JP2015111081A - 位置合装置、薄膜形成装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】位置合対象物7毎に最適な照明強度と、撮像装置13との間の位置合距離を求め、位置合対象物7の識別標識と対応づけて記憶しておく。位置合せの際に識別標識から照明強度と位置合距離を求めて記憶しておき、求めた照明強度と位置合距離で撮像装置13によって、対象物アラインメントマークを撮像し、位置合せを行う。位置合対象物7毎に、最適な条件で位置合せを行うことができるから、位置合せ精度が向上する。
【選択図】図1
Description
また、搬送トレイやマスク毎に、厚さや歪み方等の作成時の機械的精度が異なってしまう。
搬送トレイやマスク等、基板との間で位置合せが繰り返し行われる位置合対象物と基板との位置合せを精度良く行うことができる技術が求められている。
本発明は、予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、検出された前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求められた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置である。
本発明は、基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、当該位置合装置は、前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、前記識別標識を検出する検出装置と、を有し、予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求めた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置である。
本発明は、前記識別標識は、前記撮像装置によって撮像できる位置に設けられ、前記検出装置は前記撮像装置で構成され、撮像された前記識別標識の画像である識別像から、前記識別標識が求められるように構成された位置合装置である。
本発明は、前記位置合対象物は、前記基板が配置されるトレイである位置合装置である。
本発明は、前記位置合対象物は、貫通孔から成る窓部を有し、前記基板の表面に配置されるマスクである位置合装置である。
本発明は、上記記載の位置合装置と、真空槽内に配置され、薄膜材料の微粒子を放出する成膜源と、前記位置合せ工程が行われた前記基板と前記位置合対象物とから成る搬送対象物を移動させる搬送装置とを有し、前記位置合対象物は前記成膜源と対面され、前記搬送対象物中の前記基板に前記微粒子が到達し、前記基板に薄膜が形成される薄膜形成工程が行われる薄膜形成装置である。
本発明は、前記位置合対象物を前記位置合装置に搬送する第二例の搬送装置を有し、前記薄膜形成工程が行われた前記搬送対象物は、前記基板と前記位置合対象物に分離され、分離された前記位置合対象物は、前記第二例の搬送装置によって前記位置合装置に戻され、前記薄膜形成工程が行われていない前記基板と、戻された前記位置合対象物とに、前記位置合せ工程が行われるように構成された薄膜形成装置である。
図1は内部を示す断面図、図2は真空槽間の接続を示す平面図である。
この薄膜形成装置3は、複数の真空槽111〜115を有している。
各真空槽111〜115には、真空排気装置42が接続されており、各真空槽111〜115の内部は真空雰囲気にされている。
この薄膜形成装置3の前段には、他の真空処理装置の真空槽11Aが配置されており、その前段の真空槽11Aの内部も真空雰囲気にされている。
薄膜形成装置3の位置合装置28では、真空槽111の内部に、基板保持装置22が設けられており、搬入された基板は、基板保持装置22に配置される。図1の符号4は、基板保持装置22に配置された基板を示している。
薄膜形成装置3には、基板4との間で位置合せがされる位置合対象物7が配置されている。
位置合装置28には、一台又は複数台の撮像装置(カメラ)13と、カメラ移動装置23とが設けられており、先頭の真空槽111の外部には、コンピュータ等の制御装置10が設けられている。
撮像装置13とカメラ移動装置23とは、制御装置10に接続されており、カメラ移動装置23は、制御装置10から入力される信号によって、撮像装置13を移動させ、撮像装置13は、移動された位置で撮像された画像を制御装置10に出力するようにされている。
制御装置10には、基板4と位置合対象物7との間の予め設定された相対位置である基準位置が記憶されており、求められた相対位置と記憶された基準位置とを比較し、基準位置に対する相対位置の誤差角度、誤差量、誤差方向等の位置誤差を求める。
位置合装置28では、マスク保持装置26が位置合対象物(マスク)7を水平面内での平行移動及び回転移動と、上下方向での昇降移動とをさせるようにされており、位置合対象物7と基板4との間の水平面内での相対関係と、上下方向の距離とを変更できるようにされている。
図1の符号29は、相対移動装置を模式的に示しており、薄膜形成装置3では、相対移動装置29は、マスク保持装置26を移動させることで、マスクである位置合対象物7を水平面内で直線移動と回転移動をさせ、位置合対象物7を先頭の真空室111内で移動させている。
位置合せ後、基板4と位置合対象物7とは二番目以降の真空槽112〜115を順番に移動して、基板4や、位置合対象物7の表面に薄膜が形成された後、位置合対象物7は、形成された薄膜が剥離されない状態で位置合装置28に戻され、再度の位置合せが行われる。
各位置合対象物7毎に、照明強度を求める際には、照明強度を求める位置合対象物7の識別標識も撮像され、撮像された識別標識の画像である識別像が求められている。
位置合装置28は、撮像装置13と、位置合対象物7との間の上下方向の距離を、移動装置によって変更できるように構成されており、ここではカメラ移動装置23が、撮像装置13と位置合対象物7との間の距離を変更する移動装置となり、対象物アラインメントマークを撮像する際に、撮像装置13と位置合対象物7との間の距離を変更することができる。
このゲートバルブ415、416は開けられており、分離された位置合対象物7と搬送トレイ6は、六番目の真空槽116内に搬入され、移動される。
このように、薄膜形成装置3の位置合装置28では、最適な照明強度と位置合距離によって位置合対象物7の対象物アラインメントマークが撮像されるから、鮮明な対象物マーク像が得られる。
なお、上記例では、マスクを位置合対象物7としたが、搬送トレイ6を、位置合対象物7として、基板4との間で位置合せを行う装置も本発明に含まれる。
4、4A、4B‥‥基板
7‥‥位置合対象物(マスク)
6‥‥搬送トレイ
10‥‥制御装置
111〜116‥‥真空槽
12‥‥照明装置
13‥‥撮像装置
17‥‥記憶装置
25‥‥成膜源
28‥‥位置合装置
29‥‥相対移動装置
Claims (8)
- 基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、
各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、
当該位置合装置は、
前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、
撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、
前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、
前記識別標識を検出する検出装置と、
を有し、
予め、前記照明装置が発光して前記対象物アラインメントマークを照明して前記位置合せ工程を行う際に、前記位置合対象物が前記照明装置によって照明されるべき照明強度の値が前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記照明強度が求められる照明関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記照明強度を求め、
求めた前記照明強度で前記照明装置を発光させて、前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置。 - 予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、検出された前記識別標識から前記位置合距離を求め、前記撮像装置と前記位置合対象物とを求められた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された請求項1記載の位置合装置。 - 基板アラインメントマークが設けられた基板と、対象物アラインメントマークが設けられた位置合対象物とを位置合せする位置合せ工程を行う位置合装置であって、
各前記位置合対象物には、前記位置合対象物と一対一に対応した識別標識がそれぞれ設けられており、
当該位置合装置は、
前記位置合装置に配置された前記基板の前記基板アラインメントマークと、複数の前記位置合対象物の中から前記位置合装置に配置された前記位置合対象物の前記対象物アラインメントマークとを撮像する撮像装置と、
撮像された前記基板アラインメントマークの画像である基板マーク像と、撮像された前記対象物アラインメントマークの画像である対象物マーク像との間の相対位置から、前記基板と前記位置合対象物とを相対的に移動させて前記位置合せ工程を行う制御装置と、
前記位置合せ工程の際に前記対象物アラインメントマークを照明する照明装置と、
前記識別標識を検出する検出装置と、
を有し、
予め、前記位置合せ工程を行うときに、前記撮像装置と前記位置合対象物とが離間すべき距離である位置合距離の大きさが、前記位置合対象物毎に求められ、前記識別標識から、前記識別標識に対応した前記位置合距離を求められる距離関係が設けられており、
前記制御装置は、前記位置合せ工程を行う前に、前記位置合せ工程が行われる前記位置合対象物の前記識別標識を検出し、検出した前記識別標識から前記位置合距離を求め、
前記撮像装置と前記位置合対象物とを求めた前記位置合距離離間させて前記位置合せ工程を行うように構成された位置合装置。 - 前記識別標識は、前記撮像装置によって撮像できる位置に設けられ、
前記検出装置は前記撮像装置で構成され、
撮像された前記識別標識の画像である識別像から、前記識別標識が求められるように構成された請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載の位置合装置。 - 前記位置合対象物は、前記基板が配置されるトレイである請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の位置合装置。
- 前記位置合対象物は、貫通孔から成る窓部を有し、前記基板の表面に配置されるマスクである請求項1乃至請求項4のいずれか1項記載の位置合装置。
- 請求項1乃至請求項6のいずれか1項記載の位置合装置と、
真空槽内に配置され、薄膜材料の微粒子を放出する成膜源と、
前記位置合せ工程が行われた前記基板と前記位置合対象物とから成る搬送対象物を移動させる搬送装置とを有し、
前記位置合対象物は前記成膜源と対面され、前記搬送対象物中の前記基板に前記微粒子が到達し、前記基板に薄膜が形成される薄膜形成工程が行われる薄膜形成装置。 - 前記位置合対象物を前記位置合装置に搬送する第二例の搬送装置を有し、
前記薄膜形成工程が行われた前記搬送対象物は、前記基板と前記位置合対象物に分離され、
分離された前記位置合対象物は、前記第二例の搬送装置によって前記位置合装置に戻され、
前記薄膜形成工程が行われていない前記基板と、戻された前記位置合対象物とに、前記位置合せ工程が行われるように構成された請求項7記載の薄膜形成装置。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000338683A (ja) * | 1999-05-28 | 2000-12-08 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法 |
US20030211409A1 (en) * | 2002-05-10 | 2003-11-13 | Christopher C. Nunes | Through-the-lens alignment for photolithography |
JP2012038794A (ja) * | 2010-08-04 | 2012-02-23 | Nikon Corp | 検出条件最適化方法、プログラム作成方法、並びに露光装置及びマーク検出装置 |
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US20030211409A1 (en) * | 2002-05-10 | 2003-11-13 | Christopher C. Nunes | Through-the-lens alignment for photolithography |
JP2012038794A (ja) * | 2010-08-04 | 2012-02-23 | Nikon Corp | 検出条件最適化方法、プログラム作成方法、並びに露光装置及びマーク検出装置 |
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