JP2015512152A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (27)
- 基板処理装置(1、1A〜1N)であって、
少なくとも一つの基板(3)がある基板処理装置(1)のローディングとアンローディングのための少なくとも一つの基板ローディングおよびアンローディング領域(2)と、
少なくとも一つの排気可能な処理チャンバ(5)と、
前記少なくとも一つの基板(3)が、前記少なくとも一つの処理チャンバ(5)に向かう少なくとも一つのキャリア搬送領域(9)における少なくとも一つのキャリア搬送装置(8)によって搬送される少なくとも一つのキャリア装置(7)と、
前記基板ローディングおよびアンローディング領域(2)と前記キャリア搬送領域(9)の間の少なくとも一つの気密閉鎖装置(10)と同様の前記少なくとも一つの処理チャンバ(5)と前記キャリア搬送領域(9)の間の少なくとも一つの気密閉鎖装置(10)とを含んで構成されたものにおいて、
前記基板ローディングおよびアンローディング領域(2)が、前記基板ローディングおよびアンローディング領域(2)内で備えることが可能で、基板(3)を基板カセット(13)の異なる水平カセットレベルに配置されることができる少なくとも一つの基板カセット(13)から、前記少なくとも一つの基板(3)が、水平キャリアレベルに保持可能で、前記基板搬送領域(11)が前記基板ローディングおよびアンローディング領域(2)に対して気密閉鎖可能である、前記少なくとも一つのキャリア装置(7)に搬送するための少なくとも一つの基板搬送装置(12)がある基板搬送領域のそばのキャリア搬送領域(11)に結びつけられている
ことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板搬送領域(11)が不活性ガスによって充填可能であることを特徴とする請求項1記載の基板処理装置。
- 前記キャリア装置(7)は、基板キャリア行と基板キャリア列内のキャリアレベルに設けられた基板ネストを含んで構成され、前記キャリア装置(7)は、前記基板キャリア行(X)の方向および/または前記基板キャリア列(Y)の方向に移動可能であることを特徴とする請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 前記キャリア搬送装置(8)は、ローラ搬送システムを含んで構成されることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板搬送装置(12)は、前記キャリア搬送領域(9)の上方で、基板ローディングレベルにあり、基板(3)を行状にまたは列状に完全に装備している前記キャリア装置(7)に対して平行に備えられて構成されることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板搬送装置(12)が、少なくとも一つの搬送ブリッジ(16)または搬送アームを含んで構成されており、少なくとも一つの基板(3)をこの基板キャリア行または基板キャリア列にロードし、アンロードするために、前記キャリア装置(7)の少なくとも一つの基板キャリア行または基板キャリア列に対して平行に伸長していることを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記搬送ブリッジ(16)または、前記キャリア装置(7)のさらに基板キャリア行または基板キャリア列をロードし、アンロードするための前記転送アームが、基板キャリア列の方向および/または基板キャリア列の方向に沿って移動可動であることを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記基板搬送装置(12)は、少なくとも一つの非接触の基板ハンドリング装置(17)を含んで構成されることを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板ハンドリング装置(17)は、超音波増強型であることを特徴とする請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記基板カセット(13)は、前記基板搬送装置(12)によって個別の最上部の基板(3)のアンロードとリターンのためのリフトシステムに結合されていることを特徴とする請求項1から9のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置(1)は、前記キャリア装置レベルにおける前記キャリア装置(7)が独立して移動可能である、少なくとも2つのキャリア装置レベルを含んで構成されることを特徴とする請求1から10のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記キャリア装置レベルの少なくとも2つの間で、1つのキャリア装置リフト(28)が設けられ、それによって、少なくとも一つのキャリア装置(7)が別のキャリア装置レベルに持って行くことが可能であることを特徴とする請求11に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置(1、1A〜1N)は、互いに上に積み重ねられ、前記キャリア搬送領域(9)と結び付けられている、少なくとも2つの処理チャンバ(5)を含んで構成されることを特徴とする請求1から12のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板ローディングおよびアンローディング領域(2)は、カセットストア(19)を含んで構成され、前記カセットストア(19)において少なくとも一つの基板カセット(13)設けられて、必要ならば、基板搬送装置(12)に連結可能となっていることを特徴とする請求1から13のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記カセットストア(19)は、不活性ガスによって排気可能で、および/または充填可能であることを特徴とする請求14に記載の基板処理装置。
- 前記キャリア搬送領域(9)は、少なくとも一つの調整装置を含んで構成されること
を特徴とする請求1から15のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 前記基板処理装置(1、1A〜1N)は、基板回転装置を含んで構成されることを特徴とする請求1から16のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板回転装置は、基板カセット回転装置(15)であることを特徴とする請求17に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置(1、1A〜1N)の少なくとも2つのキャリア搬送領域(9)の間では、一つのキャリア装置(7)から別のキャリア装置(7)の上に少なくとも一つの基板(3)を搬送するための基板搬送ステーション(29)が設けられていることを特徴とする請求1から18のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置(1、1A〜1N)は、基板クラック検出器(20)および/または基板区ラック処理装置(21)を含んで構成されることを特徴とする請求1から19のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記処理チャンバ(5)の少なくとも1つは、この処理チャンバ(5)が設けられる処理モジュール(4、6、6´)に対して前記キャリア装置(7)によって物理的に閉鎖可能であることを特徴とする請求1から20のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記キャリア装置(7)が、前記処理チャンバ(5)の底部を形成することを特徴とする請求21に記載の基板処理装置。
- 前記処理チャンバ(5)は、ガスシャワーとして提供されるHF電極を含んで構成され、それはキャリア装置(7)とともに平行平板配置を形成していることを特徴とする請求22に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置(1、1A〜1N)は、それぞれ少なくとも一つの処理チャンバ(5)と一緒の少なくとも一つの処理モジュール(4、4´、6、 6´)を含んで構成され、前記少なくとも一つの処理モジュール(4、4´、6、 6´)と前記キャリア搬送領域(9)の間で、搬送モジュール(18、18´、18´´)がそれぞれ備えられ、前記処理モジュール(4、4´、6、 6´)および前記キャリア搬送領域(9)に対して気密に閉鎖可能であることを特徴とする請求1から23のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記搬送モジュール(18、18´、18´´)は、前記キャリア装置(7)のための少なくとも2つのレベルを提供することを特徴とする請求24に記載の基板処理装置。
- 前記基板処理装置(1、1A〜1N)は、少なくとも一つの処理チャンバ(5)とそれぞれが一緒の少なくとも2つの処理モジュール(4、4´、6、 6´)を含んで構成され、各処理モジュール(4、4´、6、 6´)にそれ自身のキャリア装置(7)が割り当てられていることを特徴とする請求1から25のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記キャリア搬送領域(9)は、前記処理モジュール(4、4´、6、 6´)のための分離領域を形成し、それぞれ異なるキャリア装置(7)上の基板(3)のために交換領域を形成することを特徴とする請求26に記載の基板処理装置。
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