JP2015107936A - グリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】発光ダイオード（ＬＥＤ）素子等の発光素子を配線板に異方性導電接着剤を用いてフリップチップ実装して発光装置を製造する際に、熱や光により変色しにくい上に実用上十分なダイシェア強度を示す異方性導電接着剤の絶縁性樹脂成分を構成する硬化性化合物として有用なシロキサン化合物を製造できるようにする。
【解決手段】光反射性異方性導電接着剤に適した熱硬化性化合物であるエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造方法においては、ハイドロジェンポリシロキサンと末端不飽和アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートとを、２０ｐｐｍ以下の白金触媒の存在下でハイドロシリレーション反応させる。
【選択図】図２

Description

本発明は、グリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造方法、その製造方法により得られたグリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンを熱硬化性樹脂として含有する光反射性異方性導電接着剤、その接着剤を用いて発光素子を配線板に実装してなる発光装置に関する。

近年、発光ダイオード（ＬＥＤ）素子を異方性導電ペーストや異方性導電フィルムを使用して基板に実装することにより発光装置が製造されているが、発光装置を稼働させた場合、実装に用いた異方性導電ペーストや異方性導電フィルム中の絶縁性接着成分が、熱や光により変色し、その変色に伴ってＬＥＤ素子の出射光が色変化してしまうという問題がある。

そこで、異方性導電ペーストや異方性導電フィルム中の絶縁性樹脂成分を構成する硬化性化合物として、耐熱性、耐光性に優れた硬化物を与えるエポキシ基含有有機ケイ素化合物を使用することが提案されている（特許文献１）。このようなエポキシ基含有有機ケイ素化合物は、脂肪族不飽和基とエポキシ基含有有機基とを有する有機化合物と、ヒドロシリル基を有する有機ケイ素化合物とを、ヒドロ（アシロキシ）シランの存在下に白金系触媒によりヒドロシリル化反応させて得られている。

特開２００３−３２７６５９号公報

しかしながら、特許文献１の実施例に具体的に開示されたエポキシ基含有有機ケイ素化合物を、異方性導電ペーストや異方性導電フィルム中の絶縁性樹脂成分を構成する硬化性化合物として使用した場合、ダイシェア強度や色差について、硬化物の耐熱光性や耐熱性が十分とはいえないという問題があった。

本発明の目的は、以上の従来の技術の問題点を解決することであり、発光ダイオード（ＬＥＤ）素子等の発光素子を配線板に異方性導電接着剤を用いてフリップチップ実装して発光装置を製造する際に、熱や光により変色しにくい上に実用上十分なダイシェア強度を示す異方性導電接着剤の絶縁性樹脂成分を構成する硬化性化合物として有用なシロキサン化合物を製造できるようにすることである。

本発明者らは、異方性導電接着剤の絶縁性樹脂成分を構成する硬化性化合物として、特定の構造を有するエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを使用することにより、異方性導電接着剤の熱や光による変色をある程度のレベルで抑制でき、しかも実用上十分なダイシェア強度を実現できるが、エポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造の際に、ハイドロシリル化触媒可能な白金触媒の濃度を一定の濃度以下に調整することにより製造したエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを異方性導電接着剤に使用すると、異方性導電接着剤が熱や光により変色してしまうことをより高いレベルで抑制できることを見出し、本発明を完成させるに至った。

即ち、本発明は、光反射性異方性導電接着剤に適した熱硬化性化合物であるエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造方法であって、ハイドロジェンポリシロキサンと末端不飽和アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートとを、２０ｐｐｍ以下の白金触媒の存在下でハイドロシリレーション反応させることを特徴とする製造方法を提供する。

本発明の製造方法において、好ましいハイドロジェンポリシロキサンは、側鎖型変性生成物を与える式（１）で表される化合物、両末端型変性生成物を与える式（２）で表される化合物または星型変性生成物を与える式（３）で表される化合物であり、好ましい末端アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートは、式（４）で表される化合物である。

式（１）〜（４）中、Ａ′は末端アルケニル基であり、Ｒは独立的にアルキル基またはアリール基であり、Ｒ１及びＲ２は独立的にエポキシ基含有有機基、アルキル基またはアリール基であるが、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方がエポキシ基含有有機基であり、ｎは１〜４０の整数である。

また、本発明は、熱硬化性化合物として本発明の製造方法により得られたエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンと、エポキシ用硬化剤とを含有する熱硬化性樹脂組成物に、導電粒子及び光反射性絶縁粒子が分散している光反射性異方性導電接着剤、更に、この光反射性異方性導電接着剤を介して、発光素子がフリップチップ方式で配線板に実装されている発光装置を提供する。

本発明の、エポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造方法においては、ハイドロジェンポリシロキサンと末端不飽和アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートとを、２０ｐｐｍ以下という非常に低濃度の白金触媒の存在下でハイドロシリレーション反応させる。このため、反応生成物であるエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサン中の白金触媒の含有量も２０ｐｐｍ以下となる。この結果、熱や光により異方性導電接着剤が変色してしまうことを防止でき、しかも実用上十分なダイシェア強度を実現することができる。従って、本発明の製造方法により得られるエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンは、光反射性異方性導電接着剤に適した熱硬化性化合物となる。

また、本発明の光反射性異方性導電接着剤は、熱硬化性化合物として本発明の製造方法により得られたエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンと、エポキシ用硬化剤とを含有する熱硬化性樹脂組成物に、導電粒子及び光反射性絶縁粒子が分散しているものである。従って、エポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの効果に加え、光反射性絶縁粒子を含有しているから、光を反射することができる。特に、光反射性絶縁粒子が、酸化チタン、窒化ホウ素、酸化亜鉛及び酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一種の無機粒子、又は鱗片状もしくは球状金属粒子の表面を絶縁性樹脂で被覆した樹脂被覆金属粒子である場合には、粒子自体がほぼ白色であるため、可視光に対する反射特性の波長依存性が小さく、従って、発光効率を向上させることができ、しかも発光素子の発光色をそのままの色で反射させることができる。

また、更に、導電粒子として、金属材料で被覆されているコア粒子と、その表面に酸化チタン粒子、窒化ホウ素粒子、酸化亜鉛粒子又は酸化アルミニウム粒子から形成された白色〜灰色の光反射層とから構成されている光反射性導電粒子を使用した場合、この光反射性導電粒子自体が白色〜灰色を呈しているため、可視光に対する反射特性の波長依存性が小さく、従って、発光効率を更に向上させることができ、しかも発光素子の発光色をそのままの色で反射させることができる。

図１Ａは、光反射性異方性導電接着剤用の光反射性導電粒子の断面図である。 図１Ｂは、光反射性異方性導電接着剤用の光反射性導電粒子の断面図である。 図２は、本発明の発光装置の断面図である。 図３は、従来の発光装置の断面図である。 図４は、従来の発光装置の断面図である。

＜エポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造方法＞
本発明は、光反射性異方性導電接着剤に適した熱硬化性化合物であるエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造方法である。この製造方法は、ハイドロジェンポリシロキサンと末端不飽和アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートとを、好ましくは窒素などの不活性ガス雰囲気下、適当な溶媒中で、好ましくは無溶媒で均一に混合した後、ハイドロシリル化を触媒可能な白金触媒の存在下で、好ましくは室温〜１５０℃に加熱し、ハイドロシリレーション反応させることを特徴とする方法である。反応混合物からは、常法（濃縮処理・カラムクロマトグラフィ処理等）によりエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを単離することができる。

＜白金触媒濃度＞
ここで、ハイドロシリレーション反応の際の白金触媒の濃度は、２０ｐｐｍ以下、好ましくは１５ｐｐｍ以下、特に好ましくは１０ｐｐｍ以下である。なお、白金触媒の好ましい下限濃度は、少なくとも１．０ｐｐｍである。白金触媒の濃度がこの範囲であれば、ハイドロシリレーション反応をスムーズに進行させ、また、光反射性異方性導電接着剤の熱や光による着色を、接着性を損なわずに抑制することができる。この白金触媒の濃度は、反応開始時点のハイドロジェンポリシロキサンと末端不飽和アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートとの混合物中の濃度である。具体的には、白金触媒の濃度（Ｐｔ）は、ハイドロジェンポリシロキサンや末端不飽和アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートに対し非常に微量であるため、ハイドロジェンポリシロキサンの質量をＷ１、末端不飽和アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートの質量をＷ２、使用された白金触媒の固形分の質量をＷ３としたときに、以下の数式で定義される。通常は、“ｐｐｍ”単位で表現される。

なお、白金触媒は、反応混合物の単離・精製方法などによりエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサン中にも残存してしまう場合があるが、着色の点から、白金触媒残存濃度は、好ましくは２０ｐｐｍ以下、より好ましくは１５ｐｐｍ以下となるようにする。これにより着色のない無色透明な樹脂の取得が可能となる。なお、エポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサン中の残存白金触媒濃度は、市販の誘導結合プラズマ発光分析装置）（例えば、Ａｇｉｌｅｎｔ ７５００ｃｘ ＩＣＰ−ＭＳ、アジレント・テクノロジー（株））を用いて測定することができる。

＜白金触媒例＞
ハイドロシリル化を触媒可能な白金触媒としては、マイナスの電荷を帯びた錯体、０価、２価または４価の白金化合物および白金コロイドが挙げられる。マイナスの電荷を帯びた錯体としては、白金カルボニルクラスターアニオン化合物、例えば、［Ｐｔ_３（ＣＯ）_６］^２−、［Ｐｔ_３（ＣＯ）_６］_２ ^２−、［Ｐｔ_３（ＣＯ）_６］_４ ^２−が例示される。０価の白金化合物としては、白金（０）ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体、白金（０）テトラビニルテトラメチルシクロテトラシロキサン錯体、白金（０）エチレン錯体、白金（０）スチレン錯体が例示される。２価の白金化合物としては、Ｐｔ（ＩＩ）Ｃｌ_２，Ｐｔ（ＩＩ）Ｂｒ_２、ビス（エチレン）Ｐｔ（ＩＩ）Ｃｌ_２、（１，５−シクロオクタジエン）Ｐｔ（ＩＩ）Ｃｌ_２、白金（ＩＩ）アセチルアセトナート、ビス（ベンゾニトリル）Ｐｔ（ＩＩ）Ｃｌ_２が例示される。４価の白金化合物としては、Ｐｔ（ＩＶ）Ｃｌ_４，Ｈ_２Ｐｔ（ＩＶ）Ｃｌ_６，Ｎａ_２Ｐｔ（ＩＶ）Ｃｌ_６，Ｋ_２Ｐｔ（ＩＶ）Ｃｌ_６が例示される。中でも、カールステッド（Ｋａｒｓｔｅｄｔ）白金触媒（１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体）を好ましく使用できる。これらは、必要に応じてキシレンなどの溶媒に溶解させた溶液として使用することができる。

（ハイドロジェンポリシロキサン及び末端アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレート）
好ましいハイドロゲンポリシロキサンとしては、側鎖型変性生成物を与える式（１）で表される化合物、両末端型変性生成物を与える式（２）で表される化合物または星型変性生成物を与える式（３）で表される化合物が挙げられる。また、好ましい末端アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートとしては、式（４）で表される化合物が挙げられる。

＜エポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサン＞
従って、本発明の製造方法の好ましい第１の態様として、式（１）のハイドロジェンポリシロキサンと式（４）のエポキシ基含有イソシアヌレートとを反応させ、式（Ａ）のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを得る態様が挙げられる。

また、本発明の製造方法の好ましい第２の態様として、式（２）のハイドロジェンポリシロキサンと式（４）のエポキシ基含有イソシアヌレートとを反応させ、式（Ｂ）のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを得る態様が挙げられる。

更に、本発明の製造方法の好ましい第３態様として、式（３）のハイドロジェンポリシロキサンと式（４）のエポキシ基含有イソシアヌレートとを反応させ、式（Ｃ）のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを得る態様が挙げられる。

以上の式（１）〜（４）及び式（Ａ）〜（Ｃ）中における置換基であるＲ、Ａ′、Ｒ１、Ｒ２、Ａはそれぞれ以下のように定義される。また、ｎは１〜４０の整数である。

＜置換基Ｒ＞
Ｒは独立的にアルキル基又はフェニル基である。変色し難さの点からアルキル基が好ましい。アルキル基としては、接着機能保持の点から炭素数１〜６のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、へプチル基、イソへプチル基、ヘキシル基が好ましく、中でも、炭素数１〜３の低級アルキル基、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が好ましい。特に、熱・光に対する耐変色性の点からメチル基が好ましい。

＜置換基Ａ′＞
Ａ′は、末端不飽和アルケニル基であり、ビニル基、アリル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基等を挙げることができる。特に、熱・光に対する耐変色性の点からアリル基が好ましい。

＜置換基Ｒ１、Ｒ２＞
置換基Ｒ１、Ｒ２は、独立的にエポキシ基含有有機基、アルキル基又はアリール基であるが、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方、好ましくは双方がエポキシ基含有有機基である。

エポキシ基含有有機基としては、例えば、グリシジル基、１，２−エポキシ−５−ヘキセニル基、２，６−ジメチル−２，３−エポキシ−７−オクテニル基、１，２−エポキシ−９−デセニル基が挙げられる。中でも、基材との接着性の点からグリシジル基が好ましい。

＜連結基Ａ＞
Ａは、Ａ′に対応した２価の炭化水素基、例えば、炭素数２以上のアルキレン基、アリーレン基、アラルキレン基であるが、変色し難さの点から炭素数２以上のアルキレン基が好ましい。特に好ましくはトリメチレン基である。

炭素数２以上のアルキレン基としては、例えば、炭素数６までのアルキレン基が好ましく、具体的には、ジメチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基が挙げられる。これらのアルキレン基には、メチル基等のアルキル基が結合してもよい。

アリーレン基としては、例えば、１，４−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，２−フェニレン基、１，４−ナフタレン基、１，５−ナフタレン基が挙げられる。好ましくは、１，４−フェニレン基である。

アラルキレン基としては、例えば、フェニルジメチレン基、フェニルトリメチレン基が挙げられる。

なお、Ａ′がビニル基である場合にはＡはジメチレン基であり、Ａ′がアリル基である場合にはＡはトリメチレン基であり、Ａ′が５−ヘキセニル基である場合にはＡはヘキサメチレン基である。

＜置換基の好ましい組み合わせ＞
以上説明したように、好ましい置換基としては、置換基Ｒが炭素数１〜３の低級アルキル基、特にメチル基であり、置換基Ａ′がアリル基または１−ブテニル基、特にアリル基であり、連結基Ａが炭素数２〜６のアルキレン基、特にトリメチレン基であり、置換基Ｒ１、Ｒ２が共にエポキシ基含有有機基、特にグリシジル基である。従って、式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）で表される好ましいエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンにおいて、置換基Ｒはメチル基であり、連結基Ａはトリメチレン基であり、置換基Ｒ１及びＲ２は共にグリシジル基である。

＜熱硬化性樹脂組成物＞
本発明の光反射性異方性導電接着剤で使用する熱硬化性樹脂組成物は、本発明の製造方法で得られた特定のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサン、好ましくは式（Ａ）、（Ｂ）または（Ｃ）で表される化合物と、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する。この熱硬化性樹脂組成物は、発光素子を配線板に異方性導電接続するために使用する光反射性異方性導電接着剤の絶縁性接着成分（バインダー）として有用なものである。

前述したとおり、熱硬化性樹脂組成物は、特定のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する。エポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを含有することにより、熱や光により異方性導電接着剤が変色してしまうことを防止でき、しかも実用上十分なダイシェア強度を実現することができる。

特定のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの熱硬化性樹脂組成物中の含有量は、少なすぎると接着機能が低下する傾向があり、多すぎると未硬化エポキシ成分が多くなるので、好ましくは４５〜６５質量％、より好ましくは５０〜６０質量％である。

＜他のエポキシ化合物＞
熱硬化性樹脂組成物は、特定のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの他に、発明の効果を損なわない範囲で、複素環系エポキシ化合物や脂環式エポキシ化合物や水素添加エポキシ化合物などを含有することができる。

複素環系エポキシ化合物としては、トリアジン環を有するエポキシ化合物、例えば１，３，５−トリス（２，３−エポキシプロピル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（換言すれば、トリグリシジルイソシアヌレート）を挙げることができる。

脂環式エポキシ化合物としては、分子内に２つ以上のエポキシ基を有するものが好ましく挙げられる。これらは液状であっても、固体状であってもよい。具体的には、グリシジルヘキサヒドロビスフェノールＡ、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート等を挙げることができる。中でも、硬化物にＬＥＤ素子の実装等に適した光透過性を確保でき、速硬化性にも優れている点から、グリシジルヘキサヒドロビスフェノールＡ、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキセンカルボキシレートを好ましく使用することができる。

水素添加エポキシ化合物としては、前述の複素環系エポキシ化合物や脂環式エポキシ化合物の水素添加物や、その他公知の水素添加エポキシ樹脂を使用することができる。

これらの脂環式エポキシ化合物や複素環系エポキシ化合物や水素添加エポキシ化合物は、式（１）のエポキシ基含有シロキサン化合物に対し、単独で併用してもよいが、２種以上を併用してもよい。また、これらのエポキシ化合物に加えて本発明の効果を損なわない限り、他のエポキシ化合物を併用してもよい。例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、テトラメチルビスフェノールＡ、ジアリールビスフェノールＡ、ハイドロキノン、カテコール、レゾルシン、クレゾール、テトラブロモビスフェノールＡ、トリヒドロキシビフェニル、ベンゾフェノン、ビスレゾルシノール、ビスフェノールヘキサフルオロアセトン、テトラメチルビスフェノールＡ、テトラメチルビスフェノールＦ、トリス（ヒドロキシフェニル）メタン、ビキシレノール、フェノールノボラック、クレゾールノボラックなどの多価フェノールとエピクロルヒドリンとを反応させて得られるグリシジルエーテル； グリセリン、ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、チレングリコール、ヘキシレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどの脂肪族多価アルコールとエピクロルヒドリンとを反応させて得られるポリグリシジルエーテル； ｐ−オキシ安息香酸、β−オキシナフトエ酸のようなヒドロキシカルボン酸とエピクロルヒドリンとを反応させて得られるグリシジルエーテルエステル； フタル酸、メチルフタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラハイドロフタル酸、エンドメチレンテトラハイドロフタル酸、エンドメチレンヘキサハイドロフタル酸、トリメリット酸、重合脂肪酸のようなポリカルボン酸から得られるポリグリシジルエステル； アミノフェノール、アミノアルキルフェノールから得られるグリシジルアミノグリシジルエーテル； アミノ安息香酸から得られるグリシジルアミノグリシジルエステル； アニリン、トルイジン、トリブロムアニリン、キシリレンジアミン、ジアミノシクロヘキサン、ビスアミノメチルシクロヘキサン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルスルホンなどから得られるグリシジルアミン； エポキシ化ポリオレフィン等の公知のエポキシ樹脂類が挙げられる。

＜エポキシ樹脂用硬化剤＞
エポキシ樹脂用硬化剤としては、公知のエポキシ樹脂用硬化剤を使用することができる。例えば、アミン系硬化剤、ポリアミド系硬化剤、酸無水物系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、ポリメルカプタン系硬化剤、ポリスルフィド系硬化剤、三フッ化ホウ素−アミン錯体系硬化剤、ジシアンジアミド、有機酸ヒドラジッド等の中から選択して使用することができる。中でも、光透過性、耐熱性等の観点から酸無水物系硬化剤を好ましく使用することができる。

酸無水物系硬化剤としては、無水コハク酸、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸、あるいは４−メチル−ヘキサヒドロ無水フタル酸とヘキサヒドロ無水フタル酸との混合物、テトラヒドロ無水フタル酸、メチル-テトラヒドロ無水フタル酸、無水ナジック酸、無水メチルナジック酸、ノルボルナン−２，３−ジカルボン酸無水物、メチルノルボルナン−２，３−ジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物等を挙げることができる。

酸無水物系硬化剤等のエポキシ樹脂用硬化剤の熱硬化性樹脂組成物中の配合量は、特定のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサン１００質量部に対して、少なすぎると未硬化エポキシ成分が多くなり、多すぎると余剰の硬化剤の影響で被着体材料の腐食が促進される傾向があるので、好ましくは、５０〜１２０質量部、より好ましくは６０〜１００質量部である。

熱硬化性樹脂組成物は、硬化反応を円滑に、かつ短時間で完了させるために、公知の硬化促進剤を含有することができる。好ましい硬化促進剤としては、第四級ホスホニウム塩系硬化促進剤やイミダゾール系硬化促進剤が挙げられる。具体的には、第四級ホスホニウムのブロマイド塩（「Ｕ−ＣＡＴ５００３」（商標）、サンアプロ(株)）、２−エチル−４−メチルイミダゾール等を挙げることができる。特に、酸無水物系硬化剤用の硬化促進剤としては、イミダゾール系硬化促進剤を好ましく使用することができる。この場合、イミダゾール系硬化促進剤の添加量は、少なすぎると硬化が不十分となる傾向があり、多すぎると熱・光に対する変色が大きくなる傾向があるので、酸無水物系硬化剤１００質量部に対し、イミダゾール系硬化促進剤を好ましくは０．２０〜２．００質量部、より好ましくは０．６０〜１．００質量部である。

以上説明した熱硬化性樹脂組成物は、発光素子の実装のための光反射性異方性導電接着剤の絶縁性接着成分であるバインダーとして使用する場合には、なるべく無色透明であることが好ましい。光反射性異方性導電接着剤中の光反射性導電粒子の光反射効率を低下させず、しかも入射光の光色を代えずに反射させるためである。ここで、無色透明とは、光反射性異方性導電接着剤の硬化物が、波長３８０〜７８０ｎｍの可視光に対して光路長１ｍｍの光透過率（ＪＩＳ Ｋ７１０５）が８０％以上、好ましくは９０％以上となることを意味する。

＜熱硬化性樹脂組成物の調製＞
熱硬化性樹脂組成物は、式（１）のエポキシ基含有シロキサン化合物とエポキシ用硬化剤と、必要に応じて配合される他の成分とを、公知の手法で混合することにより製造することができる。

次に、発光素子を配線板に異方性導電接続するために使用する本発明の光反射性異方性導電接着剤について説明する。この光反射性異方性導電接着剤は、熱硬化性樹脂組成物、導電粒子及び光反射性絶縁粒子を含有し、熱硬化性樹脂組成物が、特定のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する本発明の熱硬化性樹脂組成物であることを特徴とするものである。

＜光反射性絶縁粒子＞
本発明の光反射性異方性導電接着剤が含有する光反射性絶縁粒子は、異方性導電接着剤に入射した光を外部に反射するためのものである。

なお、光反射性を有する粒子には、金属粒子、金属粒子を樹脂被覆した粒子、自然光の下で灰色から白色である金属酸化物、金属窒素化物、金属硫化物等の無機粒子、樹脂コア粒子を無機粒子で被覆した粒子、粒子の材質によらず、その表面に凹凸がある粒子が含まれる。しかし、これらの粒子の中で、本発明で使用できる光反射性絶縁粒子には、絶縁性を示すことが求められている関係上、絶縁被覆されていない金属粒子は含まれない。また、金属酸化物粒子のうち、ＩＴＯのように導電性を有するものは使用できない。また、光反射性且つ絶縁性を示す無機粒子であっても、ＳｉＯ_２のように、その屈折率が使用する熱硬化性樹脂組成物の屈折率よりも低いものは使用できない。

このような光反射性絶縁粒子の好ましい具体例としては、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、窒化ホウ素（ＢＮ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）及び酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）からなる群より選択される少なくとも一種の無機粒子が挙げられる。中でも、高屈折率の点からＴｉＯ_２を使用することが好ましい。

光反射性絶縁粒子の形状としては、球状、鱗片状、不定形状、針状等でもよいが、反射効率を考慮すると、球状、鱗片状が好ましい。また、その大きさとしては、球状である場合、小さすぎると反射率が低くなり、大きすぎると異方性導電粒子による接続を阻害する傾向があるので、好ましくは０．０２〜２０μｍ、より好ましくは０．２〜１μｍであり、鱗片状である場合には、長径が好ましくは０．１〜１００μｍ、より好ましくは１〜５０μｍ、短径が好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍ、厚さが好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍである。

無機粒子からなる光反射性絶縁粒子は、その屈折率（ＪＩＳ Ｋ７１４２）が、好ましくは熱硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率（ＪＩＳ Ｋ７１４２）よりも大きいこと、より好ましくは少なくとも０．０２程度大きいことが好ましい。これは、屈折率差が小さいとそれらの界面での反射効率が低下するからである。

光反射性絶縁粒子としては、以上説明した無機粒子を使用してもよいが、鱗片状又は球状金属粒子の表面を透明な絶縁性樹脂で被覆した樹脂被覆金属粒子を使用してもよい。金属粒子としては、ニッケル、銀、アルミニウム等を挙げることができる。粒子の形状としては、不定形状、球状、鱗片状、針状等を挙げることができるが、中でも、光拡散効果の点から球状、全反射効果の点から鱗片状の形状が好ましい。特に、光の反射率の点から鱗片状銀粒子又は球状銀粒子である。

光反射性絶縁粒子としての樹脂被覆金属粒子の大きさは、形状によっても異なるが、一般に大きすぎると、異方性導電粒子による接続を阻害するおそれがあり、小さすぎると光を反射しにくくなるので、好ましくは球状の場合には粒径０．１〜３０μｍ、より好ましくは０．２〜１０μｍであり、鱗片状の場合には、長径が好ましくは０．１〜１００μｍ、より好ましくは１〜５０μｍで厚みが好ましくは０．０１〜１０μｍ、より好ましくは０．１〜５μｍである。ここで、光反射性絶縁粒子の大きさは、絶縁被覆されている場合には、その絶縁被覆も含めた大きさである。

このような樹脂被覆金属粒子における当該樹脂としては、種々の絶縁性樹脂を使用することができる。機械的強度や透明性等の点からアクリル系樹脂の硬化物を好ましく利用することができる。好ましくは、ベンゾイルパーオキサイド等の有機過酸化物などのラジカル開始剤の存在下で、メタクリル酸メチルとメタクリル酸２−ヒドロキシエチルとをラジカル共重合させた樹脂を挙げることができる。この場合、２，４−トリレンジイソシアネート等のイソシアネート系架橋剤で架橋されていることがより好ましい。また、金属粒子としては、予めシランカップリング剤でγ−グリシドキシ基やビニル基等を金属表面に導入しておくことが好ましい。

このような樹脂被覆金属粒子は、例えば、トルエンなどの溶媒中に金属粒子とシランカップリング剤とを投入し、室温で約１時間撹拌した後、ラジカルモノマーとラジカル重合開始剤と、必要に応じて架橋剤とを投入し、ラジカル重合開始温度に加温しながら撹拌することにより製造することができる。

以上説明した光反射性絶縁粒子の、光反射性異方性導電接着剤中の配合量は、少なすぎると十分な光反射を実現することができず、また多すぎると併用している導電粒子に基づく接続が阻害されるので、光反射性異方性導電接着剤中に光反射性絶縁粒子を好ましくは１〜５０体積％、より好ましくは５〜２５体積％である。

＜導電粒子＞
本発明の光反射性異方性導電接着剤を構成する導電粒子としては、異方性導電接続用の従来の導電粒子において用いられている金属の粒子を利用することができる。例えば、金、ニッケル、銅、銀、半田、パラジウム、アルミニウム、それらの合金、それらの多層化物（例えば、ニッケルメッキ／金フラッシュメッキ物）等を挙げることができる。中でも、金、ニッケル、銅は、導電粒子を茶色としてしまうことから、本発明の効果を他の金属材料よりも享受することができる。

また、導電粒子として、樹脂粒子を金属材料で被覆した金属被覆樹脂粒子を使用することができる。このような樹脂粒子としては、スチレン系樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、ナイロン樹脂粒子などが挙げられる。樹脂粒子を金属材料で被覆する方法としても従来公知の方法を採用することができ、無電解メッキ法、電解メッキ法等を利用することができる。また、被覆する金属材料の層厚は、良好な接続信頼性を確保するに足る厚さであり、樹脂粒子の粒径や金属の種類にもよるが、通常、０．１〜３μｍである。

また、樹脂粒子の粒径は、小さすぎると導通不良が生じ、大きすぎるとパターン間ショートが生じる傾向があるので、好ましくは１〜２０μｍ、より好ましくは３〜１０μｍ、特に好ましくは３〜５μｍである。この場合、コア粒子１の形状としては球形が好ましいが、フレーク状、ラクビーボール状であってもよい。

好ましい金属被覆樹脂粒子は球状形状であり、その粒径は大きすぎると接続信頼性の低下となるので、好ましくは１〜２０μｍ、より好ましくは３〜１０μｍである。

特に、本発明においては、上述したような導電粒子に対し光反射性を付与し、光反射性導電粒子とすることが好ましい。図１Ａ、図１Ｂは、このような光反射性導電粒子１０、２０の断面図である。まず、図１Ａの光反射性導電粒子から説明する。

光反射性導電粒子１０は、金属材料で被覆されているコア粒子１と、その表面に酸化チタン（ＴｉＯ_２）粒子、窒化ホウ素（ＢＮ）粒子、酸化亜鉛（ＺｎＯ）粒子又は酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）粒子から選択された少なくとも一種の無機粒子２から形成された光反射層３とから構成される。酸化チタン粒子、窒化ホウ素粒子、酸化亜鉛粒子又は酸化アルミニウム粒子は、太陽光の下では白色を呈する無機粒子である。従って、それらから形成された光反射層３は白色〜灰色を呈する。白色〜灰色を呈しているということは、可視光に対する反射特性の波長依存性が小さく、且つ可視光を反射しやすいことを意味する。

なお、酸化チタン粒子、窒化ホウ素粒子、酸化亜鉛粒子又は酸化アルミニウム粒子のうち、硬化した光反射性異方性導電接着剤の熱硬化性樹脂組成物の硬化物の光劣化が懸念される場合には、光劣化に対して触媒性がなく、屈折率も高い酸化亜鉛粒子を好ましく使用することができる。

コア粒子１は、異方性導電接続に共されるものであるので、その表面が金属材料で構成されている。ここで、表面が金属材料で被覆されている態様としては、前述したように、コア粒子１そのものが金属材料である態様、もしくは樹脂粒子の表面が金属材料で被覆された態様が挙げられる。

無機粒子２から形成された光反射層３の層厚は、コア粒子１の粒径との相対的大きさの観点からみると、コア粒子１の粒径に対し、小さすぎると反射率の低下が著しくなり、大きすぎると導通不良が生ずるので、好ましくは０．５〜５０％、より好ましくは１〜２５％である。

また、光反射性導電粒子１０において、光反射層３を構成する無機粒子２の粒径は、小さすぎると光反射現象が生じ難くなり、大きすぎると光反射層の形成が困難となる傾向があるので、好ましくは０．０２〜４μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍ、特に好ましくは０．２〜０．５μｍである。この場合、光反射させる光の波長の観点からみると、無機粒子２の粒径は、反射させるべき光（即ち、発光素子が発する光）が透過してしまわないように、その光の波長の５０％以上であることが好ましい。この場合、無機粒子２の形状としては不定形状、球状、鱗片状、針状等を挙げることができるが、中でも、光拡散効果の点から球状、全反射効果の点から鱗片状の形状が好ましい。

図１Ａの光反射性導電粒子１０は、大小の粉末同士を物理的に衝突させることにより大粒径粒子の表面に小粒径粒子からなる膜を形成させる公知の成膜技術（いわゆるメカノフュージョン法）により製造することができる。この場合、無機粒子２は、コア粒子１の表面の金属材料に食い込むように固定され、他方、無機粒子同士が融着固定されにくいから、無機粒子のモノレイヤーが光反射層３を構成する。従って、図１Ａの場合、光反射層３の層厚は、無機粒子２の粒径と同等乃至はわずかに薄くなると考えられる。

次に、図１Ｂの光反射性導電粒子２０について説明する。この光反射性導電粒子２０においては、光反射層３が接着剤として機能する熱可塑性樹脂４を含有し、この熱可塑性樹脂４により無機粒子２同士も固定され、無機粒子２が多層化（例えば２層あるいは３層に多層化）している点で、図１Ａの光反射性導電粒子１０と相違する。このような熱可塑性樹脂４を含有することにより、光反射層３の機械的強度が向上し、無機粒子の剥落などが生じにくくなる。

熱可塑性樹脂４としては、環境低負荷を意図してハロゲンフリーの熱可塑性樹脂を好ましく使用することができ、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンやポリスチレン、アクリル樹脂等を好ましく使用することができる。

このような光反射性導電粒子２０も、メカノフュージョン法により製造することができる。メカノフュージョン法に適用する熱可塑性樹脂４の粒子径は、小さすぎると接着機能が低下し、大きすぎるとコア粒子に付着しにくくなるので、好ましくは０．０２〜４μｍ、より好ましくは０．１〜１μｍである。また、このような熱可塑性樹脂４の配合量は、少なすぎると接着機能が低下し、多すぎると粒子の凝集体が形成されるので、無機粒子２の１００質量部に対し、好ましくは０．２〜５００質量部、より好ましくは４〜２５質量部である。

本発明の光反射性異方性導電接着剤中の光反射性導電粒子等の導電粒子の配合量は、少なすぎると導通不良が生じる傾向があり、多すぎるとパターン間ショートが生ずる傾向があるので、熱硬化性樹脂組成物１００質量部に対し、光反射性導電粒子等の導電粒子の配合量は、好ましくは１〜１００質量部、より好ましくは１０〜５０質量部である。

＜光反射性異方性導電接着剤の製造＞
本発明の光反射性異方性導電接着剤は、以上説明した光反射性絶縁粒子と導電粒子と熱硬化性樹脂組成物とを、常法に従って均一に混合することにより製造することができる。また、光反射性異方性導電フィルムとする場合には、それらをトルエン等の溶媒とともに分散混合し、剥離処理したＰＥＴフィルムに所期の厚さとなるように塗布し、約８０℃程度の温度で乾燥すればよい。

＜光反射性異方性導電接着剤の反射特性＞
本発明の光反射性異方性導電接着剤の反射特性は、発光素子の発光効率を向上させるために、光反射性異方性導電接着剤の硬化物の波長４５０ｎｍの光に対する反射率（ＪＩＳＫ７１０５）が、少なくとも３０％であることが望ましい。このような反射率とするためには、使用する光反射性導電粒子の反射特性や配合量、熱硬化性樹脂組成物の配合組成などを適宜調整すればよい。通常、反射特性の良好な光反射性導電粒子の配合量を増量すれば、反射率も増大する傾向がある。

また、光反射性異方性導電接着剤の反射特性は屈折率という観点から評価することもできる。即ち、その硬化物の屈折率が、導電粒子と光反射性絶縁粒子とを除いた熱硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率よりも大きいと、光反射性絶縁粒子とそれを取り巻く熱硬化性樹脂組成物の硬化物との界面での光反射量が増大するからである。具体的には、光反射性粒子の屈折率（ＪＩＳ Ｋ７１４２）から、熱硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率（ＪＩＳ Ｋ７１４２）を差し引いた差が、好ましくは０．０２以上、より好ましくは０．２以上であることが望まれる。なお、通常、エポキシ樹脂を主体とする熱硬化性樹脂組成物の屈折率は約１．５である。

＜発光装置＞
次に、本発明の発光装置について図２を参照しながら説明する。発光装置２００は、基板２１上の接続端子２２と、発光素子としてＬＥＤ素子２３のｎ電極２４とｐ電極２５とのそれぞれに形成された接続用のバンプ２６との間に、前述の本発明の光反射性異方性導電接着剤を塗布し、基板２１とＬＥＤ素子２３とがフリップチップ実装されている発光装置である。ここで、光反射性異方性導電接着剤の硬化物１００は、光反射性絶縁粒子１０が熱硬化性樹脂組成物の硬化物１１中に分散してなるものである。なお、必要に応じて、ＬＥＤ素子２３の全体を覆うように透明モールド樹脂で封止してもよい。また、ＬＥＤ素子２３に従来と同様に光反射層を設けてもよい。

このように構成されている発光装置２００においては、ＬＥＤ素子２３が発した光のうち、基板２１側に向かって発した光は、光反射性異方性導電接着剤の硬化物１００中の光反射性絶縁粒子１０で反射し、ＬＥＤ素子２３の上面から出射する。従って、発光効率の低下を防止することができる。

本発明の発光装置２００における光反射性異方性導電接着剤以外の構成（ＬＥＤ素子２３、バンプ２６、基板２１、接続端子２２等）は、従来の発光装置の構成と同様とすることができる。また、本発明の発光装置２００は、本発明の光反射性異方性導電接着剤を使用すること以外は、従来の異方性導電接続技術を利用して製造することができる。なお、発光素子としては、ＬＥＤ素子の他、本発明の効果を損なわない範囲で公知の発光素子を適用することができる。

実施例１〜６、比較例１〜２
（側鎖型のジグリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造）
窒素気流中、還流冷却管と磁気撹拌子とを備えた１０００ｍｌ三口フラスコに、２３５．２１ｇ（８３６．２５ｍｍｏｌ）の１−アリル−３，５−ジグリシジルイソシアヌレート（ＭＡＤＧＩＣ、四国化成工業（株））と、１２５．００ｇ（４４２．２７ｍｍｏｌ）の１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサン（東京化成工業（株））］とを投入し、混合物を８０℃で均一に溶融するまで撹拌した。続いて、この溶融混合物に２％Ｋａｒｓｔｅｄｔ白金触媒溶液（キシレン溶液）を表１の量[μＬ]で添加し、撹拌しながら１４０℃になるまで加熱し、溶融混合物の温度が１４０℃に到達してから、その温度を６時間保持して、１−アリル−３，５−ジグリシジルイソシアヌレートと１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサンとを反応させた。なお、反応時の白金触媒濃度の計算値を表１に示す。

反応終了後、反応混合物を冷却し、カラムクロマトグラフィ（坦体：シリカゲル、溶出液；酢酸エチル/ヘキサン混合溶媒）で処理することにより、耐熱性、耐光性に優れ、着色の少ない実施例１の式（Ａ１）の側鎖型のジグリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンを得た。同様に実施例２〜６及び比較例１〜２の式（Ａ１）のジグリシジルイソシアヌリル変性環状ポリシロキサンを得た。なお、各実施例、比較例で得られたジグリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサン中の残存白金触媒濃度を、誘導結合プラズマ発光分析装置）（Ａｇｉｌｅｎｔ ７５００ｃｘ ＩＣＰ−ＭＳ、アジレント・テクノロジー（株））を用いて測定した。測定された残存白金触媒濃度も併せて表１に示す。

（反射性異方性導電接着剤の製造）
表１に示す配合組成の成分を、エポキシ基／酸無水物の官能基数の比が１／１．１となるように、エポキシ化合物と酸無水物系硬化剤とを配合し、均一に混合することにより実施例１〜６，比較例１〜２の光反射性異方性導電接着剤をそれぞれ調製した。

実施例７
（両末端型のジグリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造）
１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサンに代えて、１，１，３，３，５，５，７，７−オクタメチルテトラシロキサンを使用すること以外、実施例１の操作を繰り返すことにより、耐熱性、耐光性に優れ、着色の少ない式（Ｂ１）の両末端型のジグリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンを得た。

（反射性異方性導電接着剤の製造）
表１に示す配合組成の成分を、エポキシ基／酸無水物の官能基数の比が１／１．１となるように、エポキシ化合物と酸無水物系硬化剤とを配合し、均一に混合することにより実施例７の光反射性異方性導電接着剤を調製した。

実施例８
（星型のジグリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造）
１，１，１，３，５，７，７，７−オクタメチルテトラシロキサンに代えて、テトラキス（ハイドロジェンジメチルシロキシ）シラン（ＳＩＴ７２７８．０、Ｇｅｌｅｓｔ Ｉｎｃ．）］を使用すること以外、実施例１の操作を繰り返すことにより、耐熱性、耐光性に優れ、着色の少ない式（Ｃ１）の星型のジグリシジルイソシアヌリル変性ポリシロキサンを得た。

（反射性異方性導電接着剤の製造）
表１に示す配合組成の成分を、エポキシ基／酸無水物の官能基数の比が１／１．１となるように、エポキシ化合物と酸無水物系硬化剤とを配合し、均一に混合することにより実施例８の光反射性異方性導電接着剤を調製した。

（評価）
得られた光反射性異方性導電接着剤のダイシェア強度を以下に説明するように測定した。また、光反射性異方性導電接着剤から光反射性絶縁粒子と導電粒子とを除いた残りの熱硬化性樹脂組成物について、以下に説明するように、耐熱試験と耐熱光試験とを行った。得られた結果を表３に示す。

＜ダイシェア強度試験＞
金バンプ（高１０μｍ、径８０μｍ、ピッチ１９０μｍ）が形成された１０μｍ厚の銀ベタ電極を有するＬＥＤ用ガラスエポキシ基板（特注品、関西電子工業（株）））に、径が４ｍｍとなるように光反射性異方性導電接着剤を塗布し、そこへ０．３ｍｍ角のフリップチップ型ＬＥＤ素子（ＧＭ３５Ｒ４６０Ｇ、昭和電工（株））を載せ、フリップチップ型ＬＥＤ素子が表側となるようにガラスエポキシ基板を８０℃に保持されたホットプレートに置き、２分間加熱してＬＥＤ素子をＬＥＤ用ガラスエポキシ基板に仮固定した。このＬＥＤ素子が仮固定されたＬＥＤ用ガラスエポキシ基板を熱圧着装置に適用し、ＬＥＤ素子に８０ｇｆ／ｃｈｉｐの圧力を印加しながら２３０℃で１５秒間熱圧着処理を行うことにより、ＬＥＤ用ガラスエポキシ基板にＬＥＤ素子が実装されたＬＥＤ装置を作成した。

このようにして作成したＬＥＤ装置について、ダイシェア強度(gf/chip)を測定した。実用上、２００ｇｆ／ｃｈｉｐ以上を良好「○」と評価し、２００ｇｆ／ｃｈｉｐ未満を不良「×」と評価した。

＜耐熱試験＞
１ｍｍ高さのスペーサが四隅には配置された２枚のアルミニウム平板（長１００ｍｍ×幅５０．０ｍｍ×厚０．５００ｍｍ）で熱硬化性樹脂組成物を挟み、まず１２０℃で３０分加熱し、続いて１４０℃で１時間加熱することにより硬化樹脂シートを作成した。

得られた硬化樹脂シートを、１５０℃に設定されたオーブン内に１０００時間放置し、放置前後の分光特性（Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊）を、分光測色計（ＣＭ−３６００ｄ、コニカミノルタ（株））を用いて測定し、得られた測定値から色差（ΔＥ）を算出した。実用上、ΔＥが２０以下を非常に良好「◎」、２０超３５以下を良好「○」と評価し、３５超を不良「×」と評価した。

＜耐熱光試験＞
耐熱試験に供した硬化樹脂シートと同様の硬化樹脂シートを作成し、それを、温度１２０℃で光強度１６ｍＷ／ｃｍ^２に設定された熱光試験機（スーパーウインミニ、ダイプラ・ウィンテス（株）；メタルハライドランプ使用）内に１０００時間放置し、得られた硬化樹脂シートを、１２０℃に設定されたオーブン内に１０００時間放置し、外観着色の有無を観察すると共に、放置前後の分光特性（Ｌ^＊、ａ^＊、ｂ^＊）を、分光測色計（ＣＭ−３６００ｄ、コニカミノルタ（株））を用いて測定し、得られた測定値から色差（ΔＥ）を算出した。実用上、ΔＥは３０以下であることが望まれる。併せて耐熱光試験後の外観の着色の有無を目視観察し、着色が観察されなかった場合を良好「○」と評価し、観察された場合を不良「×」と評価した。

表３から解るように、ハイドロシリレーション反応時の白金触媒濃度が２０ｐｐｍ以下であった実施例１〜８の光反射性異方性導電接着剤は、使用したエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンレートが側鎖型、両端型または星形であることに関わらず、ダイシェア強度、耐熱試験及び耐熱光試験の結果がいずれも実用上好ましいものであった。

一方、ハイドロシリレーション反応時の白金触媒濃度が２０ｐｐｍを超え、しかも残存白金触媒量が２４ｐｐｍまたは５４ｐｐｍであった比較例１及び２の光反射性異方性導電接着剤を作成し評価したところ、耐熱試験結果が不良であり、しかも外観着色してしまい、使用できないものであった。

本発明の製造方法により得られるエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの硬化物は、熱や光により変色しにくいものである。従って、光反射性異方性導電接着剤の熱硬化性成分として有用である。

１ コア粒子
２ 無機粒子
３ 光反射層
４ 熱可塑性樹脂
１０、２０ 光反射性導電粒子
１１ 熱硬化性樹脂組成物の硬化物
２１ 基板
２２ 接続端子
２３ ＬＥＤ素子
２４ ｎ電極
２５ ｐ電極
２６ バンプ
１００ 光反射性異方性導電接着剤の硬化物
２００ 発光装置

Claims (19)

1. 光反射性異方性導電接着剤に適した熱硬化性化合物であるエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンの製造方法であって、ハイドロジェンポリシロキサンと末端不飽和アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートとを、２０ｐｐｍ以下の白金触媒の存在下でハイドロシリレーション反応させることを特徴とする製造方法。
2. ハイドロゲンポリシロキサンが、側鎖型変性生成物を与える式（１）で表される化合物、両末端型変性生成物を与える式（２）で表される化合物または星型変性生成物を与える式（３）で表される化合物であり、末端アルケニル基を有するエポキシ基含有イソシアヌレートが式（４）で表される化合物である請求項１記載の製造方法。
   

   

   （式（１）〜（４）中、Ａ′は末端アルケニル基であり、Ｒは独立的にアルキル基またはアリール基であり、Ｒ１及びＲ２は独立的にエポキシ基含有有機基、アルキル基またはアリール基であるが、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方がエポキシ基含有有機基であり、ｎは１〜４０の整数である。）
3. 式（１）のハイドロジェンポリシロキサンと式（４）のエポキシ基含有イソシアヌレートとを反応させ、式（Ａ）のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを得る請求項１記載の製造方法。
   

   

   （式中、Ａは、Ａ′に対応した２価の炭化水素基である。）
4. 式（２）のハイドロジェンポリシロキサンと式（４）のエポキシ基含有イソシアヌレートとを反応させ、式（Ｂ）のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを得る請求項１記載の製造方法。
   

   

   （式中、Ａは、Ａ′に対応した２価の炭化水素基である。）
5. 式（３）のハイドロジェンポリシロキサンと式（４）のエポキシ基含有イソシアヌレートとを反応させ、式（Ｃ）のエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンを得る請求項１記載の製造方法。
   

   

   （式中、Ａは、Ａ′に対応した２価の炭化水素基である。）
6. Ｒがメチル基であり、Ｒ１及びＲ２がグリシジル基であり、Ａ′がアリル基であり、Ａがトリメチレン基である請求項２〜５のいずれかに記載の製造方法。
7. 熱硬化性化合物として請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法により得られたエポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサンと、エポキシ樹脂用硬化剤とを含有する熱硬化性樹脂組成物に、導電粒子及び光反射性絶縁粒子が分散している光反射性異方性導電接着剤。
8. 熱硬化性樹脂組成物が、エポキシ基含有イソシアヌリル変性ポリシロキサン１００質量部に対し、エポキシ樹脂用硬化剤を５０〜１２０質量部含有する請求項７記載の光反射性異方性導電接着剤。
9. エポキシ樹脂用硬化剤が、酸無水物系硬化剤である請求項７または８記載の光反射性異方性導電接着剤。
10. 熱硬化性樹脂組成物が、更にイミダゾール系硬化促進剤を含有する請求項９記載の光反射性異方性導電接着剤。
11. 熱硬化性樹脂組成物が、酸無水物系硬化剤１００質量部に対し、イミダゾール系硬化促進剤を０．２０〜２．００質量部含有する請求項１０記載の光反射性異方性導電接着剤。
12. 光反射性絶縁粒子が、酸化チタン、窒化ホウ素、酸化亜鉛及び酸化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも一種の無機粒子である請求項７〜１１のいずれかに記載の光反射性異方性導電接着剤。
13. 光反射性絶縁粒子の屈折率（ＪＩＳ Ｋ７１４２）が、熱硬化性樹脂組成物の硬化物の屈折率（ＪＩＳ Ｋ７１４２）よりも大きい請求項７〜１２のいずれかに記載の光反射性異方性導電接着剤。
14. 光反射性絶縁粒子が、鱗片状又は球状銀粒子の表面を絶縁性樹脂で被覆した樹脂被覆金属粒子である請求項７〜１３のいずれかに記載の光反射性異方性導電接着剤。
15. 光反射性異方性導電接着剤が、光反射性絶縁粒子を１〜５０体積％で含有している請求項７〜１４のいずれかに記載の光反射性異方性導電接着剤。
16. 導電粒子が、金属材料で被覆されているコア粒子と、その表面に酸化チタン粒子、窒化ホウ素粒子、酸化亜鉛粒子又は酸化アルミニウム粒子から選択された少なくとも一種の無機粒子から形成された光反射層とからなる光反射性導電粒子である請求項７〜１５のいずれかに記載の光反射性異方性導電接着剤。
17. 熱硬化性樹脂組成物１００質量部に対する光反射性導電粒子の配合量が、１〜１００質量部である請求項１６記載の光反射性異方性導電接着剤。
18. 請求項７〜１７のいずれかに記載の光反射性異方性導電接着剤を介して、発光素子がフリップチップ方式で配線板に実装されている発光装置。
19. 発光素子が、発光ダイオードである請求項１８記載の発光装置。

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