JP2014510182A - 低ガラス転移温度を有するフルオロポリエーテルエラストマー組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
a)約400g/モルから約25,000g/モル以下の分子量を有し、且つ(−C4F8O−)、(−C3F6O−)、(−C2F4O−)、(−CF2O−)、又はこれらの組み合わせから選択される部分を含有する少なくとも1つの官能化フルオロポリエーテルであって、ラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性である少なくとも1つの官能基を末端位置、又は前記末端位置に隣接する位置に含有するように官能化されたフルオロポリエーテルと、
b)少なくとも1つのラジカル発生化合物を含む少なくとも1つのラジカル硬化系と、
を含む硬化性組成物を提供する。
i.上記の通り硬化性組成物を提供することと、
ii.前記硬化性組成物をラジカル硬化反応に供することと、
を含む方法を提供する。
好適なフルオロポリエーテルは、(−C4F8O−)、(−C3F6O−)、(−C2F4O−)、(−CF2O−)又はこれらの組み合わせから選択されるペルフルオロアルキレンオキソ部分を含有する化合物である。例としては、以下のようなペルフルオロアルキレンオキソ基の組み合わせが挙げられる:(−C2F4O−)及び(−CF2O−);
(−C4F8O−)、(−C2F4O−)及び(−CF2O−);(−C4F8O−)及び(−C2F4O−);(−C3F6O−)及び(−C2F4O−)。これらユニットは、ランダムな順序で存在してよい。
(i)ヨウ素、臭素、及び塩素から選択されるハロゲン、好ましくはヨウ素。
X−A−Y
(式中、X及びYは、上記の通りラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性である同じ又は異なる官能基であり、Aは、(−C4F8O−)、(−C3F6O−)、(−C2F4O−)、(−CF2O−)又はこれらの組み合わせから選択されるペルフルオロアルキレンオキソ基を含むか又はからなるフルオロポリエーテルセグメントを意味する。)。
XCF2O(CF2O)w(C2F4O)x(C3F6O)y(C4F8O)zCF2Y
(式中、X及びYは、互いに独立して、上記の通りラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性である官能基でを表す。w、x、y、及びzは、互いに独立して、0〜30の整数であるが、ただし、w+x+y+zは、少なくとも6であり、前記ペルフルオロアルキレンオキソユニットは、ランダムに配置され得る。)。好ましくは、X及びYは、独立して、ハロゲン又は1〜10個の炭素原子を有するアルキルハロゲンを表す。好ましいハロゲンは、ヨウ素である。
(−(CF2)2O−)、(−CF2O−)又はこれらの組み合わせ、例えば、(−(CF2)4O−)及び
(−(CF2)2O−)ユニットの組み合わせ;(−(CF2)4O−)、(−(CF2)2O−)及び(−CF2O−)ユニットの組み合わせ、(−(CF2)2O−)及び(−CF2O−)ユニットの組み合わせ;(−(CF2)4O−)及び(−CF2O−)ユニットの組み合わせから選択されるユニットを含む。
XCF2O(−(CF2)O−)x(−(CF2)2O−)y(−CF2)4O−)zCF2Y
(式中、x及びyは、互いに独立して、2〜12の整数であり、zは、0〜12の整数であり、(−CF2O−)及び(−(CF2)2O−)ユニット、並びに(−(CF2)4O−)ユニットは、存在する場合、ランダムに配置され得、X及びYは、上記の通り同じ又は異なる官能基である)。好ましくは、X及びYは、上記の通りヨウ素又は不飽和基である。
好適なフルオロポリマーとしては、少なくとも1つのフッ素化オレフィン、好ましくは全フッ素化オレフィンに由来する反復ユニットを含み、更に、ラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性である少なくとも1つの官能基を含むものが挙げられる。有用なフルオロポリマーは、典型的に、25℃未満のガラス転移温度を有する。好ましくは、フルオロポリマーは、非晶質、すなわち、非結晶質である。典型的には、最高3℃にわたる別個の融点ではなく、少なくとも5℃にわたる融解範囲を有する。好適な全フッ素化オレフィンとしては、式CF2=CY−Rf(式中、Yは、F、Cl、又はCF3であり、Rfは、フッ素又はC1〜C8フルオロアルキルである)によって表されるものが挙げられる。好適なオレフィンの例としては、テトラフルオロエチレン(TFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、及びクロロトリフルオロエチレン(CTFE)が挙げられる。特に好ましいオレフィンとしては、TFEが挙げられる。好ましくは、フルオロポリマーは、TFEに由来するか、又はTFE及びHFPに由来する反復ユニットを主に含む。「主に」とは、これらモノマーに由来する反復ユニットがポリマーの主成分(重量による)であることを意味する。
X(CF2)nSO2M(式中、n=1〜10であり(式中、Xは、Cl、Br又はIである)、Mは、例えばNa等の一価金属を表す)等であるがこれらに限定されないハロゲン化塩が挙げられる。更に、開始及び/又は重合は、フッ素化ポリマーの末端炭素原子にハロゲン化物を導入するために、例えば、臭化カリウム、臭化アンモニウム、及びヨウ化カリウム又はヨウ化ナトリウム等を含む、金属ハロゲン化物又はハロゲン化アンモニウム等のハロゲン化物塩の存在下で実施されてもよい。
(a)以下の式を有するブロモ−又はヨード−又はクロロ−(ペル)フルオロアルキル−(ペル)フルオロビニルエーテル:
ZRf−O−CX=CX2
(式中、各Xは、同じであっても異なっていてもよく、且つH又はFを表し、Zは、Cl、Br又はIであり、Rfは、任意に塩素及び/又はエーテル酸素原子を含有する(ペル)フルオロアルキレンC1〜C12である)。
(b)例えば、以下の式を有するもの等のブロモ−又はヨード−又はクロロ−ペルフルオロオレフィン:
Z’−(Rf’)r−CX=CX2
(式中、各Xは、独立してH又はFを表し、Z’はBr、I、又はClであり、Rf’は、任意に塩素原子を含有するペルフルオロアルキレンC1〜C12であり、rは0又は1である)。
(c)非フッ素化ブロモ及びヨード−オレフィン、例えば、臭化ビニル、ヨウ化ビニル、4−ブロモ−1−ブテン、及び4−ヨード−1−ブテン。
CF2=CFO(CF2)rCN;CF2=CFO[CF2CF(CF3)O]p(CF2)vOCF(CF3)CN及び
CF2=CF[O CF2CF(CF3)]kO(CF2)uCN
(式中、rは2〜12の整数を表し、pは0〜4の整数を表し、kは1又は2を表し、vは0〜6の整数を表し、uは1〜6の整数を表し、Rfは、ペルフルオロアルキレン又は二価ペルフルオロエーテル基である)。
ラジカル硬化反応のための硬化系は、少なくとも1つのラジカル発生化合物を含む。有用なラジカル発生化合物は、ペルオキシドを含有するか又は発生させ、これは、次いで、活性化の際にフリーラジカルを生じさせると考えられる。活性化は、好ましくは、熱の印加によって行われる。ジアルキルペルオキシド又はビス(ジアルキル)ペルオキシド等の有機ペルオキシドが好ましい。50℃超の温度で分解してフリーラジカルを生じさせる化合物が特に好ましい。多くの場合、ペルオキシ酸素原子に結合した三級炭素原子を有するジtert−ブチルペルオキシドを使用することが好ましい。この種のペルオキシドで最も有用なものは、2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3及び2,5−ジメチル−2,5−ジ(tert−ブチルペルオキシ)ヘキサンである。他のペルオキシドは、ジクミルペルオキシド、ジクロロベンゾイルペルオキシド、過安息香酸第3ブチル、α,α’−ビス(tert−ブチルペルオキシ−ジイソプロピルベンゼン)、及びジ[1,3−ジメチル−3−(tert−ブチルペルオキシ)−ブチル]カーボネート等であるがこれらに限定されない化合物から選択することができる。
好ましくは、硬化性フルオロポリエーテル組成物は、更に、少なくとも1つの充填剤を含む。好ましくは、充填剤は、組成物を硬化させる前に添加される。硬化性フルオロポリエーテル組成物は、典型的に、液体又はペーストである。1つの態様では、充填剤は、粘度を上昇させて、ペースト様稠度を得るために添加してよい。ペースト様稠度は、典型的に、25℃で2,000〜50,000センチポアズのブルックフィールド粘度を有する。
硬化性組成物は、フルオロポリエーテルと、上記硬化系とを含む。
1つの実施形態では、硬化性組成物は、液体フルオロポリエーテルと、助剤と、ラジカル発生化合物と、任意の充填剤及び添加剤とを含む。
フルオロポリエーテルエラストマーを含む組成物は、上記硬化性組成物をラジカル硬化反応に供することによって得ることができる。
(i)−50℃未満、好ましくは−60℃未満、より好ましくは−80℃未満、又は−100℃未満のガラス転移温度(Tg);
(ii)少なくとも50%の破断点伸び;
(iii)少なくとも1MPa、好ましくは少なくとも1.3MPaの引張り強度;
(iv)少なくとも15、好ましくは少なくとも25、より好ましくは少なくとも40のショアA硬度。
本明細書に提供する硬化性組成物は、例えば、成形することによって成形物品を作製するために用いることができる。フルオロポリマーの配合又は加工に使用される従来の加工技術、例えば、射出成形、特に液体射出成形、圧縮成形、押出、又はカレンダリング等が使用できる。あるいは、シートの形態の物品は、オープンエアオーブン又はホットエアトンネルにおいて常圧でフルオロポリエーテル組成物の層を硬化させることによって製造することができる。このようなシートは、切削又はスタンピング方法によって更に成形することができる。
a)約400g/モルから約25,000g/モル以下の分子量を有し、且つ(−C4F8O−)、(−C3F6O−)、(−C2F4O−)、(−CF2O−)、又はこれらの組み合わせから選択される部分を含有する少なくとも1つの官能化フルオロポリエーテルであって、ラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性である少なくとも1つの官能基を末端位置、又は前記末端位置に隣接する位置に含有するように官能化されたフルオロポリエーテルと、
b)少なくとも1つのラジカル発生化合物を含む少なくとも1つのラジカル硬化系と、
を含む硬化性組成物。
X−A−Y
(式中、X及びYは、ラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性である官能基を含む同じ又は異なる残基であり、Aは、(−C4F8O−)、(−C3F6O−)、(−C2F4O−)、(−CF2O−)又はこれらの組み合わせから選択されるユニットのポリオキシペルフルオロアルキレン部分を意味する)。
XCF2O(CF2O)w(C2F4O)x(C3F6O)y(C4F8O)zCF2Y
式中、X及びYは、互いに独立して、ラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性であり、且つ以下から選択される少なくとも1つの官能基を含有する残基を表す:
(i)ハロゲン及びアルキルハロゲンであって、前記アルキルハロゲンのアルキル基が、1〜10個の炭素原子を有し、フッ素化されていなくても、フッ素化されていても、全フッ素化されていてもよく、且つ任意で酸素又は窒素原子を含有し、前記ハロゲンが、ヨウ素、臭素、及び塩素から選択されるハロゲン及びアルキルハロゲン;
(ii)ニトリル又はアルキルニトリルであって、前記アルキルニトリルのアルキル基が、1〜10個の炭素原子を有し、フッ素化されていなくても、フッ素化されていても、全フッ素化されていてもよく、且つ任意で酸素又は窒素原子を含有するニトリル又はアルキルニトリル;
(iii)エチレン性不飽和基−Z−CW=CW2であって、Wは、独立して、H、Cl、F、又はCF3を表し、Zは、化学結合、任意でフッ素、塩素、酸素、窒素、若しくは硫黄原子、又はこれらの組み合わせを含有する1〜10個の炭素原子のアルキル基を表すが、ただし、少なくとも1つの残基WはHであるエチレン性不飽和基。
を有する複数のユニットを含む、実施形態15〜17のいずれかに記載の組成物(式中、w、x、y、及びzは、互いに独立して、0〜30の整数であるが、ただし、w+x+y+zは、少なくとも6である)。
XCF2O(−(CF2)O−)x(−(CF2)2O−)y(−CF2)4O−)zCF2Y
(式中、x及びyは、互いに独立して、2〜12の整数であり、zは、0〜12の整数であり、(−CF2O−)及び(−(CF2)2O−)ユニット、並びに(−(CF2)4O−)ユニットは、存在する場合、ランダムに配置され得る)。
実施形態1〜14のいずれかに係る硬化性組成物を提供することと、前記硬化性組成物をラジカル硬化反応に供することとを含む方法。
硬さ:
ショアA硬度(2”(5.08cm))は、ASTM D−2240に準拠し、250℃で20時間、後硬化した試料について測定した。
TA Instrumentsから入手できるTA Instruments Q200 modulated DSCを使用する、温度変調DSCにより、Tgを測定した。測定条件:2又は3℃/分での−150℃〜50℃、60秒中の+−1℃/分の温度変調振幅。
ASTM D412(DIE D)に従い、Instro(商標)機械試験機により1kNロードセルを使用して、これらの特性を測定した。全ての試験は、500mm/分の一定のクロスヘッド変位速度で行った。各試験は3回行った。報告した値は3回の試験の平均である。
加硫特性は、Alpha Technologies Moving Die Rheometerを使用して(ASTM D 5289−93aに従い177℃で)測定し、最低トルク(ML)、最高トルク(MH)及びデルタトルク(これはMHとMLとの差である)を報告した。トルク値はin.lbs(N.m)の単位で報告する。MLにおけるtg δ及びMHにおけるtg δも報告する。Ts2(トルクがMLから2単位増加するのに必要な時間)、T50(トルクがMLからデルタトルクの50%増加する時間)、及びT90(トルクがMLからデルタトルクの90%増加する時間)等の硬化速度を示すパラメータを更に報告し、これらは全て分の単位で報告した。
使用材料:
フッ素化フルオロポリエーテル(PFE):
PFE−1:I−CF2O(CF2O)9〜11(CF2CF2O)9〜11−CF2−I
1000mLの3つ口丸底フラスコに、500g(0.25mol)のFomblin(登録商標)Z−Deal及び100gのFC77を充填し、撹拌した。100gの水中32g(0.56mol)のKOHの溶液を、15分間かけて追加の漏斗を通して添加し、混合物を30分間かけて僅かに還流しながら100℃まで加熱した。反応が完了した後、呼吸性真空を印加して、大部分の溶媒及び水を除去し、白色のペーストをガラスのトレイにデカンタし、真空オーブン内で乾燥させて、定量的収量の二カリウム酸塩を得た。
2000mLのフラスコに、800gの無水THFを充填し、機械的攪拌器及び還流凝縮器を組み立てた。反応混合物を窒素下に置いた。次いで、18.06gのZnCl2、及び5gのN,N−ジメチルシクロヘキシルアミン(0.04モル)を添加した。10.0265gのNaBH4を撹拌反応混合物にゆっくりと添加した。ビーカーにおいて、250gのFomblin(登録商標)Z−DEAL及び600gのFC−77を混合した。反応混合物を45℃まで加熱した。フルオロケミカル混合物を1時間かけて添加漏斗を通して添加する。混合物を12時間60℃で撹拌した。次の工程では、反応混合物を氷浴中で10℃まで冷却した。500mLの水及び350mLのHCl溶液(25重量%)の混合物を混合し、反応混合物に滴下した。強い発熱及び気体形成が観察された。1時間撹拌した後、混合物を分液漏斗に移した。有機相を水相から分離し、水で2回洗浄した。240gのフルオロポリエーテル−ジオールを透明な液体として収集した。赤外線解析によって、1798cm−1におけるカルボニル振動の完全な消失、及び3400cm−1周辺における広いOHバンドの出現が示された。NMR分析によって、反応が完全に完了したことが明らかになった。
ペルフルオロポリエーテルジエステルから出発してフッ素化ポリエーテルを製造した。
50gのペルフルオロエーテルジオール(0.0257モル)を250mLのフラスコに充填した。80mLのHFE 7200を添加し、次いで、5.36gのトリエチルアミン(0.053モル)を添加した。4.65gの塩化アクリロイル(0.0514モル)を室温でゆっくりと添加した。混合物を室温で一晩撹拌した。その後、形成されたHCl塩をブフナーフィルタで濾取した。溶媒をRotavapによって除去した。19F−NMR分析によって、完全な変換が明らかになった。
1リットルの3つ口丸底フラスコに、650g(0.68モル)、Exfluor Research Corporation(Austin,Texas)から入手したペルフルオロポリエチレンオキシドのジメチルエステル、及び100gのFluoinert FC77(3M)を充填し、撹拌した。300gの水中90g、1.6モルのKOHの溶液を15分かけて添加し、混合物を30分間かけて僅かに還流しながら100℃まで加熱した。混合物をトレイ上に置き、真空オーブン内で乾燥させて、定量的収量の683gのペルフルオロポリエチレンオキシド二カリウム酸塩を得た。50%固形分溶液を水中で作製し、濃H2SO4で酸性化し、FC77で抽出し、濾過し、溶媒を除去して、500g(0.53モル)のペルフルオロポリエチレンオキシド二酸を単離した。1リットルの3つ口丸底フラスコに、500g(0.53モル)のペルフルオロポリエチレンオキシド二酸を充填し、4gのDMF、及び65g(0.55モル)の塩化チオニルを30分間かけて添加し、2時間かけて85℃まで加熱して、ペルフルオロポリエチレンオキシド二酸塩化物を得た。ペルフルオロポリエチレンオキシド二酸塩化物を80g(1.4モル)のKFと共に撹拌し、65℃で20時間加熱し、FC77に取り、濾過し、溶媒を除去して306g(0.32モル)のペルフルオロポリエチレンオキシド二酸フッ化物を得た。1リットルの3つ口丸底フラスコに、300g(0.32モル)のペルフルオロポリエチレンオキシド二酸フッ化物及び100g、0.74モルのLilを充填し、撹拌し、脱気しながら2時間かけて190℃まで加熱した。次いで、反応物をNMR分析して、反応が行われたときを求めた。添加したFC77を粘土を通して濾過し、溶媒を除去して、220g(0.2モル)のPFE−5二ヨウ化物を得た。NMRによって構造を確認した。
2リットルの3つ口丸底フラスコに、ジグリム中のヘキサフルオロプロピレンオキシド、ペルフルオロスクシニルフッ化物、及びフッ化カリウムの反応から米国特許第4,647,413号に記載の通り作製した1000g(0.7モル)のヘキサフルオロプロピレンオキシド二酸フッ化物のオリゴマーと、212g(1.6モル)のヨウ化リチウムとを充填し、脱気しながら2時間かけて190℃まで加熱した。次いで、反応物をNMR分析して、反応が行われたときを求めた。添加したFC77を粘土を通して濾過し、溶媒を除去して、967g(0.61モル)のPFE−6二ヨウ化物を得た。NMRによって構造を確認した。
FP−1:E 20575:ペルオキシド硬化性VF2−HFPコポリマー、3Mから入手可能
FP−2:PFE−90X:ペルオキシド硬化性ペルフルオロポリマー、3Mから市販。
Luvomaxx TAIC DL 70:シリカ担体上70%トリアリル−イソシアヌレート、Lehmann & Vossから入手可能
ジビニルペルフルオロヘキサン:Apollo Scientific Ltd.から入手可能。
ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン:Sigma Aldrichから入手可能
ペルオキシド
Trigonox 101−50:有機ペルオキシド、Akzo Nobelから入手可能
ジクミルペルオキシド:Akzo Nobelから入手可能
添加剤
Nanogel(商標):Cabot Corporationから入手可能
Carbofluor 2065:フッ素化カーボンブラック、Advanced Research Coから入手可能
ZnO:Adnano、ナノ粒子酸化亜鉛、Evonikから入手可能
SAF N110:Cabot Corpから入手可能
MT N−99:カーボンブラック、Cancarbから入手可能
(実施例)
(実施例1〜3)
実施例1〜3では、ペースト形態の硬化性フルオロポリエーテルエラストマー組成物を、Hauschild(商標)Speedmixer(2000rpmで1分間、3500rpmで1分間)内で、表1に示す通りのフルオロポリエーテルPFE−1、硬化助剤、ペルオキシド、及び添加剤を混合することによって作製した。Agila press(Agila NV(Ieper,Belgium)製のAgila PE 60プレス、加熱板を装備した典型的なラバープレスである)を使用して、ペーストをプレス硬化した。硬化は、177℃で3分間、20bar(2MPa)の圧力で行った。
実施例4では、100部のPFE−1、8部のTAIC、5部のTrigonox 101−50、5部のNANOGEL、25部のCarbofluor 2065、及び3部のZnOを混合することによってペーストを作製した。ペーストを20bar(2MPa)の圧力下で177℃にて5分間プレス硬化させた。プレス硬化したフルオロエラストマーを、230℃で16時間オーブン内で後硬化させた。硬化性組成物の硬化挙動、並びに硬化及び後硬化フルオロエラストマーの特性を表3に記載する。
実施例5〜12では、ペースト形態の、硬化性フルオロエラストマー組成物を、Hauschild(商標)Speedmixer(2000rpmで1分間、3500rpmで1分間)内で、表1に示す通りのフルオロポリエーテル、硬化助剤、ペルオキシド、及び添加剤を混合することによって作製した。ペーストは、Agila press(Agila NV in Ieper,BelgiumからのAgila PE 60プレス、加熱板を装備した典型的なラバープレスである)を使用して、プレス硬化した。硬化は177℃で3分間、20bar(2MPa)の圧力で行った。サンプルを、そのレオロジー特性について試験した。結果を表4に示す。
実施例13〜16では、まずペルフルオロポリエーテルPFE−1をNANOGEL(90/10)と混合することによって硬化性組成物を調製した。この混合物を表5に示す化合物とブレンドした。組成物をロールミルで十分に混合した。次いで、組成物を7分間177℃でプレス硬化させ、次いで、16時間200℃で後硬化させた。硬化したサンプルを、その硬化及びレオロジー特性について試験した。結果も表5に示す。
Claims (15)
- a)約400g/モルから約25,000g/モル以下の分子量を有し、且つ(−C4F8O−)、(−C3F6O−)、(−C2F4O−)、(−CF2O−)、又はこれらの組み合わせから選択される部分を含有する少なくとも1つの官能化フルオロポリエーテルであって、ラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性である少なくとも1つの官能基を末端位置、又は前記末端位置に隣接する位置に含有するように官能化されたフルオロポリエーテルと、
b)少なくとも1つのラジカル発生化合物を含む少なくとも1つのラジカル硬化系と、
を含む硬化性組成物。 - 前記ラジカル硬化系が、少なくとも1つの助剤を更に含む、請求項1に記載の硬化性組成物。
- ラジカル硬化反応で硬化して、−40℃未満のガラス転移温度を有するフッ素化エラストマーを含む組成物を生成する、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記フッ素化フルオロポリエーテルが、約1,200〜から約14,900g/モルの分子量を有する、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記フッ素化フルオロポリエーテルが、以下の式によって表される、請求項1に記載の硬化性組成物:
X−A−Y
(式中、X及びYは、ラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性である官能基を含む同じか又は異なる残基であり、Aは、(−C4F8O−)、(−C3F6O−)、(−C2F4O−)、(−CF2O−)、又はこれらの組み合わせから選択されるユニットのポリオキシペルフルオロアルキレン部分を意味する)。 - 前記フッ素化フルオロポリエーテルが、以下の式によって表される、請求項1に記載の硬化性組成物:
XCF2O(CF2O)w(C2F4O)x(C3F6O)y(C4F8O)zCF2Y
式中、X及びYは、互いに独立して、ラジカル硬化反応においてラジカル硬化系に対して反応性であり、且つ以下から選択される少なくとも1つの官能基を含有する残基を表す。
(i)ハロゲン及びアルキルハロゲンであって、前記アルキルハロゲンのアルキル基が、1〜10個の炭素原子を有し、フッ素化されていなくても、フッ素化されていても、全フッ素化されていてもよく、且つ任意で酸素又は窒素原子を含有し、前記ハロゲンが、ヨウ素、臭素、及び塩素から選択されるハロゲン及びアルキルハロゲン。
(ii)ニトリル又はアルキルニトリルであって、前記アルキルニトリルのアルキル基が、1〜10個の炭素原子を有し、フッ素化されていなくても、フッ素化されていても、全フッ素化されていてもよく、且つ任意で酸素又は窒素原子を含有するニトリル又はアルキルニトリル。
(iii)エチレン性不飽和基−Z−CW=CW2であって、Wは、独立して、H、Cl、F、又はCF3を表し、Zは、化学結合、任意でフッ素、塩素、酸素、窒素、若しくは硫黄原子、又はこれらの組み合わせを含有する1〜10個の炭素原子のアルキル基を表すが、ただし、少なくとも1つの残基WはHである、エチレン性不飽和基
(式中、w、x、y、及びzは、互いに独立して、0〜30の整数であるが、ただし、w+x+y+zは、少なくとも6である)。 - 前記助剤が、ポリビニル又はポリアリル化合物から選択される、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記ラジカル発生化合物が、ペルオキシドである、請求項1に記載の硬化性組成物。
- シリカ含有物質、炭素含有物質、又はこれらの組み合わせから選択される少なくとも1つの充填剤を含む、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記組成物の総量に基づいて、少なくとも40重量%の前記フルオロポリエーテルを含む、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 前記組成物の総量に基づいて少なくとも40重量%のフルオロポリエーテル、及び25℃未満のガラス転移温度を有する少なくとも1つのフルオロポリマーを含み、ラジカル硬化反応において硬化性であり、且つ前記フルオロポリエーテルよりも高い分子量を有する、請求項1に記載の硬化性組成物。
- 請求項1に記載の硬化性組成物を硬化させることによって得られる硬化フルオロエラストマーを含む組成物。
- 請求項1に記載の硬化性組成物を硬化させることによって得られる、−50℃未満のガラス転移温度、少なくとも1MPaの引張り強度、少なくとも25のショアA硬度、及び少なくとも50%の破断点伸びを有する、組成物。
- −40℃未満のガラス転移温度を有するフルオロエラストマーを含む組成物を製造する方法であって、
iii.請求項1に記載の硬化性組成物を提供することと、
iv.前記硬化性組成物をラジカル硬化反応に供することと、
を含む方法。 - 請求項1に記載の硬化性組成物を射出成形又は圧縮成形することによって得られる成形物品。
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