JP2014522992A - ナノマニピュレータにより保持されたサンプルの処理方法 - Google Patents
ナノマニピュレータにより保持されたサンプルの処理方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014522992A JP2014522992A JP2014525105A JP2014525105A JP2014522992A JP 2014522992 A JP2014522992 A JP 2014522992A JP 2014525105 A JP2014525105 A JP 2014525105A JP 2014525105 A JP2014525105 A JP 2014525105A JP 2014522992 A JP2014522992 A JP 2014522992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- nanomanipulator
- tip
- analyzing
- stabilizing support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/32—Polishing; Etching
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/286—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q involving mechanical work, e.g. chopping, disintegrating, compacting, homogenising
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B21/00—Microscopes
- G02B21/32—Micromanipulators structurally combined with microscopes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/286—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q involving mechanical work, e.g. chopping, disintegrating, compacting, homogenising
- G01N2001/2873—Cutting or cleaving
- G01N2001/2886—Laser cutting, e.g. tissue catapult
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/0216—Means for avoiding or correcting vibration effects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/208—Elements or methods for movement independent of sample stage for influencing or moving or contacting or transferring the sample or parts thereof, e.g. prober needles or transfer needles in FIB/SEM systems
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3174—Etching microareas
- H01J2237/31745—Etching microareas for preparing specimen to be viewed in microscopes or analyzed in microanalysers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】サンプルは基体から収集され、サンプルはナノマニピュレータの先端に取り付けられる。後続の処理を最適化するため、サンプルは、任意に方向付けられる。
ナノマニピュレータの先端は、安定化支持体と接触させられ、サンプルのドリフト又は振動を最小化される。
次に、取り付けられたサンプルは、安定化され、調整と解析が行われる。
【選択図】図1
Description
1) 誘導ビームCVD堆積、接着剤、静電気又は他の取付手段により、ナノマニピュレータの微細(ファイン)プローブ先端等のエンドエフェクタを、解析するサンプルに取り付ける。
2) エンドエフェクタにより取付け、支持される間、サンプルを元の位置から持ち上げる。
3) 持ち上げたサンプルを、TEMグリッド等の新しい基体又はホルダーに取り付けて、イオンビームによるサンプル成形等の処理を完了させる、又は(前述した、STEM、EDS、EBSD、又はTEM解析等の)色々の解析手段により、原位置又は当初の荷電粒子顕微鏡のチャンバの外の位置で、検査する。
安定化支持体130は、受動的な直線エッジ150、又は他の実施形態140では、図2に示されるVノッチ160のある受動的な直線エッジでもよい。又は、荷電粒子ビームに対するサンプルの振動とドリフトを受動的に最小限にするような複雑な形状でもよい。このような形状には、ナノマニピュレータの先端110を機械的に捕獲する形状が含まれる。また、安定化支持体130は、荷電粒子ビームの画像から、又はセンサ、又はナノマニピュレータに取り付けられたセンサから、サンプルステージ100又は荷電粒子ビーム顕微鏡へのフィードバック制御を使用して、能動的なドリフト又は振動最小化を提供することが出来る。
110 ナノマニピュレータの先端
120 サンプル
130 安定化支持体
150 直線エッジ
160 Vノッチ
Claims (15)
- ナノマニピュレータの先端により保持されたサンプルを処理する方法であって、
後続の処理を行う前に、前記ナノマニピュレータの先端を安定化支持体と接触させることを備えることを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法であって、
後続の処理を最適化するために、前記サンプルを方向付けることを備える方法。 - 請求項1に記載の方法であって、解析のため、安定化されたサンプルを準備することを備える方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記安定化されたサンプルを解析することを備える方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記ナノマニピュレータの先端を前記安定化支持体と接触させることは、更に前記ナノマニピュレータの先端を移動させて、前記安定化支持体と接触させることを備える方法。
- 請求項1に記載の方法であって、前記ナノマニピュレータの先端を前記安定化支持体と接触させることは、更に前記安定化支持体を移動させて、前記ナノマニピュレータの先端と接触させることを備える方法。
- 請求項3に記載の方法であって、前記サンプルを準備することは、イオンビームミリングを行い、サンプルを形作ることを備える方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記サンプルを解析することは、前記サンプルを走査透過型電子顕微鏡法で解析することを備える方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記サンプルを解析することは、前記サンプルのエネルギー拡散X線解析を備える方法。
- 荷電粒子ビーム顕微鏡内のサンプルを処理する方法であって、
基体からサンプルを収集し、
前記サンプルをナノマニピュレータの先端に取り付け、
後続の処理を最適化するため、前記サンプルを方向付け、
前記ナノマニピュレータの先端を安定化支持体と接触させ、
前記サンプルを解析のため準備し、
前記サンプルを解析する、
ステップを備えることを備えることを特徴とする方法。 - 請求項10に記載の方法であって、前記サンプルを準備することは、イオンビームミリングを行い、サンプルを形作ることを備える方法。
- 請求項10に記載の方法であって、前記サンプルを解析することは、前記サンプルの走査透過型電子顕微鏡で行うことを備える方法。
- 請求項10に記載の方法であって、前記サンプルを解析することは、前記サンプルのエネルギー拡散X線解析を備える方法。
- 製品であって、
ナノマニピュレータの先端と、
前記ナノマニピュレータの先端に取り付けられたサンプルと、
安定化支持体と、を備え、
前記ナノマニピュレータの先端は、安定化支持体と物理的に接触することを特徴とする製品。 - 請求項14に記載の製品であって、前記安定化支持体は、Vノッチを備える製品。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201161521040P | 2011-08-08 | 2011-08-08 | |
US61/521,040 | 2011-08-08 | ||
PCT/US2012/049908 WO2013022917A2 (en) | 2011-08-08 | 2012-08-08 | Method for processing samples held by a nanomanipulator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014522992A true JP2014522992A (ja) | 2014-09-08 |
Family
ID=47669197
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014525105A Pending JP2014522992A (ja) | 2011-08-08 | 2012-08-08 | ナノマニピュレータにより保持されたサンプルの処理方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8759765B2 (ja) |
EP (1) | EP2742334A4 (ja) |
JP (1) | JP2014522992A (ja) |
WO (1) | WO2013022917A2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB201402318D0 (en) | 2014-02-11 | 2014-03-26 | Oxford Instr Nanotechnology Tools Ltd | Method for materials analysis |
US20160189929A1 (en) * | 2014-10-29 | 2016-06-30 | Omniprobe, Inc. | Rapid tem sample preparation method with backside fib milling |
CN110567994B (zh) * | 2019-10-12 | 2022-03-04 | 上海华力微电子有限公司 | 一种提取用于透射电子显微镜的待测样品的方法 |
US11189458B2 (en) | 2020-01-21 | 2021-11-30 | Battelle Memorial Institute | Cryo nanomanipulator probe with integrated gas injection |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11154479A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Hitachi Ltd | 2次電子画像検出方法及びその装置並びに集束荷電粒子ビームによる処理方法及びその装置 |
JP2002150990A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-24 | Hitachi Ltd | 微小試料加工観察方法及び装置 |
JP2003149185A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | Hitachi Ltd | 電子線を用いた試料観察装置および方法 |
JP2003241109A (ja) * | 2002-02-20 | 2003-08-27 | Olympus Optical Co Ltd | マイクロマニピュレータ |
JP2004212304A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料作製装置および試料作製方法 |
US20060091302A1 (en) * | 2004-11-03 | 2006-05-04 | Thomas Moore | Apparatus and method of detecting probe tip contact with a surface |
US20060113478A1 (en) * | 2004-07-22 | 2006-06-01 | Moore Thomas M | Kit for preparing a TEM sample holder |
JP2007506981A (ja) * | 2003-09-23 | 2007-03-22 | ザイベックス コーポレーション | Fibで調製した試料を把持する素子を使用した顕微鏡検査のための方法、システム、および装置 |
JP2007520856A (ja) * | 2003-11-11 | 2007-07-26 | オムニプローブ、インコーポレイテッド | 収束イオンビーム顕微鏡における迅速な試料調製方法および装置 |
JP2008122166A (ja) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Jeol Ltd | 探針交換方法及び探針交換用冶具 |
JP2008298671A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Sii Nanotechnology Inc | 試料操作装置 |
JP2010232195A (ja) * | 2010-07-09 | 2010-10-14 | Hitachi Ltd | 微小試料加工観察方法及び装置 |
JP2010230612A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2774884B2 (ja) | 1991-08-22 | 1998-07-09 | 株式会社日立製作所 | 試料の分離方法及びこの分離方法で得た分離試料の分析方法 |
US6828566B2 (en) | 1997-07-22 | 2004-12-07 | Hitachi Ltd | Method and apparatus for specimen fabrication |
JPH11218473A (ja) | 1998-02-02 | 1999-08-10 | Mitsubishi Electric Corp | 断面透過電子顕微鏡試料の作製方法及び作製装置 |
WO2002095378A1 (en) | 2000-05-22 | 2002-11-28 | Moore Thomas M | Method for sample separation and lift-out |
WO2002071031A1 (en) | 2001-03-01 | 2002-09-12 | Moore Thomas M | Total release method for sample extraction from a charged particle instrument |
JP4564760B2 (ja) * | 2003-01-31 | 2010-10-20 | キヤノン株式会社 | 物体運搬方法、物体運搬装置 |
JP2004354371A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-12-16 | Sii Nanotechnology Inc | 微小試料取り出し装置および微小試料取り出し方法 |
US7112790B1 (en) | 2003-08-13 | 2006-09-26 | Cypress Semiconductor Corp. | Method to prepare TEM samples |
US7834315B2 (en) | 2007-04-23 | 2010-11-16 | Omniprobe, Inc. | Method for STEM sample inspection in a charged particle beam instrument |
US7659506B2 (en) | 2007-09-25 | 2010-02-09 | Applied Materials, Israel, Ltd. | Method and system for generating and reviewing a thin sample |
JP2012112770A (ja) | 2010-11-24 | 2012-06-14 | Jeol Ltd | 試料保持方法及び試料保持体 |
-
2012
- 2012-08-06 US US13/567,487 patent/US8759765B2/en active Active
- 2012-08-08 EP EP12822777.4A patent/EP2742334A4/en not_active Withdrawn
- 2012-08-08 JP JP2014525105A patent/JP2014522992A/ja active Pending
- 2012-08-08 WO PCT/US2012/049908 patent/WO2013022917A2/en active Search and Examination
Patent Citations (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11154479A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Hitachi Ltd | 2次電子画像検出方法及びその装置並びに集束荷電粒子ビームによる処理方法及びその装置 |
JP2002150990A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-24 | Hitachi Ltd | 微小試料加工観察方法及び装置 |
JP2003149185A (ja) * | 2001-11-13 | 2003-05-21 | Hitachi Ltd | 電子線を用いた試料観察装置および方法 |
JP2003241109A (ja) * | 2002-02-20 | 2003-08-27 | Olympus Optical Co Ltd | マイクロマニピュレータ |
JP2004212304A (ja) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料作製装置および試料作製方法 |
US20070187623A1 (en) * | 2003-09-23 | 2007-08-16 | Zyvex Instruments, Llc | Method, System and Device for Microscopic Examination Employing Fib-Prepared Sample Grasping Element |
JP2007506981A (ja) * | 2003-09-23 | 2007-03-22 | ザイベックス コーポレーション | Fibで調製した試料を把持する素子を使用した顕微鏡検査のための方法、システム、および装置 |
JP2007520856A (ja) * | 2003-11-11 | 2007-07-26 | オムニプローブ、インコーポレイテッド | 収束イオンビーム顕微鏡における迅速な試料調製方法および装置 |
US20060113478A1 (en) * | 2004-07-22 | 2006-06-01 | Moore Thomas M | Kit for preparing a TEM sample holder |
US20060091302A1 (en) * | 2004-11-03 | 2006-05-04 | Thomas Moore | Apparatus and method of detecting probe tip contact with a surface |
JP2008122166A (ja) * | 2006-11-10 | 2008-05-29 | Jeol Ltd | 探針交換方法及び探針交換用冶具 |
JP2008298671A (ja) * | 2007-06-01 | 2008-12-11 | Sii Nanotechnology Inc | 試料操作装置 |
JP2010230612A (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | Hitachi High-Technologies Corp | 試料作製装置、及び試料作製装置における制御方法 |
JP2010232195A (ja) * | 2010-07-09 | 2010-10-14 | Hitachi Ltd | 微小試料加工観察方法及び装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2742334A2 (en) | 2014-06-18 |
US8759765B2 (en) | 2014-06-24 |
WO2013022917A2 (en) | 2013-02-14 |
US20130037713A1 (en) | 2013-02-14 |
EP2742334A4 (en) | 2015-03-11 |
WO2013022917A3 (en) | 2013-04-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1998356B1 (en) | In-Situ STEM Sample Preparation | |
EP2690648B1 (en) | Method of preparing and imaging a lamella in a particle-optical apparatus | |
JP5086706B2 (ja) | 平面ビュー・サンプル作製 | |
US7375325B2 (en) | Method for preparing a sample for electron microscopic examinations, and sample supports and transport holders used therefor | |
CN107084869B (zh) | 用于横截面视图薄层的背侧打薄的高吞吐量tem制备工艺和硬件 | |
US20150053548A1 (en) | Tem sample preparation | |
US20160189929A1 (en) | Rapid tem sample preparation method with backside fib milling | |
JP2000162102A (ja) | 試料作製装置および試料作製方法 | |
JP5323405B2 (ja) | Tem試料作製方法、及びtem試料 | |
JP2014522992A (ja) | ナノマニピュレータにより保持されたサンプルの処理方法 | |
KR20190008131A (ko) | 현미경 시편의 현장 내 준비를 위한 방법 | |
US10539489B2 (en) | Methods for acquiring planar view STEM images of device structures | |
US20130001191A1 (en) | Redeposition technique for membrane attachment | |
EP2837926A1 (en) | Detaching probe from TEM sample during sample preparation | |
US10410829B1 (en) | Methods for acquiring planar view stem images of device structures | |
US11355310B2 (en) | Method for changing the spatial orientation of a micro-sample in a microscope system, and computer program product | |
JP2007194096A (ja) | 荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム装置を用いた試料のピックアップ方法 | |
US10741360B2 (en) | Method for producing a TEM sample | |
JP2004309499A (ja) | 試料作製装置および試料作製方法 | |
JP2004061204A (ja) | 観察用試料作製方法 | |
JP7526824B2 (ja) | ラメラの搭載方法および解析システム | |
Giannuzzi et al. | Vacuum assisted ex situ lift out for manipulation of FIB prepared specimens | |
KOTULA et al. | Focused Ion Beam Microscopy | |
CN112166486A (zh) | 用于制作和放置薄片的装置 | |
KR20230124700A (ko) | 라멜라의 탑재 방법 및 해석 시스템 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141225 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150202 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20150430 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150731 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20151224 |