JP2015075399A - 電子デバイス、電子機器、及びセンサシステム - Google Patents

電子デバイス、電子機器、及びセンサシステム Download PDF

Info

Publication number
JP2015075399A
JP2015075399A JP2013211905A JP2013211905A JP2015075399A JP 2015075399 A JP2015075399 A JP 2015075399A JP 2013211905 A JP2013211905 A JP 2013211905A JP 2013211905 A JP2013211905 A JP 2013211905A JP 2015075399 A JP2015075399 A JP 2015075399A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
electronic device
electrode
information
sound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013211905A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6179330B2 (ja
Inventor
壷井 修
Osamu Tsuboi
修 壷井
育生 曽我
Ikuo Soga
育生 曽我
悟覚 ▲高▼馬
悟覚 ▲高▼馬
Norinao Koma
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP2013211905A priority Critical patent/JP6179330B2/ja
Publication of JP2015075399A publication Critical patent/JP2015075399A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6179330B2 publication Critical patent/JP6179330B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electrostatic, Electromagnetic, Magneto- Strictive, And Variable-Resistance Transducers (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Abstract

【課題】電子デバイス、電子機器、及びセンサシステムにおいて、一つの電子デバイスにマイクロフォンとガスセンサの両方の機能を設けること。【解決手段】マイクロフォンMの振動電極2と、振動電極2に対向し、外気が流通する孔5aを備えたマイクロフォンMの固定電極5と、振動電極2と固定電極5との間に設けられたガス検知電極4とを有することを特徴とする電子デバイス10による。【選択図】図1

Description

本発明は、電子デバイス、電子機器、及びセンサシステムに関する。
環境中に複数のセンサを敷設してなるセンサシステムにおいては、各センサにより環境の様々な情報を取得し、それらの情報に基づいてユーザが環境についての様々な知見を得ることができる。
センサシステムで使用し得るセンサとしては様々な種類のものがある。例えば、センサとしてマイクロフォンを使用すると環境中の音を測定することができる。また、センサとしてガスセンサを使用すれば、環境中にどのようなガスが含まれているのかが分かる。
これらのセンサは、音の測定やガスの測定等のように単一の機能のみを備えたものが多いが、これではユーザの便宜に資することができない。
特表2011−514505公報
電子デバイス、電子機器、及びセンサシステムにおいて、一つの電子デバイスにマイクロフォンとガスセンサの両方の機能を設けることを目的とする。
以下の開示の一観点によれば、マイクロフォンの振動電極と、前記振動電極に対向し、外気が流通する孔を備えた前記マイクロフォンの固定電極と、前記振動電極と前記固定電極との間に設けられたガス検知電極とを有する電子デバイスが提供される。
また、その開示の別の観点によれば、音とガスを検知して、音に係る第1の音情報とガスに係る第1のガス情報とを出力する第1の電子デバイスと、音とガスを検知して、音に係る第2の音情報とガスに関する第2のガス情報とを出力する第2の電子デバイスと、前記第1の音情報と前記第2の音情報との差を求めることにより、前記1の音情報と前記第2の音情報の各々に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルする第1のノイズキャンセル回路と、前記第1のガス情報と前記第2のガス情報との差を求めることにより、前記1のガス情報と前記第2のガス情報の各々に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルする第2のノイズキャンセル回路とを有する電子機器が提供される。
更に、その開示の他の観点によれば、発電素子と、前記発電素子で発電された電力で駆動して環境に係る情報を取得する電子デバイスと、前記情報を送信する送信回路とを備えた電子ユニットを複数有し、前記電子デバイスが、マイクロフォンの振動電極と、前記振動電極に対向し、外気が流通する孔を備えた前記マイクロフォンの固定電極と、前記振動電極と前記固定電極との間に設けられたガス検知電極とを有するセンサシステムが提供される。
以下の開示によれば、マイクロフォンの振動電極と固定電極との間の隙間を活用し、その隙間にガス検知電極を設けることで、マイクロフォンとガスセンサの両方の機能を兼ね備えた新規な電子デバイスと提供することができる。
図1は、第1実施形態に係る電子デバイスの分解斜視図である。 図2は、第1実施形態に係る電子デバイスの上面図である。 図3は、第1実施形態に係る電子デバイスが備えるスペーサの一部断面平面図である。 図4は、第1実施形態に係る電子デバイスが備える本体の上面図である。 図5(a)、(b)は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その1)である。 図6(a)、(b)は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その2)である。 図7(a)、(b)は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その3)である。 図8(a)、(b)は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その4)である。 図9(a)、(b)は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その5)である。 図10(a)、(b)は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その6)である。 図11(a)、(b)は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その7)である。 図12は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その8)である。 図13は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その9)である。 図14は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その10)である。 図15は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その11)である。 図16は、第1実施形態に係る電子デバイスの製造途中の断面図(その12)である。 図17は、第2実施形態に係る電子デバイスの分解斜視図である。 図18は、第3実施形態に係る電子デバイスの分解斜視図である。 図19は、第4実施形態に係る電子デバイスの分解斜視図である。 図20は、第5実施形態の第1例に係る電子機器の模式図である。 図21は、第5実施形態の各例に係る電子機器の回路図である。 図22は、第5実施形態の第2例に係る電子機器の模式図である。 図23は、第5実施形態の第3例に係る電子機器について説明するための模式図である。 図24(a)、(b)は、第6実施形態に係る電子ユニットの製造途中の断面図(その1)である。 図25(a)、(b)は、第6実施形態に係る電子ユニットの製造途中の断面図(その2)である。 図26(a)、(b)は、第6実施形態に係る電子ユニットの製造途中の断面図(その3)である。 図27は、第7実施形態に係るセンサシステムの機能ブロック図である。 図28は、第7実施形態に係るセンサシステムが備える第2の子機の機能ブロック図である。 図29は、第7実施形態における子機の敷設例について示す模式図である。 図30は、第7実施形態における子機の別の敷設例について示す模式図である。 図31は、第7実施形態における子機の更に別の敷設例について示す模式図である。
前述のように、センサシステムで使用し得るセンサとしては、マイクロフォンやガスセンサがある。このうち、マイクロフォンは、火災時の音や電話で通話しているときなどの音声等を取得するのに使用し得る。一方、ガスセンサは、火災の原因となるガス漏れや、飲酒チェック、口臭チェック、及び疾病検知等に使用し得る。
ユーザの便宜に資するには、これらマイクロフォンとガスセンサの両方の機能を備えたセンサを提供するのが好ましい。但し、市場に流通しているマイクロフォンとガスセンサは、それらの大きさや消費電力が異なるため、単純にそれらを組み合わせて一つの電子デバイスとするのが難しい。
以下に、マイクロフォンとガスセンサの各々の機能を備えた電子デバイスについて説明する。
(第1実施形態)
図1は、第1実施形態に係る電子デバイスの分解斜視図である。
この電子デバイス10は、マイクロフォンとガスセンサの両方の機能を有しており、第1のキャビティ1aが形成された本体1を有する。
本体1は、例えばMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術によりシリコン基板を加工してなり、第1のキャビティ1aの開口端1bには振動電極2が形成される。振動電極2は、その主面方向に振動可能な導電性薄膜であって、その材料としてはAuやAl等の金属を採用し得る。なお、Si等の半導体に不純物を導入して導電性を高めた材料を振動電極2の材料として採用してもよい。
また、第1のキャビティ1aは振動電極2によって塞がれており、第1のキャビティ1a内には窒素が充填される。
振動電極2の上にはスペーサ3が設けられる。スペーサ3は、平面視でリング状の内面を有し、前述の振動電極2と協働して第2のキャビティ3aを形成する。また、スペーサ3は、本体1と同様にシリコン基板を加工して作製し得る。
そのスペーサ3の内面にはガス検知電極4が設けられる。
ガス検知電極4は、スペーサ3の内面に薄膜状に形成され、その材料としてはSnO、ZnO、WO3、TiO2、In2O3、CuO、及びNiOのいずれかの金属酸化物を含む半導体材料を採用し得る。なお、これらの金属酸化物に代えて、カーボンナノチューブ、InPナノロッド、Seナノワイヤ、及びTeナノワイヤ等のナノ材料半導体を使用してもよい。更に、Si、GaN、GaAs、及びInP等の単結晶半導体又は多結晶半導体をガス検知電極4の材料として採用してもよい。
また、スペーサ3には、上記のガス検知電極4を加熱するためのヒータ7が設けられる。ヒータ7は、抵抗加熱型のヒータであって、例えばチタン膜とプラチナ膜とをこの順に積層することで形成される。
更に、ヒータ7の横のスペーサ3には断熱構造として空洞3bが設けられる。空洞3bは、ヒータ7の熱を遮断することにより、ヒータ7の熱がスペーサ3全体に広がるのを防止する役割を担う。
また、スペーサ3の上には、第2のキャビティ3aの一部を画定する固定電極5が設けられる。固定電極5は前述の振動電極2と対向しており、振動電極2と固定電極5とによりコンデンサ型マイクロフォンMが形成される。
固定電極5には、第2のキャビティ3aと外部との間で外気を流通させる複数の孔5aが形成される。
固定電極5の材料は特に限定されない。振動電極2と同様に、AuやAl等の金属で固定電極5を形成してもよいし、Si等の半導体に不純物を導入して導電性を高めた材料で固定電極5を形成してもよい。
固定電極5の上には蓋体6設けられる。蓋体6は、シリコン基板を加工することで作製され、固定電極5の孔5aの各々に繋がる複数の貫通孔6aを有する。
次に、この電子デバイス10の平面構造について、図2〜図4を参照しながら説明する。
図2は、電子デバイス10の上面図である。
図2に示すように、上記の貫通孔6aの周囲の蓋体6には、第1及び第2の引出電極26z、26wと、第1及び第2の端子26x、26yとが設けられる。
このうち、第1の引出電極26zは振動電極2(図1参照)の電位を引き出すのに供され、第2の引出電極26wは固定電極5の電位を引き出すのに供される。
この例では、各引出電極26w、26zの電位差が、コンデンサ型マイクロフォンMで検知される音に係る音情報Ssとなる。
また、第1の端子26xはガス検知電極4に電流を供給するのに供され、その電流量が測定対象のガスに係るガス情報Sgとなる。
そして、第2の端子26yはヒータ7に電流を供給するのに供される。
図3は、上記したスペーサ3の一部断面平面図である。
図3に示すように、第2のキャビティ3aの輪郭は平面視で円形であって、その内側に前述のガス検知電極4が概略リング状に設けられる。
そして、そのガス検知電極4と略同心円をなすように、ヒータ7と空洞3bも概略リング状に設けられる。
また、スペーサ3の表面には、第1〜第3の下部導電パッド34x〜34zが設けられる。
このうち、第1の下部導電パッド34xは、前述のガス検知電極4と第1の端子26x(図2参照)とに電気的に接続される。そして、第2の下部導電パッド34yは、前述のヒータ7と第2の端子26y(図2参照)とに電気的に接続される。
更に、第3の下部導電パッド34zは、前述の第1の引出電極26z(図2参照)と電気的に接続される。
図4は、本体1の上面図である。
図4に示すように、本体1に設けられた第1のキャビティ1aは、第2のキャビティ3a(図3参照)と略同じ大きさの円形である。
再び図1を参照し、電子デバイス10の動作について説明する。
前述のように、電子デバイス10は、コンデンサ型マイクロフォンMとガスセンサの各々の機能を兼ね備える。
実使用下においては、電子デバイス10の外部の音波が孔5aを通じて第2のキャビティ3aに到達すると、その音波の強度や振動数に応じて振動電極2が振動し、振動電極2と固定電極5との間隔が変動する。これにより、振動電極2と固定電極5とで形成されるコンデンサの容量も変動するため、各電極2、5の電位差である前述の音情報Ssからその容量を求めることで、コンデンサ型マイクロフォンMで音波を検知することができる。
特に、この例では振動電極2で第1のキャビティ1aを塞いだため、キャビティ1a内が外部の音波から隔離され、振動電極2の表面と裏面との間で音圧の差が大きくなる。その結果、外部の音波によって振動電極2が大きく振動し、コンデンサ型マイクロフォンMの感度を高めることができる。
一方、ガスセンサはガス検知電極4により実現される。ガス検知電極4の材料である半導体は、その表面に特定の種類のガスが吸着すると、そのガスの濃度に応じて空乏層の厚さが変動して電気抵抗が変化する。このような抵抗変化により、ガス検知電極4を流れる電流量であるガス情報Sgが変化し、そのガス情報Sgに基づいてガスの濃度を検知することができる。
なお、常にガス検知電極4に電流を流す必要ななく、ガスの濃度を測定するときのみガス検知電極4に電流を流してもよい。
更に、ガス検知電極4の材料である半導体の組成比は特に限定されないが、測定対象のガスに対して敏感に抵抗が変化するように当該組成比を選定するのが好ましい。例えば、ガス検知電極4の材料がSnOやZnOの場合には、これらの材料に貴金属を添加すると共に、半導体における貴金属の組成比を調節することで、特定のガスに対してガス検知電極4の抵抗が大きく変化することができる。
また、本実施形態では、上記のようにガス検知電極4を加熱するためのヒータ7を設けたので、ガス検知電極4の表面に吸着したガス分子を脱離させることができ、ガス検知電極4に吸着するガス分子を適度な量に維持することができる。これにより、過度に多くのガス分子がガス検知電極4に吸着することが原因でガスの検知感度が低下するのを防止できる。
更に、スペーサ3に空洞3bを設けたことでヒータ7の熱がスペーサ3に無駄に拡散するのを防止できる。これにより、ヒータ7に供給する電流を抑制しながら効率的にガス検知電極4を加熱でき、ヒータ7の消費電力を低減することが可能となる。
以上説明したように、本実施形態によれば、マイクロフォンとガスセンサの両方の機能を兼ね備えた電子デバイス10を提供することができる。その電子デバイス10の使用用途は特に限定されない。例えば、マイクロフォンの機能を用いて、火災時の音や電話で通話しているときなどの音声等を取得するのに電子デバイス10を使用し得る。また、ガスセンサの機能により、火災の原因となるガス漏れや、飲酒チェック、口臭チェック、及び疾病検知等に電子デバイス10を使用し得る。
更に、その電子デバイス10においては、コンデンサ型マイクロフォンMの各電極2、5の間の隙間を活用し、その隙間にガスセンサ用のガス検知電極4を設けるので、電子デバイス10の大型化を避けることができる。
次に、本実施形態に係る電子デバイス10の製造方法について説明する。
図5〜図16は、本実施形態に係る電子デバイス10の製造途中の断面図である。
なお、これらの図においては、図2のI-I線断面、II-II線断面、及びIII-III線断面、IV-IV線断面を併記する。
最初に、図5〜図7を参照し、蓋体6の加工方法について説明する。
まず、図5(a)に示すように、蓋体6として厚さが100μm〜500μm程度のシリコン基板を用意し、その蓋体6の表面に第1の絶縁膜21として酸化シリコン膜を形成する。その第1の絶縁膜21はCVD法で形成してもよいし、蓋体6の表面を熱酸化して形成してもよい。
次に、図5(b)に示すように、第1の絶縁膜21の上に蒸着法により金膜を100nm〜1000nm程度の厚さに形成し、その金膜を固定電極5とする。なお、金膜に代えてアルミニウム膜を固定電極5として形成してもよいし、Si等の半導体に不純物を導入して導電性を高めてなる導電膜を固定電極5として形成してもよい。
次に、図6(a)に示すように、フォトリソグラフィとドライエッチングにより固定電極5をパターニングする。これにより、I-I線断面に現れる固定電極5には複数の孔5aが形成される。そして、II-II線断面には第1及び第2の上部導電パッド5x、5yが形成され、IV-IV線断面には第3の上部導電パッド5zが形成される。なお、これらの上部導電パッド5x〜5zは、上記のパターニングによって固定電極5とは電気的に隔離される。
一方、III-III線断面には、上記の固定電極5に繋がる引出部5wが形成される。
なお、本工程で使用されるエッチングガスは特に限定されないが、固定電極5としてアルミニウム膜を形成する場合には、そのエッチングガスとして塩素ガスを含むガスを使用し得る。
次に、図6(b)に示すように、固定電極5とは反対側から蓋体6と第1の絶縁膜21とをドライエッチングし、複数の孔5aの各々の上に複数の貫通孔6aを蓋体6に形成する。
なお、このドライエッチングでは、第1〜第3の上部導電パッド5x〜5zと引出部5wの各々の上の蓋体6に第1のコンタクトホール6bが形成される。
また、このドライエッチングで使用するエッチングガスとしては、例えば、蓋体6用のエッチングガスとしてはSF6ガスとC4F8ガスとの混合ガスがあり、第1の絶縁膜21用のエッチングガスとしてはCF4ガスがある。
続いて、図7(a)に示すように、蓋体6の上側全面、貫通孔6a、及び第1のコンタクトホール6bの各々の内面に第2の絶縁膜25としてCVD法で酸化シリコン膜を形成する。
なお、この第2の絶縁膜25は、第1のコンタクトホール6b内に露出する部分の第1〜第3の上部導電パッド5x〜5zや引出部5wにも形成されるが、当該部分の第2の絶縁膜25はドライエッチングにより除去される。
次に、図7(b)に示すように、第1のコンタクトホール6b内と第2の絶縁膜25の上に蒸着法等により金膜を形成した後、リフトオフ法等でその金膜をパターニングする。これにより、第1の上部導電パッド5xと第2の上部導電パッド5yの上に、それぞれ第1の端子26xと第2の端子26yが形成される。そして、第3の上部導電パッド5zの上には第1の引出電極26zが形成され、引出部5wの上には第2の引出電極26wが形成される。
以上により、蓋体6に対する加工を終了する。
次に、図8〜図12を参照しながら、スペーサ3の加工について説明する。
まず、図8(a)に示すように、スペーサ3として厚さが100μm〜500μm程度のシリコン基板を用意する。
次いで、図8(b)に示すように、不図示のレジスト膜をマスクにしてスペーサ3を途中の深さまでドライエッチングすることにより、スペーサ3に第1の溝3xと第2の溝3yを形成する。そのドライエッチングで使用するエッチングガスとしては、例えば、SF6ガスとC4F8ガスとの混合ガスがある。
続いて、図9(a)に示すように、上記の各溝3x、3yを形成した側のスペーサ3の表面に第3の絶縁膜31を形成し、各溝3x、3yを形成した側とは反対側のスペーサ3の表面に第4の絶縁膜32を形成する。
第3の絶縁膜31と第4の絶縁膜32として、例えば、CVD法により酸化シリコン膜を形成し得る。
次いで、図9(b)に示すように、第1の溝3xにヒータ7としてチタン膜とプラチナ膜とをこの順にスパッタ法等で形成し、第2の溝3yにガス検知電極4として例えばSnO膜をスパッタ法で形成する。なお、ヒータ7として、チタン膜とタングステン膜をこの順に形成してもよい。
また、これらのヒータ7やガス検知電極4は、リフトオフ法等によりパターニングされて各溝3x、3y内のみに選択的に形成される。
続いて、図10(a)に示すように、第4の絶縁膜32の上に振動電極2として蒸着法により金膜を100nm〜1000nm程度の厚さに形成する。なお、Si等の半導体に不純物を導入して導電性を高めてなる導電膜や、アルミニウム膜等の金属膜を振動電極2として形成してもよい。
次に、図10(b)に示すように、不図示のレジスト膜をマスクにしながら、スペーサ3と各絶縁膜31、32をドライエッチングする。これにより、スペーサ3に第2のキャビティ3aが形成され、その第2のキャビティ3a内にガス検知電極4が表出する。
なお、そのドライエッチングでは、ヒータ7の横のスペーサ3もエッチングされて空洞3bが形成される。また、IV-IV線断面においては、振動電極2に至る深さの第2のコンタクトホール3zが形成される。
本工程で使用し得るエッチングガスとしては、例えば、スペーサ3用のエッチングガスとしてはSF6ガスとC4F8ガスとの混合ガスがあり、第3の絶縁膜31用のエッチングガスとしてはCF4ガスがある。
次いで、図11(a)に示すように、IV-IV線断面における第3の絶縁膜31の上と第2のコンタクトホール3z内とに第5の絶縁膜33としてCVD法で酸化シリコン膜を形成する。
その後、第5の絶縁膜33をエッチバックすることにより、第2のコンタクトホール3zの内面のみに第5の絶縁膜33を残す。
次に、図11(b)に示すように、第3の絶縁膜31の上に金膜を形成し、リフトオフ法等によりその金膜をパターニングする。これにより、II-II線断面においては、ガス検知電極4とヒータ7の各々の上に第1の下部導電パッド34xと第2の下部導電パッド34yが形成される。そして、IV-IV線断面においては、第2のコンタクトホール3z内とその周囲の第3の絶縁膜31上に第3の下部導電パッド34zが形成される。
その後に、図12に示すように、スペーサ3の上側全面に第6の絶縁膜36としてCVD法で酸化シリコン膜を形成し、更にリフトオフ法でその第6の絶縁膜36をパターニングして各下部導電パッド34x〜34zの上から第6の絶縁膜36を除去する。
以上により、スペーサ3に対する加工を終了する。
次に、図13〜図14を参照しながら、本体1の加工について説明する。
まず、図13に示すように、本体1としてシリコン基板を用意する。そのシリコン基板の厚さは特に限定されないが、この例ではその厚さを100μm〜500μmとする。
そして、その本体1の表面にCVD法等で第7の絶縁膜37として酸化シリコン膜を形成する。
次いで、図14に示すように、不図示のレジスト膜をマスクにしながら、本体1と第7の絶縁膜37とをドライエッチングすることにより、本体1に第1のキャビティ1aを形成する。
そのドライエッチングでは、第7の絶縁膜37のエッチングガスとしてCF4ガスを使用し、本体1のエッチングガスとしてはSF6ガスとC4F8ガスとの混合ガスを使用し得る。
以上により、本体1に対する加工を終了する。
この後は、上記のように加工した本体1、スペーサ3、及び蓋体6を積層する工程に移る。
まず、図15に示すように、上記の本体1、スペーサ3、及び蓋体6をこの順に配する。
次いで、図16に示すように、本体1、スペーサ3、及び蓋体6を張り合わせる。張り合わせの手法としては、例えば、直接接合法、陽極接合法、及び接着剤を用いた接着等がある。
また、このように張り合わせた結果、II-II線断面においては、第1の下部導電パッド34xと第1の上部導電パッド5xとが接続され、かつ、第2の下部導電パッド34yと第2の上部導電パッド5yとが接続される。
そして、IV-IV線断面においては、第3の下部導電パッド34zと第3の上部導電パッド5zとが接続される。
以上により、本実施形態に係る電子デバイス10の基本構造が完成する。
このようにして製造された電子デバイス10においては、第1の端子26xを介してガス検知電極4に電流を供給できると共に、第2の端子26yを介してヒータ7に電流を供給できる。
更に、第1の引出電極26zを介して振動電極2の電圧を取得でき、第2の引出電極26wを介して固定電極5の電圧を取得できるため、これらの引出電極26z、26wの電位差に基づいてコンデンサ型マイクロフォンMの容量を測定できる。
(第2実施形態)
第1実施形態では、図1に示したように、ガス検知電極4とヒータ7の各々をスペーサ3に設けた。ガス検知電極4とヒータ7を設ける部位はこれに限定されない。
図17は、本実施形態に係る電子デバイスの分解斜視図である。
なお、図17において、第1実施形態で説明したのと同じ要素には第1実施形態におけるのと同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
図17に示すように、本実施形態に係る電子デバイス40においては、振動電極2の上下にガス検知電極4とヒータ7とを設ける。なお、振動電極2の下のヒータ7の熱が本体1に広がるのを防止するために、そのヒータ7の横の本体1に断熱機構として空洞1cを設けるのが好ましい。
更に、振動電極2の上下の二つのガス検知電極4の各々は、同種のガスを検出するためにその材料である半導体の組成比が同一にされる。
そして、振動電極2の下に設けられたガス検知電極4は、第1のキャビティ1a内に露出してバクグラウンドノイズを検知する。一方、振動電極2の上に設けられたガス検知電極4は、第1実施形態と同様に環境中のガスを検知する。
これによれば、上下の二つのガス検知電極4を流れる電流のうち一方を第1のガス情報Sg1とし、他方を第2のガス情報Sg2として、両者の差(Sg2−Sg1)をとることでバックグラウンドノイズをキャンセルし、環境中のガスを高い感度で検知できる。
(第3実施形態)
第1実施形態と第2実施形態では、ガス検知電極4を加熱するためにヒータ7を設けた。本実施形態では、そのヒータ7に代えて以下のような光源を用いる。
図18は、本実施形態に係る電子デバイスの分解斜視図である。なお、図18において、第1実施形態や第2実施形態で説明したのと同じ要素にはこれらにおけるのと同じ符号を付し、以下ではその説明を省略する。
図18に示すように、この電子デバイス43においては、第2のキャビティ3a内に光源44を設ける。光源44は、ガス検知電極4の表面に紫外線を照射するLED (Light Emitting Diode)であって、固定電極5の表面に接着剤等で固着される。
このようにガス検知電極4に紫外線を照射することで、ガス検知電極4の表面に吸着したガス分子を脱離させることができ、ガス検知電極4に適度な量のガス分子を吸着させることができる。これにより、過度に多くのガス分子がガス検知電極4に吸着することが原因でガスの検知感度が低下するのを防止できる。
なお、光源44が生成する紫外線の波長は特に限定されないが、ガス検知電極4の半導体材料のバンドギャップに相当する波長以下の紫外線を光源44で生成するのが好ましい。
例えば、ガス検知電極4の材料としてSnOやZnOを用いる場合、これらの材料のバンドギャップ(3.2eV)に相当する365nmの波長の紫外線を発光するInGaN-LEDを光源44として用いるのが好ましい。
これにより、ガス検知電極4の価電子帯にある電子が紫外線によって伝導帯に移り易くなり、その電子によってガス検知電極4からガス分子を脱離させることが容易となる。
なお、本実施形態では電子デバイス43にヒータ7(図1参照)を設けないため、ヒータ7の熱が拡散するのを防止するための空洞3bをスペース3に形成する必要はない。
(第4実施形態)
第1〜第3実施形態では、ガス検知電極4からガス分子を脱離させるためにヒータ7(図1参照)や光源44(図18参照)を用いた。ガス検知電極4によって十分な感度でガスを検出できる場合には、本実施形態のようにヒータ7や光源44を省いてもよい。
図19は、実施形態に係る電子デバイスの分解斜視図である。
図19に示すように、本実施形態に係る電子デバイス45には前述のヒータ7と光源44が設けられていない。これにより、ヒータ7や光源44を設ける場合と比較して電子デバイス34の製造工程を簡略化することができる。
(第5実施形態)
本実施形態では第1実施形態で説明した電子デバイス10の適用例について説明する。なお、以下では電子デバイス10を例にして説明するが、電子デバイス10に代えて第2〜第4実施形態で説明した各電子デバイス40、43、45を用いてもよい。
・第1例
図20は、本実施形態の第1例に係る電子機器の模式図である。
この電子機器50は、受話器50aと本体50bとを備えた電話機であって、受話器50aと本体50bにそれぞれ第1の電子デバイス51と第2の電子デバイス52とが設けられる。
第1の電子デバイス51と第2の電子デバイス52は、例えば第1実施形態で説明した電子デバイス10であって、ガスセンサとマイクロフォンの両方の機能を兼ね備える。
図21は、この電子機器50の回路図である。
図21に示すように、電子機器50は、上記の第1の電子デバイス51と第2の電子デバイス52と共に、第1のノイズキャンセル回路55と第2のノイズキャンセル回路56とを有する。
第1の電子デバイス51は、環境中の音に係る第1の音情報Ss1とガスに係る第1のガス情報Sg1とを出力する。同様に、第2の電子デバイス52は、環境中の音に係る第2の音情報Ss2とガスに係る第2のガス情報Sg2とを出力する。
そして、第1のノイズキャンセル回路55は、上記の各音情報Ss1、Ss2の差Ss2−Ss1を求めることにより、各音情報Ss1、Ss2に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルし、その差Ss2−Ss1を音声信号として電話回線に送出する。
一方、第2のノイズキャンセル回路56は、上記の各ガス情報Sg1、Sg2の差Sg2−Sg1を求めることにより、各ガス情報Sg1、Sg2に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルする。
このようにノイズ成分をキャンセルすることで、本実施形態ではノイズが低減されたクリアな音声を電話回線に送出することができ、電話機の通話品質を向上させることができる。
また、受話器50aに設けた第1の電子デバイス51により、通話時のユーザの口臭をモニタすることができ、ユーザに対して口臭エチケットについて注意喚起をすることもできる。
なお、この例ではノイズ成分をキャンセルするために第1の電子デバイス51と第2の電子デバイス52を対にして使用したが、ノイズが問題にならない場合には、第1の電子デバイス51のみを受話器50aに設けてもよい。
また、電子機器50は固定電話機に限定されず、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ、及びヘッドマウントディスプレイのいずれかを電子機器50として用いてもよい。
・第2例
図22は、本実施形態の第2例に係る電子機器の模式図である。
この電子機器60は、建物内に設けられた火災報知器やガス漏れ探知器であって、第1例と同様に第1の電子デバイス51と第2の電子デバイス52とを有する。
また、各電子デバイス51、52から出力された各音情報Ss1、Ss2と各ガス情報Sg1、Sg2は、第1例と同様にノイズキャンセル回路(図21参照)に入力され、ノイズ成分がキャンセルされた各信号Sg2−Sg1、Ss2−Ss1が得られる。
本実施形態では、音情報の差(Ss2−Ss1)に基づいて、火災燃焼音や建物内への不審者の侵入音を検知できる。そして、ガス情報の差(Sg2−Sg1)に基づいて、火災時に発生する水素や一酸化炭素等のようなガスを検知することもできる。
なお、第1例と同様に、ノイズ成分が問題にならない場合には、第1の電子デバイス51と第2の電子デバイスのいずれか一方のみを電子機器60に設けてもよい。
・第3例
図23は、本実施形態の第3例に係る電子機器について説明するための模式図である。
本実施形態では、図23に示すように、自動車の車内における電子機器に、第1例で説明した第1の電子デバイス51と第2の電子デバイス52を設ける。
これらの電子デバイス51を設ける部位は特に限定されないが、この例ではハンドル61に第1の電子デバイス51を設け、ハンドル61から離れたダッシュボード62に第2の電子デバイス52を設ける。
各電子デバイス51、52から出力された各音情報Ss1、Ss2と各ガス情報Sg1、Sg2は、第1例と同様にノイズキャンセル回路(図21参照)に入力され、ノイズ成分がキャンセルされた各信号Sg2−Sg1、Ss2−Ss1が得られる。
本実施形態では、音情報の差(Sg2−Sg1)に基づいて車内の騒音を検知することで、車内音響がその騒音に邪魔されずに心地よく聞こえるようにオーディオ機器を調節することができる。
更に、ガス情報の差(Sg2−Sg1)に基づいて運転手の呼気にアルコールが含まれているかどうかを検出することができ、運転手に対して飲酒運転の注意喚起をすることができる。
なお、第1例や第2例と同様に、ノイズ成分が問題にならない場合には、第1の電子デバイス51と第2の電子デバイスのいずれか一方のみを車内に設けてもよい。
(第6実施形態)
本実施形態では、第1実施形態で説明した電子デバイス10と発電素子とを混載してなる電子ユニットについて、その製造方法を追いながら説明する。
図24〜図26は、本実施形態に係る電子ユニットの製造途中の断面図である。
まず、図24(a)に示すように、シリコン基板やガラス基板等の仮固定基板71の上に接着層72を形成する。接着層72としては、加熱や紫外線照射によって接着力が低下する接着シートを使用し得る。
そして、その接着層72の上に、各引出電極26w、26zを下側にして電子デバイス10を接着する。更に、その電子デバイス10と共に、二次電池73、発電素子75、及び回路素子83も接着層72に接着する。
これらのうち、二次電池73は、例えば全固体二次電池であって、正極73aと負極73bとを有する。
また、発電素子75は、例えば熱電変換素子であって、温度差が付与される第1の電極76と第2の電極77とを有し、これらの電極の間にn型半導体79とp型半導体80とが交互に配される。この例では、各電極のうち第1の電極76を接着層52に接着する。
一方、回路素子83は、無線送信機能を備えたMPU (Micro Processing Unit)等の演算ユニットである。
次に、図24(b)に示すように、熱硬化性のエポキシ樹脂等を材料とする樹脂層85により、上記の電子デバイス10、二次電池73、発電素子75、及び回路素子83を覆う。その後、樹脂層85を加熱して熱硬化させる。
続いて、図25(a)に示すように、樹脂層85の上面を研削又は研磨することにより、発電素子75の第2の電極77を樹脂層85から露出させる。
そして、図25(b)に示すように、加熱や紫外線照射によって接着層72の接着力を弱めた後、仮固定基板71から樹脂層85を剥離する。これにより、樹脂層85の下面85xに、電子デバイス10の各引出電極26w、26zが露出する。また、二次電池73の正極73aと負極73b、発電素子75の第1の電極76、及び回路素子83の各々も、下面85x側に露出する。
続いて、図26(a)に示すように、樹脂層85の下面85x側にシード層として不図示の無電解銅めっき膜を形成した後、そのシード層の上に導電層87として電解めっきで銅めっき膜を形成する。導電層87の厚さは特に限定されないが、その導電層87から形成される配線層を微細化するためになるべく薄い厚さに導電層87を形成するのが好ましく、本実施形態では0.1μm〜1μm程度の厚さに導電層87を形成する。
次に、図26(b)に示すように、不図示のレジスト膜をマスクにするドライエッチングで導電層87をパターニングすることにより配線層87aを形成する。
その配線層87aは、電子デバイス10、二次電池73、発電素子75、及び回路素子83の各々を所定の回路パターンで互いに電気的に接続する。
以上により、本実施形態に係る電子ユニット90の基本構造が完成する。
この電子ユニット90においては、発電素子75で発電された電力が二次電池73に蓄えられ、その二次電池73の電力によって電子デバイス10や回路素子83が駆動する。これにより、環境中の熱から得られた電力によって電子デバイス10がその環境中の音やガス等を検知することができるようになる。
なお、電子ユニット90の大きさは特に限定されないが、小型化と低コスト化の観点からこの例では電子ユニット90の長さLを1cm以下にすると共に、樹脂層85の表面85xの表面積を1cm2以下とする。
また、上記では電子ユニット90に第1実施形態に係る電子デバイス10を設けたが、これに代えて第2〜第4実施形態に係る電子デバイス40、43、45のいずれかを電子ユニット90に設けてもよい。
(第7実施形態)
本実施形態では、第6実施形態で説明した電子ユニット90を利用したセンサシステムについて説明する。
図27は、本実施形態に係るセンサシステムの機能ブロック図である。
図27に示すように、このセンサシステム105は、複数の第1の子機106と、親機130と、サーバ140とを有する。
これらのうち、第1の子機106としては、例えば第6実施形態の電子ユニット90(図26(b)参照)を使用し得る。第1の子機106は、前述の電子デバイス10、二次電池73、発電素子75、電力制御回路110、演算素子111、送信回路112、受信回路115、及びアンテナ113を有する。
電力制御回路110、演算素子111、送信回路112、及び受信回路115の各々は、第6実施形態の回路素子83(図26(b)参照)の一例であって、二次電池73や発電素子75と共に樹脂層85で封止される。
電力制御回路110は、発電素子75で発電された電力で二次電池73を充電したり、二次電池73を放電してその電力を演算素子111に供給する充放電コントローラとしての機能を有する。
なお、電力制御回路110、演算素子111、送信回路112、及びアンテナ113、及び受信回路115は、上記の二次電池73から得られた電力を動力源として駆動する。
また、電子デバイス10は、環境中における音とガスとを検知し、その検出結果を音情報Ssやガス情報Sgとして出力する。
演算素子111は、例えば上記の音情報Ssやガス情報Sgをデジタル化して後段の送信回路112に出力する。なお、デジタル化された各情報Ss、Sgに対して演算素子111が暗号化を行ってもよい。
更に、演算素子111は、複数の第1の子機106の各々を識別するための識別子を各情報Ss、Sgに付与する機能も有する。
そして、演算素子111から各情報Ss、Sgを受けた送信回路112はそれらの情報Ss、Sgを無線変調してアンテナ113に出力し、アンテナ113から各情報Ss、Sgが無線送信される。
一方、親機130は、受信回路131、送信回路132、アンテナ133、記憶素子134、演算素子135、及び送受信回路136を有する。
アンテナ133は、子機106のアンテナ113から無線送信された各情報Ss、Sgを受信し、それらの情報Ss、Sgを後段の受信回路131に出力する。受信回路131は、無線変調されている各情報Ss、Sgを復調して演算素子135に出力する。
演算素子135は、暗号化されている各情報Ss、Sgを復号したり、子機106を識別するために各情報Ss、Sgに付与されている識別子に基づき、各情報Ss、Sgがどの子機106から無線送信されたものなのかを識別する。
なお、演算素子135が所定のタイミングで指示信号SIを生成し、その指示信号SIを送信回路132が無線変調してアンテナ133から無線送信するようにしてもよい。この場合は、演算素子111は、指示信号SIを受けたときのみ電子デバイス10から各情報Ss、Sgを取得することになる。
そして、演算素子135の制御下において、上記の識別子ごとに各情報Ss、Sgが記憶素子134に格納される。記憶素子134としては、DRAM (Dynamic Random Access Memory)、FeRAM (Ferroelectric Random Access Memory)、及びフラッシュメモリ等の任意の素子を使用し得る。
また、演算素子135は、所定のタイミングで記憶素子134から各情報Ss、Sgを取り出し、これらの情報Ss、Sgを送受信回路136に出力する。送受信回路136は、記憶素子134から得られた各情報Ss、Sgを所定の通信プロトコルでサーバ140に送信する。送信の形態は、無線でも有線でもよい。
サーバ140は、演算素子141、送受信回路142、記憶素子143、及び表示部144を有する。
このうち、送受信回路142は、親機130から送信された各情報Ss、Sgを受け、これらの情報Ss、Sgを演算素子141に出力する。
演算素子141は、保存のために各情報Ss、Sgを記憶素子143に格納したり、これらの情報Ss、Sgを適当な画像信号に変換してディスプレイ等の表示手段144に表示する。そして、ユーザは、表示手段144に表示された各情報Ss、Sg基づき、子機106が置かれている環境中におけるガスの濃度や音を知ることができる。
このようなセンサシステム105によれば、環境中の温度を利用して発電素子75が発電を行い、それにより得られた電力により電子デバイス10を駆動するエネルギ・ハーベストを実現することができる。
なお、上記した第1の子機106に代えて、図28に示すような第2の子機107を用いてもよい。
第2の子機107は、第1の子機106における受信回路115を省いたものであって、親機130の指示信号SIを受けずに自らの判断で電子デバイス10から各情報Ss、Sgを取得する。
更に、上記した第1の子機106と第2の子機107を混在させて環境中に敷設してもよい。
図29は、各子機106、107の敷設例について示す模式図である。
図29の例では、モータ等の機器150に複数の子機106、107を敷設する。この場合は、機器150の発熱を利用して発電素子75が発電を行い、その電力により各子機106、107が動作する。
そして、各子機106、107が備える電子デバイス10により、機器150から発生するガスや異音をモニタすることができ、機器150が正常に稼働しているか否かをユーザが判断することができる。その結果、機器150が故障に至る前に機器150の修理や交換等の対応をすることができる。
図30は、各子機106、107の別の敷設例について示す模式図である。
この例では、ビルや工場等の建物151に複数の子機106、107を敷設する。
この場合は、電子デバイス10が備えるマイクロフォンの機能を利用して、建物151内の異音をモニタすることができる。また、電子デバイス10のガスセンサの機能により建物151内の異臭等もモニタすることができる。
図31は、各子機106、107の更に別の敷設例について示す模式図である。
この例では、道路、橋、及びトンネル等の交通施設152に複数の子機106、107を敷設する。
この場合も、電子デバイス10のマイクロフォンやガスセンサの機能により、交通施設152の異音や異臭をモニタすることができる。
以上、各実施形態について詳細に説明したが、各実施形態は上記に限定されない。例えば、上記ではマイクロフォンM(図1参照)で環境の音を検知したが、大気圧を測る圧力センサとしてマイクロフォンMを用いてもよい。
以上説明した各実施形態に関し、更に以下の付記を開示する。
(付記1) マイクロフォンの振動電極と、
前記振動電極に対向し、外気が流通する孔を備えた前記マイクロフォンの固定電極と、
前記振動電極と前記固定電極との間に設けられたガス検知電極と、
を有することを特徴とする電子デバイス。
(付記2) 第1のキャビティを備えた本体を更に有し、
前記振動電極によって前記第1のキャビティが塞がれたことを特徴とする付記1に記載の電子デバイス。
(付記3) 前記ガス検知電極を加熱するヒータを更に有することを特徴とする付記1又は付記2に記載の電子デバイス。
(付記4) 前記振動電極と前記固定電極との間に設けられ、前記振動電極及び前記固定電極と協働して第2のキャビティを形成するスペーサを更に有し、
前記第2のキャビティに前記ガス検知電極が表出し、
前記スペーサに、前記ヒータの熱を遮断する断熱構造が設けられたことを特徴とする付記3に記載の電子デバイス。
(付記5) 前記断熱構造は、前記スペーサに設けられた空洞であることを特徴とする付記4に記載の電子デバイス。
(付記6) 前記ガス検知電極の表面に紫外線を照射する光源を更に有することを特徴とする付記1又は付記2に記載の電子デバイス。
(付記7) 前記第1のキャビティにも前記ガス検知電極が設けられたことを特徴とする付記2に記載の電子デバイス。
(付記8) 音とガスを検知して、音に係る第1の音情報とガスに係る第1のガス情報とを出力する第1の電子デバイスと、
音とガスを検知して、音に係る第2の音情報とガスに関する第2のガス情報とを出力する第2の電子デバイスと、
前記第1の音情報と前記第2の音情報との差を求めることにより、前記1の音情報と前記第2の音情報の各々に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルする第1のノイズキャンセル回路と、
前記第1のガス情報と前記第2のガス情報との差を求めることにより、前記1のガス情報と前記第2のガス情報の各々に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルする第2のノイズキャンセル回路と、
を有することを特徴とする電子機器。
(付記9) 前記第1の電子デバイスと前記第2の電子デバイスの各々は、
マイクロフォンの振動電極と、
前記振動電極に対向し、外気が流通する孔を備えた前記マイクロフォンの固定電極と、
前記振動電極と前記固定電極との間に設けられたガス検知電極とを有することを特徴とする付記8に記載の電子機器。
(付記10) 前記第1の電子デバイスと前記第2の電子デバイスが、電話機、建物内、及び自動車のいずれかに設けられたことを特徴とする付記8又は付記9に記載の電子機器。
(付記11) 発電素子と、前記発電素子で発電された電力で駆動して環境に係る情報を取得する電子デバイスと、前記情報を送信する送信回路とを備えた電子ユニットを複数有し、
前記電子デバイスが、
マイクロフォンの振動電極と、
前記振動電極に対向し、外気が流通する孔を備えた前記マイクロフォンの固定電極と、
前記振動電極と前記固定電極との間に設けられたガス検知電極と、
を有することを特徴とするセンサシステム。
(付記12) 複数の前記電子ユニットの各々が、機器、建物、及び交通施設のいずれかに敷設されたことを特徴とする付記10に記載のセンサシステム。
1…本体、1a…第1のキャビティ、1b…開口端、2…振動電極、3…スペーサ、3a…第2のキャビティ、3b…空洞、3x、3y…第1及び第2の溝、4…ガス検知電極、5…固定電極、5a…孔、5x〜5z…第1〜第3の上部導電パッド、5w…引出部、6…蓋体、6a…貫通孔、6b…第1のコンタクトホール、7…ヒータ、10、40、43、45…電子デバイス、21…第1の絶縁膜、25…第2の絶縁膜、26x、26y…第1及び第2の端子、26z、26w…第1及び第2の引出電極、31…第3の絶縁膜、32…第4の絶縁膜、33…第5の絶縁膜、34x〜34z…第1〜第3の下部導電パッド、36…第6の絶縁膜、50、60…電子機器、50a…受話器、50b…本体、51…第1の電子デバイス、52…第2の電子デバイス、55…第1のノイズキャンセル回路、56…第2のノイズキャンセル回路、61…ハンドル、62…ダッシュボード、71…仮固定基板、72…接着層、73…二次電池、73a…正極、73b…負極、75…発電素子、76…第1の電極、77…第2の電極、79…n型半導体、80…p型半導体、83…回路素子、85…樹脂層、85x…下面、87…導電層、87a…配線層、90…電子ユニット、106…第1の子機、107…第2の子機、110…電力制御回路、111…演算素子、112…送信回路、115…受信回路、130…親機、131…受信回路、132…送信回路、133…アンテナ、134…記憶素子、135…演算素子、136…送受信回路、140…サーバ、141…演算素子、142…送受信回路、143…記憶素子、144…表示部、150…機器、151…建物、152…交通施設。

Claims (7)

  1. マイクロフォンの振動電極と、
    前記振動電極に対向し、外気が流通する孔を備えた前記マイクロフォンの固定電極と、
    前記振動電極と前記固定電極との間に設けられたガス検知電極と、
    を有することを特徴とする電子デバイス。
  2. 第1のキャビティを備えた本体を更に有し、
    前記振動電極によって前記第1のキャビティが塞がれたことを特徴とする請求項1に記載の電子デバイス。
  3. 前記ガス検知電極を加熱するヒータを更に有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電子デバイス。
  4. 前記振動電極と前記固定電極との間に設けられ、前記振動電極及び前記固定電極と協働して第2のキャビティを形成するスペーサを更に有し、
    前記第2のキャビティに前記ガス検知電極が表出し、
    前記スペーサに、前記ヒータの熱を遮断する断熱構造が設けられたことを特徴とする請求項2に記載の電子デバイス。
  5. 前記ガス検知電極の表面に紫外線を照射する光源を更に有することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電子デバイス。
  6. 音とガスを検知して、音に係る第1の音情報とガスに係る第1のガス情報とを出力する第1の電子デバイスと、
    音とガスを検知して、音に係る第2の音情報とガスに関する第2のガス情報とを出力する第2の電子デバイスと、
    前記第1の音情報と前記第2の音情報との差を求めることにより、前記1の音情報と前記第2の音情報の各々に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルする第1のノイズキャンセル回路と、
    前記第1のガス情報と前記第2のガス情報との差を求めることにより、前記1のガス情報と前記第2のガス情報の各々に共通に含まれるノイズ成分をキャンセルする第2のノイズキャンセル回路と、
    を有することを特徴とする電子機器。
  7. 発電素子と、前記発電素子で発電された電力で駆動して環境に係る情報を取得する電子デバイスと、前記情報を送信する送信回路とを備えた電子ユニットを複数有し、
    前記電子デバイスが、
    マイクロフォンの振動電極と、
    前記振動電極に対向し、外気が流通する孔を備えた前記マイクロフォンの固定電極と、
    前記振動電極と前記固定電極との間に設けられたガス検知電極と、
    を有することを特徴とするセンサシステム。
JP2013211905A 2013-10-09 2013-10-09 電子デバイス、及びセンサシステム Active JP6179330B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013211905A JP6179330B2 (ja) 2013-10-09 2013-10-09 電子デバイス、及びセンサシステム

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013211905A JP6179330B2 (ja) 2013-10-09 2013-10-09 電子デバイス、及びセンサシステム

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017105870A Division JP6330952B2 (ja) 2017-05-29 2017-05-29 電子機器

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015075399A true JP2015075399A (ja) 2015-04-20
JP6179330B2 JP6179330B2 (ja) 2017-08-16

Family

ID=53000363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013211905A Active JP6179330B2 (ja) 2013-10-09 2013-10-09 電子デバイス、及びセンサシステム

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6179330B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210036545A (ko) * 2019-09-26 2021-04-05 한국광기술원 복합센서를 이용한 ess 화재 및 운영환경 모니터링 장치 및 시스템
DE102016208360B4 (de) 2015-06-24 2023-08-24 Infineon Technologies Ag Kombination eines MEMS-Gassensors und eines MEMS-Schallwandlers und zugehöriges Herstellungsverfahren

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1172476A (ja) * 1997-07-02 1999-03-16 Riken Corp 窒素酸化物ガスセンサ
JP2001021514A (ja) * 1999-07-09 2001-01-26 Ngk Spark Plug Co Ltd ガス検知装置及びガス検知方法
JP2003344336A (ja) * 2002-05-31 2003-12-03 Arusu:Kk 飲酒確認機能付き装置
US20070005524A1 (en) * 2005-02-13 2007-01-04 Iwachin Walter N Connected online reactive advertising lite board
JP2008113894A (ja) * 2006-11-06 2008-05-22 Fujitsu Ltd 半導体装置及び、電子装置
JP2008185495A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ガスセンサー
JP2009258027A (ja) * 2008-04-19 2009-11-05 Daiichikosho Co Ltd 飲酒運転確認機能付き出庫精算システム
JP2011514505A (ja) * 2007-12-05 2011-05-06 ヴァルション テクニッリネン トゥトキムスケスクス 圧力,音圧の変動,磁界,加速度,振動または気体の組成を測定する装置
WO2013124170A2 (de) * 2012-02-24 2013-08-29 Epcos Ag Verfahren zur herstellung eines sensors

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1172476A (ja) * 1997-07-02 1999-03-16 Riken Corp 窒素酸化物ガスセンサ
JP2001021514A (ja) * 1999-07-09 2001-01-26 Ngk Spark Plug Co Ltd ガス検知装置及びガス検知方法
JP2003344336A (ja) * 2002-05-31 2003-12-03 Arusu:Kk 飲酒確認機能付き装置
US20070005524A1 (en) * 2005-02-13 2007-01-04 Iwachin Walter N Connected online reactive advertising lite board
JP2008113894A (ja) * 2006-11-06 2008-05-22 Fujitsu Ltd 半導体装置及び、電子装置
JP2008185495A (ja) * 2007-01-31 2008-08-14 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ガスセンサー
JP2011514505A (ja) * 2007-12-05 2011-05-06 ヴァルション テクニッリネン トゥトキムスケスクス 圧力,音圧の変動,磁界,加速度,振動または気体の組成を測定する装置
JP2009258027A (ja) * 2008-04-19 2009-11-05 Daiichikosho Co Ltd 飲酒運転確認機能付き出庫精算システム
WO2013124170A2 (de) * 2012-02-24 2013-08-29 Epcos Ag Verfahren zur herstellung eines sensors

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016208360B4 (de) 2015-06-24 2023-08-24 Infineon Technologies Ag Kombination eines MEMS-Gassensors und eines MEMS-Schallwandlers und zugehöriges Herstellungsverfahren
KR20210036545A (ko) * 2019-09-26 2021-04-05 한국광기술원 복합센서를 이용한 ess 화재 및 운영환경 모니터링 장치 및 시스템
KR102280816B1 (ko) * 2019-09-26 2021-07-22 한국광기술원 복합센서를 이용한 ess 화재 및 운영환경 모니터링 장치 및 시스템

Also Published As

Publication number Publication date
JP6179330B2 (ja) 2017-08-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20200196065A1 (en) Microphone assemblies including integrated vibration transducer and wearable devices including the same
TWI710758B (zh) 氣體偵測裝置
US8253242B2 (en) Sensor assembly
US10276147B2 (en) Microphone system and method for manufacturing the same
KR20180080705A (ko) 풍속계를 위한 시스템 및 방법
WO2011148740A1 (ja) 音響センサ、音響トランスデューサ、該音響トランスデューサを利用したマイクロフォン、および音響トランスデューサの製造方法
US20160275771A1 (en) A device for converting a movement of a user into a voltage
US10349188B2 (en) MEMS microphone system and method
CN105704629B (zh) 麦克风及制造该麦克风的方法
KR101870023B1 (ko) 패키징된 mems 디바이스를 위한 시스템 및 방법
US20130129118A1 (en) Micro-electro-mechanical microphone and method for manufacturing the same
JP6179330B2 (ja) 電子デバイス、及びセンサシステム
JP2008271425A (ja) 音響センサおよびその製造方法
US9595992B2 (en) Electronic apparatus
US20190194013A1 (en) Microphone with integrated gas sensor
JP2007013509A (ja) 音響センサおよびダイアフラム
US20160142827A1 (en) Electronic apparatus
JP2007124306A (ja) 情報表示装置
CN104155035B (zh) 压力传感器的形成方法
JP6330952B2 (ja) 電子機器
TW200831394A (en) Ultra-low pressure sensor and method of fabrication of same
JP2009213126A (ja) 静電センサを用いたリモートコントロール装置および電子機器、ならびにスイッチの制御方法
WO2015064682A1 (ja) 金属体付きサファイア構造体、金属体付きサファイア構造体の製造方法、電子機器、および外装体
JP2007064919A (ja) 静電容量型力学量センサ
KR101684537B1 (ko) 마이크로폰, 이의 제조 방법 및 제어 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160606

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170328

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170331

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170529

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170620

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170703

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6179330

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150