JP2015189047A - 機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】低コストで、無機層等の損傷が無く、目的とする性能を安定して発揮する、機能性フィルム、および、この機能性フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】ガスバリア支持体のリタデーション値が３００ｎｍ以下であり、有機無機積層体の最下層および最上層は無機層であり、ガスバリア支持体の線膨張係数と裏面保護フィルムの線膨張係数との差が０〜８０ｐｐｍ／℃であり、表面保護フィルムの融点が８０〜１７０℃であり、ガスバリア支持体と粘着層との粘着力が０．０１Ｎ／２５ｍｍ〜０．１５Ｎ／２５ｍｍ、表面保護フィルムと無機層との粘着力が０．０２Ｎ／２５ｍｍ〜０．０６Ｎ／２５ｍｍであることにより、この課題を解決する。【選択図】図１

Description

本発明は、有機層と無機層との積層構造を有する機能性フィルム、および、この機能性フィルムの製造方法に関する。

光学素子、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置、各種の半導体装置、太陽電池等の各種装置において防湿性が必要な部位や部品、食品や電子部品等を包装する包装材料などガスバリアフィルムが利用されている。
ガスバリアフィルムは、一般的に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等のプラスチックフィルムを支持体（基板）として、その上に、ガスバリア性を発現するガスバリア層を形成してなる構成を有する。また、ガスバリアフィルムに用いられるガスバリア層としては、例えば、窒化ケイ素、酸化珪素、酸化アルミニウム等の各種の無機化合物からなる層が知られている。

このようなガスバリアフィルムにおいて、より高いガスバリア性能が得られる構成として、支持体の上に、有機化合物からなる有機層と、無機化合物からなる無機層とを交互に積層した積層構造を有する、有機／無機積層型のガスバリアフィルム（以下、積層型のガスバリアフィルムとも言う）が知られている。
積層型のガスバリアフィルムにおいても、主にガスバリア性を発現するのは無機層である。積層型のガスバリアフィルムでは、下地となる有機層の上に無機層を形成することにより、有機層によって無機層の形成面を平滑化して、良好な平滑性を有する有機層の上に無機層を形成する。これにより、ヒビや割れ等のない均一な無機層を形成して、優れたガスバリア性能を得ている。また、この有機層と無機層との積層構造を、複数、繰り返し有することにより、より優れたガスバリア性能を得ることができる。

このような積層型のガスバリアフィルムの製造方法として、いわゆるロール・トゥ・ロール（以下、ＲｔｏＲとも言う）が知られている。ＲｔｏＲとは、長尺な支持体をロール状に巻回してなる支持体ロールから支持体を送り出し、支持体、すなわち、被成膜材料を長手方向に搬送しつつ、支持体に有機層や無機層を形成し、有機層や無機層を形成した支持体をロール状に巻回する製造方法である。
ＲｔｏＲを利用することにより、長尺な支持体を搬送しつつ、連続的に有機層や無機層を形成できるので、非常に高い生産性で積層型のガスバリアフィルムを製造できる。

ところで、前述のように、積層型のガスバリアフィルムにおいて、主にガスバリア性を発現するのは、無機層である。従って、無機層が損傷すると、ガスバリア性能が大幅に低下する。
また、積層型のガスバリアフィルムにおいて、有機層は、無機層を適正に形成するための下地層として作用する。従って、有機層が損傷すると、適正な無機層が形成できず、同様に、ガスバリア性能が大幅に低下する。

一方で、積層型のガスバリアフィルムでは、光学特性、重量、コスト等を考慮すると、支持体は薄い方が有利である。
しかしながら、薄い支持体は、いわゆるコシが弱く、ＲｔｏＲによる搬送中に、折れ曲がってしまう等の不都合が生じ易い。有機層や無機層を形成した支持体が、搬送中に折れ曲がると、先に形成した有機層や無機層を損傷してしまう。

また、ＲｔｏＲでは、搬送ローラ対やガイドローラ等が有機層や無機層に接触することが避けられない場合がある。しかしながら、このローラの接触によって、有機層や無機層が損傷してしまう場合が有る。
このような不都合を解消するために、ＲｔｏＲを利用する積層型のガスバリアフィルムの製造では、端部の径が大きい、いわゆる段付きローラを用いて、支持体の端部のみを挟持搬送する、非接触搬送を利用することが知られている。
しかしながら、支持体のコシが弱い場合には、このような非接触搬送によって適正な搬送を行うのは、益々、困難になる。

このような不都合を解消するために、特許文献１や特許文献２には、有機膜や無機膜の非形成面にラミネートフィルムを貼着してなる支持体を用いて、ＲｔｏＲによって有機層や無機層を形成するガスバリアフィルムの製造方法が記載されている。
この方法によれば、支持体の裏面に保護材料を貼着することにより、支持体、あるいは、支持体を含む積層体の自己支持性を確保することができ、薄い支持体を用いた場合や、非接触搬送を利用する場合でも、支持体の折れ曲がりを生じることなく、ＲｔｏＲによって適正に有機層や無機層を形成できる。

また、ＲｔｏＲの製造におけるハンドリングやロールへの巻き回しの際に、表面の無機層がガイドローラ等に接触して無機層が損傷することを防止するために、成膜した無機層の表面に保護フィルムを貼着することも行われている（特許文献３）。

特開２０１１−１４９０５７号公報 特開２０１１−１６７９６７号公報 特開２０１２−１９２７３８号公報

ところで、近年では、有機／無機積層型のガスバリアフィルムを、携帯電話やディスプレイなどに利用される、トップエミッション方式の有機ＥＬデバイス等に利用することが考えられている。
このような用途に利用される積層型のガスバリアフィルムでは、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）フィルムなど、リタデーション値が低く、高い光透過性を有する光学特性に優れた支持体を用いる必要が有る。また、ガスバリアフィルムの光学特性という点では、支持体は、薄い方が好ましい。

しかしながら、このようなＣＯＣフィルム等を支持体として用いる積層型のガスバリアフィルムでは、前述の保護材料を用いたＲｔｏＲによる製造を、安価かつ適正に行うことができない。

すなわち、保護材料を利用する積層型のガスバリアフィルムの製造において、保護材料は、製品の一部とはならず、最終的には、剥離されて廃棄される。そのため、保護材料としては、安価なポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等が用いられる。

一方、積層型のガスバリアフィルムでは、通常の無機層の形成にはプラズマＣＶＤ等の気相成膜法が利用される。また、有機層の形成には、有機層となる有機材料を含有する塗料を、塗布、乾燥して硬化する、塗布法が利用されている。
すなわち、積層型のガスバリアフィルムの製造においては、支持体および保護材料は、無機層の形成では、プラズマＣＶＤ等の気相成膜法による熱に曝され、また、有機層の形成では、塗料の乾燥の際に熱に曝される。さらに、有機層の形成では、塗膜を硬化する際に加熱を行う場合も有る。

ところが、ＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムと、ＰＥＴフィルムとでは、熱膨張／熱収縮や、Ｔｇなどの熱的特性が、全く異なる。そのため、加熱を伴うプロセスにおいては、両フィルムは異なる変形を示す。
ＲｔｏＲによる積層型のガスバリアフィルムの製造において、このように支持体と保護材料とで熱的特性が異なるフィルムを用いた場合には、搬送によるストレスや搬送経路の変更による屈曲等も有るため、加熱を伴うプロセスにおける両フィルムの異なる変形によって、支持体と保護材料の剥離や、支持体のシワや折れ等が生じ、これに起因して、無機層が損傷してしまう。
また、支持体と保護材料との間を完全に密着することは難しく、支持体と保護材料との間には気泡が存在する。そのため、加熱を伴うプロセスにおいて、この気泡が膨張して、支持体と保護材料の剥離や、支持体のシワや折れ等が発生してしまう。

支持体と保護材料との熱的特性の違いに起因する問題は、支持体と保護材料とで、同じ材料からなるもの、すなわち、熱的特性が同じ材料を用いれば生じない。
しかしながら、ＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムは、ＰＥＴフィルム等に比して、非常に高価である。また、前述のように、保護材料は、最終的には廃棄される材料である。そのため、支持体としてＣＯＣフィルムのような光学特性に優れたフィルムを用いた場合には、同じ材料から保護材料を用いると、積層型のガスバリアフィルムのコストが、非常に高くなってしまう。
また、支持体と保護材料とで同じ材料を用いたとしても、支持体と保護材料との間に存在する気泡に起因する剥離や、支持体のシワや折れ等は抑制することができない。

また、光学特性に優れたフィルムの中でも、ＣＯＣフィルムは、有機層との密着性が低い。そのため、無機層の下地層として、有機層を支持体の上に積層しても、搬送によるストレスや搬送経路の変更による屈曲等によって、支持体と有機層とに剥離が生じ、これに起因して、無機層が損傷してしまう。

ところで、有機／無機積層型のガスバリアフィルムを、トップエミッション方式の有機ＥＬデバイス等に利用する場合には、発光素子である有機ＥＬ材料を覆うガスバリア性を有するパッシベーション膜の上に、接着剤を用いてこのガスバリアフィルムを積層する。

このような有機ＥＬデバイスにおいて、パッシベーション膜の形成材料としては、ガスバリア性を発現する窒化ケイ素、酸化ケイ素および酸化窒化ケイ素等の無機材料が例示されている。
そのため、接着性の観点から、有機ＥＬデバイス等に利用する、有機／無機積層型のガスバリアフィルムにおいては、最上層を無機層として、この無機層とパッシベーション膜とを対面して、無機材料同士を接着剤を介して積層することが好ましい。

ここで、前述のとおり、無機層は脆く割れやすいため、作製したガスバリアフィルムの最上層の無機層には、無機層を保護するための保護フィルムを貼着している。このようなガスバリアフィルムを有機ＥＬデバイス等に組み込む際には、保護フィルムを剥離して無機層を表出させて、パッシベーション膜上に接着する。
ここで、保護フィルムと無機層とを接着剤を介して貼着した場合には、保護フィルムを剥離した際に、無機層上に接着剤が残存して、パッシベーション膜と無機層との接着を阻害するおそれがある。

本発明の目的は、このような従来技術の問題点を解決することにあり、有機層と無機層とを交互に形成してなる有機／無機積層型の機能性フィルムにおいて、有機層および無機層の形成に加熱を伴う場合であっても、低コストで、かつ、無機層の損傷が無い、目的とする性能を安定して発揮する機能性フィルム、および、この機能性フィルムの製造方法を提供することにある。

本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、リタデーション値が低い光学特性に優れたガスバリア支持体に有機無機積層体を積層した機能性フィルムにおいて、有機無機積層体の最下層および最上層を無機層とし、ガスバリア支持体の線膨張係数と裏面保護フィルムの線膨張係数との差を所定の範囲とし、保護フィルムの融点を所定の範囲とし、ガスバリア支持体と粘着層との粘着力、保護フィルムと最上層の無機層との粘着力をそれぞれ規定した機能性フィルムを用いることにより、有機層および無機層の形成に加熱を伴う場合であっても、低コストで、かつ、無機層の損傷が無い、目的とする性能を安定して発揮することを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は以下の構成の機能性フィルムおよびその製造方法を提供する。

（１） ガスバリア支持体と、無機層および有機層が交互に積層されてなりガスバリア支持体上に形成される有機無機積層体と、ガスバリア支持体の有機無機積層体の形成面とは逆面に貼着される粘着層と、粘着層に貼着される裏面保護フィルムと、有機無機積層体上に積層される保護フィルムとを有し、
ガスバリア支持体のリタデーション値が、３００ｎｍ以下であり、
有機無機積層体は、１以上の有機層と２以上の無機層とを有し、ガスバリア支持体側である最下層および表面保護フィルム側である最上層は、無機層であり、
ガスバリア支持体の線膨張係数と裏面保護フィルムの線膨張係数との差が、０〜８０ｐｐｍ／℃であり、
表面保護フィルムの融点が、８０〜１７０℃であり、
ガスバリア支持体と粘着層との２５℃における粘着力が、０．０１Ｎ／２５ｍｍ〜０．１５Ｎ／２５ｍｍであり、
表面保護フィルムと有機無機積層体の最上層の無機層との２５℃における粘着力が、０．０２Ｎ／２５ｍｍ〜０．０６Ｎ／２５ｍｍである機能性フィルム。
（２） ガスバリア支持体と有機無機積層体の最下層の無機層との間に第１の混合層を有し、第１の混合層の厚みが１ｎｍ〜２０ｎｍである（１）に記載の機能性フィルム。
（３） 有機無機積層体において、有機層とこの有機層上に積層される無機層との間に第２の混合層を有し、第２の混合層の厚みが１ｎｍ〜２０ｎｍである（１）または（２）に記載の機能性フィルム。
（４） 粘着層と裏面保護フィルムとの２５℃における粘着力が、０．０５Ｎ／２５ｍｍ〜０．２０Ｎ／２５ｍｍである（１）〜（３）のいずれかに記載の機能性フィルム。
（５） ガスバリア支持体の厚みが、２０μｍ〜１２０μｍであり、有機無機積層体の１つの有機層の厚みが、０．５μｍ〜５μｍであり、１つの無機層の厚みが、１０ｎｍ〜２００ｎｍであり、粘着層の厚みが、１５μｍ〜２５０μｍであり、裏面保護フィルムの厚みが、１２μｍ〜１００μｍであり、表面保護フィルムの厚みが、２０μｍ〜１００μｍである（１）〜（４）のいずれかに記載の機能性フィルム。
（６） ガスバリア支持体のガラス転移温度が、１３０℃以上であり、裏面保護フィルムのガラス転移温度が、７０℃以上である（１）〜（５）のいずれかに記載の機能性フィルム。
（７） ガスバリア支持体と粘着層との１００℃における粘着力が、０．０３Ｎ／２５ｍｍ〜０．１４Ｎ／２５ｍｍ、２００℃における粘着力が、０．０４Ｎ／２５ｍｍ〜０．１３Ｎ／２５ｍｍであり、粘着層と裏面保護フィルムとの１００℃における粘着力が、０．０７Ｎ／２５ｍｍ〜０．１９Ｎ／２５ｍｍ、２００℃における粘着力が、０．０８Ｎ／２５ｍｍ〜０．１８Ｎ／２５ｍｍである（１）〜（６）のいずれかに記載の機能性フィルム。
（８） 裏面保護フィルムの摩擦係数が、０．６以下である（１）〜（７）のいずれかに記載の機能性フィルム。
（９） 表面保護フィルムのヤング率は、ガスバリア支持体のヤング率、および、裏面保護フィルムのヤング率の１／４以下である（１）〜（８）のいずれかに記載の機能性フィルム。
（１０） 粘着層は、アクリル酸アルキルモノマーのアルキル基部分の炭素数が３〜１０のもの、あるいはさらに、メタクリル酸アルキルモノマーを含む粘着材料からなり、温度２５℃〜１５０℃、ＵＶ照射量１００ｍＪ／ｃｍ²〜１０００ｍＪ／ｃｍ²の条件で架橋した際の、架橋による体積収縮率が３％以下である（１）〜（９）のいずれかに記載の機能性フィルム。
（１１） ガスバリア支持体と、ガスバリア支持体に貼着される粘着層と、粘着層に貼着される裏面保護フィルムとを有する長尺な積層体、ならびに、長尺な積層体のガスバリア支持体上に交互に積層される無機層および有機層を有し、裏面保護フィルムとは反対側の表面が有機層である複合体を作製する工程と、
複合体を長手方向に搬送しつつ、表面の有機層上に気相成長法により最上層の無機層を形成する成膜工程と、
成膜工程で形成された最上層の無機層上に、表面保護フィルムを貼り付ける表面保護フィルム貼付工程とを有し、
成膜工程と表面保護フィルム貼り付け工程とを、同じ圧力、温度の環境下で連続的に行うものであり、
ガスバリア支持体のリタデーション値が、３００ｎｍ以下であり、
ガスバリア支持体の線膨張係数と裏面保護フィルムの線膨張係数との差が、０〜８０ｐｐｍ／℃であり、
表面保護フィルムの融点が、８０〜１７０℃であり、
ガスバリア支持体と粘着層との２５℃における粘着力が、０．０１Ｎ／２５ｍｍ〜０．１５Ｎ／２５ｍｍである機能性フィルムの製造方法。
（１２） 複合体を作製する工程は、無機層が積層された長尺な積層体の、無機層上に有機層となる組成物を塗布する塗布工程と、塗布した組成物を乾燥させる乾燥工程とを有し、乾燥工程において、複合体の温度が、７０℃以上となる（１１）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（１３） 複合体を作製する工程は、無機層が積層された長尺な積層体の、無機層上に有機層となる組成物を塗布する塗布工程と、塗布した組成物を乾燥させる乾燥工程と、乾燥した組成物に紫外線の照射を行って硬化させて有機層を形成する硬化工程とを有し、硬化工程において、複合体を温度３０℃以上となるように裏面保護フィルム側から加熱しつつ、紫外線の照射を行う（１１）または（１２）に記載の機能性フィルムの製造方法。

このような本発明によれば、有機層と無機層とを交互に積層してなる有機／無機積層型の機能性フィルムにおいて、有機層および無機層の形成に加熱を伴う場合であっても、安価な保護材料を用いて、無機層等の損傷が無く、目的とする性能を有する機能性フィルムを、低コストで製造できる。

図１（Ａ）および図１（Ｂ）は、本発明の機能性フィルムの一例を概念的に示す図であり、図１（Ｃ）は、本発明の機能性フィルムから粘着層、裏面保護フィルムおよび表面保護フィルムを剥離した状態の一例を概念的に示す図である。 本発明の機能性フィルムの製造方法を実施する製造装置の一例を概念的に示す図であって、図２（Ａ）は無機層の成膜装置、図２（Ｂ）は有機層の成膜装置である。

以下、本発明の機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。

図１（Ａ）に、本発明の機能性フィルムをガスバリアフィルムに利用した一例を、概念的に示す。

なお、本発明の機能性フィルムは、ガスバリアフィルムに限定はされない。すなわち、本発明は、特定の波長の光を透過するフィルタや光反射防止フィルムなどの各種の光学フィルム等、公知の機能性フィルムに、各種、利用可能である。
本発明の機能性フィルムのように、有機／無機の積層型の機能性フィルムにおいて、主に目的とする機能を発現するのは、無機層である。従って、特定波長の光透過性など、目的とする機能を発現する無機層を選択して、本発明の機能性フィルムを構成すればよい。

しかしながら、本発明によれば、後述する粘着層および保護材料を有することにより、ヒビや割れ等の欠陥の無い無機層を有する機能性フィルムを得ることができる。また、支持体として、リタデーション値が低い等の光学特性に優れる材料からなる物を選択することで、光学特性に優れた機能性フィルムが得られる。
従って、本発明は、高い光学特性を要求される場合が多く、かつ、無機層の損傷による性能劣化が大きいガスバリアフィルムには、より好適に利用される。

本発明の機能性フィルムにかかるガスバリアフィルムは、ガスバリア支持体１２の表面（主面）に、無機層１４と有機層１６とを交互に積層してなる有機無機積層体を有する、前述の有機／無機積層型のガスバリアフィルムである。なお、図１（Ａ）においては、構成を明瞭にするために、無機層１４のみにハッチを付している。
図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａは、ガスバリア支持体１２の表面に無機層１４を有し、その上に有機層１６を有し、その上に２層目の無機層１４を有する、ガスバリア支持体１２の無機層１４と有機層１６とを交互に形成した、２層の無機層１４と１層の有機層１６との合計３層を積層してなる構成を有する。この２層の無機層１４と１層の有機層１６とによって、本発明における有機無機積層体２８が構成される。
また、ガスバリア支持体１２の裏面、すなわち、無機層１４および有機層１６の形成面の逆面には、粘着層２０が貼着され、この粘着層２０には、裏面保護フィルム２４が貼着される。このガスバリア支持体１２、粘着層２０および裏面保護フィルム２４によって、本発明における積層体２６が構成される。
さらに、有機無機積層体２８の上、すなわち、２層目の無機層１４上には、表面保護フィルム１８が貼着される。

なお、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａにおいては、有機無機積層体２８は、無機層１４および有機層１６を、この順番で交互に合計３層積層した構成としたが、本発明のガスバリアフィルムは、これに限定はされない。
例えば、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム１００のように、有機無機積層体２８は、２層目の無機層１４の上に、さらに、２層目の有機層１６および３層目の無機層１４を積層した、３層の無機層１４と２層の有機層１６との、合計５層を有する構成でもよい。あるいは、さらに、有機無機積層体２８は、無機層１４と有機層１６とを交互に積層した、合計７層以上を有する構成であってもよい。
後述するが、有機層１６は、無機層１４を適正に形成するための下地層としてとして作用するものであり、下地の有機層１６と無機層１４との組み合わせの積層数が多いほど、優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得られる。

なお、有機無機積層体２８において、ガスバリア支持体１２側である最下層、および、表面保護フィルム１８側である最上層は、いずれも無機層１４である。
この点については、後に詳述する。

前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａは、ガスバリア支持体１２の上に、無機層１４と有機層１６とを、交互に積層した有機無機積層体２８を有する。また、ガスバリア支持体１２の裏面には、粘着層２０および裏面保護フィルム２４が設けられる。また、有機無機積層体２８の上には表面保護フィルム１８が設けられる。
ここで、粘着層２０、裏面保護フィルム２４および表面保護フィルム１８は、最終的には剥離され、図１（Ｃ）に示すような、ガスバリア支持体１２の表面に無機層１４と有機層１６とを交互に有するのみのガスバリアフィルム１０ｂとされる。この点に関しては、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム１００も同様である。

本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、ガスバリア支持体１２は、リタデーション値(Retardation)が３００ｎｍ以下のシート状物（以下、低リタデーションフィルムとも言う）である。
ガスバリア支持体１２として、リタデーション値が３００ｎｍ以下の低リタデーションフィルムを用いることにより、光学特性に優れたガスバリアフィルムを得ることができる。これにより、例えば、本発明のガスバリアフィルムを有機ＥＬデバイス等に利用した際に、光のコントラスト低下、外光反射に起因する視認性の低下等を防止できる。
この点を考慮すると、ガスバリア支持体１２のリタデーション値は、２００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以下がより好ましい。
さらに、本発明においては、同様の理由で、ガスバリア支持体１２は、全光線透過率が８５％以上であるのが好ましい。

ガスバリア支持体１２としては、具体的には、ポリカーボネート（ＰＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、透明ポリイミドなどのプラスチック（高分子材料）からなるプラスチックフィルムが、好適に例示される。
なお、ガスバリア支持体１２は、このようなプラスチックフィルムの表面に、保護層、接着層、光反射層、反射防止層、遮光層、平坦化層、緩衝層、応力緩和層等の、各種の機能を得るための層（膜）が形成されているものであってもよい。

本発明において、ガスバリア支持体１２の厚さは、好ましくは２０〜１２０μｍである。
ガスバリア支持体１２の厚さを２０μｍ以上とすることにより、無機層１４および有機層１６の形成によるカールが大きくなることを抑制でき、かつ、これによりロールとして巻き取ることが容易になる、ガスバリアフィルム１０ａ、あるいは、粘着層２０、裏面保護フィルム２４および表面保護フィルム１８を剥離したガスバリアフィルム１０ｂに十分な機械的強度を付与できる等の点で好ましい。
また、ガスバリア支持体１２の厚さを１２０μｍ以下とすることにより、光学特性が良好なガスバリアフィルム１０ｂが得られる、薄手化したガスバリアフィルム１０ａ（１０ｂ）が得られる、可撓性の良好なガスバリアフィルム１０ａ（１０ｂ）が得られる、軽量なガスバリアフィルム１０ａ（１０ｂ）が得られる、ガスバリアフィルム１０ｂを利用する製品（有機ＥＬデバイス等）でも軽量化や薄手化を図れる等の点で好ましい。
以上の点を考慮すると、ガスバリア支持体１２の厚さは、２０〜７５μｍがより好ましい。

また、ガスバリア支持体１２は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１３０℃以上であるのが好ましく、１４０℃以上であるのがより好ましい。
前述のように、ガスバリア支持体１２の表面には、無機層１４および有機層１６が形成される。ここで、無機層１４は、通常、プラズマＣＶＤなどの気相成膜法で形成され、有機層１６は、有機層１６となる有機化合物を含有する塗料を塗布、乾燥および硬化する塗布法で形成される。すなわち、ガスバリアフィルム１０ａは、ガスバリア支持体１２の加熱を伴う方法で無機層１４および有機層１６を形成される。
これに対し、ガスバリア支持体１２として、Ｔｇが１３０℃以上のものを用いることにより、無機層１４および有機層１６の形成における加熱によるガスバリア支持体１２の熱損傷を防止できる。さらに、粘着層２０、裏面保護フィルム２４および表面保護フィルム１８を剥離したガスバリアフィルム１０ｂを利用する製品の製造における加熱工程におけるガスバリア支持体１２の熱損傷を防止できる等の点でも好ましい。

さらに、ガスバリア支持体１２は、裏面保護フィルム２４との線膨張係数の差が０〜８０ｐｐｍ／℃である。
ガスバリア支持体１２の線膨張係数と、裏面保護フィルム２４の線膨張係数との差を０〜８０ｐｐｍ／℃とすることにより、前述の無機層１４および有機層１６の形成における加熱によるガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との剥離や変形を好適に防止できる。
この点については後に詳述する。

前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、ガスバリア支持体１２の上には、無機層１４と有機層１６とが交互に形成された有機無機積層体が積層される。
無機層１４は、無機化合物からなる層である。ガスバリアフィルム１０ａにおいて、無機層１４は、目的とするガスバリア性を、主に発現するものである。

無機層１４の形成材料には、限定はなく、ガスバリア性を発現する無機化合物からなる層が、各種、利用可能である。
具体的には、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化タンタル、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの金属酸化物； 窒化アルミニウムなどの金属窒化物； 炭化アルミニウムなどの金属炭化物； 酸化珪素、酸化窒化珪素、酸炭化珪素、酸化窒化炭化珪素などの珪素酸化物； 窒化珪素、窒化炭化珪素などの珪素窒化物； 炭化珪素等の珪素炭化物； これらの水素化物； これら２種以上の混合物； および、これらの水素含有物等の、無機化合物が、好適に例示される。
特に、窒化珪素、酸化珪素、酸窒化珪素、酸化アルミニウムは、透明性が高く、かつ、優れたガスバリア性を発現できる点で、ガスバリアフィルムには、好適に利用される。中でも特に、窒化珪素は、優れたガスバリア性に加え、透明性も高く、好適に利用される。

本発明において、無機層１４の厚さは、好ましくは１０〜２００ｎｍである。
無機層１４の厚さを１０ｎｍ以上とすることにより、十分なガスバリア性能を安定して発現する無機層１４が形成できる。また、無機層１４は、一般的に脆く、厚過ぎると、割れやヒビ、剥がれ等を生じる可能性が有るが、無機層１４の厚さを２００ｎｍ以下とすることにより、割れが発生することを防止できる。
また、このような点を考慮すると、無機層１４の厚さは、１５〜１００ｎｍにするのが好ましく、特に、２０〜７５ｎｍとするのが好ましい。

なお、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、複数の無機層１４を有する場合には、各無機層１４の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
同様に、ガスバリアフィルム１０ａのように、複数の無機層１４を有する場合には、各無機層１４の形成材料も、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性や生産コスト等を考慮すれば、全ての無機層１４を同じ材料で形成するのが好ましい。

本発明のガスバリアフィルム１０において、無機層１４は、形成材料に応じた公知の無機層の形成方法で形成（成膜）すればよい。
具体的には、ＣＣＰ−ＣＶＤやＩＣＰ−ＣＶＤ等のプラズマＣＶＤ、マグネトロンスパッタリングや反応性スパッタリング等のスパッタリング、真空蒸着などの気相成膜法（気相堆積法）が、好適に例示される。

ここで、図１（Ａ）に示すように、本発明の機能性フィルムにかかるガスバリアフィルム１０ａにおいては、ガスバリア支持体１２の表面に無機層１４が形成される。
前述のとおり、ガスバリア支持体が低リタデーション値を有する場合には、ガスバリア支持体と有機層との密着性が低いため、１層目の無機層の下地層としてガスバリア支持体１２上に有機層を形成しても、搬送によるストレスや搬送経路の変更による屈曲等によって、支持体と有機層とに剥離が生じ、これに起因して、無機層が損傷してしまう。

これに対して、本発明においては、ガスバリア支持体１２の表面に無機層１４を形成する。すなわち、有機無機積層体２８の最下層を無機層１４とする。これにより、光学特性に優れた低リタデーション値を有するガスバリア支持体１２を用いた場合でも、ガスバリア支持体１２と有機無機積層体２８との密着性を向上して、剥離を防止し、無機層１４の損傷を防止できる。
また、このようなガスバリア支持体１２の表面に形成される無機層１４は、ガスバリア性を発現するのみならず、ガスバリア支持体１２の保護層としても作用する。

前述のように、有機層１６は、有機化合物を含有する塗料を用いる塗布法によって形成される。この塗料には、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）やメチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）有機溶剤が含まれる。
ところが、ガスバリア支持体１２となるプラスチックフィルムは、有機溶剤に対する耐性が低い場合が有り、プラスチックフィルムと有機溶剤との組み合わせによっては、プラスチックフィルムが溶解されてしまう場合が有る。特に、前述のような低リタデーションフィルムは、有機溶剤に対する耐性が低く、溶解されてしまう場合が多い。すなわち、ガスバリア支持体１２の表面に有機層１６を形成すると、ガスバリア支持体１２の形成材料と塗料が含有する有機溶剤との組み合わせによっては、ガスバリア支持体１２の表面が溶解してしまう場合が有る。
このようなガスバリア支持体１２の溶解が生じると、ガスバリア支持体１２のリタデーション値が変化する、光透過率が下がる、ヘイズが上がる等の不都合が生じ、ガスバリアフィルムの光学的な特性が大幅に低減してしまう。

これに対し、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、ガスバリア支持体１２の表面に無機層１４を形成して、その上に、有機層１６と無機層１４とを交互に積層することにより、無機層１４が有機層１６を形成する塗料が含有する有機溶剤に対する保護層として作用する。
そのため、ガスバリア支持体１２の有機溶剤に対する耐性が低い場合でも、塗料によるガスバリア支持体１２の溶解を防止して、ガスバリア支持体１２の光学特性を維持することができ、光学特性に優れるガスバリアフィルムを得ることができる。

ここで、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａのように、ガスバリア支持体１２の表面に無機層１４を有する構成では、無機層１４とガスバリア支持体１２との間に、ガスバリア支持体１２の形成成分と無機層１４の形成成分とが混合された、混合層のような領域を有してもよい。無機層１４とガスバリア支持体１２との間の混合層は、本発明における第１の混合層である。
ガスバリア支持体１２と無機層１４との間にこのような混合層を有することにより、無機層１４とガスバリア支持体１２の密着性を向上して、ガスバリアフィルム１０ａの強度を向上できると共に、ガスバリア支持体１２からの無機層１４の剥離に起因するガスバリア性の低下も防止できる。

同様に、下地層となる有機層１６と、この有機層１６の表面に形成される無機層１４との間に、有機層１６の形成成分と無機層１４の形成成分とが混合された、混合層のような領域を有してもよい。有機層１６と無機層１４との間の混合層は、本発明における第２の混合層である。
有機層１６と無機層１４との間にこのような混合層を有することにより、無機層１４と有機層１６との密着性を向上して、ガスバリアフィルム１０ａの強度を向上できると共に、有機層１６からの無機層１４の剥離に起因するガスバリア性の低下も防止できる。

第１の混合層、および、第２の混合層の厚さには特に限定はないが、ガスバリア支持体１２と無機層１４との密着性、有機層１６と無機層１４との密着性、強度および生産効率の観点から、第１の混合層および第２の混合層の厚さは、１ｎｍ〜２０ｎｍであることが好ましい。
なお、混合層は、ガスバリア支持体１２あるいは有機層１６に由来する成分と、無機層１４に由来する成分とを含む層である。したがって、無機層１４に由来する成分が無くなった位置が、ガスバリア支持体１２あるいは有機層１６と混合層との境界であり、ガスバリア支持体１２あるいは有機層１６に由来する成分が無くなった位置が、無機層１４と混合層との境界である。

前述のように、無機層１４は、プラズマＣＶＤ等の気相成膜法で形成するが、この成膜条件を調節することにより、混合層の形成の有無や混合層の厚さ等を調節できる。
例えば、プラズマＣＶＤで無機層１４を形成する際には、投入電力等を調節して生成するプラズマ強度を調節する方法、無機層１４の形成時にかけるバイアスを調節する方法等で、混合層の形成の有無や混合層の厚さ等を調節できる。

他方、前述のように、本発明の機能性フィルムにかかるガスバリアフィルムは、有機無機積層体２８の最上層が無機層１４である。
このように、有機無機積層体２８の最上層を無機層１４とすることにより、有機層１６に起因するアウトガスの排出を防止できる。従って、有機無機積層体２８の最上層が無機層１４である構成は、例えば、有機無機積層体２８側に、有機ＥＬデバイス等の不要なガス成分に悪影響を受けやすいデバイスを配置する必要が有る場合に、好適である。
また、有機無機積層体２８の最上層を無機層１４とすることにより、ガスバリアフィルム１０ａをトップエミッション方式の有機ＥＬデバイス等に利用する場合に、有機ＥＬデバイスの、無機材料からなるパッシベーション膜と最上層の無機層１４とを対面して接着することができる。すなわち、同じ無機材料同士を接着剤により接着するので、パッシベーション膜と無機層１４との密着性を向上でき、水分やガスの浸入を防止して、有機ＥＬデバイスの発光素子である有機ＥＬ材料の劣化を防止できる。

有機層１６は、有機化合物からなる層で、基本的に、有機層１６となる有機化合物を、架橋（重合）したものである。
前述のように、有機層１６は、ガスバリア性を発現する無機層１４を適正に形成するための、下地層として機能する。このような下地の有機層１６を有することにより、無機層１４の形成面の平坦化や均一化を図って、無機層１４の形成に適した状態にできる。
下地の有機層１６および無機層１４を積層した積層型のガスバリアフィルムでは、これにより、フィルムの全面に、隙間無く、適正な無機層１４を形成することが可能になり、優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを得ることができる。

ガスバリアフィルム１０ａにおいて、有機層１６の形成材料には、限定はなく、公知の有機化合物が、各種、利用可能である。
具体的には、ポリエステル、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、セルロースアシレート、ポリウレタン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、脂環式ポリオレフィン、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリエステル、アクリロイル化合物、などの熱可塑性樹脂、あるいはポリシロキサン、その他の有機珪素化合物の膜が好適に例示される。これらは、複数を併用してもよい。

中でも、ガラス転移温度や強度に優れる等の点で、ラジカル重合性化合物および／またはエーテル基を官能基に有するカチオン重合性化合物の重合物から構成された有機層１６は、好適である。

中でも特に、上記強度に加え、屈折率が低い、透明性が高く光学特性に優れる等の点で、アクリレートおよび／またはメタクリレートのモノマーやオリゴマの重合体を主成分とする、ガラス転移温度が１２０℃以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂は、有機層１６として好適に例示される。
その中でも特に、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート（ＤＰＧＤＡ）、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート（Ａ−ＮＯＤ−Ｎ）、１，６ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ−ＨＤ−Ｎ）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＴＡ）、（変性）ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート（ＤＰＨＡ）などの、２官能以上のアクリレートおよび/またはメタクリレートのモノマー等の重合体を主成分とする、アクリル樹脂やメタクリル樹脂は、好適に例示される。また、これらのアクリル樹脂やメタクリル樹脂を、複数、用いるのも好ましい。

有機層１６を、アクリル樹脂やメタクリル樹脂、特に２官能以上のアクリル樹脂やメタクリル樹脂で形成することにより、三次元架橋密度が高い下地の上に無機層１４を形成できるので、より緻密でガスバリア性が高い無機層１４を形成できる。

有機層１６の厚さは、０．５〜５μｍが好ましい。
有機層１６の厚さを０．５μｍ以上とすることにより、無機層１４の全面を確実に有機層１６で覆い、かつ、有機層１６の表面すなわち無機層１４の形成面を平坦化できる。
また、有機層１６の厚さを５μｍ以下とすることにより、有機層１６が厚すぎることに起因する、有機層１６のクラックや、ガスバリアフィルム１０ａのカール等の問題の発生を、好適に抑制することができる。
以上の点を考慮すると、有機層１６の厚さは、１〜３μｍとするのが、より好ましい。

なお、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム１００のように、複数の有機層１６を有する場合には、各有機層１６の厚さは、同じでも、互いに異なってもよい。
同様に、ガスバリアフィルム１００のように、複数の有機層１６を有する場合には、各有機層１６の形成材料も、同じでも異なってもよい。しかしながら、生産性や生産コスト等を考慮すれば、全ての有機層１６を同じ材料で形成するのが好ましい。

本発明において、有機層１６は、基本的に、塗布法で形成される。
すなわち、有機層１６を形成する際には、まず、有機層１６となる有機化合物としてモノマー、ダイマー、トリマー、オリゴマー等、さらには、重合開始剤、シランカップリング剤、界面活性剤、増加粘剤等を有機溶剤に溶解してなる塗料を調節する。次いで、この塗料を無機層１４の表面に塗布し、乾燥する。乾燥後、紫外線照射や電子線照射、加熱等によって、有機化合物を重合して、有機層１６を形成する。

本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、ガスバリア支持体１２の裏面には、粘着層２０が貼着され、この粘着層２０には、裏面保護フィルム２４が貼着される。
前述のように、このガスバリア支持体１２、粘着層２０および裏面保護フィルム２４によって、本発明における積層体２６が構成される。

裏面保護フィルム２４は、前述の特許文献１や特許文献２に記載される例と同様、ガスバリア支持体１２のコシ等が弱く、ロール・トゥ・ロール（以下、ＲｔｏＲともいう）による各層の形成において、適正な搬送が困難な場合に、裏面側からガスバリア支持体１２を支持して、自己支持性を確保し、折れ曲がりやシワの形成等の無い安定した搬送を可能にするためのものである。
ここで、前述のとおり、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、裏面保護フィルム２４は、ガスバリア支持体１２とは異なる熱的特性を有するものである。具体的には、ガスバリア支持体１２の線膨張係数と裏面保護フィルム２４の線膨張係数との差が、０〜８０ｐｐｍ／℃である。
さらに、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、粘着層２０とガスバリア支持体１２との２５℃における粘着力が０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍである。
また、好ましくは、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との２５℃における粘着力が０．０５〜０．２０Ｎ／２５ｍｍである。
本発明は、このようにガスバリア支持体１２と粘着層２０との粘着力、および、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との粘着力と、ガスバリア支持体の線膨張係数と裏面保護フィルムの線膨張係数との差を規定する。
これにより、ＣＯＣフィルム等の高価なガスバリア支持体１２を用いた場合でも、コストを向上することなく、ヒビや割れ等の損傷のない無機層１４を有するガスバリアフィルム１０ａを実現している。

前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、優れた光学特性を実現するために、ガスバリア支持体１２として、ＰＣ、ＣＯＰ、ＣＯＣ、ＴＡＣおよび透明ポリイミド等からなるリタデーション値が３００ｎｍ以下の低リタデーションフィルムを用いる。さらに、ガスバリア支持体１２は、全光線透過率が８５％以上であるのが好ましい。
他方、裏面保護フィルム２４は、最終的には剥離して廃棄するものであるので、ＰＥＴフィルム等の安価なフィルムを用いるのが好ましい。

ところがＣＯＣフィルム等の低リタデーションフィルムと、ＰＥＴフィルム等とでは、例えば、Ｔｇに大きな差がある、一方が熱膨張して他方が熱収縮する、熱膨張／収縮率が大きく異なるなど、互いの熱的特性、すなわち、線膨張係数が異なる。
このように熱的特性が異なるガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４とを有する積層体２６を用いて、ガスバリア支持体１２の表面にＲｔｏＲによって無機層１４や有機層１６を形成すると、無機層１４を形成する際のプラズマ等による熱や、有機層１６を形成する際の乾燥による熱によって、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４とが全く異なる変形を示し、搬送によるストレスや搬送経路の変更による屈曲等も有るため、これにより、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４の剥離や、ガスバリア支持体１２のシワや折れ等が生じてしまう。また、このガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４の剥離やガスバリア支持体１２のシワ等に起因して、適正な無機層１４が形成できず、さらに、先に形成した無機層１４が損傷して、ガスバリア性が低下してしまう。

裏面保護フィルム２４として、ガスバリア支持体１２と同じ材料のフィルムを用いれば、裏面保護フィルム２４とガスバリア支持体１２との熱的特性の違いに起因する問題は生じない。
しかしながら、ＣＯＣフィルム等の低リタデーションフィルムなど、光学特性が高いフィルムは、高価であるため、最終的に廃棄する裏面保護フィルムとして、低リタデーションフィルムなどの高い光学特性を有するフィルム等を利用すると、ガスバリアフィルムのコストが、非常に高くなってしまう。
また、ガスバリア支持体と裏面保護フィルムとで同じ材料を用いたとしても、ガスバリア支持体と裏面保護フィルムとの間に存在する気泡に起因する剥離や、ガスバリア支持体のシワや折れ等は抑制することができない。

これに対し、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいては、ガスバリア支持体１２の線膨張係数と裏面保護フィルム２４の線膨張係数との差を０〜８０ｐｐｍ／℃とし、粘着層２０とガスバリア支持体１２との２５℃における粘着力を０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍとする。すなわち、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との熱的特性の差を所定の範囲内とすると共に、粘着層２０と、ガスバリア支持体１２とは、非常に弱い力で貼着される。
そのため、ＲｔｏＲによる無機層１４や有機層１６の形成の際の加熱によって、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４とが異なる変形を示すと、貼着力の弱い粘着層２０とガスバリア支持体１２とが剥離して、次いで、張力によって、再度、貼着されることを繰り返す。
この剥離および貼着の繰り返しによって、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との互いに異なる変形が吸収される。また、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との間の気泡が膨張しても、一旦、剥離した際に、気泡が開放される。
その結果、両者の異なる変形や両者の間に存在する気泡に起因するガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４の剥離や、ガスバリア支持体１２のシワ等が生じることがなく、これに起因する無機層１４の損傷や不適正な無機層１４の形成を防止できる。

また、好ましくは、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との２５℃における粘着力を０．０５〜０．２０Ｎ／２５ｍｍとする。これにより、加熱によって、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４とが異なる変形を示した場合に、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との間でも剥離および貼着の繰り返しが発生し、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との互いに異なる変形が吸収される。

本発明は、裏面保護フィルム２４としてガスバリア支持体１２と線膨張係数の差が所定範囲内のものを用い、かつ、ガスバリア支持体１２および裏面保護フィルム２４と粘着層２０との貼着力を上記範囲とすることにより、ＲｔｏＲによるガスバリアフィルムの製造において、裏面保護フィルム２４によって搬送の安定化を図り、かつ、優れた光学特性を有するガスバリアフィルム１０ａを得るために、ＣＯＣフィルムのような高価な低リタデーションフィルムをガスバリア支持体１２として用いた際に、ＰＥＴフィルムのような安価なものを裏面保護フィルム２４として用いることを可能にしている。
また、前述のように、ガスバリアフィルム１０ａは、最終的には、粘着層２０および裏面保護フィルム２４を剥離したガスバリアフィルム１０ｂとされる。ここで、本発明においては、粘着層２０とガスバリア支持体１２との粘着力が弱いため、裏面保護フィルム２４を剥離することで、粘着層２０も容易に剥離でき、しかも、無機層１４を損傷することなく剥離を行え、かつ、粘着層２０がガスバリア支持体１２に残存することも防止できる。
特に、本発明によれば、ガスバリア支持体１２への粘着層２０の残存を防止できるため、低リタデーションフィルム等の光学特性に優れたフィルムをガスバリア支持体１２として用いることにより、光学特性に優れたガスバリアフィルム１０ｂを得ることができ、携帯電話やディスプレイなどに利用される、トップエミッション方式の有機ＥＬデバイスに用いられるガスバリアフィルムとして、好適に利用可能となる。

本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、粘着層２０とガスバリア支持体１２との粘着力が０．０１Ｎ／２５ｍｍ未満では、十分な粘着層２０とガスバリア支持体１２の粘着力が得られない、粘着層２０とガスバリア支持体１２とが不要に剥離してしまう等の不都合が生じる。
粘着層２０とガスバリア支持体１２との粘着力が０．１５Ｎ／２５ｍｍを超えると、裏面保護フィルム２４等を剥離した際に無機層１４を損傷する可能性がある、裏面保護フィルム２４等を剥離した際にガスバリア支持体１２に粘着層２０が残ってしまう、すなわち、糊残りが生じたり、粘着層２０とガスバリア支持体１２との間で剥離および貼着の繰り返しが発生せず、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との互いに異なる変形を吸収できない、粘着層２０とガスバリア支持体１２との間に存在する気泡を開放できない等の不都合を生じる。
以上の点を考慮すると、粘着層２０とガスバリア支持体１２との粘着力は、０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍである。

また、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との粘着力が０．０５Ｎ／２５ｍｍ未満では、十分な粘着層２０と裏面保護フィルム２４との粘着力が得られない、ガスバリア支持体側に糊残りが生じる等の不都合が生じるおそれがある。
粘着層２０と裏面保護フィルム２４との粘着力が０．２０Ｎ／２５ｍｍを超えると、裏面保護フィルム２４等を剥離した際に無機層１４を損傷する可能性がある、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との間で剥離および貼着の繰り返しが発生せず、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との互いに異なる変形を吸収できない、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との間に存在する気泡を開放できない等の不都合を生じる場合がある。
以上の点を考慮すると、粘着層２０と裏面保護フィルム２４の粘着力は、０．０５〜０．２０Ｎ／２５ｍｍが好ましい。

本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、粘着層２０とガスバリア支持体１２との粘着力を０．０１〜０．１５Ｎ／２５ｍｍとする方法、および、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との粘着力を０．０５〜０．２０Ｎ／２５ｍｍとする方法は、各種の接着剤や接着テープで行われている、公知の方法が利用可能である。
以下、上記範囲の粘着力を微粘着ともいう。

本発明において、粘着層２０は、ガスバリア支持体１２および裏面保護フィルム２４に応じて、前述の粘着力が得られる各種の接着剤からなるものが利用可能である。
粘着層２０の材料としては、アクリル樹脂系の接着剤、エポキシ樹脂系の接着剤、ウレタン樹脂系の接着剤、ビニル樹脂系の接着剤、ゴム系の接着剤等が例示される。

具体的には、粘着層２０の材料は、アクリル酸アルキルモノマーのアルキル基部分の炭素数が３〜１０のものが好ましい。あるいはさらに、メタクリル酸アルキルモノマーを含むことが好ましい。このように、粘着層２０の材料として長鎖のアルキル基部分を有する材料を用いることにより、硬化した際の体積収縮が３％以下と低くなる、低粘着となる等の点で好ましい。

粘着層２０の厚さは、１５〜２５０μｍが好ましい。
粘着層２０の厚さを１５μｍ以上とすることにより、前述の粘着層２０とガスバリア支持体１２との剥離および貼着の繰り返しによる、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との異なる変形を十分に吸収することができ、より好適に、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４の剥離、ガスバリア支持体１２のシワや折れ、これに起因する無機層１４の損傷等を防止できる等の点で好ましい。
他方、粘着層２０の厚さを２５０μｍ以下とすることにより、後述する無機層１４の形成の際の裏面からの冷却に対して熱伝導性が低下することを防止でき、これにより、形成する無機層１４のガスバリア性を向上できる等の点で好ましい。
以上の点を考慮すると、粘着層２０の厚さは、２５〜１５０μｍがより好ましい。

このような粘着層２０は、利用する接着剤等に応じた公知の方法で形成すればよい。
一例として、接着剤の塗布によって形成する方法、粘着テープ（接着テープ）を利用して形成する方法が例示される。
また、上記のアクリル酸アルキルモノマーを用いる場合には、粘着層２０の材料となる塗布液を塗布した後、ＵＶ硬化により架橋して形成するのが好ましい。また、温度２５℃〜１５０℃、ＵＶ照射量１００ｍＪ／ｃｍ²〜１０００ｍＪ／ｃｍ²の条件で、ＵＶ硬化した際の、架橋による体積収縮率が３％以下であるのが好ましい。

一方、裏面保護フィルム２４は、ガスバリア支持体１２との線膨張係数の差が、０〜８０ｐｐｍ／℃であれば、各種の材料からなるシート状物が利用可能であり、特に、各種のプラスチックフィルムが利用できる。
本発明のガスバリアフィルム１０ａは、このように、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との線膨張係数の差をこのような範囲とすることにより、前述のように、裏面保護フィルム２４によって、ＲｔｏＲにおけるガスバリア支持体１２の搬送の安定化を図ると共に、ＣＯＣフィルムなどの低リタデーションフィルム等の高価な光学特性に優れたフィルムを用いた際にも、裏面保護フィルム２４として安価なＰＥＴフィルムを用いることを可能にして、安価で、かつ、無機層１４の損傷が無いガスバリアフィルム１０ａを実現している。
また、上記のとおり、本発明においては、裏面保護フィルム２４とガスバリア支持体１２との線膨張係数に若干の差があっても、変形を十分に吸収することができるので、裏面保護フィルム２４と、ガスバリア支持体１２との線膨張係数の差が、１０ｐｐｍ〜８０ｐｐｍ／℃である場合により好適に適用できる。線膨張係数の差が１０ｐｐｍ未満とするには、材料の選択幅が狭くなり、ガスバリア支持体１２と同じ材料を選ばざるを得なくなるおそれがある。特に、高価な光学フィルムを裏面保護フィルムに用いると、コストが２倍以上となってしまう。また、線膨張係数の差が８０ｐｐｍ超の場合には、成膜工程の熱に起因する変形自体が大きくなり、高品質な無機膜が得られなくなる。また、作製したガスバリアフィルムを各種装置に組み込む際や使用する際の熱に伴う変形が大きくなり所望のガスバリア性を発現できないおそれがある。

前述のように、裏面保護フィルム２４は、最終的には剥離して廃棄されるものである。従って、低コストな材料を利用するのが好ましい。
具体的には、ＰＥＴ、ＰＰ等からなるプラスチックフィルムが好適に例示される。

本発明において、裏面保護フィルム２４の厚さは、１２〜１００μｍが好ましい。
裏面保護フィルム２４の厚さを１２μｍ以上とすることにより、裏面保護フィルム２４を設けることの効果を十分に発揮して、ＲｔｏＲによる無機層１４等の形成の際にガスバリア支持体１２（積層体２６）の安定した搬送が可能になる等の点で好ましい。
また、裏面保護フィルム２４の厚さを１００μｍ以下とすることにより、無機層１４等の形成の際における裏面保護フィルム２４の熱変形量を低減できる、後述する無機層１４の形成の際の裏面からの冷却に対して熱伝導性が低下することを防止できる、軽量なガスバリアフィルム１０ａが得られる等の点で好ましい。
以上の点を考慮すると、裏面保護フィルム２４の厚さは、２５〜７５μｍがより好ましい。

本発明において、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との厚さの比は、『裏面保護フィルム２４／ガスバリア支持体１２』の比で０．１〜５とするのが好ましい。
ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との厚さの比を、この範囲とすることにより、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との熱的特性の違いに起因して、無機層１４や有機層１６等の形成時に裏面保護フィルム２４が無機層１４等に与えるストレスを低減でき、より高いガスバリア性が得られる等の点で好ましい。

また、裏面保護フィルム２４は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が７０℃以上であるのが好ましく、８０℃以上であるのがより好ましい。
前述のように、ガスバリアフィルム１０ａは、前述のガスバリア支持体１２と同様、裏面保護フィルム２４のＴｇを７０℃以上とすることにより、無機層１４および有機層１６の形成の際における加熱による裏面保護フィルム２４の熱損傷や溶解を防止できる等の点で好ましい。

また、裏面保護フィルム２４の水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）は、０．１〜１０[g/(m²・day)]であるのが好ましい。
前述のとおり、本発明においては、光学特性に優れた低レタデーション値を有するガスバリア支持体１２を用いる。このようなガスバリア支持体１２は水蒸気透過率が高い場合がある。また、前述のとおり、密着性の観点から、ガスバリア支持体１２の上には直接、無機層１４が形成される。
そのため、ガスバリア支持体を透過した水蒸気や酸素等が、最下層の無機層に到達し、無機層の酸化等により、密着性が低下したり、ガスバリア性が低下するおそれがある。

これに対して、裏面保護フィルム２４の水蒸気透過率を、０．１〜１０[g/(m²・day)]とすることにより、最下層の無機層に水蒸気や酸素等が到達することを防止し、密着性やガスバリア性が低下するのを防止できる。
なお、本発明において、水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）は、ＪＩＳ Ｚ０２０８の防湿包装材料の透湿度試験方法（カップ法）に基づいて測定した値である。

また、裏面保護フィルム２４の露出する側の面の摩擦係数は０．６以下であることが好ましい。
裏面保護フィルム２４の摩擦係数を０．６以下とすることにより、ＲｔｏＲによる搬送の際における裏面保護フィルム２４とガイドローラ等との摩擦を低減して、低い搬送力で積層体２６を搬送することができる。これにより、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４の剥離や、ガスバリア支持体１２のシワ等の発生をより好適に防止できる。
なお、本発明において、裏面保護フィルム２４の摩擦係数は、ＪＩＳ Ｋ７１２５に基づいて測定される、裏面保護フィルム同士の摩擦係数とする。

ここで、粘着層２０とガスバリア支持体１２との１００℃における粘着力は、０．０３〜０．１４Ｎ／２５ｍｍであるのが好ましく、２００℃における粘着力は、０．０４〜０．１３Ｎ／２５ｍｍであるのが好ましい。
また、粘着層２０と裏面保護フィルム２４との１００℃における粘着力は、０．０７〜０．１９Ｎ／２５ｍｍであるのが好ましく、２００℃における粘着力は、０．０８〜０．１８Ｎ／２５ｍｍであるのが好ましい。

粘着層２０とガスバリア支持体１２および裏面保護フィルム２４との高温時の粘着力を上記範囲とすることにより、ＲｔｏＲによる無機層１４や有機層１６の形成の際の加熱によって、粘着力が強くなりすぎることを防止して、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４との熱による変形の差を、粘着層２０とガスバリア支持体１２および／または裏面保護フィルム２４との剥離および貼着の繰り返しによって適正に吸収して、両者の異なる変形に起因するガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４の剥離や、ガスバリア支持体１２のシワ等をより好適に防止できる。

本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、ガスバリア支持体１２の有機無機積層体２８の表面には、表面保護フィルム１８が貼着される。すなわち、表面保護フィルム１８は、有機無機積層体２８の最上層の無機層１４の表面に貼着される。

無機層１４は、緻密であるが故に、固く、脆い。そのため、外部から直接的に衝撃等を受けると、容易に損傷してしまう。前述のように、本発明のガスバリアフィルム１０ａにおいて、主にガスバリア性を発現するのは、無機層１４である。そのため、無機層１４が損傷すると、ガスバリア性が低下する。
これに対して、最上層の無機層１４の上に表面保護フィルム１８を貼着することにより、無機層１４を保護して、無機層１４の損傷を防止する。

ここで、本発明において、表面保護フィルム１８と最上層の無機層１４との２５℃における粘着力は、０．０２Ｎ／２５ｍｍ〜０．０６Ｎ／２５ｍｍである。
前述のとおり、ガスバリアフィルム１０ａを有機ＥＬデバイス等の各種装置に利用する際には、表面保護フィルム１８は無機層１４から剥離される。そのため、表面保護フィルムと無機層との粘着力が強いと表面保護フィルムを剥離する際に無機層を損傷してしまうおそれがある。
これに対して、表面保護フィルム１８と最上層の無機層１４との粘着力を上記範囲とすることにより、無機層１４を損傷することなく表面保護フィルム１８を剥離することができ、光学特性およびガスバリア性に優れたガスバリアフィルムを有機ＥＬデバイス等の装置に利用することができる。

また、表面保護フィルム１８の材料は、融点（メルティングポイント）が、８０℃〜１７０℃である。
前述のとおり、ガスバリアフィルム１０ａを有機ＥＬデバイス等の各種装置に利用する際には、ガスバリアフィルム１０ｂのように表面保護フィルム１８を剥離した状態で利用される。例えば、ガスバリアフィルムを有機ＥＬデバイスに組み込む際には、ガスバリアフィルムの最上層の無機層と有機ＥＬデバイスのパッシベーション膜との無機材料同士を接着剤にて接着する。
ここで、無機材料同士を好適に接着するための接着剤と、表面保護フィルムを貼着するために好適に用いられるような接着剤とは、互いに異なる材料からなる。そのため、表面保護フィルムと最上層の無機層とを接着剤を介して接着した場合には、無機層上に接着剤が残ってしまい、無機層とパッシベーション膜とを接着する接着剤の機能を阻害してしまう等の不都合を生じる。

そのため、本発明においては、最上層の無機層１４上に、接着剤を用いずに直接、表面保護フィルム１８が貼着される。
ここで、接着剤を用いずに表面保護フィルムを貼り付ける方法としては、熱圧着が用いられる。そのため、熱圧着で表面保護フィルムを貼り付ける際の熱によっても、裏面保護フィルムとガスバリア支持体との熱的特性の違いに起因する剥離等の問題が発生するおそれがある。
これに対して、本発明においては、表面保護フィルム１８の材料の融点を、８０℃〜１７０℃とする。これにより、比較的低い温度で熱圧着を行うことができ、裏面保護フィルムとガスバリア支持体との熱的特性の違いに起因する問題を好適に低減できる。

また、表面保護フィルム１８の材料の融点を、８０℃〜１７０℃とすることにより、無機層１４を形成した直後に、無機層１４を形成する際に生じる熱を利用して熱圧着により、表面保護フィルム１８を貼着できる。

表面保護フィルム１８の材料としては、ガラス転移温度が上記範囲を満たすものであれば、特に限定はない。具体的には、表面保護フィルム１８の材料は、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）等が好適に利用可能である。特に、表面保護フィルム１８の材料として低密度ポリエチレンが好適に用いられる。

また、表面保護フィルム１８の厚さは、２０μｍ〜１００μｍが好ましい。
表面保護フィルム１８の厚さを２０μｍ以上とすることにより、最上層の無機層１４を保護する効果を十分に発揮して、ＲｔｏＲによるガスバリアフィルム１０ａの安定した搬送が可能になる等の点で好ましい。
また、表面保護フィルム１８の厚さを１００μｍ以下とすることにより、軽量なガスバリアフィルム１０ａが得られる、ＲｔｏＲで巻き取った際のロール径を小さくできる等の点で好ましい。
また、無機層１４の保護、軽量化等の観点から、表面保護フィルム１８の厚さは、３０μｍ〜７０μｍが好ましい。

また、表面保護フィルム１８のヤング率は、ガスバリア支持体１２のヤング率、および、裏面保護フィルム２４のヤング率の１／４以下であるのが好ましい。
表面保護フィルム１８のヤング率を小さくすることにより、表面保護フィルム１８の剥離性を向上できる、巻き取った際のシワを低減できる、各層の形成幅の違いに起因する端部の段差の転写を減少できる等の点で好ましい。

また、表面保護フィルム１８の水蒸気透過率は、０．５〜２５[g/(m²・day)]であるのが好ましい。
表面保護フィルム１８の水蒸気透過率を０．５〜２５[g/(m²・day)]とすることにより、最上層の無機層に水蒸気や酸素等が到達することを防止し、ガスバリア性が低下するのを防止できる。

次に、本発明の機能性フィルムの製造について説明する。
図２（Ａ）および図２（Ｂ）に、本発明のガスバリアフィルム１０ａを製造する製造装置の一例を、概念的に示す。
この製造装置は、無機層１４を形成する無機成膜装置３２と、有機層１６を形成する有機成膜装置３０とを有して構成される。
図２（Ａ）は無機成膜装置３２であり、図２（Ｂ）は有機成膜装置３０である。

図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２および図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０は、共に、長尺な被形成材料を巻回してなるロールから、被形成材料を送り出し、被形成材料を長手方向に搬送しつつ各層の形成（成膜）を行い、各層を形成した被形成材料を、再度、ロール状に巻回する、前述のＲｔｏＲ（ロール・ツー・ロール(Roll to Roll）を利用する装置である。
このようなＲｔｏＲは、高い生産性で、効率の良いガスバリアフィルム１０ａの製造が可能である。

ここで、図２（Ａ）および図２（Ｂ）に示す製造装置は、図１（Ａ）に示すような、長尺なガスバリア支持体１２の裏面に、粘着層２０を貼着し、この粘着層２０に裏面保護フィルム２４を貼着してなる積層体２６のガスバリア支持体１２の表面、すなわち、粘着層２０の形成面の逆面に、無機層１４と有機層１６とを交互に形成して、ガスバリアフィルム１０ａ等を製造するものである。
従って、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２において被成膜材料Ｚａとなるのは、長尺な積層体２６、および、積層体２６の表面に１以上の層が形成された、表面が有機層１６の材料である。
他方、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置において、被成膜材料Ｚｂとなるのは、積層体２６の表面に１以上の層が形成された、表面が無機層１４の材料である。

無機成膜装置３２は、被成膜材料Ｚａの表面に、気相堆積法によって無機層１４を形成する装置で、供給室５６と、成膜室５８と、巻取り室６０とを有する。
なお、無機成膜装置３２は、図示した部材以外にも、搬送ローラ対や、被成膜材料Ｚａの幅方向の位置を規制するガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被形成材料を搬送しつつ気相堆積法による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。

供給室５６は、回転軸６４と、ガイドローラ６８と、真空排気手段７０とを有する。
供給室５６において、積層体２６や有機層１６等を形成された積層体２６である、長尺な被成膜材料Ｚａを巻回した材料ロール６１は、回転軸６４に装填される。
回転軸６４に材料ロール６１が装填されると、被成膜材料Ｚａは、供給室５６から、成膜室５８を通って、巻取り室６０の巻取り軸９２に至る、所定の搬送経路を通される。ＲｔｏＲを利用する無機成膜装置３２は、材料ロール６１からの被成膜材料Ｚａの送り出しと、巻取り軸９２での無機層形成済の被成膜材料Ｚａの巻き取りとを同期して行なって、被成膜材料Ｚａを長手方向に搬送しつつ、成膜室５８において、被成膜材料Ｚａに連続的に無機層を形成する。

供給室５６においては、図示しない駆動源によって回転軸６４を図中時計方向に回転して、材料ロール６１から被成膜材料Ｚａを送り出し、ガイドローラ６８によって所定の経路を案内して、隔壁７２に形成されたスリット７２ａから、成膜室５８に送る。

なお、図示例の無機成膜装置３２には、好ましい態様として、供給室５６に真空排気手段７４を、巻取り室６０に真空排気手段７６を、それぞれ設けている。無機成膜装置３２においては、成膜中は、それぞれの真空排気手段によって、供給室５６および巻取り室６０の圧力を、後述する成膜室５８の圧力、すなわち、成膜圧力に応じた、所定の圧力に保つ。これにより、隣接する室の圧力が、成膜室５８の圧力に影響を与えることを防止している。
真空排気手段７０には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ドライポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ等、真空での成膜装置に用いられている公知の真空排気手段が、各種、利用可能である。この点に関しては、後述する他の真空排気手段７４および７６も同様である。

成膜室５８は、被成膜材料Ｚａである積層体２６あるいは有機層１６の表面に、気相堆積法によって、無機層を形成するものである。図示例において、成膜室５８は、ドラム８０と、成膜手段８２と、前述の真空排気手段７４と、ガイドローラ８４ａ、８４ｂとを有する。
また、成膜室５８には、成膜した無機層１４を保護するための表面保護フィルムＦを供給するための、フィルムロール８７も配置される。

成膜室５８に搬送された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ａによって所定の経路に案内され、ドラム８０の所定位置に巻き掛けられる。被成膜材料Ｚａは、ドラム８０によって所定位置に位置されつつ長手方向に搬送されて、連続的に無機層１４を形成される。

真空排気手段７４は、成膜室５８内を真空排気して、無機層１４の形成に応じた真空度とするものである。

ドラム８０は、中心線を中心に図中反時計方向に回転する円筒状の部材である。
供給室５６から供給され、ガイドローラ８４ａによって所定の経路に案内され、ドラム８０の所定位置に巻き掛けられた被成膜材料Ｚａは、ドラム８０の周面の所定領域に掛け回されて、ドラム８０に支持／案内されつつ、所定の搬送経路を搬送され、成膜手段８２によって、表面に無機層１４を形成される。
なお、ドラム８０に温度調節手段を内包して、無機層１４の成膜中に積層体２６を例えば冷却してもよい。

成膜手段８２は、気相堆積法によって、被成膜材料Ｚａの表面に無機層１４を形成するものである。
本発明の製造方法において、無機層１４は、前述の特許文献に記載される形成方法等、公知の気相堆積法で形成すればよい。従って、成膜手段８２での成膜方法にも、特に限定は無く、ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等、公知の成膜方法が、全て、利用可能である。

従って、成膜手段８２は、実施する気相堆積法に応じた、各種の部材で構成される。
例えば、成膜室５８がＩＣＰ−ＣＶＤ法（誘導結合型プラズマＣＶＤ）によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、誘導磁場を形成するための誘導コイルや、成膜領域に反応ガスを供給するためのガス供給手段等を有して構成される。
成膜室５８が、ＣＣＰ−ＣＶＤ法（容量結合型プラズマＣＶＤ）によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、中空状でドラム６２に対向する面に多数の小孔を有し反応ガスの供給源に連結される、高周波電極および反応ガス供給手段として作用するシャワー電極等を有して構成される。
成膜室５８が真空蒸着によって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、成膜材料を充填するルツボ、ルツボを遮蔽するシャッタ、ルツボ内の成膜材料を加熱する加熱手段等を有して構成される。
さらに、成膜室５８が、スパッタリングによって無機層１４の成膜を行なうものであれば、成膜手段８２は、ターゲットの保持手段や高周波電極、ガスの供給手段等を有して構成される。

なお、無機層１４の形成条件、例えば、温度、圧力等は、成膜手段８２の種類、目的とする膜厚や成膜レート等に応じて、適宜、設定すればよい。
例えば、ＣＣＰ−ＣＶＤ法によって無機層１４を成膜する場合には、成膜室５８内の圧力は２０Ｐａ〜２００Ｐａ、温度は０℃〜８０℃とするのが好ましい。ＩＣＰ−ＣＶＤ法によって、無機層１４を成膜する場合には、成膜室５８内の圧力は０．１Ｐａ〜１０Ｐａ、温度は０℃〜８０℃とするのが好ましい。

ドラム８０に支持／搬送されつつ、無機層１４を形成され、表面保護フィルムＦを貼着された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ｂによって所定経路に案内されて、隔壁７５に形成されたスリット７５ａから、巻取り室６０に搬送される。

ここで、前述のとおり、成膜室５８には、成膜した無機層１４を保護するための表面保護フィルムＦを供給するフィルムロール８７を有する。
フィルムロール８７は、表面保護フィルムＦをロール状に巻回してなるものである。このフィルムロール８７は、図示しない駆動源によって回転する回転軸８６に軸支され、被成膜材料Ｚａの搬送に同期して回転して、表面保護フィルムＦを送り出す。表面保護フィルムＦは、ガイドローラ８４ｂによって、無機層１４の表面に当接して、被成膜材料Ｚａに積層／貼着される。すなわち、成膜室５８において、ガイドローラ８４ｂは、被成膜材料Ｚａへの表面保護フィルムＦの貼着ローラとしても作用する。

なお、成膜室５８において形成した無機層１４が最上層の無機層１４となる場合には、この無機層１４上に貼着された表面保護フィルムＦは、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａにおける表面保護フィルム１８である。
また、成膜室５８において形成した無機層１４が最上層の無機層１４以外の無機層１４である場合には、この無機層１４上に貼着された表面保護フィルムＦは、後述する有機成膜装置３０における有機層１６の形成の際に剥離される表面保護フィルムＦである。

このように、本発明の機能性フィルムの製造方法においては、表面保護フィルムＦの貼り付けは、無機層１４の成膜直後に、成膜室５８内で行われる。すなわち、無機層１４を成膜する工程と、無機層１４を保護する表面保護フィルムＦを貼り付ける工程とは、同じ圧力、温度の環境下で連続的に行われる。
成膜工程と表面保護フィルム貼り付け工程とを、同じ圧力、温度の環境下で連続的に行うことにより、成膜工程で加えられた熱を利用して表面保護フィルムＦを熱圧着することができる。また、貼着工程では、成膜工程と同じ圧力、すなわち、真空下で、成膜工程と連続的に、表面保護フィルムＦを貼着するので、表面保護フィルムＦと無機層１４との間に気泡が混入することを低減できる。

なお、貼着工程における圧力および温度、すなわち、成膜室５８内の圧力および温度は、成膜工程にて行われる成膜方法に応じて適宜、設定すればよい。
また、貼着工程において、表面保護フィルムＦおよび／または被成膜材料Ｚａを加熱する加熱手段を有していてもよい。例えば、表面保護フィルムＦの貼着ローラとして作用するガイドローラ８４ｂが、加熱手段を有していてもよい。

また、図示例においては、ドラム８０および成膜手段８２よりも下流側の、ドラム８０に最も近い位置に配置されるガイドローラ８４ｂを、表面保護フィルムＦの貼着を行う貼着ローラとしたが、これに限定はされず、ドラム８０から２つ目以降のガイドローラを貼着ローラとしてもよい。
しかしながら、無機層１４の保護の観点から、成膜手段８２によって無機層１４が成膜された被成膜材料Ｚａが他のガイドローラ等に接触する前に表面保護フィルムＦを貼着することが好ましい。従って、ドラム８０に最も近い位置に配置されるガイドローラ８４ｂを、貼着ローラとするのが好ましい。

また、図示例においては、貼着工程が、成膜工程と同じ室である成膜室５８で行われる構成としたが、これに限定はされず、貼着工程が、成膜室５８とは異なる室で行われる構成としてもよい。例えば、巻取り室６０で貼着工程が行われる構成としてもよく、あるいは、成膜室５８と巻取り室６０との間に貼着工程を行う室を設けてもよい。なお、成膜室５８以外の室で貼着工程を行う場合には、この室の温度、圧力を成膜室内の温度、圧力と同様にすればよい。

また、図示例の無機成膜装置３２においては、最上層の無機層１４以外の無機層１４にも表面保護フィルムＦを貼着する構成としたが、これに限定はされず、最上層となる無機層１４のみに表面保護フィルムＦを貼着する構成としてもよい。

また、最上層の無機層１４以外の無機層１４に貼着される表面保護フィルムＦとしては、表面保護フィルム１８と同様のプラスチックフィルムが利用可能であり、表面保護フィルム１８と同じ材料であっても異なる材料であってもよい。

図示例において、巻取り室６０は、ガイドローラ９０と、巻取り軸９２と、前述の真空排気手段７６とを有する。
巻取り室６０に搬送された成膜済の被成膜材料Ｚａは、巻取り軸９２によってロール状に巻回され、無機層１４を形成され、表面保護フィルムＦを貼着された被成膜材料Ｚａを巻回してなる材料ロール９３とされる。この材料ロール９３は、有機成膜装置３０に供給され、あるいは、本発明の機能性フィルムであるガスバリアフィルム１０ａ等を巻回してなる材料ロール９３として次工程に供給される。

図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０は、長尺な被成膜材料Ｚｂを長手方向に搬送しつつ、有機層１６となる塗料を塗布し、乾燥した後、光照射によって塗膜に含まれる有機化合物を架橋して硬化し、有機層１６を形成する装置である。
図示例において、有機成膜装置３０は、一例として、塗布手段３６と、乾燥手段３８と、光照射手段４０と、回転軸４２と、巻取り軸４６と、搬送ローラ対４８および５０とを有する。また、有機成膜装置３０は、無機層１４を成膜する無機成膜装置３２で貼着された表面保護フィルムＦを剥離して巻き取る、巻取り軸４４も有する。
なお、有機成膜装置３０は、図示した部材以外にも、搬送ローラ対、被成膜材料Ｚｂのガイド部材、各種のセンサなど、長尺な被形成材料を搬送しつつ塗布による成膜を行なう公知の装置に設けられる各種の部材を有してもよい。

有機成膜装置３０において、積層体２６や無機層１４等を形成された積層体２６である長尺な被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール９３は、回転軸４２に装填される。
回転軸４２に材料ロール９３が装填されると、被成膜材料Ｚｂは、材料ロール６１から引き出され、搬送ローラ対４８を経て、塗布手段３６、乾燥手段３８および光照射手段４０の下部を通過して、搬送ローラ対５０を経て、巻取り軸４６に至る、所定の搬送経路を通される。

ＲｔｏＲを利用する有機成膜装置３０では、材料ロール６１からの被成膜材料Ｚａの送り出しと、巻取り軸４６における有機層を形成した被成膜材料Ｚｂの巻き取りとを同期して行なう。これにより、長尺な被成膜材料Ｚｂを所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、塗布手段３６によって有機層となる塗料を塗布し、乾燥手段３８によって塗料を乾燥し、光照射手段４０によって硬化することによって、有機層を形成する。

なお、被成膜材料Ｚｂが、無機層１４を成膜された後の材料である場合には、無機層１４の表面に表面保護フィルムＦが貼着されているので、搬送ローラ対４８による搬送、および、この搬送と同期して回転する巻取り軸４４による巻取りによって、被成膜材料Ｚｂから表面保護フィルムＦを剥離する。すなわち、有機成膜装置３０において、搬送ローラ対４８は、表面保護フィルムＦの剥離ローラとしても作用する。

塗布手段３６は、被成膜材料Ｚｂの表面に、予め調製した、有機層１６を形成する塗料を塗布するものである。
この塗料は、有機溶剤に、架橋して重合することによって有機層１６となる、モノマーなどの有機化合物を、有機溶剤に溶解してなるものである。また、好ましくは、この塗料は、有機層１６の密着性を向上するために、シランカップリング剤を含有する。さらに、この塗料には、界面活性剤、重合開始剤、増加粘剤等の必要な成分を、適宜、添加してもよい。

塗布手段３６において、被成膜材料Ｚｂへの塗料の塗布方法には、特に限定は無い。
従って、塗料の塗布は、ダイコート法、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法等の公知の塗料の塗布方法が、全て利用可能である。
中でも、非接触で塗料を塗布できるので被成膜材料Ｚｂの表面を損傷しない、ビードの形成により被成膜材料Ｚｂの表面の凹凸等の包埋性に優れる、等の理由で、ダイコート法は、好適に利用される。

前述のように、被成膜材料Ｚｂは、次いで、乾燥手段３８に搬送され、塗布手段３６が塗布した塗料を乾燥される。
乾燥手段３８により塗料の乾燥方法には、限定はなく、被成膜材料Ｚｂが光照射手段４０に至る前に、塗料を乾燥して有機溶剤の除去等を行って、架橋が可能な状態にできるものであれば、公知の乾燥手段が全て利用可能である。公知の方法が、各種利用可能である。一例として、ヒータによる加熱乾燥、温風による加熱乾燥等が例示される。

なお、乾燥手段３８における乾燥の際の被成膜材料Ｚｂの温度は、７０℃以上となるのが好ましい。
シランカップリング剤を含有する塗料を用いた場合に、被成膜材料Ｚｂを７０℃以上の温度として塗料を乾燥することにより、有機層１６と無機層１４との密着性がより向上する点で好ましい。

被成膜材料Ｚｂは、次いで、光照射手段４０に搬送される。光照射手段４０は、塗布手段３６が塗布し乾燥手段３８が乾燥した塗料に、紫外線や可視光などを照射して、塗料に含まれるモノマーなどの有機化合物を架橋して硬化し、有機層１６とするものである。
光照射手段４０による塗膜の硬化時には、必要に応じて、被成膜材料Ｚｂにおける光照射手段４０による光照射領域を、窒素置換等による不活性雰囲気とするようにしてもよい。また、必要に応じて、裏面に当接するバックアップローラ等を用いて、硬化時に被成膜材料Ｚｂすなわち塗膜の温度を調節するようにしてもよい。

光照射手段４０による塗膜の硬化時における被成膜材料Ｚｂの温度は、３０℃以上が好ましく、５０℃以上がより好ましく、６０℃以上がより好ましい。
硬化工程における被成膜材料Ｚｂの温度を上記範囲とすることにより、架橋密度を上げることができ、有機層の硬度および耐擦傷性を向上できる等の点で好ましい。

なお、本発明において、有機層となる有機化合物の架橋は、光重合に限定はされない。すなわち、有機化合物の架橋は、加熱重合、電子ビーム重合、プラズマ重合等、有機層１６となる有機化合物に応じた、各種の方法が利用可能である。
本発明においては、前述のように、有機層１６としてアクリル樹脂やメタクリル樹脂などのアクリル系樹脂が好適に利用されるので、光重合が好適に利用される。

このようにして有機層１６を形成された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対５０に挟持搬送されて巻取り軸４６に至り、巻取り軸４６によって、再度、ロール状に巻き取られ、有機層１６を形成された被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール６１とされる。
この材料ロール６１は、有機層１６を形成した被成膜材料Ｚｂを巻回してなる材料ロール６１として無機成膜装置３２に供給される。

以下、図２（Ａ）および図２（Ｂ）に示す製造装置において、図１（Ａ）に示す無機層１４を２層、有機層１６を１層形成したガスバリアフィルム１０ａを作製する際の作用を説明することにより、本発明の製造方法について、より詳細に説明する。
なお、図１（Ｂ）に示すガスバリアフィルム１００や、その他の層構成を有するガスバリアフィルムを作製する際にも、形成する無機層１４の数および有機層１６の数や、層構成に応じて、同様の無機層１４および有機層１６の形成を繰り返し行えばよい。

まず、長尺なガスバリア支持体１２に粘着層２０を形成し、この粘着層２０に裏面保護フィルム２４を貼着してなる、長尺な積層体２６を作製する。
この積層体２６は、例えば、図２（Ｂ）に示す公知の有機層の成膜装置に、材料ロールからの長尺なシート状物の送りだし手段や積層ローラ等の長尺なシート状物に長尺なシート状物を積層する手段を組み込んだ装置を用いる方法など、２つのシート状物を粘着層で貼着してなる長尺な積層体シートを作製する、ＲｔｏＲによる公知の方法で製造すればよい。なお、積層体２６の作製において、粘着層２０の乾燥および硬化が不要な場合には、粘着層２０（塗料）の乾燥部および硬化部は不要である。

なお、積層体２６は、裏面保護フィルム２４に粘着層２０を貼着した積層体を形成し、この積層体の粘着層２０にガスバリア支持体１２を貼着して形成してもよい。あるいは、積層体２６は、ガスバリア支持体１２に粘着層２０を貼着した積層体を形成し、この積層体の粘着層２０に裏面保護フィルム２４を貼着して形成してもよい。ここで、本発明においては、ガスバリア支持体１２として低リタデーションフィルムを用いるので、裏面保護フィルム２４に粘着層２０を貼着した積層体を形成し、これにガスバリア支持体１２を積層する方法が、好適に利用される。

このような積層体２６を巻回してなるロールを作製したら、このロールを材料ロール６１として、無機成膜装置３２の供給室５６の回転軸６４に装填する。
材料ロール６１が回転軸６４に装填されると、被成膜材料Ｚａが引き出され、供給室５６から、成膜室５８を経て巻取り室６０の巻取り軸９２に至る所定の経路を通される。

材料ロール６１から送り出された被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ６８によって案内されて成膜室５８に搬送される。
成膜室５８に搬送された、被成膜材料Ｚａは、ガイドローラ８４ａに案内されてドラム８０に巻き掛けられ、ドラム８０に支持されて所定の経路を搬送されつつ、成膜手段８２によって、例えば、ＣＣＰ−ＣＶＤによって、１層目の無機層１４を形成される。その後、この１層目の無機層１４上に、フィルムロール８７から送り出された表面保護フィルムＦが貼着される。
なお、無機層１４の形成は、形成する無機層１４に応じて、公知の気相堆積法による成膜方法で行えばよい。従って、使用するプロセスガスや成膜条件等は、形成する無機層１４や膜厚等に応じて、適宜、設定／選択すればよい。

無機層１４を形成された被成膜材料Ｚｂは、ガイドローラ８４ｂに案内されて、巻取り室６０に搬送される。
巻取り室６０に搬送された被成膜材料Ｚｂは、ガイドローラ９０によって巻取り軸９２に案内され、巻取り軸９２によってロール状に巻回され、材料ロール９３とされる。

１層目の無機層１４を形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール９３は、有機成膜装置３０の回転軸４２に装填される。
回転軸４２に材料ロール９３が装填されると、被成膜材料Ｚｂである１層目の無機層１４を形成された積層体２６は、材料ロール９３から引き出され、搬送ローラ対４８を経て、塗布手段３６、乾燥手段３８および光照射手段４０を通過して、搬送ローラ対５０を経て、巻取り軸４６に至る、所定の搬送経路を通される。

材料ロール９３から引き出された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対４８によって表面保護フィルムＦを剥離された後、塗布手段３６に搬送され、表面に、有機層１６となる塗料が塗布される。前述のように、有機層１６となる塗料は、形成する有機層１６に応じたモノマー等の有機化合物、シランッカップリング剤、重合開始剤等を有機溶剤に溶解してなるものである。
有機層１６となる塗料が塗布された被成膜材料Ｚｂは、次いで、乾燥手段３８によって加熱されて、有機溶剤を除去され塗料が乾燥される。

塗料が乾燥された被成膜材料Ｚｂは、次いで、光照射部によって紫外線等を照射され、有機化合物が重合されて硬化され、１層目の有機層１６が形成される。なお、必要に応じて、有機層１６となる有機化合物の硬化は、窒素雰囲気等の不活性雰囲気で行うようにしてもよい。また、有機層１６となる有機化合物の硬化の際に、積層体２６を加熱してもよい。

１層目の有機層１６が形成された被成膜材料Ｚｂは、搬送ローラ対５０によって搬送されて、巻取り軸４６によってロール状に巻回され、無機層１４および有機層１６が１層ずつ形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール６１として、再度、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２に供給される。

無機層１４および有機層１６が１層ずつ形成された積層体２６を巻回してなる材料ロール６１は、先と同様、無機成膜装置３２の回転軸６４に装填され、材料ロール６１から、１層の無機層１４および有機層１６が形成された積層体２６が被成膜材料Ｚａとしてが引き出されて巻取り軸９２まで通紙され、１層目の有機層１６の上に２層目の無機層１４が形成されて、さらに、表面保護フィルム１８が貼着されて、無機層１４、有機層１６および無機層１４からなる有機無機積層体２８と表面保護フィルム１８とが形成された、図１（Ａ）に示されるガスバリアフィルム１０ａとされる。
このガスバリアフィルム１０ａは、巻取り軸９２にロール状に巻回され、ガスバリアフィルム１０ａが巻回された材料ロール９３として、製品として出荷あるいは保管され、もしくは、次の工程等に供給される。

ここで、本発明においては、前述のように、裏面保護フィルム２４を有するので、ガスバリア支持体１２が薄手でコシが弱くても、ＲｔｏＲによる無機層１４や有機層１６の形成において、安定した被成膜材料ＺａおよびＺｂの搬送が可能である。
また、前述のように、積層体２６は、粘着層２０とガスバリア支持体１２とが微粘着であり、さらに、ガスバリア支持体１２の線膨張係数と裏面保護フィルム２４の線膨張係数との差が、０〜８０ｐｐｍ／℃である。そのため、無機層１４の形成によって加熱され、また、有機層１６の形成において塗料を乾燥するために加熱され、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４とが異なる変形をしたり、層間に存在する気泡が膨張しても、粘着層２０と裏面保護フィルム２４とが剥離および貼着を繰り返すので、ガスバリアフィルム１０ａは、ガスバリア支持体１２と裏面保護フィルム２４の剥離やガスバリア支持体１２のシワ等が生じることがなく、これに起因する無機層１４の損傷を防止できる。

また、本発明においては、前述のように、表面保護フィルム１８を有するので、無機層１４の損傷を防止することができる。また、表面保護フィルム１８と無機層１４とは微粘着であるので、表面保護フィルム１８を剥離する際の無機層１４の損傷を防止できる。また、表面保護フィルム１８の融点は８０〜１７０℃であるので、低い温度で熱圧着することができ、接着剤の残留に起因する不具合を防止できる。

以上、本発明の機能性フィルムおよび機能性フィルムの製造方法について詳細に説明したが、本発明は、上記実施例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行なってもよいのは、もちろんである。

以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明を、より詳細に説明する。
［実施例１］
ガスバリア支持体１２として、幅１０００ｍｍで厚さが５０μｍの長尺なＣＯＣフィルム（グンゼ社製、Ｆ１フィルム）を用意した。このガスバリア支持体１２の線膨張係数（ＣＴＥ）は６５ｐｐｍ／℃であり、リタデーション値（Ｒｅ）は５ｎｍである。また、ヤング率は３ＧＰａである。また、水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）は１[g/(m²・day)]である。
また、裏面保護フィルム２４として、幅が１０００ｍｍで厚さが５０μｍの長尺なＰＥＴフィルム（東レ社製、ルミラー）を用意した。この裏面保護フィルム２４の線膨張係数（ＣＴＥ）は１５ｐｐｍ／℃であり、摩擦係数（μ）は０．６である。また、ヤング率は４．５ＧＰａである。また、水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）は３[g/(m²・day)]である。
また、表面保護フィルム１８または表面保護フィルムＦとして、幅が１０００ｍｍで厚さが５０μｍの長尺な低密度ポリエチレンフィルム（ＬＤＰＥ）（サンエー化研社製、SUNYTECT PAC-2）を用意した。この表面保護フィルムの融点Ｔｍは１０８℃である。また、ヤング率は０．３ＧＰａである。また、水蒸気透過率（ＷＶＴＲ）は２０[g/(m²・day)]である。

裏面保護フィルム２４の一面に、粘着層２０として、アルキル基部分の炭素数が３〜１０のアクリル酸アルキルモノマーを含むアクリル樹脂系接着剤を塗布した。この接着剤は、特開２００８-３８１０３号公報の実施例１に記載された粘着剤塗布溶液と同様に調製して得られたものである。
なお、接着剤は、硬化後の粘着層２０の厚さが５０μｍとなるように塗布した。

次いで、接着剤に紫外線を照射して半硬化状態とした。半硬化状態の接着剤にガスバリア支持体１２（ＣＯＣフィルム）を貼着して、ガスバリア支持体１２、粘着層２０および裏面保護フィルム２４からなる積層体２６を作製した。
なお、以上の処理は、接着剤の塗布手段および硬化手段、ならびに、長尺なシート状物の積層手段を有する、ＲｔｏＲによる公知の装置を用いて行った。
この積層体２６のガスバリア支持体１２および裏面保護フィルム２４と粘着層２０との粘着力を、剥離試験機を用いてＪＩＳ Ｚ０２３７に準拠して測定したところ、ガスバリア支持体１２と粘着層２０との粘着力が０．０２５Ｎ／２５ｍｍ、裏面保護フィルム２４と粘着層２０との粘着力が０．１Ｎ／２５ｍｍであった。

この積層体２６（被成膜材料Ｚａ）を巻回してなる材料ロール６１を、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２の回転軸６４に装填して、ガスバリア支持体１２の表面（粘着層２０と逆面）に、厚さ２５ｎｍの無機層１４を形成して、表面保護フィルムＦを熱圧着で貼着した。

成膜ガスは、シランガス(ＳｉＨ₄）、アンモニアガス(ＮＨ₃）、窒素ガス(Ｎ₂）および水素ガス(Ｈ₂）を用いた。供給量は、シランガスが１００sccm、アンモニアガスが２００sccm、窒素ガスが５００sccm、水素ガスが５００sccmとした。また、成膜圧力は５０Ｐａとした。
シャワー成膜電極には、高周波電源から、周波数１３．５ＭＨｚで３０００Ｗのプラズマ励起電力を供給した。さらに、ドラム８０には、バイアス電源から、５００Ｗのバイアス電力を供給した。また、成膜中は、ドラム８０の温度を−２０℃に調整した。

無機層１４の形成を終了したら、供給室５６、成膜室５８および巻取り室６０に清浄化した乾燥空気を導入して大気開放した。
次いで、無機層１４を形成した積層体２６を巻回してなる材料ロール９３を、巻取り室６０から取り出した。

無機層１４を形成した積層体２６（被成膜材料Ｚｂ）を巻回してなる材料ロール９３を、図２（Ｂ）に示す有機成膜装置３０の回転軸４２に装填して、無機層１４の表面に、厚さ３μｍの有機層１６を形成した。
有機層１６を形成する塗料は、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）に、ＴＭＰＴＡ（ダイセル・サイテック社製）、光重合開始剤（チバケミカルズ社製 Ｉｒｇ１８９）、シランカップリング剤（信越シリコーン社製 ＫＢＭ５１０３）を添加して、調製した。すなわち、有機層１６は、ＴＭＰＴＡを重合してなる層である。
光重合開始剤の添加量は、有機溶剤を除いた濃度で２質量％、シランカップリング剤の添加量は、有機溶剤を除いた濃度で１０質量％、とした（すなわち固形分におけるＴＭＰＴＡは８８質量％）。また、これらの比率で配合した成分をＭＥＫに希釈した塗料の固形分濃度は、１５質量％（すなわちＭＥＫは８５質量％）とした。

塗布手段３６はダイコータを用いた。乾燥手段３８は、ノズルからの乾燥風を吹き出す装置を用い、乾燥は８０℃で行った。さらに、光照射手段４０からは紫外線を照射して、重合を行った。なお、紫外線による硬化は、紫外線の照射量が積算照射量で約５００ｍＪ／ｃｍ²となるようにして、ガスバリア支持体１２を裏面側から８０℃に加熱しながら行った。

次いで、無機層１４の上に有機層１６を形成した積層体２６を巻回してなる材料ロール６１を、再度、図２（Ａ）に示す無機成膜装置３２に装填し、先と同様にして、厚さ５０ｎｍの無機層１４を形成し、表面保護フィルム１８を熱圧着で貼着して、ガスバリア支持体１２、粘着層２０および裏面保護フィルム２４からなる積層体２６の表面に、無機層１４、有機層１６および無機層１４からなる有機無機積層体２８と、表面保護フィルム１８を形成してなる、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。
このガスバリアフィルム１０ａの表面保護フィルム１８と最上層の無機層１４との粘着力を、剥離試験機を用いてＪＩＳ Ｚ０２３７に準拠して測定したところ、粘着力は０．０４Ｎ／２５ｍｍであった。

［実施例２〜４］
裏面保護フィルム２４の厚さを３８μｍにした以外（実施例２）；
裏面保護フィルム２４の厚さを７５μｍにした以外（実施例３）；
裏面保護フィルム２４の厚さを２０μｍにした以外（実施例４）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例５〜８］
ガスバリア支持体１２の厚さを２５μｍとした以外（実施例５）；
ガスバリア支持体１２の厚さを２５μｍとし、裏面保護フィルム２４の厚さを７５μｍとした以外（実施例６）；
ガスバリア支持体１２の厚さを１００μｍとした以外（実施例７）；
ガスバリア支持体１２の厚さを１００μｍとし、裏面保護フィルム２４の厚さを３８μｍとした以外（実施例８）；
は、実施例１と同様にして図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例９〜１０］
表面保護フィルム１８の厚さを２５μｍに変更した以外（実施例９）；
表面保護フィルム１８の厚さを７５μｍに変更した以外（実施例１０）；
は、実施例１と同様にして図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例１１〜１５］
粘着層２０の厚さを２５μｍに変更した以外（実施例１１）；
粘着層２０の厚さを７５μｍに変更した以外（実施例１２）；
粘着層２０の厚さを１００μｍに変更した以外（実施例１３）；
粘着層２０の厚さを１５０μｍに変更した以外（実施例１４）；
粘着層２０の厚さを２００μｍに変更した以外（実施例１５）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例１６〜１８］
裏面保護フィルム２４を厚さ５０μｍ、線膨張係数１３ｐｐｍ／℃のＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム社製 テオネックス）に変更した以外（実施例１６）；
裏面保護フィルム２４を厚さ５０μｍ、線膨張係数２７ｐｐｍ／℃のＰＩフィルム（東レ・デュポン社製 カプトン）に変更した以外（実施例１７）；
裏面保護フィルム２４を厚さ５０μｍ、線膨張係数２７ｐｐｍ／℃のＰＩフィルム（東レ・デュポン社製 カプトン）に変更し、ガスバリア支持体１２を厚さ５０μｍ、線膨張係数７７ｐｐｍ／℃、リタデーション値１４８ｎｍのＰＣフィルム（帝人社製 Ｓ１４８）に変更した以外（実施例１８）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例１９〜２３］
粘着層２０を形成する際の条件を変更して、ガスバリア支持体１２との粘着力を０．０１とした以外（実施例１９）；
粘着層２０を形成する際の条件を変更して、ガスバリア支持体１２との粘着力を０．０５とした以外（実施例２０）；
粘着層２０を形成する際の条件を変更して、ガスバリア支持体１２との粘着力を０．１５とした以外（実施例２１）；
粘着層２０を形成する際の条件を変更して、裏面保護フィルム２４との粘着力を０．０５とした以外（実施例２２）；
粘着層２０を形成する際の条件を変更して、裏面保護フィルム２４との粘着力を０．２０とした以外（実施例２３）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例２４〜２５］
表面保護フィルム１８を熱圧着する際の条件を変更して、無機層１４との粘着力を０．０２とした以外（実施例２４）；
表面保護フィルム１８を熱圧着する際の条件を変更して、無機層１４との粘着力を０．０６とした以外（実施例２５）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例２６］
裏面保護フィルム２４の粘着層２０とは反対側の面にコロナ処理を施して表面粗さを粗くして、摩擦係数を０．４とした以外（実施例２６）は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例２７］
表面保護フィルム１８を厚さ５０μｍ、融点Ｔｍ１６５℃、ヤング率０．６のＰＰフィルム（サンエー化研社製 SUNYTECT PAC-3）に変更した以外（実施例２７）は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［比較例１］
裏面保護フィルムおよび粘着層を有さない以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。

［比較例２］
表面保護フィルムを有さない以外は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。

［比較例３〜４］
粘着層を形成する際の条件を変更して、ガスバリア支持体との粘着力を２とした以外（比較例３）；
粘着層を形成する際の条件を変更して、ガスバリア支持体との粘着力を０．００５とした以外（比較例４）；
は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。

［比較例５〜６］
表面保護フィルムを熱圧着する際の条件を変更して、無機層との粘着力を０．２とした以外（比較例５）；
表面保護フィルムを熱圧着する際の条件を変更して、無機層との粘着力を０．００１とした以外（比較例６）；
は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。

［比較例７］
有機無機積層体の層構成を、ガスバリア支持体側から有機層、無機層、有機層の順に形成した構成とした以外（比較例７）は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。

［比較例８］
裏面保護フィルムを厚さ５０μｍ、線膨張係数１６０ｐｐｍ／℃のＰＥフィルム（サンエー化研社製 SUNYTECT PAC-2）に変更した以外（比較例８）は、実施例１と同様にして、ガスバリアフィルムを作製した。

［比較例９］
表面保護フィルムを厚さ５０μｍ、融点２６０℃、ヤング率５．５のＰＥＴフィルム（東レ社製 ルミラー）に変更した以外（比較例９）は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［評価］
このようにして作製した実施例１〜２７および比較例１〜９のガスバリアフィルムについて、表面保護フィルムおよび裏面保護フィルムを剥離する前のガスバリアフィルムの変形性（以下、「剥離前の変形性」ともいう）、表面保護フィルムを剥離し裏面保護フィルムを剥離する前のガスバリアフィルムのガスバリア性（以下、「剥離前のバリア性」ともいう）、裏面保護フィルムおよび表面保護フィルムを剥離した後のガスバリアフィルムの変形性（以下、「剥離後の変形性」ともいう）、裏面保護フィルムおよび表面保護フィルムを剥離した後のガスバリアフィルムのガスバリア性（以下、「剥離後のバリア性」ともいう）を評価した。

＜ガスバリアフィルムの変形性（剥離前の変形性）＞
任意に選択した１ｍ²の領域において、目視による確認によって、作製したガスバリアフィルムの変形性を、評価した。
全く変形が認められない場合を『ＡＡＡ』；
僅かな変形が１箇所確認できる場合を『ＡＡ』；
僅かな変形が２〜３箇所確認できる場合を『Ａ』；
僅かな変形が４〜５箇所確認できる場合を『Ｂ』；
変形は見られるが、実用上問題にならない場合を『Ｃ』；
大きな変形が有り、実用上も使用できない場合を『Ｄ』；
全面的に大きな変形が有り、実用上も使用できない場合を『Ｅ』； と評価した。

＜剥離前のガスバリア性（剥離前のバリア性）＞
作製したガスバリアフィルムから表面保護フィルムを剥離し、水蒸気透過率[g/(m²・day)]を、カルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって測定した。なお、恒温恒湿処理の条件は、温度４０℃、湿度９０％ＲＨとした。
７×１０^-6[g/(m²・day)]未満のものを『ＡＡＡ』；
７×１０^-6[g/(m²・day)]以上、９×１０^-6[g/(m²・day)]未満のものを『ＡＡ』；
９×１０^-6[g/(m²・day)]以上、３×１０^-5[g/(m²・day)]未満のものを『Ａ』；
３×１０^-5[g/(m²・day)]以上、５×１０^-5[g/(m²・day)]未満のものを『Ｂ』；
５×１０^-5[g/(m²・day)]以上、９×１０^-5[g/(m²・day)]未満のものを『Ｃ』；
９×１０^-5[g/(m²・day)]以上、３×１０^-4[g/(m²・day)]未満のものを『Ｄ』；
３×１０^-4[g/(m²・day)]以上のものを『Ｅ』； と、評価した。

＜剥離後の変形性＞
ガスバリアフィルムから表面保護フィルムを剥離した後、さらに、裏面保護フィルム（および粘着層）を剥離して、ガスバリア支持体および有機無機積層体からなるガスバリアフィルムとした。
このガスバリアフィルムについて、目視によって、ガスバリア支持体の変形およびガスバリア支持体への粘着層の残存を確認することで、裏面保護フィルムおよび表面保護フィルムの剥離後の変形性を評価した。剥離性が悪い方が、ガスバリア支持体の変形や、ガスバリア支持体への粘着層の残存が発生し易くなる。
剥離しても、ガスバリア支持体の変形が発生せず、かつ、ガスバリア支持体への粘着層の残存が全く無い場合を『Ａ』；
剥離によって、ガスバリア支持体の変形、および、ガスバリア支持体への粘着層の残存の少なくとも一方が、僅かに発生する場合を『Ｂ』；
剥離によって、ガスバリア支持体の変形、および、ガスバリア支持体への粘着層の残存の少なくとも一方が、剥離方向に断続的に発生する場合を『Ｃ』；
剥離によって、ガスバリア支持体の変形、および、ガスバリア支持体への粘着層の残存の少なくとも一方が、剥離方向に連続的に発生し、実用上も使用できない場合を『Ｄ』；
剥離できない、ガスバリア支持体の破断、および、全面的な粘着層の残存が認められる、のいずれか１つでも発生した場合を『Ｅ』； と評価した。

＜剥離後のガスバリア性（剥離後のバリア性）＞
剥離前のガスバリア性と同様にして、裏面保護フィルムを剥離したガスバリアフィルムの水蒸気透過率[g/(m²・day)]を測定し、同様に評価した。
各実施例、比較例の構成を下記の表１に示し、結果を下記の表２に示す。

上記表１および表２に示されるように、本発明のガスバリアフィルムは、いずれも、裏面保護フィルム２４および表面保護フィルム１８の剥離前後で、９×１０^-5[g/(m²・day)]未満という優れたガスバリア性を有する。
なお、実施例２１は、ガスバリア支持体１２と粘着層２０との粘着力が、他の例よりも、若干、高いため、ガスバリア支持体１２と粘着層２０との間で剥離と貼着の繰り返しが起きにくくなり、これに起因して、無機層１４が、若干、損傷して、ガスバリア性が若干低下したと考えられる。
また、実施例２２は、裏面保護フィルム２４と粘着層２０との粘着力が他の例よりも、若干、低いため、裏面保護フィルム２４を剥離した後に、ガスバリア支持体１２側に粘着層の残存が断続的に発生した。

これに対して、裏面保護フィルムおよび粘着層を設けない比較例１は、裏面保護フィルムが無いため、自己支持性が無く、すべり性も悪い。そのため、ＲｔｏＲの搬送によって、クニックやシワが発生し、ガスバリア支持体の割れも発生した。その結果、ガスバリア性が低下した。
また、表面保護フィルム１８を有さない比較例２は、ＲｔｏＲでの搬送の際に、無機層が直接、ガイドローラに触れてしまう。その結果、無機層が割れてガスバリア性が低下した。
また、ガスバリア支持体と粘着層との粘着力が２Ｎ／２５ｍｍである比較例３は、粘着力が高すぎるため、ガスバリア支持体１２と粘着層２０との間で剥離と貼着の繰り返しが起きず、変形を抑制できない。その結果、シワが発生し、ガスバリア性が低下した。
また、ガスバリア支持体と粘着層との粘着力が０．００５Ｎ／２５ｍｍである比較例４は、粘着力が弱すぎるため、ＲｔｏＲの搬送の際に剥離してしまい、これに起因して無機層に割れやヒビ等が生じて、ガスバリア性が低下した。
また、表面保護フィルムと無機層との粘着力が０．２Ｎ／２５ｍｍである比較例５は、表面保護フィルムの粘着力が高すぎるため、表面保護フィルムを剥離した際に、表面保護フィルムの一部が無機層上に残存するのが観察された。また、粘着力が高すぎるため、剥離時に表面の無機膜が損傷した。そのため、ガスバリア性が低下した。
また、表面保護フィルムと無機層との粘着力が０．００１Ｎ／２５ｍｍである比較例６は、表面保護フィルムの粘着力が低すぎるため、ＲｔｏＲの搬送の際に剥離してしまい、これに起因して無機層に割れやヒビ等が生じて、ガスバリア性が低下した。
また、最下層および最上層を有機層とした比較例７は、最下層の有機層とガスバリア支持体との密着性が低く、適正な有機無機積層体を形成することができなかった。
また、ガスバリア支持体の線膨張係数と裏面保護フィルムの線膨張係数との差が、９５ｐｐｍである比較例８は、搬送中に裏面保護フィルムが熱で溶けて破断してしまい、これに起因して無機層に割れやヒビ等が生じて、ガスバリア性が低下した。
また、表面保護フィルムの融点が２６０℃である比較例９は、表面保護フィルムと無機層との密着性が低く、搬送中に剥がれてしまい、無機層がガイドローラ等に接触して損傷して、ガスバリア性が低下した。

次に、実施例において、作製した直後のガスバリア性と所定の時間経過後のガスバリア性とを測定して、耐久性の評価を行った。

［実施例２８〜２９］
ガスバリア支持体１２を厚さ５０μｍ、水蒸気透過率１００[g/(m²・day)]のＣＯＰフィルム（ＪＳＲ社製 ＡＲＴＯＮ）に変更した以外（実施例２８）；
ガスバリア支持体１２を厚さ５０μｍ、水蒸気透過率６００[g/(m²・day)]のＴＡＣフィルム（富士フイルム社製 富士タック）に変更した以外（実施例２９）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例３０〜３１］
裏面保護フィルム２４を厚さ５０μｍ、水蒸気透過率２[g/(m²・day)]のＰＥＮフィルム（帝人デュポンフィルム社製 テオネックス）に変更した以外（実施例３０）；
裏面保護フィルム２４を厚さ５０μｍ、水蒸気透過率１００[g/(m²・day)]のＰＣフィルム（帝人社製 Ｓ１４８）に変更した以外（実施例３１）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例３２〜３３］
表面保護フィルム１８を厚さ５０μｍ、水蒸気透過率１０[g/(m²・day)]のＰＰフィルム（サンエー化研社製 SUNYTECT PAC-3）に変更した以外（実施例３２）；
表面保護フィルム１８を厚さ５０μｍ、水蒸気透過率３[g/(m²・day)]のＰＥＴ＋ＰＥ複合フィルム（パナック社製 パナブリッド）に変更した以外（実施例３３）；
は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［実施例３４］
ガスバリア支持体１２を厚さ５０μｍ、水蒸気透過率１００[g/(m²・day)]のＣＯＰフィルム（ＪＳＲ社製 ＡＲＴＯＮ）に変更し、裏面保護フィルム２４を厚さ５０μｍ、水蒸気透過率１００[g/(m²・day)]のＰＣフィルム（帝人社製 Ｓ１４８）に変更した以外（実施例３４）は、実施例１と同様にして、図１（Ａ）に示すガスバリアフィルム１０ａを作製した。

［評価］
＜耐久性＞
このようにして作製した実施例１、２８〜３４のガスバリアフィルムについて、作製直後の水蒸気透過率[g/(m²・day)]、および、温度８５℃、湿度８５％の環境下に１０００時間放置後の水蒸気透過率[g/(m²・day)]を測定して耐久性を評価した。
なお、いずれの場合も測定の直前に表面保護フィルム１８および裏面保護フィルム２４を剥離して、水蒸気透過率を測定した。すなわち、表面保護フィルム１８および裏面保護フィルム２４を剥離しない状態で温度８５℃、湿度８５％の環境下に１０００時間放置した後に、表面保護フィルム１８および裏面保護フィルム２４を剥離して水蒸気透過率を測定した。

上記と同様に、作製したガスバリアフィルムの水蒸気透過率[g/(m²・day)]を、カルシウム腐食法（特開２００５−２８３５６１号公報に記載される方法）によって、測定した。なお、恒温恒湿処理の条件は、温度４０℃、湿度９０％ＲＨとした。
評価は、作製直後の水蒸気透過率[g/(m²・day)]に対し、１０００時間放置後の水蒸気透過率[g/(m²・day)]の比が、
８５％以上のものを『Ａ』；
５５％以上８５％未満のものを『Ｂ』；
３０％以上５５％未満のものを『Ｃ』；
３０％未満のものを『Ｄ』； と、評価した。
結果を下記の表３に示す。

上記表３に示されるように、裏面保護フィルムの水蒸気透過率が０．１〜１０[g/(m²・day)]であり、表面保護フィルムの水蒸気透過率が０．５〜２５[g/(m²・day)]である実施例１、２８〜３０、３２、３３は、１０００時間放置後のガスバリア性が高く、耐久性に優れることがわかる。
また、実施例１と実施例３１との対比、ならびに、実施例２８と実施例３４との対比から、裏面保護フィルムの水蒸気透過率が２５[g/(m²・day)]超の場合には、１０００時間放置後のガスバリア性が、若干、低下し、耐久性が、若干、低下することがわかる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。

有機ＥＬデバイスの保護フィルム等として、好適に利用可能である。

１０ａ、１０ｂ、１００ ガスバリアフィルム
１２ ガスバリア支持体
１４ 無機層
１６ 有機層
１８ 表面保護フィルム
２０ 粘着層
２４ 裏面保護フィルム
２６ 積層体
２８ 有機無機積層体
３０ 有機成膜装置
３２ 無機成膜装置
３６ 塗布手段
３８ 乾燥手段
４０ 光照射手段
４２、６４、８６ 回転軸
４４、４６、９２ 巻取り軸
４８、５０ 搬送ローラ対
５６ 供給室
５８ 成膜室
６０ 巻取り室
６１、９３ 材料ロール
６８、８４ａ、８４ｂ、９０ ガイドローラ
７０、７４、７６ 真空排気手段
７２、７５ 隔壁
７２ａ、７５ａ スリット
８０ ドラム
８２ 成膜手段
８７ フィルムロール

Claims (13)

1. ガスバリア支持体と、無機層および有機層が交互に積層されてなり前記ガスバリア支持体上に形成される有機無機積層体と、前記ガスバリア支持体の前記有機無機積層体の形成面とは逆面に貼着される粘着層と、前記粘着層に貼着される裏面保護フィルムと、前記有機無機積層体上に積層される表面保護フィルムとを有し、
   前記ガスバリア支持体のリタデーション値が、３００ｎｍ以下であり、
   前記有機無機積層体は、１以上の有機層と２以上の無機層とを有し、前記ガスバリア支持体側である最下層および表面保護フィルム側である最上層は、無機層であり、
   前記ガスバリア支持体の線膨張係数と前記裏面保護フィルムの線膨張係数との差が、０〜８０ｐｐｍ／℃であり、
   前記表面保護フィルムの融点が、８０〜１７０℃であり、
   前記ガスバリア支持体と前記粘着層との２５℃における粘着力が、０．０１Ｎ／２５ｍｍ〜０．１５Ｎ／２５ｍｍであり、
   前記表面保護フィルムと前記有機無機積層体の最上層の無機層との２５℃における粘着力が、０．０２Ｎ／２５ｍｍ〜０．０６Ｎ／２５ｍｍであることを特徴とする機能性フィルム。
2. 前記ガスバリア支持体と前記有機無機積層体の最下層の無機層との間に第１の混合層を有し、
   前記第１の混合層の厚みが１ｎｍ〜２０ｎｍである請求項１に記載の機能性フィルム。
3. 前記有機無機積層体において、前記有機層とこの有機層上に積層される無機層との間に第２の混合層を有し、
   前記第２の混合層の厚みが１ｎｍ〜２０ｎｍである請求項１または２に記載の機能性フィルム。
4. 前記粘着層と前記裏面保護フィルムとの２５℃における粘着力が、０．０５Ｎ／２５ｍｍ〜０．２０Ｎ／２５ｍｍである請求項１〜３のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
5. 前記ガスバリア支持体の厚みが、２０μｍ〜１２０μｍであり、
   前記有機無機積層体の１つの前記有機層の厚みが、０．５μｍ〜５μｍであり、１つの前記無機層の厚みが、１０ｎｍ〜２００ｎｍであり、
   前記粘着層の厚みが、１５μｍ〜２５０μｍであり、
   前記裏面保護フィルムの厚みが、１２μｍ〜１００μｍであり、
   前記表面保護フィルムの厚みが、２０μｍ〜１００μｍである請求項１〜４のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
6. 前記ガスバリア支持体のガラス転移温度が、１３０℃以上であり、
   前記裏面保護フィルムのガラス転移温度が、７０℃以上である請求項１〜５のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
7. 前記ガスバリア支持体と前記粘着層との１００℃における粘着力が、０．０３Ｎ／２５ｍｍ〜０．１４Ｎ／２５ｍｍ、２００℃における粘着力が、０．０４Ｎ／２５ｍｍ〜０．１３Ｎ／２５ｍｍであり、
   前記粘着層と前記裏面保護フィルムとの１００℃における粘着力が、０．０７Ｎ／２５ｍｍ〜０．１９Ｎ／２５ｍｍ、２００℃における粘着力が、０．０８Ｎ／２５ｍｍ〜０．１８Ｎ／２５ｍｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
8. 前記裏面保護フィルムの摩擦係数が、０．６以下である請求項１〜７のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
9. 前記表面保護フィルムのヤング率は、前記ガスバリア支持体のヤング率、および、前記裏面保護フィルムのヤング率の１／４以下である請求項１〜８のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
10. 前記粘着層は、アクリル酸アルキルモノマーのアルキル基部分の炭素数が３〜１０のものを含む粘着材料からなり、温度２５℃〜１５０℃、ＵＶ照射量１００ｍＪ／ｃｍ²〜１０００ｍＪ／ｃｍ²の条件で架橋した際の、架橋による体積収縮率が３％以下である請求項１〜９のいずれか１項に記載の機能性フィルム。
11. ガスバリア支持体と、前記ガスバリア支持体に貼着される粘着層と、前記粘着層に貼着される裏面保護フィルムとを有する長尺な積層体、ならびに、前記長尺な積層体のガスバリア支持体上に交互に積層される無機層および有機層を有し、裏面保護フィルムとは反対側の表面が有機層である複合体を作製する工程と、
    前記複合体を長手方向に搬送しつつ、前記表面の有機層上に気相成長法により最上層の無機層を形成する成膜工程と、
    前記成膜工程で形成された前記最上層の無機層上に、表面保護フィルムを貼り付ける表面保護フィルム貼付工程とを有し、
    前記成膜工程と前記表面保護フィルム貼付工程とを、同じ圧力、温度の環境下で連続的に行うものであり、
    前記ガスバリア支持体のリタデーション値が、３００ｎｍ以下であり、
    前記ガスバリア支持体の線膨張係数と前記裏面保護フィルムの線膨張係数との差が、０〜８０ｐｐｍ／℃であり、
    前記表面保護フィルムの融点が、８０〜１７０℃であり、
    前記ガスバリア支持体と前記粘着層との２５℃における粘着力が、０．０１Ｎ／２５ｍｍ〜０．１５Ｎ／２５ｍｍであることを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
12. 前記複合体を作製する工程は、前記無機層が積層された前記長尺な積層体の、前記無機層上に有機層となる組成物を塗布する塗布工程と、
    塗布した前記組成物を乾燥させる乾燥工程とを有し、
    前記乾燥工程において、前記複合体の温度が、７０℃以上となる請求項１１に記載の機能性フィルムの製造方法。
13. 前記複合体を作製する工程は、前記無機層が積層された前記長尺な積層体の、前記無機層上に有機層となる組成物を塗布する塗布工程と、
    塗布した前記組成物を乾燥させる乾燥工程と、
    乾燥した前記組成物に紫外線の照射を行って硬化させて前記有機層を形成する硬化工程とを有し、
    前記硬化工程において、前記複合体を温度３０℃以上となるように前記裏面保護フィルム側から加熱しつつ、紫外線の照射を行う請求項１１または１２に記載の機能性フィルムの製造方法。

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