JP2015007784A - 投影光学系 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、参照により本願に組み込まれる2004年10月10日出願の米国仮出願番号60/617,415、及び2005年7月18日出願の米国仮出願番号60/700,220に基づいて優先権を主張する。
以下に、本発明の支持ユニット3を備えた、本発明の反射屈折投影光学系2を有する、本発明の露光装置1の好適な第1実施形態について図1を参照して説明する。
図2は、本発明による支持ユニット103を備えた本発明による反射屈折投影光学ユニット102 の第2の好適な実施形態を表す概略図であり、この支持ユニット103は、先と同様に本発明による第1光学素子モジュールを形成する。
図3は、本発明による支持ユニット203を備えた、本発明による反射屈折投影光学ユニット202の第3の好適な実施形態を表す概略図であり、支持ユニット203は先と同様に本発明による第1光学素子モジュールを形成している。
以下に、本発明の支持ユニット303を備えた、本発明の反射屈折投影光学系302を有する、本発明の露光装置301の第4の好適な実施形態について図4を参照して説明する。基本的な構造及び機能に関して、この第4実施形態は、図1を参照して上述した実施形態と変わらない。
図5は、本発明による支持ユニット403を備えた、本発明による反射屈折投影光学系402のさらに好適な実施形態の部分断面図である。
図6は、本発明による支持ユニット503を備えた、本発明による反射屈折投影光学系502のさらに好適な実施形態の部分断面図である。本実施形態は図5の実施形態と大部分で一致している。そのため、同じような構成部品は、同じ参照番号にダッシュを付けて指定し、ここでは主に相違点のみについて言及する。
図7は、本発明による支持ユニット603を備えた、本発明による反射屈折投影光学系602のさらに好適な実施形態の部分断面図である。本実施形態は図5の実施形態と大部分で一致している。そのため、同じような構成部品は、同じ参照番号にダッシュを2つ付けて指定し、ここでは主に相違点のみについて言及する。
図8は、本発明による支持ユニット703を備えた、本発明による反射屈折投影光学系702のさらに好適な実施形態の部分断面図である。
図9は、本発明による支持ユニット803を備えた、本発明による反射屈折投影光学系802のさらに好適な実施形態の部分断面図である。
図10は、本発明による支持ユニット903を備えた、本発明による反射屈折投影光学系902のさらに好適な実施形態の部分断面図である。
以下に、本発明の支持ユニット1003を備えた、本発明の反射屈折投影光学系1002を有する、本発明の露光装置1001のさらに好適な実施形態について図11を参照して説明する。基本的な構成、機能に関して、本実施形態は図1を参照して記述した実施形態と異ならない。そのため、同じような構成部品は、同じ参照番号に1000を加えて指定し、ここでは主に相違点のみについて言及する。
以下に、本発明の支持ユニット3を備えた、本発明の反射屈折投影光学系2を有する、本発明の露光装置1の第12の好適な実施形態について図12を参照して説明する。基本的な構成、機能に関して、本実施形態は図1を参照して記述した実施形態と異ならない。特に、露光装置1の構成部品の大部分は、図1の露光装置1の構成部品と同一である。そのため、図12において、図1の構成部品と同じ構成部品は、同じ参照番号で指定し、これら同一の構成部品に関しては、図1との関連で行った説明を参照するに留める。広範囲で同一設計となっているため、ここでは主に相違点のみについて言及する。
ΔH(ΔT;α1;α2;α3) = ΔL1(ΔT;α1) - ΔL3(ΔT;α3) + ΔL2(ΔT;α2) (2)
ΔH(ΔT;α1;α2;αα2) = ΔL1(ΔT;α1) - ΔL3(ΔT;α3) + ΔL2(ΔT;α2) = 0 (3)
ΔH = LlR・α1 - L3R・α3 + L2R・α2 = 0 (3)
ΔH = LlR・α1 - y・L1R・α3 + x・L1R・α2 = 0 (4)
Claims (1)
- マイクロリソグラフィシステムのレンズユニットを支持するための支持ユニットであって、
光路を部分的に受け入れる筐体を有し、
前記筐体は、少なくとも第1接合部と第2接合部を有し、
前記第1接合部は、複数のレンズを有する長尺の第1レンズユニットを支持する第1支持接合部であり、
前記第2接合部は、複数のレンズを有する長尺の第2レンズユニットを支持する第2支持接合部であり、
前記筐体は、前記長尺の第1レンズユニットと前記長尺の第2レンズユニットの荷重をしっかりと支えるように構成され、且つ
前記筐体は、セラミック材料により作られており、
前記筐体は2つの反射光学素子を収納し、
前記筐体内において、前記光路に沿って、前記2つの反射光学素子の間に、他の光学素子が配置されておらず、
前記2つの反射光学素子は、前記筐体の筐体軸に対して半径方向にずらして配置されており、該筐体軸は、前記第1レンズユニットの第1光学軸と前記第2レンズユニットの第2光学軸とともに同一直線上に配置されていること特徴とする支持ユニット。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US61741504P | 2004-10-08 | 2004-10-08 | |
US60/617,415 | 2004-10-08 | ||
US70022005P | 2005-07-18 | 2005-07-18 | |
US60/700,220 | 2005-07-18 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011208150A Division JP5685510B2 (ja) | 2004-10-08 | 2011-09-22 | 投影光学系 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015007784A true JP2015007784A (ja) | 2015-01-15 |
JP5918815B2 JP5918815B2 (ja) | 2016-05-18 |
Family
ID=35697115
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007535102A Expired - Fee Related JP5065031B2 (ja) | 2004-10-08 | 2005-10-01 | 投影光学系 |
JP2011208150A Expired - Fee Related JP5685510B2 (ja) | 2004-10-08 | 2011-09-22 | 投影光学系 |
JP2014158976A Active JP5918815B2 (ja) | 2004-10-08 | 2014-08-04 | 投影光学系 |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007535102A Expired - Fee Related JP5065031B2 (ja) | 2004-10-08 | 2005-10-01 | 投影光学系 |
JP2011208150A Expired - Fee Related JP5685510B2 (ja) | 2004-10-08 | 2011-09-22 | 投影光学系 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US8300210B2 (ja) |
EP (1) | EP1803012B1 (ja) |
JP (3) | JP5065031B2 (ja) |
CN (2) | CN102207600B (ja) |
WO (1) | WO2006037651A1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006037651A1 (en) | 2004-10-08 | 2006-04-13 | Carl Zeiss Smt Ag | Optical projection system |
US7929114B2 (en) * | 2007-01-17 | 2011-04-19 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Projection optics for microlithography |
JP5055384B2 (ja) * | 2007-02-27 | 2012-10-24 | カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー | 光学結像装置 |
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DE102009045223A1 (de) | 2009-09-30 | 2011-03-31 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Anordnung in einer Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Lithographie |
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-
2005
- 2005-10-01 WO PCT/EP2005/010819 patent/WO2006037651A1/en active Application Filing
- 2005-10-01 JP JP2007535102A patent/JP5065031B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-01 US US11/664,896 patent/US8300210B2/en active Active
- 2005-10-01 EP EP05802258.3A patent/EP1803012B1/en active Active
- 2005-10-01 CN CN201110126344.3A patent/CN102207600B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2005-10-01 CN CN2005800394375A patent/CN101061409B/zh active Active
-
2011
- 2011-09-22 JP JP2011208150A patent/JP5685510B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-09-25 US US13/626,810 patent/US9104016B2/en active Active
-
2014
- 2014-08-04 JP JP2014158976A patent/JP5918815B2/ja active Active
-
2015
- 2015-07-07 US US14/792,837 patent/US9557653B2/en active Active
-
2017
- 2017-01-23 US US15/412,947 patent/US9891535B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2018
- 2018-02-08 US US15/891,523 patent/US20180259856A1/en not_active Abandoned
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180259856A1 (en) | 2018-09-13 |
US9557653B2 (en) | 2017-01-31 |
JP5685510B2 (ja) | 2015-03-18 |
JP2008516434A (ja) | 2008-05-15 |
US20090174874A1 (en) | 2009-07-09 |
CN102207600A (zh) | 2011-10-05 |
US20150323873A1 (en) | 2015-11-12 |
US9891535B2 (en) | 2018-02-13 |
US8300210B2 (en) | 2012-10-30 |
US9104016B2 (en) | 2015-08-11 |
EP1803012B1 (en) | 2015-06-03 |
CN101061409B (zh) | 2011-06-29 |
WO2006037651A1 (en) | 2006-04-13 |
US20130044304A1 (en) | 2013-02-21 |
CN102207600B (zh) | 2015-11-18 |
JP5918815B2 (ja) | 2016-05-18 |
US20170219929A1 (en) | 2017-08-03 |
CN101061409A (zh) | 2007-10-24 |
EP1803012A1 (en) | 2007-07-04 |
JP5065031B2 (ja) | 2012-10-31 |
JP2012042967A (ja) | 2012-03-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150708 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A601 | Written request for extension of time |
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