JP2014507165A - マルチブロックコポリマーを含むチューインガム及びガムベース - Google Patents
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Abstract
Description
あるいはまた、クリックケミストリー技術を、前記マルチブロックコポリマー鎖の構築及びその伸張のために使用することができる。
前記マルチブロックコポリマーの巨大分子構造の一例は、以下の式で与えられる:
ウレタン連結単位を含むポリ(D,L-ラクチド)/ポリ(エチレンオキサイド)マルチブロックコポリマーを、2-段階反応系列を通して得た。先ず、D,L-ラクチドとポリ(エチレングリコール)との開環重合を、Sn(II)ビス(2-エチルヘキサノエート)による触媒作用により開始させて、PLA-PEO-PLAトリ-ブロックコポリマーを製造した。これは、該トリ-ブロックプリカーサポリマーのヒドロキシル末端基とヘキサメチレンジイソシアネートとのカップリング反応を伴った。
ポリ(エチレングリコール)(PEG, Mn=2,000)のサンプル(9.523g、4.76mM)を、側部枝管を備えた500mL容量の丸底フラスコを用いて、減圧下にて乾燥させ、110℃にて4時間に渡り磁気的に攪拌した。引続き、3回に及ぶ減圧及びN2ガスパージを適用した。
乾燥後、前記ポリマーを500mLのジクロロメタンに溶解し、次いでメタノール中に再度沈殿させた。得られる液相をデカンテーション処理し、該ポリマーを集めた。この生成物を、40℃にて24時間、減圧下で乾燥させた。最終的な製品の収量:16g。分子量の値は夫々Mn=17,200及びMw=47,100(GPC、溶媒=THF)であり、ガラス転移温度Tg=-12℃(DSC)であった。
表1は、マルチブロックコポリマーの組成及びそのガラス転移温度を示す。その「組成」に関する欄は、PLA及びPEOセグメントのモル質量組成を与え、Xはそのウレタン連結単位を表し、生成物の分子量Mn及びMwはGPCにより測定され、またそのガラス転移温度は、DSCにより測定された。
実施例8
チューインガムは、以下の表2に従って、実施例1のポリマーを使用して製造し得る。
チューインガムは、上記表2に示された処方に従って、実施例1のマルチブロックコポリマーを、実施例2〜7のマルチブロックコポリマーに変えることにより製造し得る。
実施例15〜18
ガムベース及びチューインガムは、以下の表3に示された処方に従って、実施例1のマルチブロックコポリマーから製造することができる。
チューインガムベース及びチューインガムは、実施例2〜7のマルチブロックコポリマーから、以下の表3に示された処方において、これらに変えることにより製造することができる。これらのチューインガムは、表4に従って、実施例19〜42と呼ぶ。
ウレタン連結単位(-O-C(O)-NH-(CH2)6-NH-C(O)-O-)を持つ[PLA-PEO-PLA-X-]nマルチブロックコポリマーを以下のようにして調製した。
材料の乾燥:
ポリ(エチレングリコール)(PEG、Mn=2,000)(3.0153g、1.5076mM)を、側部枝管を持つ容量250mLの丸底フラスコを使用して、110℃にて4時間に渡り、減圧下で乾燥させ、かつ磁気的に攪拌した。
D,L-ラクチド(5.116g、0.0355M)のクロロベンゼン溶液を、カニューレ(N2雰囲気下)を介して前記PEGを含有する第一のフラスコに移した。その後、該フラスコを110℃にて加熱した。Sn(oct)2(0.0144g、0.0355mM)を、該溶液に添加し、加熱を4時間に渡り継続した。次いで、ヘキサメチレンジイソシアネート(HDI)(0.3296g、1.959mM)を、80℃にて、(セプタムキャップを通してシリンジにより)徐々に添加した。約1時間に及ぶ加熱及び攪拌の後、該溶液が、極めて粘稠かつ不透明になることを観測した。4時間という全反応時間の経過後、ジエチレングリコール(0.1265g、1.192mM)を80℃にて添加し、加熱を2時間に渡り続けた。この反応混合物が室温にまで冷却した後、得られるポリマー生成物を、メタノールの添加により沈殿させた。先ず、該粘稠なポリマー溶液を、約400mLのメタノール及び磁気攪拌バーを含むビーカー内に注ぎ込んだ。この混合物を30分間に渡り攪拌し、次いで得られる液相をデカンテーション処理し、別途の400mLのメタノールで置換え、更に30分間攪拌した。該液相をデカンテーション処理に掛けた。メタノールの添加、攪拌及びデカンテーション処理を繰返した。次に、得られたポリマーを40℃にて24時間に渡り、減圧下で乾燥させた。粗生成物の収量は6gであった。
乾燥後、前記ポリマーを100mLのジクロロメタンに溶解し、次いで再度メタノール中で沈殿させた。該メタノールをデカンテーション処理し、また該ポリマーを40℃にて24時間に渡り減圧下で乾燥させた。最終生成物の収量は4.5gであった。
ウレタン連結単位X=-O-C(O)-NH-(CH2)6-NH-C(O)-O-を持つ、[PLA-PDMS-PLA-X-]nマルチブロックコポリマーを以下のようにして製造した。PDMSブロックのブロック質量は、Mn=5,000であり、またPDLLAブロックの質量はMn=720であった。
実施例45、46及び比較例47
チューインガムを、以下の表5の処方に従って製造した。掲載されている量の単位は、質量%である。
δ-デカラクトン(デルタデカラクトン)のホモポリマーを、以下のように製造した。グローブボックスにおいて、1,4-ベンゼンジメタノール(0.0272g、0.197mM)及びδ-デカラクトン(5.00g、29.4mM)を、磁気攪拌バーを備えた容量15mLのガラス製耐圧容器中で併合した。この混合物を、該開始剤が溶解するまで攪拌した。次に、1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デセ-5-エン(TBD)(0.0102g、0.0733mM)を、該反応混合物に添加し、該容器を封止し、これを該グローブボックスから取出し、できる限り速やかに磁気攪拌プレート上に置いた。該反応を停止させるために、初期モノマーの体積とほぼ等体積の停止溶液(濃度1Mの安息香酸のクロロホルム溶液)を添加した。次いで、追加のクロロホルムを添加して、生成したポリマーを溶解させた。次に、この溶解したポリマーを、メタノール中に沈殿させた。残留する溶媒を、減圧下(30mTorr)で除去した。この粗製溶液の1H NMR分光分析法による換算及び沈殿後の重量法による収量は、両者共に71%であった。該沈殿ポリマーのMnは、1H NMR分光分析法によれば17.5kgモル-1(mol-l)であり、また1.16なるPDIを用いたSECによれば、23.1kgモル-1であった。1H NMR (CDCl3) δ; 13C{1H} NMR (CDCl3) δ 173.1、73.7、34.2、34.0、33.5、31.7、25.0、22.6、20.8、14.0。得られたポリ(δ-デカラクトン)の13C NMRスペクトルを、図7に示した。
ポリラクチド-ポリ(δ-デカラクトン)-ポリラクチドトリブロックコポリマーを、実施例48におけると同様にして、δ-デカラクトンを重合することにより製造した。但し、該δ-デカラクトンの重合が平衡転化率(約90%)に達した後、かつ該反応を停止する前に、ラクチド(35質量%)のメチレンクロリド溶液を添加した。1時間後、該ラクチドの重合を、過剰量の安息香酸により停止させた。得られたこのトリブロックコポリマーは、ガムベースエラストマーとして使用するのに適したものであった。このトリブロックコポリマーは、本発明のマルチブロックコポリマー製造のための出発物質として使用することが可能であるはずである。該マルチブロックコポリマーもガムベースエラストマーとして使用するのに適したものである。
Claims (54)
- 少なくとも2種の異なるポリマーブロックからなる、少なくとも2種の繰返し配列を含むマルチブロックコポリマーを含有し、該ポリマーブロックが、各々少なくとも3つのモノマー単位を持つことを特徴とする、チューインガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、前記各配列間に連結単位を含む、請求項1記載のガムベース。
- 前記連結単位が、ウレタン、エステル、アミド、カーボネート、カルバメート、ウレア、ジアルキルシロキシ-及びジアリールシロキシ-を基本とする単位、エーテル、チオエーテル及びオレフィンからなる群から選択される、請求項2記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーの分子量が、少なくとも5,000ダルトンである、請求項1、2又は3の何れかに記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーの分子量が、少なくとも50,000ダルトンである、請求項1、2又は3の何れかに記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーの分子量が、少なくとも200,000ダルトンである、請求項1、2又は3の何れかに記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーの分子量が、少なくとも500,000ダルトンである、請求項1、2又は3の何れかに記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、厳密に2種の異なるポリマーブロックの繰返し配列を含む、請求項1〜7の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、厳密に3種の異なるポリマーブロックの繰返し配列を含む、請求項1〜8の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、4種又は5種以上の異なるポリマーブロックの繰返し配列を含む、請求項1〜9の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、少なくとも3種の繰返し配列を含む、請求項1〜10の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、少なくとも4種の繰返し配列を含む、請求項1〜11の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記ポリマーブロックが、乳酸、エチレングリコール、プロピレングリコール、D,L-ラクチド、D-ラクチド、L-ラクチド、酢酸ビニル、エチレンテレフタレート、グリコール酸、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレン、6-メチルカプロラクトン、6-ブチル-ε-カプロラクトン、δ-デカラクトン、ファルネセン、ミルセン、イソプレン、ウレタン、アルキル-又はアリール-置換ε-カプロラクトン、アルキル-又はアリール-置換ラクトン、ジメチルシロキサン及び他のシロキサン、シクロオクテン、ビニルラウレート、エチレンオキサイド、オキシメチレン、メンチド(menthide)、カプロラクトン、バレロラクトン、プロピオラクトン、β-ブチロラクトン、トリメチレンカーボネート、メタクリレート及びジメチルブタジエンのホモポリマー、交互コポリマー及びランダムコポリマーからなる群から選択される、請求項1〜12の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、単一のガラス転移温度を示す、請求項1〜13の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、少なくとも2つのガラス転移温度を示す、請求項1〜14の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記ガラス転移温度の最大の値が、20〜70℃なる範囲にある、請求項15記載のガムベース。
- 前記ガラス転移温度の最大の値が、30〜50℃なる範囲にある、請求項15記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、40℃以下の第二のガラス転移温度を持つ、請求項16又は17記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、30℃以下の第二のガラス転移温度を持つ、請求項16又は17記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、20℃以下の第二のガラス転移温度を持つ、請求項16又は17記載のガムベース。
- 前記ガムベースが、更にジ-ブロックコポリマーをも含む、請求項1〜20の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記2-ブロックコポリマーが、前記マルチブロックコポリマー内の少なくとも1種のモノマー単位と相溶性の、少なくとも1種のモノマー単位を含む、請求項21記載のガムベース。
- 前記ガムベースが、更に0〜5%なる範囲の非-シリカ系フィラーをも含む、請求項1〜22の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記ガムベースが、更に5〜40%なる範囲のアモルファスシリカフィラーをも含む、請求項1〜23の何れか1項に記載のガムベース。
- 請求項1〜24の何れか1項に記載されたガムベースを含むことを特徴とする、チューインガム。
- 前記チューインガムが、更に前記マルチブロックコポリマーを分解することのできる酵素をも含む、請求項25記載のチューインガム。
- 前記酵素がカプセル化されている、請求項26記載のチューインガム。
- 前記酵素が、基質上に固定化されている、請求項26記載のチューインガム。
- 少なくとも2種の異なるポリマーブロックからなる少なくとも2種の繰返し配列を含む、マルチブロックコポリマーを含有し、該ポリマーブロックが、少なくとも3つのモノマー単位を含み、該マルチブロックコポリマーが、少なくとも一つの水素結合ドナー及び少なくとも一つの水素結合アクセプタを含むことを特徴とする、チューインガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、更に連結単位をも含む、請求項29記載のガムベース。
- 前記連結単位がウレタン、エステル、アミン、アミド、カーボネート、カルバメート、ウレア、ジアルキルシロキシ-及びジアリールシロキシ-を基本とする単位、エーテル、チオエーテル及びオレフィンからなる群から選択される、請求項30記載のガムベース。
- 前記連結単位が、少なくとも一つの水素結合ドナー及び水素結合アクセプタを含む請求項30記載のガムベース。
- 前記マルチブロックが、少なくとも2,000ダルトンなる分子量を持つ、請求項29〜32の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックが、少なくとも5,000ダルトンなる分子量を持つ、請求項29〜32の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックが、少なくとも10,000ダルトンなる分子量を持つ、請求項29〜32の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックが、50,000ダルトン以下なる分子量を持つ、請求項29〜35の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックが、30,000ダルトン以下なる分子量を持つ、請求項29〜35の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックが、20,000ダルトン以下なる分子量を持つ、請求項29〜35の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記ポリマーブロックが、乳酸、エチレングリコール、プロピレングリコール、D,L-ラクチド、D-ラクチド、L-ラクチド、酢酸ビニル、エチレンテレフタレート、グリコール酸、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、イソプレン、6-メチルカプロラクトン、6-ブチル-ε-カプロラクトン、δ-デカラクトン、ファルネセン、ミルセン、イソプレン、ウレタン、アルキル-又はアリール-置換ε-カプロラクトン、アルキル-又はアリール-置換ラクトン、ジメチルシロキサン及び他のシロキサン、シクロオクテン、ビニルラウレート、エチレンオキサイド、オキシメチレン、メンチド(menthide)、カプロラクトン、バレロラクトン、プロピオラクトン、β-ブチロラクトン、トリメチレンカーボネート、メタクリレート及びジメチルブタジエンのホモポリマー、交互コポリマー及びランダムコポリマーからなる群から選択される、請求項29〜38の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、単一のガラス転移温度を示す、請求項29〜39の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、少なくとも2つのガラス転移温度を示す、請求項29〜39の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記ガラス転移温度の最大の値が、20〜70℃なる範囲にある、請求項41記載のガムベース。
- 前記ガラス転移温度の最大の値が、30〜50℃なる範囲にある、請求項41記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、40℃以下の第二のガラス転移温度を持つ、請求項42又は43記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、30℃以下の第二のガラス転移温度を持つ、請求項42又は43記載のガムベース。
- 前記マルチブロックコポリマーが、20℃以下の第二のガラス転移温度を持つ、請求項42又は43記載のガムベース。
- 前記ガムベースが、更に0〜5%なる範囲の非-シリカ系フィラーをも含む、請求項29〜46の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記ガムベースが、更に5〜40%なる範囲のアモルファスシリカフィラーをも含む、請求項29〜47の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記ガムベースが、更にジ-ブロックコポリマーをも含む、請求項29〜48の何れか1項に記載のガムベース。
- 前記ジ-ブロックコポリマーが、前記マルチブロックコポリマー内の少なくとも1種のモノマー単位と相溶性の、少なくとも1種のモノマー単位を含む、請求項49記載のガムベース。
- 請求項29〜50の何れか1項に記載されたガムベースを含むことを特徴とする、チューインガム。
- 前記チューインガムが、更に前記マルチブロックコポリマーを分解することのできる酵素をも含む、請求項51記載のチューインガム。
- 前記酵素がカプセル化されている、請求項52記載のチューインガム。
- 前記酵素が、基質上に固定化されている、請求項52記載のチューインガム。
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