JP2015227446A - サファイア板用研磨液組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
本開示の研磨液組成物は、砥粒としてアルミナ粒子を含む。アルミナ粒子としては、αアルミナ、中間アルミナ、アモルファスアルミナ、ヒュームドアルミナ等が挙げられるが、これらのなかでも、研磨速度向上の観点から、αアルミナが好ましい。
本発明の研磨液組成物は、研磨された被研磨対象の表面粗さの低減及び研磨速度向上の観点から、アニオン性基を有する水溶性高分子(成分B)を含有する。また、本発明の研磨液組成物にアニオン性基を有する水溶性高分子(以下「アニオン性高分子」とも言う。)が含まれていると、研磨耐久性も向上する。アニオン性高分子は、アルミナ粒子の表面に吸着し、電荷反発によりアルミナ粒子の分散性向上及びアルミナ粒子の凝集抑制に寄与する。そのため、アニオン性高分子は、研磨速度向上及び表面粗さの低減に寄与しているものと推定される。尚、「水溶性」とは、水に対して2g/100ml以上の溶解度を有することをいう。
アニオン性高分子の重量平均分子量は、研磨された被研磨対象の表面粗さの低減の観点から、500以上が好ましく、1000以上がより好ましく、1500以上が更により好ましい。また、アニオン性高分子の重量平均分子量は、研磨された被研磨対象の表面粗さの低減の観点から、12万以下が好ましく、10万以下がより好ましく、3万以下が更に好ましく、1万以下が更により好ましく、8000以下が更により好ましい。
カラム:G4000PWXL+G2500PWXL(東ソー株式会社)
溶離液:(0.2Mリン酸バッファー)/(CH3CN)=9/1(容量比)
流量:1.0mL/min
カラム温度:40℃
検出器:RI検出器
標準物質:ポリアクリル酸換算
本発明の研磨液組成物に含まれる水系媒体(成分C)としては、イオン交換水や超純水等の水、又は水と溶媒との混合媒体等が挙げられ、上記溶媒としては、水と混合可能な溶媒(例えば、エタノール等のアルコール)が好ましい。水系媒体としては、なかでも、イオン交換水又は超純水がより好ましく、超純水が更に好ましい。本発明の成分Cが、水と溶媒との混合媒体である場合、混合媒体全体に対する水の割合は、特に限定されるわけではないが、経済性の観点から、95質量%以上が好ましく、98質量%以上がより好ましく、実質的に100質量%が更に好ましく、100質量%が更により好ましい。
せん断粘度比=(研磨液組成物のせん断速度100(1/s)におけるせん断粘度)/(レオロジー改質剤を含まないこと以外は前記研磨液組成物と同じ組成の研磨液組成物のせん断速度100(1/s)におけるせん断粘度)
本発明の研磨液組成物は、研磨速度向上、研磨された被研磨対象の表面粗さの低減、及び研磨耐久性の向上の観点から、糖化合物もしくはその誘導体(以下、これらを総称して「糖骨格を有する化合物」と呼ぶ)を含んでいると好ましい。アニオン性高分子のカルボキシル基と糖骨格を有する化合物(成分D)の水酸基が相互作用することにより、バルキーな糖骨格を有する化合物(成分D)がアニオン性高分子を介してアルミナ粒子に吸着することにより、アルミナ粒子の分散性が更に向上し、その結果、研磨速度の更なる向上、且つ、研磨された被研磨対象の表面粗さの更なる低減が可能となっているものと推察される。また、バルキーな糖骨格を有する化合物(成分D)がサファイア板研磨時の砥粒凝集を抑制する結果、研磨耐久性が向上し、研磨速度の低下をより長期に渡り抑制できる。また、アニオン性高分子(成分B)と糖骨格を有する化合物(成分D)とを併用した本発明の研磨液組成物の一例では、更に顕著なせん断粘度の低下が観察される。
本発明の研磨液組成物には、酸化剤(成分E)が更に含まれていてもよい。酸化剤(成分E)としては、研磨速度向上、及び研磨された被研磨対象の表面粗さの低減の観点から、過酸化物、過マンガン酸又はその塩、クロム酸又はその塩、ペルオキソ酸又はその塩、酸素酸又はその塩、金属塩類、硝酸類、硫酸類等が挙げられる。これらの酸化剤は、単独で又は2種以上を混合して使用してもよい。
本発明の研磨液組成物には、研磨速度向上の観点から、pH調整剤(成分F)として酸又はアルカリが含まれていてもよい。アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。酸は、硫酸、塩酸、硝酸又はリン酸等の無機酸、酢酸、乳酸、コハク酸、クエン酸、ニコチン酸、シュウ酸、マロン酸、リンゴ酸、酒石酸、マレイン酸、グルコン酸等の有機酸等が挙げられる。これらの酸は、1種単独で用いてもよいし2種以上を用いてもよいが、研磨速度の向上、研磨された被研磨対象の表面粗さの低減の観点から、無機酸と有機酸の両方を含んでいると好ましい。
本発明の研磨液組成物は、研磨速度向上と表面粗さの低減の観点から、無機リン酸塩化合物(成分G)を含んでいると好ましい。無機リン酸塩化合物としては、研磨速度向上と表面粗さの低減の観点から、オルトリン酸塩、亜リン酸塩、及び次亜リン酸塩からなる群から選ばれる1種以上の無機リン酸塩化合物が好ましく、オルトリン酸塩、亜リン酸塩がより好ましい。また、無機リン酸塩化合物は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、又はアンモニウム塩であると好ましい。アルカリ金属又はアルカリ土類金属としては、マグネシウム、カルシウム、ナトリウム、及びカリウムが好ましい。これらのなかでも、アルミナ粒子の凝集抑制の観点から、無機リン酸塩化合物は、ナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩から選ばれる少なくとも1種がより好ましい。
本発明の研磨液組成物は、各成分を公知の方法で混合することにより、調製することができる。研磨液組成物は、経済性の観点から、通常、濃縮液として製造され、これを使用時に希釈する場合が多い。前記研磨液組成物は、そのまま使用してもよいし、濃縮液であれば希釈して使用すればよい。
本発明のサファイア板の製造方法の一例(「本発明の製造方法の一例」と略称する場合もある。)、及び本発明の被研磨サファイア板の研磨方法の一例(「本発明の研磨方法の一例」と略称する場合もある。)において研磨される被研磨対象の形状について特に制限はなく、例えば、ディスク状、プレート状、スラブ状、プリズム状等の平面部を有する形状のみならず、レンズ等の曲面部を有する形状であってもよい。また、前記被研磨対象は、スマートフォン等の携帯端末装置のカバーガラスとして用いられるサファイア板、LED用サファイア基板等さまざまであるが、本発明の研磨液組成物は、中でも、前記携帯端末装置のカバーガラスとして用いられるサファイア板の製造方法の研磨工程で使用される研磨液組成物として適している。
〈2〉前記アニオン性高分子が、好ましくは(メタ)アクリル酸由来の構成単位を含み、より好ましくはアクリル酸由来の構成単位を含む、〈1〉に記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈3〉アニオン性高分子の全構成単位中に占める(メタ)アクリル酸由来の構成単位の割合が、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、更に好ましくは70モル%以上、更により好ましくは90モル%以上、更により好ましくは95%以上、更により好ましくは98モル%以上、更により好ましくは100モル%である、〈2〉に記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈4〉前記アニオン性高分子が、好ましくはポリアクリル酸、及び(メタ)アクリル酸/2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体から選ばれる一種以上のアニオン性高分子、より好ましくはポリアクリル酸である、〈1〉から〈3〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈5〉前記アニオン性高分子の重量平均分子量は、500以上が好ましく、1000以上がより好ましく、1500以上が更により好ましく、12万以下が好ましく、10万以下がより好ましく、3万以下が更に好ましく、1万以下が更により好ましく、8000以下が更により好ましい、〈1〉から〈4〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈6〉前記サファイア板用研磨液組成物におけるアニオン性高分子の含有量が、好ましくは1質量ppm以上、より好ましくは10質量ppm以上、更に好ましくは100質量ppm以上、更により好ましくは200質量ppm以上であり、好ましくは5000質量ppm以下、より好ましく4000質量ppm以下、更に好ましくは3000質量ppm以下、更により好ましくは2000質量ppm以下である、〈1〉から〈5〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈7〉前記サファイア板用研磨液組成物における、前記アルミナ粒子と前記アニオン性高分子との含有量比[アルミナ粒子の含有量(質量ppm)/アニオン性高分子の含有量(質量ppm)]は、好ましくは10以上、より好ましく20以上、更に好ましくは50以上、更により好ましくは100以上であり、好ましくは200000以下、より好ましくは20000以下、更に好ましくは2000以下である、〈1〉から〈6〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈8〉好ましくは更に糖化合物及び/又はその誘導体を含有する、〈1〉から〈7〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈9〉前記糖化合物及び/又はその誘導体は、好ましくは糖アルコール、単糖類、又は二糖類であり、更に好ましくはソルビトール、スクロース、ガラクトース、及びマルチトールからなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である、〈1〉から〈8〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈10〉前記サファイア板用研磨液組成物における前記糖化合物及び/又はその誘導体の含有量は、好ましくは10質量ppm以上、より好ましくは50質量ppm以上、更に好ましくは100質量ppm以上、更により好ましくは500質量ppm以上であり、好ましくは10000質量ppm以下、より好ましくは5000質量ppm以下、更に好ましくは3000質量ppm以下、更により好ましくは1000質量ppm以下である、〈1〉から〈9〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈11〉前記サファイア板用研磨液組成物における、アニオン性高分子と前記糖化合物及び/又はその誘導体の含有量比[前記糖化合物及び/又はその誘導体の含有量(質量ppm)/アニオン性高分子の含有量(質量ppm)]は、好ましくは0.01以上、より好ましく0.1以上、更に好ましくは0.5以上、更により好ましくは1以上であり、好ましくは5000以下、より好ましく1000以下、更に好ましくは100以下、更により好ましくは50以下である、〈1〉から〈10〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈12〉好ましくは更に酸化剤を含有する、〈1〉から〈11〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈13〉好ましくは更に酸を含有する、〈1〉から〈12〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈14〉前記酸が、好ましくは有機酸及び無機酸を含む、〈13〉に記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈15〉前記有機酸が、好ましくはクエン酸、前記無機酸が硫酸である、〈14〉に記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈16〉好ましくは更に無機リン酸塩化合物を含有する、〈1〉から〈15〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈17〉 前記無機リン酸塩化合物は、好ましくはオルトリン酸塩、亜リン酸塩、及び次亜リン酸塩からなる群から選ばれる1種以上の無機リン酸塩化合物、より好ましくはオルトリン酸塩及び亜リン酸塩からなる群から選ばれる1種以上の無機リン酸塩化合物である、〈16〉に記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈18〉 前記の無機リン酸塩化合物は、好ましくはアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、及びアンモニウム塩のうちの何れか1種又は2種以上、より好ましくはナトリウム塩、カリウム塩及びアンモニウム塩から選ばれる少なくとも1種である、〈16〉又は〈17〉に記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈19〉 前記の無機リン酸塩化合物は、好ましくはリン酸ナトリウム(Na3PO4)、リン酸カリウム(K3PO4)、リン酸一水素二ナトリウム(Na2HPO4)、リン酸二水素一ナトリウム(NaH2PO4)、リン酸二水素一カリウム(KH2PO4)、リン酸二水素一アンモニウム(NH4H2PO4)、リン酸一水素二カリウム(K2HPO4)、リン酸一水素二アンモニウム((NH4)2HPO4)、亜リン酸ナトリウム(Na2HPO3)、亜リン酸カリウム(K2HPO3)、次亜リン酸ナトリウム(NaH2PO2)、次亜リン酸カリウム(KH2PO2)及び次亜リン酸アンモニウム(NH4H2PO2)からなる群から選ばれる1種以上の無機リン酸塩化合物、より好ましくはリン酸一水素二ナトリウム、リン酸一水素二カリウム、亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム、リン酸一水素二アンモニウム及び次亜リン酸アンモニウムからなる群から選ばれる1種以上の無機リン酸塩化合物である、〈16〉から〈18〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈20〉 前記サファイア板用研磨液組成物における無機リン酸塩化合物(成分G)の含有量は、好ましくは1質量ppm以上、より好ましくは10質量ppm以上、更に好ましくは100質量ppm以上、更により好ましくは200質量ppm以上、更により好ましくは500質量ppm以上、更により好ましくは800ppm以上であり、好ましくは5000質量ppm以下、より好ましくは4000質量ppm以下、更に好ましくは3000質量ppm以下、更により好ましくは2000質量ppm以下である、〈16〉から〈19〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈21〉 前記サファイア板用研磨液組成物における、アルミナ粒子(成分A)と無機リン酸塩化合物(成分G)との含有量比[アルミナ粒子の含有量(質量ppm)/無機リン酸塩化合物の含有量(質量ppm)]は、好ましくは2以上、より好ましく20以上、更に好ましくは100以上、好ましくは10000以下、より好ましく4000以下、更に好ましくは1000以下である、〈16〉から〈20〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈22〉前記サファイア板用研磨液組成物の25℃におけるpHが、好ましくは10以上、より好ましくは11以上であり、好ましくは14未満である、〈1〉から〈21〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈23〉前記アルミナ粒子の動的光散乱法で測定される平均粒径が、好ましくは0.2μm以上、より好ましくは0.25μm以上、更に好ましくは0.3μm以上、更により好ましくは0.35μm以上であり、好ましくは1.0μm以下、より好ましくは0.95μm以下、更に好ましくは0.90μm以下、更により好ましくは0.80μm以下である、〈1〉から〈22〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈24〉前記サファイア板用研磨液組成物におけるアルミナ粒子の含有量が、好ましくは3質量%以上、より好ましくは5質量%以上、更に好ましくは7質量%以上、更により好ましくは10質量%以上であり、好ましくは50質量%以下、より好ましくは40質量%以下、更に好ましくは30量%以下、更により好ましくは20質量%以下である、〈1〉から〈23〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈25〉 アルミナ粒子、レオロジー改質剤、及び水系媒体を含有する、サファイア板用研磨液組成物。
〈26〉 前記レオロジー改質剤がアニオン性高分子であり、好ましくは(メタ)アクリル酸由来の構成単位を含み、より好ましくはアクリル酸由来の構成単位を含む、〈25〉に記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈27〉 好ましくは更に糖骨格を有する化合物を含有する、〈25〉又は〈26〉に記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈28〉 好ましくは更に無機リン酸塩化合物を含有する、〈25〉から〈27〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈29〉 25℃50%RHの環境にて測定した、25℃の前記サファイア板用研磨液組成物の、せん断速度100(1/s)におけるせん断粘度(Pa・s)は、好ましくは0.01(Pa・s)以下、より好ましくは0.008(Pa・s)以下、更に好ましくは0.007(Pa・s)以下であり、好ましくは0.001(Pa・s)以上、より好ましくは0.0015(Pa・s)以上、更に好ましくは0.002(Pa・s)以上である、〈1〉から〈28〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
〈30〉 下記式により算出されるせん断粘度比が、好ましくは0.6以下、より好ましくは0.4以下、更に好ましくは0.3以下であり、好ましくは0.01以上、より好ましくは0.05以上、更に好ましくは0.1以上である、〈1〉から〈29〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物。
せん断粘度比=(研磨液組成物のせん断速度100(1/s)におけるせん断粘度)/(レオロジー改質剤を含まないこと以外は前記研磨液組成物と同じ組成の研磨液組成物のせん断速度100(1/s)におけるせん断粘度)
〈31〉被研磨サファイア板に対して、〈1〉から〈30〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物を供給して前記被研磨サファイア板を研磨する工程を含む、サファイア板の製造方法。
〈32〉被研磨サファイア板に対して、〈1〉から〈30〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物を供給して前記被研磨サファイア板を研磨する工程と、
前記工程で使用した前記サファイア板用研磨液組成物を用いて、前記被研磨サファイア板とは別の被研磨サファイア板を研磨する工程と、を含むサファイア板の製造方法。
〈33〉被研磨サファイア板に対して、〈1〉から〈30〉のいずれかに記載のサファイア板用研磨液組成物を供給して前記被研磨サファイア板を研磨する工程を含む、被研磨サファイア板の研磨方法。
[アニオン性高分子]
(1)ポリアクリル酸(重量平均分子量:6000、POIZ(登録商標)530、花王社製)
(2)アクリル酸/2-アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸共重合体(アクリル酸80モル%、2-アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸20モル%、重量平均分子量2000、40質量%水溶液、東亞合成株式会社製、アロン(登録商標)A−6016)
[糖骨格を有する化合物]
(1)D(+)-グルコース(和光純薬工業社製)
(2)D(+)-ガラクトース(和光純薬工業社製)
(3)D(+)-キシロース(和光純薬工業社製)
(4)L(+)-アラビノース(和光純薬工業社製)
(5)D-エリトロース(和光純薬工業社製)
(6)D(-)-フルクトース(和光純薬工業社製)
(7)D-キシルロース(シグマ アルドリッチ ジャパン社製)
(8)D-エリトリロース(Carbosynth Limited社製)
(9)D(-)-ソルビトール(和光純薬工業社製)
(10)キシリトール(和光純薬工業社製)
(11)D(-)-マンニトール(和光純薬工業社製)
(12)マルチトール(東京化成工業社製)
(13)マルトース一水和物(和光純薬工業社製)
(14)スクロース(和光純薬工業社製)
イオン交換水の入ったビーカー内に、アニオン性高分子としてポリアクリル酸を添加した後、45質量%アルミナ粒子(砥粒、α化率90%、結晶子サイズ32nm)水分散液を添加しこれらを撹拌して、アニオン性高分子添加アルミナ粒子水分散液を得た。その後すぐに、48質量%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学社製)を用いてアニオン性高分子添加アルミナ粒子水分散液のpHを13に調整して研磨液組成物を得た。実施例1〜5の調製に用いたアルミナ粒子の平均粒径は各々表1に記載のとおりとした。尚、表1において、比較例1以外は、砥粒としてアルミナ粒子を用いた。
イオン交換水の入ったビーカー内に、アニオン性高分子としてポリアクリル酸を添加した後、糖骨格を有する化合物を添加した。その後、45質量%アルミナ粒子(砥粒、α化率90%、結晶子サイズ 32nm)水分散液を添加しこれらを撹拌して、アニオン性高分子添加アルミナ粒子水分散液を得た。その後すぐに、48質量%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学社製)を用いてアニオン性高分子添加アルミナ粒子水分散液のpHを13に調整して実施例6〜19の研磨液組成物を得た。
糖骨格を有する化合物の含有量が異なること以外は実施例14と同様にして、実施例20〜22の研磨液組成物を調製した。
砥粒(アルミナ粒子)の含有量が異なること以外は実施例14と同様にして、実施例23、24の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子(ポリアクリル酸)の含有量が異なること以外は実施例14と同様にして、実施例25の研磨液組成物を調製した。
48質量%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学社製)の添加量が異なり、研磨液組成物の25℃におけるpHが11であること以外は実施例14と同様にして、実施例26の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子が、AA−AMPS(アロン(登録商標)A−6012、東亜合成社製)であること以外は実施例4と同様にして、実施例27の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子が、AA−AMPS(アロン(登録商標)A−6012、東亜合成社製)であること以外は実施例14、19、7、17と同様にして、実施例28〜31の研磨液組成物を調製した。
無機リン酸塩化合物として、亜リン酸Naを更に含むこと以外は実施例14と同様にして、実施例32、33の研磨液組成物を調製した。
無機リン酸塩化合物として、亜リン酸Naを更に含むこと以外は実施例19と同様にして、実施例34の研磨液組成物を調製した。
無機リン酸塩化合物の種類が異なること以外は実施例33と同様にして、実施例35〜39の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子が、AA−AMPS(アロン(登録商標)A−6012、東亜合成社製)であること以外は、実施例34と同様にして、実施例40の研磨液組成物を調製した。
糖骨格を有する化合物を含まないこと以外は実施例33、40と同様にして、実施例41、42の研磨液組成物を調製した。
イオン交換水の入ったビーカー内に、アニオン性高分子としてポリアクリル酸を添加した後、35質量%過酸化水素水(和光純薬工業社製の試薬を水希釈し濃度調整したもの)を添加した。その後、45質量%アルミナ粒子(砥粒、α化率90%、結晶子サイズ 32nm)水分散液を添加し、硫酸(和光純薬工業社製)を水で62.5質量%に希釈したものを用いてpHを1.9に調整して、実施例43の研磨液組成物を得た。実施例44では、硫酸(和光純薬工業社製)を水で62.5質量%に希釈したものに代えて、イオン交換水の入ったビーカー内に系のクエン酸濃度が0.4質量%になるように50質量%クエン酸水溶液を加え、さらに硫酸を水で62.5質量%に希釈したものを加えてpHを1.9に調整した。このこと以外は実施例43と同じ方法により実施例44の研磨液組成物を得た。
イオン交換水の入ったビーカー内に、アニオン性高分子としてポリアクリル酸を添加した後、糖骨格を有する化合物としてソルビトール(和光純薬工業社製)を添加し、さらに35質量%過酸化水素水(和光純薬工業社製の試薬を水希釈し濃度調整したもの)を添加した。その後、45質量%アルミナ粒子(砥粒、α化率90%、結晶子サイズ 32nm)水分散液を添加し、硫酸(和光純薬工業社製)を用いてpHを1.9に調整して、実施例45の研磨液組成物を得た。
無機リン酸塩化合物として、亜リン酸Naを更に含むこと以外は実施例45と同様にして、実施例46の研磨液組成物を調製した。
糖骨格を有する化合物を含まないこと以外は実施例46と同様にして、実施例47の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子が、AA−AMPS(アロン(登録商標)A−6012、東亜合成社製)であること以外は実施例43、44と同様にして、実施例48、49の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子が、AA−AMPS(アロン(登録商標)A−6012、東亜合成社製)であること以外は実施例47と同様にして、実施例50の研磨液組成物を調製した。
イオン交換水の入ったビーカー内に、コロイダルシリカ水分散液(平均粒径80 nm)と、48質量%水酸化ナトリウム水溶液(関東化学社製)を添加し撹拌して、pHが10.6の比較例1の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子を添加しなかったこと以外は、実施例4と同様にして、比較例2の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子を添加しなかったこと以外は、実施例14、19と同様にして、比較例3,4の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子を添加しなかったこと以外は、実施例43と同様にして、比較例5の研磨液組成物を調製した。
アニオン性高分子を添加しなかったこと以外は、実施例45と同様にして、比較例6の研磨液組成物を調製した。
糖骨格を有する化合物としてソルビトールに代えてスクロースを用いたこと以外は比較例6と同様にして、比較例7の研磨液組成物を調製した。
実施例1〜50、比較例2〜7の研磨組成物中のアルミナ粒子(砥粒)の平均粒径は、0.5%ポイズ530(花王社製;特殊ポリカルボン酸型高分子界面活性剤)水溶液を分散媒として、下記測定装置内に投入し、続いて透過率が75〜95%になるようにサンプルを投入し、その後、5分間超音波を掛けた後、粒径を測定した。
測定機器 :堀場製作所製 レーザー回折/散乱式粒度分布測定装置 LA920
循環強度 :4
超音波強度:4
得られた体積分布粒径の累積体積頻度が50%となる粒径をアルミナ粒子の体積平均粒子径(D50)とし、表1〜4に示した。
アルミナスラリー20gを105℃で5時間乾燥させ、得られた乾燥物を乳鉢で解砕して粉末X線回折用サンプルを得た。各サンプルを粉末X線回折法にて分析し、104面におけるピーク面積を比較した。粉末X線回折法による測定条件は下記のとおりとした。
測定条件;
装置:(株)リガク製、粉末X線解析装置 RINT2500VC
X線発生電圧:40kV
放射線:Cu−Kα1線(λ=0.154050nm)
電流:120mA
Scan Speed:10度/分
測定ステップ:0.02度/分
α化率(%)=αアルミナ特有ピーク面積÷WA−1000のピーク面積×100
また、結晶子サイズは、得られた粉末X線回折スペクトルから、粉末X線回折装置付属の粉末X線回折パターン総合解析ソフトJADE(MDI社、シェラーの式による自動計算)を用いて算出した。上記ソフトによる算出処理は、上記ソフトの取扱説明書(Jade(Ver.5)ソフトウェア、取扱説明書 Manual No.MJ13133E02、理学電機株式会社)に基づいて算出した。
比較例1の研磨組成物中のコロイダルシリカ(砥粒)の平均粒径(分散粒径)は、動的光散乱(DLS)粒度分布計(マルバーン社製、ゼータサイザー(登録商標)ナノS)を用いて下記の条件で測定し、得られる体積換算平均粒径を平均粒径(分散粒径)として求めた。
溶媒:水(屈折率1.333)
砥粒:コロイダルシリカ(屈折率1.45、減衰係数0.02)
測定温度:25℃
pHメーター(東亜電波工業社製、HM−30G)を用い、25℃にて研磨液組成物のpHを測定した。
3インチのサファイア板(c面)に対して下記の研磨条件で、実施例1〜50、比較例1〜7の研磨液組成物を用いて、1時間研磨を行った。そして、サファイア板の研磨前後の重量変化を求め、サファイア密度(3.98g/cm3)、サファイア板面積(45.6cm2)から研磨速度X(μm/h)を算出した。実施例1〜50、比較例2〜7の研磨液組成物を用いた場合の研磨速度Xは、比較例1の研磨液組成物を用いた場合の研磨速度Xを「100」とした場合の相対値で、表1及び表2に示した。また、表3、表4に記載の研磨速度は、各々、比較例2、比較例5の研磨液組成物を用いた場合の研磨速度Xを「100」とした場合の相対値である。
片面研磨機(テクノライズ製TR15M−TRK1、定盤径38cm)
不織布研磨パッド(ニッタハース製SUBA800)
研磨荷重300g/cm2
定盤回転数120rpm
キャリア回転数120rpm
研磨液流量80mL/min(循環)
AFM(Digital Instrument NanoScope IIIa Multi Mode AFM)を用いて、以下に示す条件で、洗浄後のサファイア板の内周縁と外周縁との中央部分を表裏1箇所ずつ測定し、中心線平均粗さAFM‐Raを測定した。2点の平均値を「表面粗さ」とした。実施例1〜50、比較例2〜7の研磨液組成物を用いた場合の表面粗さは、比較例1の研磨液組成物を用いた場合の表面粗さを「100」とした場合の相対値で、表1及び表2に示した。また、表3、表4に記載の表面粗さは、各々、比較例2、比較例5の研磨液組成物を用いた場合の研磨速度Xを「100」とした場合の相対値である。値が小さいほど表面粗さの悪化が抑制されていることを示す。
〔AFMの測定条件〕
Mode: Tapping mode
Area: 1×1μm
Scan rate: 1.0Hz
Cantilever: NCH−10V
Line: 512×512
25℃における研磨液組成物の粘度を、粘弾性測定装置(AntonPaar社製、PhysicaMCR301)を用いて、25℃50%RHの環境にて測定した。具体的には、パラレルプレート(PP75、φ75mm)を使用し、パラレルプレート間のギャップを100μmとし、片方のプレートを回転させて、せん断速度を1(1/s)から10000(1/s)まで上昇させた後、次に10000(1/s)から1(1/s)まで徐々に下降させていき、せん断速度下降時の100(1/s)におけるせん断粘度を測定結果とし、表3及び表4に示した。また、下記式により算出されるせん断粘度比も、表3及び表4に示した。
せん断粘度比=(研磨液組成物のせん断速度100(1/s)におけるせん断粘度)/(レオロジー改質剤を含まないこと以外は前記研磨液組成物と同じ組成の研磨液組成物のせん断速度100(1/s)におけるせん断粘度)
Claims (18)
- アルミナ粒子、アニオン性高分子、及び水系媒体を含有する、サファイア板用研磨液組成物。
- 前記アニオン性高分子が、アクリル酸由来の構成単位を含む、請求項1に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 更に糖骨格を有する化合物を含有する、請求項1又は2に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 更に無機リン酸塩化合物を含有する、請求項1から3のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 前記無機リン酸塩化合物が、オルトリン酸塩、亜リン酸塩、及び次亜リン酸塩からなる群から選ばれる1種以上の無機リン酸塩化合物である、請求項4に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 前記の無機リン酸塩化合物が、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、及びアンモニウム塩のうちの何れか1種又は2種以上である、請求項4又は5に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 更に酸化剤を含有する、請求項1から6のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 更に酸を含有する、請求項1から7のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 前記酸が、有機酸及び無機酸を含む、請求項8に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 前記サファイア板用研磨液組成物の25℃におけるpHが10以上14未満である、請求項1から9のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 前記アルミナ粒子の動的光散乱法で測定される平均粒径が0.2μm以上1.0μm以下である請求項1から10のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- アルミナ粒子、レオロジー改質剤、及び水系媒体を含有する、サファイア板用研磨液組成物。
- 前記レオロジー改質剤が、アニオン性高分子であり、アクリル酸由来の構成単位を含む、請求項12に記載のサファイア板
用研磨液組成物。 - 更に糖骨格を有する化合物を含有する、請求項12又は13に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 更に無機リン酸塩化合物を含有する、請求項12から14のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物。
- 被研磨サファイア板に対して、請求項1から15のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物を供給して前記被研磨サファイア板を研磨する工程を含む、サファイア板の製造方法。
- 被研磨サファイア板に対して、請求項1から15のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物を供給して前記被研磨サファイア板を研磨する工程と、
前記工程で使用した前記サファイア板用研磨液組成物を用いて、前記被研磨サファイア板とは別の被研磨サファイア板を研磨する工程と、を含むサファイア板の製造方法。 - 被研磨サファイア板に対して、請求項1から15のいずれかの項に記載のサファイア板用研磨液組成物を供給して前記被研磨サファイア板を研磨する工程を含む、被研磨サファイア板の研磨方法。
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