクル用接着剤などを含みうる。解体性接着剤は、凝集破壊または接着界面の剥離のような物理現象により解体され、このような物理現象には、軟化、溶融、膨脹、脆性化などがある。熱可塑性接着剤の場合、軟化、溶融、ビーズ膨脹及び脆性化が主要な解体因子であり、熱硬化性接着剤の場合には、主にビーズ膨脹及び熱的特性制御が解体因子である。このような解体因子をアクティブにする解体操作(de−bonding trigger)の方法として、加熱、浸水または紫外線照射などを利用できる。
本発明に採用される解体性接着剤は、基本的に接着及び剥離が容易でなければならず、基板処理工程での耐久性、耐アルカリ性、耐酸性及び耐熱性などのような工程条件を満たさなければならない。このような側面において、アクリル系、エポキシ系またはポリイミド系などの高分子樹脂を主成分とする接着剤が有利に採用されることができ、接着剤には、塗布厚を一定にするために、例えばマイクロカプセルのようなビーズ(beads)を含有できる。また、上述した解体操作方式には、例えば80〜90℃の温水に浸漬して剥離する温水剥離型接着剤またはUV照射により剥離するUV照射剥離型接着剤を有利に採用することができる。
また、前記接着剤220が均一に分散されたビーズ(beads)を含む場合、前記ビーズは、セル基板110とキャリア部材210との間でスペーサとして機能して、接着剤220の層厚を一定にすることによって、基板処理工程での精密度を向上させることができる。
また、前記接着剤220は、キャリア部材210よりセル基板110に対する接着力が小さなものが好ましい。これは、基板処理工程以後、セル基板110をプロセスモジュール20から分離する工程(図1のS40)にてセル基板110の損傷可能性を最小化し、かつセル基板110に残存接着剤220量を減少させてセル基板110を洗浄する工程(図1のS50)を容易にするためである。
また、前記接着剤220は、基板処理工程において接着力が低下して本来の「モジュールテンプレート」が変更されない場合、図示とは異なり、セル基板110の一部のみに形成されることも可能である。
一方、前記プロセスモジュール20での複数のセル基板110の整列状態である「モジュールテンプレート」は、好ましくは、基板処理工程において求められる複数のセル基板210に対する整列基準である「工程テンプレート」と同じでありうるが、後述するようにプロセスモジュール20の製作時にセル基板の整列方式や使用される治具及び/またはセル基板自体に対する加工公差によって、「モジュールテンプレート」が「工程テンプレート」と異なる場合もありうる。
これは、後述する本発明に係るプロセスモジュールの製作工程を介して複数のプロセスモジュール間の「モジュールテンプレート」が同一に再現されると、「モジュールテンプレート」が「工程テンプレート」と異なっても、基板処理工程での「工程テンプレート」を実測した「モジュールテンプレート」に従って標準化ないし補正することによって、本発明の基本的な解決課題である基板処理工程の効率性の向上を阻害しないためである。
図5は、本発明の他の実施形態に係るプロセスモジュール20の断面図である。図5の実施形態は、基板処理工程の処理容量を拡張する側面において提案されるプロセスモジュール20の形状及び構造である。実施形態において接着剤220、221の成分に関する構成及び整列用マーク(図示せず)に関する構成は、図3及び図4の実施形態と同じ方式で採択されることができ、この場合、整列用マークは、最上位キャリア部材である第2キャリア部材210b)に提供されることができる。
図5の実施形態において、キャリア部材210は、より細分化された複数の第1キャリア部材(210a)がより大きな第2キャリア部材(210b)に接着剤221を利用して固定された複層構造をなし、複数のセル基板110は、前記複数の第1キャリア部材(210a)の各々に接着剤220を利用して固定される。
一方、基板処理容量の拡張側面において、第2キャリア部材(210b)を複数にして、これを細分化されたキャリア部材とし、またこれをさらに大きな第3キャリア部材(図示せず)に接着する構造も可能である。
図6及び図7は、本発明のさらに他の実施形態に係るプロセスモジュール20の平面図及び断面図である。図6と図7による実施形態は、基板処理方法の効率性側面において提案されるプロセスモジュール20の形状と構造である。接着剤220の成分及び整列用マーク(図示せず)に関する構成は、図3及び図4の実施形態と同じ方式で採択されうる。
実施形態に係るプロセスモジュール20は、セル基板210の露出面を増加させ、セル基板210とキャリア部材210との間の接触面積を減少させる構造であって、高温の乾燥工程のような基板処理工程において特に有用である。この場合、キャリア部材210は、図3及び図4の実施形態とは異なり、複数の貫通部214を備え、セル基板210のそれぞれは、複数の貫通部214の間に提供されるブリッジ219上に接着される。
このようなプロセスモジュール20は、セル基板210の露出面が増加することによって、高温の基板処理工程にて印加されたセル基板110内部の潜熱がセル基板110の上面及び貫通部214に露出したセル基板110の下面に容易に放出されることができ、セル基板210とキャリア部材210との間の接触面積を減少させることによって、セル基板210と互いに異なる材質のキャリア部材210を使用する場合にも、熱膨脹差によってセル基板210がキャリア部材210から意図せず分離したり損傷したりするのを効果的に防止できる。
また、セル基板210とキャリア部材210との間の接触面積が減少することによって、使用される接着剤220の量と費用も低減でき、セル基板210をプロセスモジュール20から容易に分離できる。
図8及び図9は、本発明のさらに他の実施形態に係るプロセスモジュールの平面図及び断面図である。図8及び図9は、後続の基板処理工程での基板処理品質、モジュール自体に対する取扱の容易性及び全体工程効率性側面において提案されるプロセスモジュール20の形状と構造である。接着剤220の成分及び整列用マーク(図示せず)に関する構成は、図3及び図4の実施形態と同じ方式で採択されうる。
図8及び図9の実施形態に係るプロセスモジュール20において、セル基板110は、リセス216に収容されて接着剤220により固定される。前記リセス216の間には、隔壁217がキャリア部材210の上方向に突出する。この場合、リセス216の深さまたは隔壁217の高さを適宜に調節して、リセス216に収容固定されたセル基板110の上面がキャリア部材210の隔壁217の上面とほぼ同一になると、印刷または薄膜形成工程のような基板処理工程に利用される印刷版(printing plate)またはフォトマスクフィルム(photomask film)とプロセスモジュール20との間の密着度を改善できる。
また、時間的にまたは空間的に分離された複数の基板処理工程を実施するために、複数のプロセスモジュール20を積層して運搬する場合、セル基板110の露出領域を減らして物理的に損傷する危険を減少させると同時に、隔壁217によりセル基板110の流動性を抑制させることによって、プロセスモジュール20の「モジュールテンプレート」が意図せず変更されるのを効果的に防止できる。
図8及び図9の実施形態において接着剤220は、リセス216の底面または側面のうちのいずれか1つまたは両方でセル基板110との間に形成されうる。接着剤220がセル基板110の側面とリセス216の内側面との間で限定的に形成される場合には、接着剤220の使用量を減らすことができる。この場合、接着面積が相対的に非常に小さくなるので、基板処理工程のうち、セル基板110に繰り返し垂直圧力が印加されても「モジュールテンプレート」が変形しないような範囲内で、接着剤の使用量及び接着面積を制御する必要がある。
また、図8及び図9の実施形態は、セル基板110を「工程テンプレート」に従ってキャリア部材210に整列及び固定する工程においてリセス216の境界面に沿ってセル基板110を一時整列することについて有利である。
図10は、本発明のさらに他の実施形態に係るプロセスモジュール20であって、前記図8及び図9によるプロセスモジュール20と類似の目的で提案されうるプロセスモジュール20の形状と構造である。同様に、接着剤220の成分及び整列用マーク(図示せず)に関する構成は、図3及び図4の実施形態と同じ方式で採択されうる。
図10の実施形態では、平板形状のキャリア部材210の上面においてセル基板の間を充填するフィラー217Aが形成されたことを特徴とする。フィラー217Aは、硬化性物質を塗布または印刷したり、両面接着剤を付着したりする方式により形成され、基板処理工程に対する耐久性を有する材質より選択されることが好ましい。このようなフィラー217Aは、キャリア部材210にセル基板110を接着する前に形成されてもよく、キャリア部材210にセル基板110を接着した後に形成されてもよい。
前記フィラー217Aは、機能的に前記図8及び図9の隔壁217に対応する要素であって、フィラー217Aの高さを適宜に調節することによって、セル基板110の上面をフィラー217Aの上面とほぼ同一にすると、印刷または薄膜形成工程のような基板処理工程に利用される印刷版(printing plate)またはフォトマスクフィルム(photomask film)とプロセスモジュール20との間の密着度を改善できる。
また、図8及び図9と同様に、時間的にまたは空間的に分離された複数の基板処理工程を実施するために、複数のプロセスモジュール20を積層して運搬する場合、セル基板110の露出領域を減らして物理的に損傷する危険を減少させると同時に、フィラー217Aによりセル基板110の流動性を抑制させることによって、プロセスモジュール20の「モジュールテンプレート」が意図せず変更されるのを効果的に防止でき、セル基板110を「工程テンプレート」に従ってキャリア部材210に整列及び固定する工程においてフィラー217Aの境界面に沿ってセル基板110を一時整列することにおいて有利である。
一方、図10は、図8及び図9と対比して、キャリア部材210とフィラー217Aを別に形成することによって、キャリア部材210は、平坦度に優れた材質を選定し、フィラー217Aは、加工性に優れた材質を選定することによって、平坦度及び寸法精度に優れたプロセスモジュール20を提供できる。
図11は、図8及び図9の変形実施形態に係るプロセスモジュールの断面図を示す。接着剤220の成分及び整列用マーク(図示せず)に関する構成は、図3及び図4の実施形態と同じ方式で採択されることができる。
図11のプロセスモジュール20において、キャリア部材210のリセス216の底面には、貫通部215が備えられる。貫通部215は、底面の大きさより小さく形成され、セル基板110は、リセス216の底面のエッジ端部に沿って接着剤220によりキャリア部材210に固定される。図11の例におけるプロセスモジュール20は、リセス216による図8及び図9のプロセスモジュールが有する効果と共に、前記貫通部215による図6及び図7のプロセスモジュールが有する効果を同時に具現化できる。また、プロセスモジュール20を解体溶液(de−bonding liquid)を利用して分離する場合には、リセス216の貫通部215を介して解体溶液を容易に入り込ませることができる。
図12は、図8及び図9のさらに他の変形実施形態に係るプロセスモジュールの平面図を示す。接着剤220の成分及び整列用マーク(図示せず)に関する構成は、図3及び図4の実施形態と同じ方式で採択されうる。
図12のプロセスモジュール20において、キャリア部材210のリセス216の内側面には、吹出溝218が備えられる。図12によるプロセスモジュール20は、リセス216による図8及び図9のプロセスモジュールが有する効果と共に、前記吹出溝218を介してプロセスモジュール20を取扱う工程においてセル基板110に対する接近を容易にする。
一方、プロセスモジュール20を構成するキャリア部材210の平面形状は、特に限定されないが、図13に示すようにPRなどに対するスピンコーティングのような基板処理工程が予定された場合には、キャリア部材210の平面形状を円状にすることが有利である。その他、キャリア部材210の平面形状は、図13に示される以外に基板処理工程に最適化した形状で提供されてもよく、例えば、四角形、多角形、円状、楕円形または2つ以上の形状が組み合わせられた形状で提供されてもよい。
(プロセスモジュールの製造)
(製造工程の概要)
図14は、本発明に係るプロセスモジュールの製造工程を示すフローチャートである。本発明に係るプロセスモジュールの製造方法は、複数のセル基板を整列する工程(S210)、前記セル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程(S230)、及び前記接着剤を利用してセル基板110とキャリア部材210とを接着させる工程(S240)を含む。また、整列された複数のセル基板を一時固定する工程(S220)をさらに含むことができる。
(製造工程の概要)
図14は、本発明に係るプロセスモジュールの製造工程を示すフローチャートである。本発明に係るプロセスモジュールの製造方法は、複数のセル基板を整列する工程(S210)、前記セル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程(S230)、及び前記接着剤を利用してセル基板110とキャリア部材210とを接着させる工程(S240)を含む。また、整列された複数のセル基板を一時固定する工程(S220)をさらに含むことができる。
図15は、本発明の実施形態に係るプロセスモジュールの製造工程に対する模式図を示す。図15の実施形態に示すように、本発明に係るプロセスモジュールの製造は、整列用治具30を利用して実行され、セル基板110の整列(S210)、セル基板110の一時固定(S220)及び接着剤220の塗布(S230)、キャリア部材210の接着(S240)後に、セル基板110とキャリア部材210とが接着された構造のプロセスモジュール20を整列用治具30から分離(S250)することによって完了する。
なお、本発明に係るプロセスモジュールの製造において図15のような整列用治具30の利用は必須事項ではないが、プロセスモジュールの製作が容易で何よりも後述するように複数のプロセスモジュール20の間に「モジュールテンプレート」を同一に再現し、なお「モジュールテンプレート」を「工程テンプレート」と同一に再現する点において有利である。
一方、図10に示すプロセスモジュール20の製作時、セル基板110とキャリア部材210との接着前または接着後には、フィラー層217Aを形成する工程(図示せず)がさらに行われてもよい。
(整列用治具の構造)
プロセスモジュール製作に利用される整列用治具30は、プロセスモジュール20の形態によって、例えば図15及び図16に示すように一体型構造を有する。図15及び16の実施形態に係る整列用治具30には、複数のセル基板110を収容するための複数の収容部310が備えられ、収容部310を形成するベース部312と隔壁部314とが一体型で提供される。上述した一体型整列用治具30は、図3、図4、図6及び図7に示すように、セル基板110がキャリア部材210の上面上に突出した構造のプロセスモジュール20を製作するのに適している。この場合、前記隔壁部314の高さは、セル基板110と接着剤220層との厚さを考慮して適宜に調節される。また、このような一体型整列用治具30は、図10に示すプロセスモジュール20においてフィラー217Aが平板形状のキャリア部材210にセル基板110を接着した後に形成される場合に採用できる。
プロセスモジュール製作に利用される整列用治具30は、プロセスモジュール20の形態によって、例えば図15及び図16に示すように一体型構造を有する。図15及び16の実施形態に係る整列用治具30には、複数のセル基板110を収容するための複数の収容部310が備えられ、収容部310を形成するベース部312と隔壁部314とが一体型で提供される。上述した一体型整列用治具30は、図3、図4、図6及び図7に示すように、セル基板110がキャリア部材210の上面上に突出した構造のプロセスモジュール20を製作するのに適している。この場合、前記隔壁部314の高さは、セル基板110と接着剤220層との厚さを考慮して適宜に調節される。また、このような一体型整列用治具30は、図10に示すプロセスモジュール20においてフィラー217Aが平板形状のキャリア部材210にセル基板110を接着した後に形成される場合に採用できる。
一方、図17に示すように、整列用治具30は、上型(30A)と下型(30B)とに分離されて、互いに結合される形態で提供される。上型(30A)の内側面(314A)と下型(30A)の上面(312A)とが収容部310を形成する。この場合、下型(30B)は、上下動手段(図示せず)により前記上型30A)の内側面314A)に沿って上下動することができる。分離型の整列用治具30は、図8、図9、図11及び図12に示すようにセル基板110の上面がキャリア部材210の上端と一致した構造のプロセスモジュール20を製作するのに適している。また、このような分離型の整列用治具30は、図10に示すプロセスモジュール20においてフィラー217Aが平板形状のキャリア部材210にセル基板110を接着する前に形成される場合に適用可能である。
図16及び図17の整列用治具30に共通して、それぞれの収容部310の大きさは、セル基板110の最大許容公差の大きさ以上に加工される。また、図15のベース部312と図16の下型(30B)の下部には、整列されたセル基板110を収容部310の底面に固定させるための一時固定手段、例えば真空吸着手段(図示せず)が提供されてもよく、図15のベース部312と図16の下型(30B)には、このような真空吸着のための通気孔313が備えられてもよい。この場合、真空吸着手段を利用して整列された複数のセル基板110を一時固定する工程(図15のS220)が実施される。
(セル基板の整列)
図14及び図15に示すように、前記複数のセル基板110を整列する工程(S210)は、基板処理工程での「工程テンプレート」に従ってセル基板を整列することを意図し、「工程テンプレート」は基板処理工程に従って予め設定されている。ただし、後述するように整列の基準ないし方式によって「モジュールテンプレート」は、意図した「工程テンプレート」と一致しなくてもよく、このような場合には、基板処理工程での「工程テンプレート」を実際の「モジュールテンプレート」に従って補正する作業が必要となる場合もある。
図14及び図15に示すように、前記複数のセル基板110を整列する工程(S210)は、基板処理工程での「工程テンプレート」に従ってセル基板を整列することを意図し、「工程テンプレート」は基板処理工程に従って予め設定されている。ただし、後述するように整列の基準ないし方式によって「モジュールテンプレート」は、意図した「工程テンプレート」と一致しなくてもよく、このような場合には、基板処理工程での「工程テンプレート」を実際の「モジュールテンプレート」に従って補正する作業が必要となる場合もある。
本発明の実施形態に係る整列用治具30を利用した複数のセル基板110に対する整列工程は、例えばセル基板110の中心またはコーナーを基準に行われる。以下、整列工程についての説明の便宜上、整列用治具の形状は一体型構造とし、キャリア部材の形状は平板形状として説明する。
図18は、本発明の実施形態に係るセル基板の中心整列に対する概念図である。図18において中心整列用治具30に備えられる通気孔は、治具30の平面形状を明確にするために便宜上省略した。
中心整列用治具30には、収容部310が備えられ、収容部310内のベース部312の上面には、中心整列用直交座標線(OG;orthogonal grid)が表示される。前記直交座標線OGは、中心点F1、F2、F3、F4を有する。このような直交座標線OGは、セル基板110と干渉しないように印刷されるか、または陰刻パターン加工する方式で表示されることができる。
前記直交座標線OGは、整列用治具30の収容部310の物理的な形状と無関係に、「工程テンプレート」においてセル基板の位置及び整列情報に基づいて治具に直接的に表示されてもよい。この場合、中心整列時に基準になる「工程テンプレート」でのセル基板の位置及び整列状態に関する情報は、上述した直交座標線OG及び中心点F1、F2、F3、F4により決定されるために、前記中心整列用治具30の収容部310は、中心整列のために必須の要素ではない。中心整列用治具30の収容部310は、整列工程においてセル基板の概略的な配置位置を確認または案内するか、または接着工程においてキャリア部材の進入を制限する役割を果たしてもよい。したがって、中心整列用治具30の収容部310の大きさ及び位置は、整列完了後にセル基板110が収容部から外れないように、収容部310自体に対する物理的な加工公差及びセル基板110に対する加工公差を考慮して適宜に決定されうる。
次に、セル基板110に対しては、全体外郭形状を測定して、図に示すように最外郭ポイントP1、P2、P3、P4を設定し、互いに対向する最外郭ポイントを連結する仮想の連結線により形成される仮想の直交座標線(VOG;virtual orthogonal grid)及びその中心点Cに関する情報を得る。
以上のようにして得られた、セル基板110に対する仮想の最外郭ポイントP1、P2、P3、P4、直交座標線VOG及び中心点Cに関する情報に基づいて、上述した中心整列用治具30での直交座標線OG及び中心点F1、F2、F3、F4位置にセル基板110をピックアンドプレイス(Pick and Place)方式で移動させることによって、中心整列工程が実施される。具体的には、このような整列作業は、位置座標62が記憶されたステージ60が備えられた3次元測定機を利用して行われてもよく、セル基板110に対する直交座標線VOG及び中心点Cを測定してステージ60の特定位置座標62にマッチングし、該マッチングされた位置座標値に基づいてセル基板110を治具30での直交座標線OG及び中心点F1、F2、F3、F4の位置にピックアンドプレイス方式で移動させることによって行われる。
上記の例において、同じ整列用治具30を使用して上述した中心整列工程を行う場合、複数のプロセスモジュール間の「モジュールテンプレート」は、同一に再現されうる。また、「工程テンプレート」でのセル基板の位置及び整列状態は、整列用治具でのセル基板の位置及び整列状態で同一に転写されうる。整列用治具30でのセル基板110の位置及び整列状態は、プロセスモジュール20においてセル基板110の整列状態である「モジュールテンプレート」に対応するので、結果的に上述した中心整列方式を介して「工程テンプレート」と「モジュールテンプレート」とが一致し、基板処理工程で「工程テンプレート」を実際の「モジュールテンプレート」に補正する別途の作業は不要になる。
また、前記直交座標線OG及び中心点F1、F2、F3、F4が、整列用治具30の収容部310の物理的な形状とは無関係に、「工程テンプレート」でセル基板の位置及び整列状態に関する情報に基づいて治具に直接的に表示される場合には、上述した「工程テンプレート」と「モジュールテンプレート」との間の同一性は、治具30またはその収容部310に対する加工公差により影響を受けない。この場合、セル基板110に対する加工公差があるとしても、このような加工公差を勘案して所定の大きさ以上のセル基板110を選別するならば、上述した中心整列での「工程テンプレート」と「モジュールテンプレート」との間の同一性は達成できる。
一方、前記直交座標線OG及び中心点F1、F2、F3、F4が整列用治具30の収容部310の物理的な形状に基づいて表示される場合には、たとえ整列用治具30の収容部310に対する予め設定された「工程テンプレート」におけるセル基板の位置及び整列情報に基づいて機械加工が行われても、治具収容部310に対する加工公差によって上述した「工程テンプレート」と「モジュールテンプレート」との間の同一性は維持され難い。ただし、このような場合にも、同じ治具を使用して上述した中心整列工程を行うならば、少なくとも複数のプロセスモジュール間の「モジュールテンプレート」は同一に再現されうる。
図19は、本発明の実施形態に係るセル基板のコーナー整列に対する概念図である。図19の実施形態において、整列用治具30には、複数の収容部310が備えられ、各々の収容部310の大きさは、セル基板110の最大許容公差大きさ以上に加工されている。この例は、図18のように、セル基板110に対する仮想の直交座標線VOG及び中心点Cを基準として整列する方式でなく、セル基板110の外側コーナーLを整列用治具30の収容部310の内壁面、すなわち隔壁部314の内側コーナーS1、S2、S3、S4に一致させて整列する方式である。具体的には、セル基板110を整列用治具30の収容部310に搭載した後、整列用治具30を単純に傾けたりセル基板110に外力を印加したりして、隔壁部314の内側コーナーS1、S2、S3、S4の方向に密着移動させる方式(図示せず)により整列できる。
このようなコーナー整列方式において、同じ整列用治具30を使用する場合、「モジュールテンプレート」は、整列用治具30を収容部の内側コーナーS1、S2、S3、S4を基準に認識されうるために、複数のプロセスモジュール間の「モジュールテンプレート」が同一に再現されうる。
一方、コーナー整列方式の場合、セル基板110と整列用治具30の物理的な形状を整列の基準とするために、現実的にセル基板110と整列用治具30における加工公差を考慮するとき、「モジュールテンプレート」が予定された「工程テンプレート」と同一に再現されることは難しく、基板処理工程での「工程テンプレート」を実際の「モジュールテンプレート」に補正する手順が伴われなければならない。
また、コーナー整列方式は、図18のようなセル基板110に対する仮想の最外郭ポイントP1、P2、P3、P4、直交座標線VOG及び中心点Cに関する情報を取得する工程が存在しないため、整列作業を速やかに行うことができる。ただし、このようなコーナー整列方式では、セル基板110間の加工偏差を考慮した場合、複数のセル基板110の各々に対する基板処理領域が整列の基準になったセル基板110のコーナーまたは辺側に偏る場合がある。このような点では、上述した中心整列方式が有利である。
(接着剤の塗布)
図14及び図15に示すように、セル基板110に対する整列工程(S210)が完了すると、整列用治具30の下部に提供される真空吸着手段のような一時固定手段(図示せず)を利用してセル基板110を一時固定(S220)した後、接着剤220を塗布する工程(S230)が実施される。
図14及び図15に示すように、セル基板110に対する整列工程(S210)が完了すると、整列用治具30の下部に提供される真空吸着手段のような一時固定手段(図示せず)を利用してセル基板110を一時固定(S220)した後、接着剤220を塗布する工程(S230)が実施される。
接着剤220は、定量吐出装置(図示せず)を利用してセル基板110から流れない範囲内でセル基板110の上面に均一に塗布され、接着工程においてセル基板110の整列状態、すなわち「モジュールテンプレート」が変わらないように真空吸着による一時固定状態は維持する。また、熱または光硬化性接着剤の場合、塗布工程において接着剤220が硬化することを防止するために、熱または外部光が遮断された状態で行うことが好ましい。
前記接着剤220は、基板処理工程において接着力が劣化して本来の「モジュールテンプレート」が変更されない場合、図示とは異なり、セル基板110の一部のみに形成されることも可能である。
一方、接着剤220の塗布は、キャリア部材210またはセル基板110の何れか一面を基準とすることができる。ただし、接着工程が完了するまで「モジュールテンプレート」が変わらないためには、セル基板110を一時固定(S220)する必要があり、実際の接着工程においてキャリア部材20がセル基板100の上部から進入して密着されるため、液状の接着剤220を利用する場合、実施形態に例示されたように、セル基板110に塗布することが好ましい。
また、接着剤には、接着剤層の厚さが一定に維持されうるように、一定の大きさのビーズ(beads)(図示せず)がスペーサ用として添加されてもよい。
(キャリア部材の接着及びプロセスモジュールの吹出し)
図14及び図15に示すように、セル基板110の上面に接着剤220が均一に塗布された状態でキャリア部材210をセル基板110の上部から進入させてセル基板110の上面に密着させた後、熱または紫外線を印加して接着剤220を硬化させる(S240)。
図14及び図15に示すように、セル基板110の上面に接着剤220が均一に塗布された状態でキャリア部材210をセル基板110の上部から進入させてセル基板110の上面に密着させた後、熱または紫外線を印加して接着剤220を硬化させる(S240)。
このとき、キャリア部材210は、予め設定された基準に従って整列され、キャリア部材210の整列は、例えば上述した整列用マークを利用したセル基板に対する中心整列方式と類似の方式により行われるか、別途のガイドブロック(図示せず)を利用して、上述したセル基板に対するコーナー整列方式と類似の方式により行われる。整列用マークを利用してキャリア部材210を整列する場合、セル基板110に対する中心整列とは異なり、キャリア部材210には、物理的な整列用マークが適用されることが理解されるであろう。
最終的に、接着剤220が完全に硬化すると、整列用治具30の下部から印加された真空吸着を解除した後、セル基板110とキャリア部材210とが接着された構造のプロセスモジュール20を整列用治具30から吹き出す(S250)ことによって、プロセスモジュール20の製作工程を完了する。
(基板処理工程)
以上のように製作されたプロセスモジュールを単位として基板処理工程を実施する(図1のS30)。上述したように、基板処理工程は、処理対象セル基板の用途によって変化しうるものであり、「処理」は、セル基板に対して表面文様のような装飾的な要素を提供する工程または薄膜のような機能的な要素を提供するための工程を含む。また、このような「処理」工程は、一つ以上含まれることができ、時間的にまたは空間的に連続または分離されうる。
以上のように製作されたプロセスモジュールを単位として基板処理工程を実施する(図1のS30)。上述したように、基板処理工程は、処理対象セル基板の用途によって変化しうるものであり、「処理」は、セル基板に対して表面文様のような装飾的な要素を提供する工程または薄膜のような機能的な要素を提供するための工程を含む。また、このような「処理」工程は、一つ以上含まれることができ、時間的にまたは空間的に連続または分離されうる。
前記プロセスモジュールは、セル基板が接着剤によりキャリア部材に硬く接着された構造であるため、プロセスモジュールの「モジュールテンプレート」は、複数の基板処理工程において同一に維持される。また、複数の基板処理工程での「工程テンプレート」は、プロセスモジュールでのセル基板の整列状態である「モジュールテンプレート」と同一であるか、または同一に補正されていることが想定される。したがって、各々の基板処理工程において、プロセスモジュールの「モジュールテンプレート」を「工程テンプレート」に合うように単純整列する方式で整列作業を簡素化した状態で、プロセスモジュールに装着された複数のセル基板の各々に対する別途の整列がなくても、大量で基板処理工程を実施することができる。この場合、各々の基板処理工程での「工程テンプレート」に対してプロセスモジュールの「モジュールテンプレート」を整列する作業は、例えばプロセスモジュールのキャリア部材に提供される整列用マークを基準に行われてもよい。
以下、説明の便宜上、本発明に係る基板処理方法が特に有利に採用されうるタッチスクリーン機能付きディスプレイ機器のカバーガラスまたはタッチスクリーン用ガラスを例に挙げて、基板処理工程について具体的に説明する。
図20は、本発明の実施形態に係るタッチスクリーン用ガラスに対する基板処理工程を示し、印刷層40のような装飾的要素に対する基板処理工程と、タッチスクリーン機能のための薄膜層50a、50b)のような機能的要素に対する基板処理工程が例示されている。
まず、図20(a)のように、セル基板110が接着剤220によりキャリア部材210に接着された構造のプロセスモジュール20が基板処理工程の単位として用意される。
次に、図20(b)のように、スクリーン印刷版を利用してセル基板110上に印刷層40を形成する。このような印刷層40は、数回ないし数十回の複数工程で行われることができ、その種類には、前景色、背景色、枠、ロゴ、アイコン、文様、背面層、カメラウィンドウ、赤外線ウィンドウ、光差断層などが含まれることができる。各々の印刷工程は、互いに異なる印刷版を利用する。また、前記印刷層40は、装飾用フィルムをラミネートする工程で行われることができる。
次に、図20(c)及び図20(d)に示すように、セル基板110上にタッチスクリーン機能を具現するための薄膜層を形成し、この薄膜層は、タッチセンサ層50aと電極層50bとを備える。
図20(c)において、前記タッチセンサ層50aは、背面のディスプレイ素子を表示させるため、透明でかつ導電性の高い酸化インジウム錫(ITO、Indium Tin Oxide)を蒸着する方式により形成されうる。タッチセンサ層50aが銀、銅などの金属ナノワイヤーを利用して形成される場合、ナノワイヤーを含んだインキで印刷する方式により形成することも可能である。
図20(d)において、前記タッチセンサ層50aと電気的に接続されて外部にタッチ信号を伝達する電極層50bが形成される。電極層50bは、タッチセンサ層50aの外側に形成され、ディスプレイ素子領域において外部に視認されないため透明にする必要はなく、銀のような電気電導度の高い金属薄膜層や金属ペースト層で印刷して形成されうる。
ただし、図20(c)及び図20(d)における薄膜層の種類及び構造は、限定的な意味で解釈されるべきではない。例えば、静電容量方式のタッチセンサでは、Tx電極及びRx電極を構成する複層のタッチセンサ層を形成しなくても絶縁層を形成できる(G2タイプ)。また、タッチセンサ層の一部が薄膜によって提供されるセル基板に、タッチセンサ層が備えられたフィルム層を合紙することもできる(GIFタイプ)。また、Tx電極及びRx電極を単層のタッチセンサ層で形成することも可能である(GIMタイプ)。
なお、図20の実施形態では装飾的な要素の印刷層と機能的な要素の薄膜層との両方が形成されることを例示したが、いずれか一つだけが形成されてもよい。
(プロセスモジュール分離及びセル基板の洗浄)
前記基板処理工程(図1のS30)を完了した後、プロセスモジュールを分離する工程(図1のS40)及びプロセスモジュールから分離されたセル基板を洗浄する工程(図1のS50)を経て、セル基板に対する完成品が製造される。
前記基板処理工程(図1のS30)を完了した後、プロセスモジュールを分離する工程(図1のS40)及びプロセスモジュールから分離されたセル基板を洗浄する工程(図1のS50)を経て、セル基板に対する完成品が製造される。
ただし、前記プロセスモジュールを分離する工程(図1のS40)は、全体基板処理方法において選択的に含まれる構成であり、例えば基板処理工程が時間的にまたは空間的に分離された場合、一部基板処理工程のみが完了したプロセスモジュール自体が、半製品の形態で取り扱われてもよい。
前記プロセスモジュールを分離する工程(図1のS40)は、セル基板110とキャリア部材210との間に位置する接着剤220を解体して剥離除去する方式により実施される。接着剤210の剥離方法は、接着剤の種類によって決定される。特に、吸湿剥離型解体性接着剤の場合、分離の容易性及び基板に対する損傷可能性が小さいことから、プロセスモジュールの製作及び分解時に有利に採用されうる。例えば、50〜90℃範囲の温水に浸す方式で分解される吸湿剥離型の解体性接着剤の場合、接着剤の分解温度は、基板処理工程において工程中のプロセスモジュールに対する部分洗浄温度より相対的に高いため、基板処理工程中にプロセスモジュールが分離されたり、接着剤強度が低下してプロセスモジュールの「モジュールテンプレート」が損傷したりする危険はない。また、プロセスモジュールの分解時に有機化合物より化学的反応性の低い水を使用するため、基板処理工程を介して形成された印刷層などに対して損傷を与えず、かつセル基板自体に対する洗浄を兼ねることができるという利点がある。また、UV工程が含まれない基板処理工程を適用する場合には、UV剥離型解体性接着剤を使用することが可能であり、分離工程において別途の乾燥工程が必要とされないため、工程時間を短縮することができる。
最終的に、分離されたキャリア部材210とセル基板110とを追加洗浄後に乾燥することによって、プロセスモジュール分離及び洗浄工程が完了する。残留接着剤が除去されたキャリア部材210は、再び使用可能である。
以上の説明は、本発明の具体的な実施形態に関するものであるが、本発明に係る前記実施形態は、説明の目的で開示された事項であり、本発明の範囲を制限するものと理解してはならず、該当技術分野における通常の知識を有した者であれば、本発明の本質から逸脱せずに開示された実施形態に対して多様な変更及び修正が可能であると理解されねばならない。
例えば、本発明に係る前記基板処理方法は、最終寸法で加工された素子を対象として、これらの素子を互いに接合する工程に応用することができる。例えば、モバイルディスプレイ機器において、カバーガラス、装飾用フィルム、タッチパネルまたはディスプレイ素子は、最終寸法で加工された状態、すなわち寸法変更がこれ以上必要とされない状態で相互接合されることによって、最終製品として完成される。この場合、上述した最終寸法で加工される素子のうち、いずれか一つを本発明に係るプロセスモジュールでのセル基板から構成し、他の素子を接合する工程を基板処理工程として解釈してもよい。上述した最終寸法で加工された素子のうち、相互間の接合工程には、例えばカバーガラスに装飾用フィルムまたはタッチパネルをラミネートする工程、カバーガラスが接合されるか、または接合されない状態でのタッチパネルにディスプレイ素子を接合する工程などがありうる。
したがって、このようなすべての修正と変更は、特許請求の範囲に開示された発明の範囲またはこれらの均等物に該当するものと理解される。
Claims (55)
- 原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法であって、
前記複数のセル基板が整列された状態でキャリア部材に接着された構造のプロセスモジュールを製作する工程と、前記プロセスモジュールを一体にして前記基板処理工程を実施する工程とを含む基板処理方法。 - 前記セル基板は、プロセスモジュールの形成前に表面強化処理されたことを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用したことを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする請求項3に記載の基板処理方法。
- 前記少なくとも1つの基板処理工程は、装飾的な要素または機能的な要素のうちのいずれか1つ以上を提供することを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記基板処理工程は、複数工程から構成され、時間的にまたは空間的に分離されていることを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記機能的な要素は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする請求項5に記載の基板処理方法。
- 前記基板処理工程は、最終寸法で加工された素子を対象として、これらの素子を互いに接合する工程であることを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材は、セル基板と同じ熱膨脹係数を有することを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記基板処理工程以後に前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、水に浸す方式により行われることを特徴とする請求項11に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、UVを照射する方式により行われることを特徴とする請求項11に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材から分離されたセル基板を洗浄する工程をさらに含むことを特徴とする請求項11に記載の基板処理方法。
- 前記プロセスモジュールを製作する工程は、
前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板をキャリア部材に接着させる工程とを含むことを特徴とする請求項1に記載の基板処理方法。 - 前記複数のセル基板を整列する工程は、
中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする請求項15に記載の基板処理方法。 - 前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする請求項16に記載の基板処理方法。
- 前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする請求項15に記載の基板処理方法。
- 原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法に利用されるプロセスモジュールであって、前記複数のセル基板は、予め設定された整列基準に従ってキャリア部材に接着剤で固定された構造であることを特徴とするプロセスモジュール。
- 前記セル基板は、表面強化処理されたことを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記接着剤は、解体性接着剤であることを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする請求項21に記載のプロセスモジュール。
- 前記キャリア部材は、セル基板と熱膨脹係数が同じであることを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記キャリア部材は、複数の貫通部を具備し、前記セル基板の各々は、前記複数の貫通部の間のブリッジに接着されることを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記キャリア部材は、セル基板を収容するリセスを備えたことを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記キャリア部材の上面でセル基板の間を充填するフィラーが備えられたことを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記キャリア部材のリセス側部には、吹出溝が形成されたことを特徴とする請求項26に記載のプロセスモジュール。
- 前記キャリア部材のリセスの底には、貫通ホールが形成されたことを特徴とする請求項26に記載のプロセスモジュール。
- 前記キャリア部材には、整列用マークが提供されることを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記セル基板は、印刷層、薄膜層またはこれらを組み合わせた層を備えることを特徴とする請求項19に記載のプロセスモジュール。
- 前記薄膜層は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする請求項31に記載のプロセスモジュール。
- 原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法に利用されるプロセスモジュールを製造する方法であって、
前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板を前記キャリア部材に接着させる工程とを含むプロセスモジュールの製造方法。 - 前記複数のセル基板を整列する工程は、
中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする請求項33に記載のプロセスモジュールの製造方法。 - 前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする請求項34に記載のプロセスモジュールの製造方法。
- 前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする請求項33に記載のプロセスモジュールの製造方法。
- 前記複数のセル基板を整列する工程以後に、前記複数のセル基板を真空吸着で一時固定する工程をさらに含むことを特徴とする請求項33に記載のプロセスモジュールの製造方法。
- 原板シートから分離された複数のセル基板を対象として、少なくとも1つの基板処理工程を実施する基板処理方法であって、
前記複数のセル基板を整列された状態でキャリア部材に接着された構造のプロセスモジュールを製作した後、前記プロセスモジュールを一体にして前記複数のセル基板に対して同時に前記基板処理工程を実施するとともに、前記基板処理工程での前記複数のセル基板に対する整列基準は前記プロセスモジュールでのセル基板の整列状態に補正されることを特徴とする基板処理方法。 - 前記セル基板は、プロセスモジュールの形成前に表面強化処理されたことを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用したことを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。
- 前記解体性接着剤は、温水剥離型またはUV剥離型接着剤であることを特徴とする請求項40に記載の基板処理方法。
- 前記少なくとも1つの基板処理工程は、装飾的な要素または機能的な要素のうちのいずれか1つ以上を提供することを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。
- 前記基板処理工程は、複数工程から構成され、時間的にまたは空間的に分離されていることを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。
- 前記機能的な要素は、タッチスクリーン機能のためのセンサ層または電極層を含むことを特徴とする請求項42に記載の基板処理方法。
- 前記基板処理工程は、最終寸法で加工された素子を対象として、これらの素子を互いに接合する工程であることを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材は、セル基板と同じ熱膨脹係数を有することを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材は、複数の第1キャリア部材が第2キャリア部材に接着された構造で、前記複数のセル基板は、前記複数の第1キャリア部材の各々に接着されたことを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。
- 前記基板処理工程以後に前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程をさらに含むことを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、水に浸す方式により行われることを特徴とする請求項48に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材に対するセル基板の接着は、解体性接着剤を利用し、前記セル基板を前記キャリア部材から分離する工程は、UVを照射する方式により行われることを特徴とする請求項48に記載の基板処理方法。
- 前記キャリア部材から分離されたセル基板を洗浄する工程をさらに含むことを特徴とする請求項48に記載の基板処理方法。
- 前記プロセスモジュールを製作する工程は、
前記複数のセル基板を予め設定された整列基準に従って整列する工程と、前記複数のセル基板とキャリア部材との間の対向する少なくとも一面に接着剤を塗布する工程と、前記接着剤を利用して前記複数のセル基板をキャリア部材に接着させる工程とを含むことを特徴とする請求項38に記載の基板処理方法。 - 前記複数のセル基板を整列する工程は、
中心整列用直交座標線が表示された整列用治具を利用するとともに、前記セル基板に対する仮想の直交座標線を前記中心整列用直交座標線に一致させる方式により実施されることを特徴とする請求項52に記載の基板処理方法。 - 前記整列用治具には、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられ、前記中心整列用直交座標線の中心が前記収容部の中心に一致することを特徴とする請求項53に記載の基板処理方法。
- 前記複数のセル基板を整列する工程は、前記複数のセル基板を収容する収容部が設けられた整列用治具を利用して実施されるとともに、前記複数のセル基板は、前記収容部の中央またはコーナーに整列されることを特徴とする請求項52に記載の基板処理方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20130100658 | 2013-08-23 | ||
KR10-2013-0100658 | 2013-08-23 | ||
PCT/KR2014/001327 WO2015026026A1 (ko) | 2013-08-23 | 2014-02-19 | 프로세스 모듈 및 그 제조 방법과, 프로세스 모듈을 이용한 기판 처리 방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015531953A true JP2015531953A (ja) | 2015-11-05 |
Family
ID=52483783
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015532984A Pending JP2015531953A (ja) | 2013-08-23 | 2014-02-19 | プロセスモジュール及びその製造方法と、プロセスモジュールを用いた基板処理方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015531953A (ja) |
KR (1) | KR20150023202A (ja) |
CN (1) | CN104718519A (ja) |
TW (1) | TW201508866A (ja) |
WO (1) | WO2015026026A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019505882A (ja) * | 2015-12-04 | 2019-02-28 | レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー | フィルム及びフィルムの製造方法 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107438897A (zh) * | 2015-04-09 | 2017-12-05 | 应用材料公司 | 用于待处理的基板的载体*** |
KR102619466B1 (ko) * | 2016-06-13 | 2024-01-02 | 삼성전자주식회사 | 팬 아웃 패널 레벨 패키지의 제조 방법 및 그에 사용되는 캐리어 테이프 필름 |
CN106079944B (zh) * | 2016-06-30 | 2019-01-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种网版印刷标记的方法、显示面板、显示装置 |
KR102546318B1 (ko) * | 2016-11-16 | 2023-06-21 | 삼성전자주식회사 | 글래스 기판 기반의 전기 소자 제조 방법 |
CN107340940B (zh) * | 2017-06-23 | 2023-10-24 | 安徽精卓光显技术有限责任公司 | 在制作触控屏的过程中检验引线偏位的方法以及丝刷装置 |
CN107329295A (zh) * | 2017-08-25 | 2017-11-07 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种聚酰亚胺薄膜位置测量方法及对位标记 |
CN108447800B (zh) * | 2018-01-31 | 2019-12-10 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 薄膜电池的制造方法 |
CN111831143B (zh) * | 2019-04-22 | 2023-04-07 | 深圳市深越光电技术有限公司 | 柔性触控面板及其制备方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004010911A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 透明導電膜の形成方法及びた透明導電膜を有する物品 |
JP2011197708A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | Sony Corp | タッチパネルの製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7255451B2 (en) * | 2002-09-20 | 2007-08-14 | Donnelly Corporation | Electro-optic mirror cell |
KR20090123684A (ko) * | 2008-05-28 | 2009-12-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 플립 칩 패키지의 제조 방법 |
US20100151680A1 (en) * | 2008-12-17 | 2010-06-17 | Optisolar Inc. | Substrate carrier with enhanced temperature uniformity |
JP5350056B2 (ja) * | 2009-04-14 | 2013-11-27 | 電気化学工業株式会社 | 光硬化型易解体性接着剤及びこれを用いた解体方法 |
US8367475B2 (en) * | 2011-03-25 | 2013-02-05 | Broadcom Corporation | Chip scale package assembly in reconstitution panel process format |
-
2014
- 2014-02-18 KR KR20140018673A patent/KR20150023202A/ko not_active Application Discontinuation
- 2014-02-19 CN CN201480000061.6A patent/CN104718519A/zh active Pending
- 2014-02-19 JP JP2015532984A patent/JP2015531953A/ja active Pending
- 2014-02-19 WO PCT/KR2014/001327 patent/WO2015026026A1/ko active Application Filing
- 2014-03-18 TW TW103110038A patent/TW201508866A/zh unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004010911A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-01-15 | Konica Minolta Holdings Inc | 透明導電膜の形成方法及びた透明導電膜を有する物品 |
JP2011197708A (ja) * | 2010-03-17 | 2011-10-06 | Sony Corp | タッチパネルの製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019505882A (ja) * | 2015-12-04 | 2019-02-28 | レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー | フィルム及びフィルムの製造方法 |
JP7066616B2 (ja) | 2015-12-04 | 2022-05-13 | レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー | フィルム及びフィルムの製造方法 |
JP2022115898A (ja) * | 2015-12-04 | 2022-08-09 | レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー | フィルム及びフィルムの製造方法 |
JP7441883B2 (ja) | 2015-12-04 | 2024-03-01 | レオンハード クルツ シュティフトゥング ウント コー. カーゲー | フィルム及びフィルムの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20150023202A (ko) | 2015-03-05 |
CN104718519A (zh) | 2015-06-17 |
TW201508866A (zh) | 2015-03-01 |
WO2015026026A1 (ko) | 2015-02-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2015531953A (ja) | プロセスモジュール及びその製造方法と、プロセスモジュールを用いた基板処理方法 | |
US20150053336A1 (en) | Process module, fabricating method thereof and substrate processing method using the process module | |
TWI483151B (zh) | 觸控顯示模組及其組裝方法 | |
CN110879672A (zh) | 触控屏贴合工艺、触控屏及触控显示设备 | |
KR20140063482A (ko) | 터치스크린을 위한 커버글라스의 제조방법 및 커버글라스 | |
CN109752776B (zh) | 一种摄像头玻璃的加工方法 | |
KR20120062531A (ko) | 윈도우 패널 및 그 제조방법과, 윈도우 패널 일체형 터치 스크린 패널 및 그 제조방법 | |
WO2012090787A1 (ja) | 積層体の製造方法 | |
JP2015068909A (ja) | 電子機器用カバーガラスの製造方法 | |
CN202126672U (zh) | 各层精确定位的触控面板 | |
KR101723528B1 (ko) | 터치 스크린 패널의 윈도우 커버 제조방법 | |
JP2013025373A (ja) | 静電センサの製造方法及び保護フィルム付静電センサ | |
WO2017038999A1 (ja) | 表示パネルの製造方法 | |
TWI468787B (zh) | 暫時性貼合方法及其貼合設備 | |
JP5345225B2 (ja) | 携帯機器用カバーガラスの製造方法 | |
JP2014031286A (ja) | 電子機器用カバーガラスのガラス基板の製造方法 | |
CN105216402B (zh) | 彩色玻璃面板及其制备方法和应用 | |
KR101615223B1 (ko) | 멀티 어레이 기판 본딩 장치 | |
CN216488123U (zh) | Led芯片组件及led显示装置 | |
CN110082948A (zh) | 一种液晶显示模组的贴合结构及其贴合工艺 | |
KR101537537B1 (ko) | 글라스 또는 사파이어 기반의 디지털 기기용 패널 제조방법 | |
KR101415606B1 (ko) | 패널 보호용 윈도우 제조 방법 | |
KR20170023578A (ko) | 멀티 어레이 기판 제조방법 및 그 멀티 어레이 기판 제조장치 | |
CN110673765A (zh) | 一种电容屏的制作方法 | |
KR20160121089A (ko) | 모바일기기 데코시트 및 그 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151020 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160405 |