JP2015115401A - レーザアニール方法およびレーザアニール装置 - Google Patents
レーザアニール方法およびレーザアニール装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015115401A JP2015115401A JP2013255175A JP2013255175A JP2015115401A JP 2015115401 A JP2015115401 A JP 2015115401A JP 2013255175 A JP2013255175 A JP 2013255175A JP 2013255175 A JP2013255175 A JP 2013255175A JP 2015115401 A JP2015115401 A JP 2015115401A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- semiconductor substrate
- film
- optical system
- annealing method
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Recrystallisation Techniques (AREA)
Abstract
Description
図1はこの発明によるレーザアニール方法を実施するレーザアニール装置の構成の一例を概略的に示す図である。レーザアニール装置は主に、レーザ発振器1、整形光学系3、反射光学系4、集光光学系5および駆動系6により構成され、レーザ光2を半導体基板(未加工の半導体材料基板を含む)7または同基板上の膜に照射し、例えば熱処理を行う。
レーザ発振器1で発生されたレーザ光2は、整形光学系3によって形状が整形され、反射光学系4によって反射されて半導体基板7の方向へ照射方向が変えられ、集光光学系5によって集光され、そしてステージ10上の半導体基板7に照射される。このとき、集光点は半導体基板7の内部になるように照射する。
半導体基板7におけるレーザ光2の集光点の位置は、半導体基板7と集光光学系5の相対距離を変化させることで調整できるように、集光光学系5は集光制御装置5aに、半導体基板7は半導体基板7を載せたステージ10の位置(3次元)を変える駆動系6が駆動系制御装置6aに制御される。整形光学系3はレーザ光2のビームの径を広げる、またはビームの分布強度を均一化する。整形制御装置3aによりこの整形光学系3でレーザ光2のビーム径を広げることで集光点を変化させることもできる。集光点の深さ方向の位置を制御することで、熱処理領域の位置を決めることができる。例えばレーザ光の集光点における集光径は波長×3〜20倍程度にまで絞られ、1064nmの波長では、5μm程度になる。集光深さは半導体基板7の表面から10μm程度で、半導体基板7の表面におけるビーム径は25μm程度となり、非線形な温度上昇を起こすexp(−z/d)<(r0/rz)2を満たす。
また、レーザ光2はレーザ発振器1において発振器制御装置1aによってレーザ光の照射タイミング、照射時間、および照射強度が制御されている。
さらに半導体基板7はステージ10上にあり、駆動系制御装置6aの制御によって駆動系6により半導体基板7の位置、移動速度が制御される。
侵入深さの温度依存性を利用した非線形な温度上昇を発生させるには、集光点での単位時間当たりのエネルギー密度であるパワー密度(W/cm2)が所定値以上である必要がある。
パワー密度は、集光点でのビーム径、レーザ光出力で決定され、例えばビーム径は5μm、レーザ光出力は100Wであり、パワー密度は1.27×108W/cm2である。パワー密度は1×107W/cm2以上が望ましい。
集光点でのビーム径は、レーザ光の波長と集光光学系5の集光角度で決定される。
集光角度は、光学系(整形光学系3、反射光学系4、集光光学系5)の選択によって変更することが可能で、例えば集光角度には45°程度を採用する。
また、照射強度と時間軸のパラメーターである照射時間、移動速度によって上温する領域の大きさが決定される。
・レーザ光の照射タイミング、照射時間、照射強度、
・半導体基板の移動速度、および
・集光位置(集光点の位置)
を制御し、適切な集光角度、例えば45°、を持つ集光光学系5を選択したレーザアニール装置を構成することによって所望の深さ、所望の領域を所望の温度まで熱処理を行うことができる。
この実施の形態では、実施の形態1の図1の装置を用いてIGBT等の半導体装置のレーザアニール処理を行う。図2にはこの発明の実施の形態2におけるレーザアニール方法を説明するための、半導体基板裏面を上にした基板断面の模式図を示す。図2に示すように一般的なIGBTの基板表面には、ゲート絶縁膜12およびゲート電極13、エミッタ拡散領域14、チャンネル拡散領域15、エミッタ電極16が形成されている。
λ=1.48W/cmK
ρ=2.33g/cm3
c=0.707W/cmK
を代入すると、
t=1μsのときにd=10μm、t=10nsのときにd=1μm、となる。このようにビームの照射時間を制御することにより、上昇温度深さを制御することができる。以上から、例えばフィールドストップ層18の深さが5μmであればレーザ光の照射時間を10ns〜1μs程度にする必要がある。
この実施の形態では、実施の形態2において、集光点をシリコン基板表面から3μm以上の深さの位置にし、活性化温度以上となる熱処理領域を完全に表面より内部に形成する。一般に熱処理条件は1000℃以上と言われているが、上昇温度によって活性化率や、IGBTとしての特性が異なり、その条件は不純物の種類によって異なる。このため、図4のように例えば比較的深い領域(3μm〜10μm)にリン(p)をイオン注入し(リン(p)注入層21)、比較的浅い領域(5μ〜表面)にボロン(B)を注入(ボロン(B)注入層22)したシリコン基板17に対し、まず、P層の活性化のために集光点を深さ5〜10μmに定め、P層を所望の温度に昇温させる。このとき、レーザ光の透過性により、表面側のB層での温度上昇はほとんど起きない。つづいて、B層の活性化を狙い集光点を深さ2.5μm〜5μmに定め、B層を所望の温度に昇温させる。以上の照射により、各層の熱処理は完全に独立しており、各々の層に対して適切な熱処理を実施することができる。これにより、各々の層を適切な温度、適切な領域で熱処理を行うことができる。
熱処理の際にレーザ光2を走査して照射するが、この実施の形態は、実施の形態2において、集光光学系5を、走査の進行方向に対しては集光し、進行方向と直交する方向には集光されないシリンドリカルレンズに代表されるような指向的集光光学系として用いる形態である。例えば、図1の整形光学系3の調整と合わせて図4に示すような指向性集光形態23および指向性ビームプロファイル24を作成する。図4の矢印Sは走査の方向を示す。このとき、集光位置におけるパワー密度が実施の形態1での閾値(侵入深さ(吸収係数)の温度依存性を利用した非線形な温度上昇を発生させるのに必要なパワー密度)以上であれば、指向性ビームプロファイル24の幅25にわたって温度上昇が生じる。このように走査の進行方向と直交する方向に予め定められた所定の幅をもった領域を1度のレーザ走査で熱処理できることになる。これにより、同一領域を少ない走査回数で熱処理することが可能となる。
Claims (6)
- レーザ光を照射して前記半導体基板または前記半導体基板上の膜の熱処理を行うレーザアニール方法であって、ランバートビアの法則に従うレーザ光強度の変化を上回るように、前記半導体基板または前記膜と集光光学系との相対距離および整形光学系でのレーザ光のビーム径の調整の少なくとも一方を制御することにより、前記半導体基板または前記膜に対して透過性を有するレーザ光を前記半導体基板または前記膜の所望の位置に集光させ温度分布を制御することを特徴とするレーザアニール方法。
- 前記レーザ光を前記半導体基板または前記膜の内部に集光させ、表面より内部で熱処理領域が形成される基板内部の温度分布を制御することを特徴とする請求項1に記載のレーザアニール方法。
- 前記レーザ光を前記半導体基板上または前記膜上に走査して照射し、前記レーザ光を、走査の際の進行方向と直交する方向に予め定められた幅を有する集光形態のものとすることを特徴とする請求項1または2に記載のレーザアニール方法。
- 前記レーザ光が、CO2レーザ、YAGレーザ、YVO4レーザ、YBファイバレーザ、Er−YAGレーザ、半導体レーザのいずれか1つのレーザ光であることを特徴とする請求項1から3までのいずれか1項に記載のレーザアニール方法。
- 前記レーザ光が、半導体に対して透過性を示す波長800nm以上1200nm未満のレーザ光であることを特徴とする請求項1から4までのいずれか1項に記載のレーザアニール方法。
- レーザアニール制御部の制御により、レーザ発振器で発生されたレーザ光を、整形光学系でビーム径を含む形状を整形し、反射光学系で反射して半導体基板または前記半導体基板上の膜の方向へ照射方向を変え、集光光学系で集光して、ステージ上の前記半導体基板または前記膜に照射するレーザアニール装置であって、前記レーザアニール制御部が、ランバートビアの法則に従うレーザ光強度の変化を上回るように、前記半導体基板または前記膜と前記集光光学系との相対距離および前記整形光学系でのレーザ光のビーム径の調整の少なくとも一方を制御することにより、前記半導体基板または前記膜に対して透過性を有するレーザ光を前記半導体基板または前記膜の所望の位置に集光させ温度分布を制御することを特徴とするレーザアニール装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013255175A JP2015115401A (ja) | 2013-12-10 | 2013-12-10 | レーザアニール方法およびレーザアニール装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013255175A JP2015115401A (ja) | 2013-12-10 | 2013-12-10 | レーザアニール方法およびレーザアニール装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015115401A true JP2015115401A (ja) | 2015-06-22 |
Family
ID=53528957
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013255175A Pending JP2015115401A (ja) | 2013-12-10 | 2013-12-10 | レーザアニール方法およびレーザアニール装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2015115401A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180026789A (ko) * | 2015-07-29 | 2018-03-13 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 회전하는 기판의 레이저 어닐링 |
CN111489968A (zh) * | 2019-01-29 | 2020-08-04 | 武汉锐晶激光芯片技术有限公司 | 一种激光辅助加热退火的方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5844726A (ja) * | 1981-09-11 | 1983-03-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ゲッタリング方法 |
JPS62274620A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Mitsubishi Electric Corp | イオン注入層のアニ−ル方法 |
JPH11224861A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-08-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体不純物の活性化方法、および活性化装置 |
JP2000077333A (ja) * | 1998-09-03 | 2000-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法およびレーザアニール装置 |
JP2001276985A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-10-09 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | マーキング方法、装置及びマーキングされた光学部材 |
JP2001289797A (ja) * | 1999-06-09 | 2001-10-19 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ウェーハの結晶欠陥測定方法及び装置 |
JP2002141301A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Mitsubishi Electric Corp | レーザアニーリング用光学系とこれを用いたレーザアニーリング装置 |
JP2006351659A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Toyota Motor Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2011204834A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Panasonic Corp | ファイバレーザ光源とそれを用いた波長変換レーザ装置 |
WO2012063342A1 (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-18 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2012134516A (ja) * | 2006-07-27 | 2012-07-12 | Siltronic Ag | 単結晶半導体ウェーハの製造方法 |
JP2012524422A (ja) * | 2009-04-20 | 2012-10-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ファイバレーザによる基板処理 |
JP2013138252A (ja) * | 2013-03-08 | 2013-07-11 | Japan Steel Works Ltd:The | レーザアニール方法 |
-
2013
- 2013-12-10 JP JP2013255175A patent/JP2015115401A/ja active Pending
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5844726A (ja) * | 1981-09-11 | 1983-03-15 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ゲッタリング方法 |
JPS62274620A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Mitsubishi Electric Corp | イオン注入層のアニ−ル方法 |
JPH11224861A (ja) * | 1997-11-28 | 1999-08-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体不純物の活性化方法、および活性化装置 |
JP2000077333A (ja) * | 1998-09-03 | 2000-03-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜トランジスタの製造方法およびレーザアニール装置 |
JP2001289797A (ja) * | 1999-06-09 | 2001-10-19 | Toshiba Ceramics Co Ltd | ウェーハの結晶欠陥測定方法及び装置 |
JP2001276985A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-10-09 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | マーキング方法、装置及びマーキングされた光学部材 |
JP2002141301A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Mitsubishi Electric Corp | レーザアニーリング用光学系とこれを用いたレーザアニーリング装置 |
JP2006351659A (ja) * | 2005-06-14 | 2006-12-28 | Toyota Motor Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP2012134516A (ja) * | 2006-07-27 | 2012-07-12 | Siltronic Ag | 単結晶半導体ウェーハの製造方法 |
JP2012524422A (ja) * | 2009-04-20 | 2012-10-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | ファイバレーザによる基板処理 |
JP2011204834A (ja) * | 2010-03-25 | 2011-10-13 | Panasonic Corp | ファイバレーザ光源とそれを用いた波長変換レーザ装置 |
WO2012063342A1 (ja) * | 2010-11-10 | 2012-05-18 | トヨタ自動車株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2013138252A (ja) * | 2013-03-08 | 2013-07-11 | Japan Steel Works Ltd:The | レーザアニール方法 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20180026789A (ko) * | 2015-07-29 | 2018-03-13 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 회전하는 기판의 레이저 어닐링 |
CN107851580A (zh) * | 2015-07-29 | 2018-03-27 | 应用材料公司 | 旋转基板激光退火 |
JP2018526819A (ja) * | 2015-07-29 | 2018-09-13 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | 回転基板レーザアニール |
KR102531865B1 (ko) | 2015-07-29 | 2023-05-16 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 회전하는 기판의 레이저 어닐링 |
CN111489968A (zh) * | 2019-01-29 | 2020-08-04 | 武汉锐晶激光芯片技术有限公司 | 一种激光辅助加热退火的方法 |
CN111489968B (zh) * | 2019-01-29 | 2023-07-25 | 武汉锐晶激光芯片技术有限公司 | 一种激光辅助加热退火的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100968687B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 및 반도체 장치의 제조 장치 | |
EP2674967B1 (en) | Laser annealing method and laser annealing apparatus | |
JP5602787B2 (ja) | 集積回路の製造における、パターン密度効果を低減させた超高速レーザーアニーリング | |
US9653299B2 (en) | Semiconductor device producing method | |
JP6028849B2 (ja) | レーザアニール装置、半導体装置の製造方法 | |
JP6910742B2 (ja) | レーザアニール方法及びレーザアニール装置 | |
US20150017817A1 (en) | Laser processing apparatus and laser processing method | |
JP5661009B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP5246716B2 (ja) | 半導体基板の製造方法及びレーザアニール装置 | |
JP4614747B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2012044046A (ja) | レーザアニール装置及びレーザアニール方法 | |
JP2015115401A (ja) | レーザアニール方法およびレーザアニール装置 | |
EP2943973B1 (en) | Thermal processing by transmission of mid infra-red laser light through semiconductor substrate | |
JP2012156390A (ja) | レーザアニール方法及びレーザアニール装置 | |
TWI729598B (zh) | 用於熱處理基板的方法和關聯的系統 | |
JP5800654B2 (ja) | レーザアニール装置、及び、レーザアニール方法 | |
JP2011243836A (ja) | レーザアニール方法及びレーザアニール装置 | |
JP5660880B2 (ja) | レーザアニール方法 | |
WO2021256434A1 (ja) | レーザアニール装置の制御装置及びレーザアニール方法 | |
JP2014195004A (ja) | 半導体素子の製造方法及び半導体素子の製造装置 | |
JP5595152B2 (ja) | レーザアニール方法 | |
KR102238080B1 (ko) | 레이저 어닐 장치 및 방법 | |
JP2021093455A (ja) | 半導体製造方法及び半導体製造装置 | |
KR20230010591A (ko) | 어닐링 장치의 제어 장치, 어닐링 장치 및 어닐링 방법 | |
CN115527883A (zh) | 激光退火装置及激光退火方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150930 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160616 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160726 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160923 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20170404 |