JP2014216034A - 磁気記録用磁性粒子およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】磁性粒子の微粒子化と保磁力調整を両立するための手段を提供すること。【解決手段】原料磁性粒子にガラス成分を被着させるガラス成分被着処理を施すこと、および、前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子に、加熱を伴う保磁力低減処理を施すことにより、前記原料磁性粒子よりも低い保磁力を有する磁性粒子を得ること、を含む磁気記録用磁性粒子の製造方法。【選択図】なし

Description

本発明は、磁気記録用磁性粒子の製造方法に関するものであり、詳しくは、磁性粒子の微粒子化および保磁力低減を両立することにより記録に適した保磁力および粒子サイズを有する磁性粒子の提供を可能とする磁気記録用磁性粒子の製造方法に関するものである。
更に本発明は、前記製造方法により得られた磁気記録用磁性粒子に関する。

従来、磁気記録分野では、熱揺らぎ減磁を防ぐため、磁性粒子の結晶磁気異方性を高めることにより熱的安定性を向上することが検討されていた。しかしその反面、結晶磁気異方性の高い磁性粒子は、スイッチング磁界が増大するため保磁力が高く、記録に大きな外部磁場が必要となり記録性に劣る点が課題である。

そこで近年、磁性粒子の保磁力を記録に適する値に制御する技術、具体的には高保磁力磁性粒子の保磁力を低減するための技術について各種提案がなされている（例えば特許文献１〜３参照）。

特開２０１２−０２７９７８号公報 特開２０１１−２１６８３８号公報 特開２０１２−１６０４８６号公報

上記特許文献１〜３に記載されている技術は、いずれも磁性粒子の保磁力を記録に適した範囲に制御することを可能にするものである。しかるに本発明者の検討の結果、磁性粒子の更なる微粒子化の観点からは、更なる改良が求められることが、新たに判明した。

そこで本発明の目的は、磁性粒子の微粒子化と保磁力調整を両立するための手段を提供することにある。

本発明者は上記目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、特許文献１〜３に記載の保磁力低減処理はいずれも加熱を伴うことが、磁性粒子の更なる微粒子化の妨げとなっていると推察するに至った。この点について更に説明すると、上記加熱において磁性粒子同士が焼結し凝集することが、磁性粒子の更なる微粒子化の妨げになっていると考えられる。
そこで本発明者は更に検討を重ね、加熱を伴う保磁力低減処理を行う前に、磁性粒子にガラス成分を被着させることにより、上記加熱時の磁性粒子の焼結を防止することによって、磁性粒子の微粒子化と保磁力調整（保磁力低減）の両立が可能となることを新たに見出し、本発明を完成させた。
なお従来、ガラス成分の一種であるシリカを焼結防止剤として用いることが、例えば特開２００８−２７７７２６号公報などに提案されていた。同公報をはじめとする従来の技術では、粒子を焼結防止剤により完全に覆うことが求められていた。しかし、磁性粒子表面をガラス成分によって完全に被覆した場合、ガラス成分被着後に行われる保磁力低減処理の作用を磁性粒子に及ぼすことは容易ではない。その結果、磁性粒子の保磁力を低下させることが困難になるか、またはできなくなってしまう場合がある。
そこで本発明の好ましい態様では、保磁力低減処理を妨げない程度に磁性粒子にガラス成分を被着させる。即ち、磁性粒子の全表面をガラス成分により完全に被覆せず、ガラス成分を磁性粒子の表面に部分的に、例えば海島状（磁性粒子表面（海）の上に複数の島状にガラス成分が被着している状態）に、被着させる。その結果、原料磁性粒子に対して保磁力が低減された磁性粒子を容易に得ることができるのである。そしてこうして得られた磁性粒子は、ガラス成分の被着なしで加熱を伴う保磁力低減処理を施し得られた磁性粒子に対して、微粒子化が達成されたものとなる。これは、ガラス成分の存在により保磁力低減処理時の加熱における粒子の焼結が防止された結果である。

即ち、上記目的は、下記手段により達成された。
［１］原料磁性粒子にガラス成分を被着させるガラス成分被着処理を施すこと、および、
前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子に、加熱を伴う保磁力低減処理を施すことにより、前記原料磁性粒子よりも低い保磁力を有する磁性粒子を得ること、
を含む磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［２］前記ガラス成分被着処理において、原料磁性粒子表面をガラス成分により部分的に被覆する［１］に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［３］前記原料磁性粒子は、フェライト磁性粒子である［１］または［２］に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［４］前記ガラス成分は、ケイ素化合物の加水分解物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［５］前記ケイ素化合物は、アルコキシシランである、［４］に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［６］前記原料磁性粒子を含む溶液に前記ガラス成分の前駆体を添加し撹拌することにより、該前駆体の加水分解物であるガラス成分を前記原料磁性粒子に被着させることを含む、［１］〜［５］のいずれかに記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［７］前記保磁力低減処理後の磁性粒子表面からガラス成分を除去する工程を更に含む、［１］〜［６］のいずれかに記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［８］前記ガラス成分を、アルカリにより溶解除去する、［７］に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［９］前記保磁力低減処理を、前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子を還元性雰囲気中で加熱処理することにより行う、［１］〜［８］のいずれかに記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［１０］前記還元性雰囲気は、水素ガスおよび炭化水素ガスからなる群から選ばれる還元性ガスを含む、［９］に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［１１］前記加熱処理前に、前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子表面に遷移金属塩を被着させることを更に含む、［９］または［１０］に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［１２］前記保磁力低減処理を、前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子表面に遷移金属含有有機化合物を付着させた後、該化合物を熱分解することにより行う、［１］〜［８］のいずれかに記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［１３］前記熱分解を気相熱分解により行う、［１２］に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［１４］前記遷移金属含有有機化合物は、アセチルアセトナート化合物を配位子とする遷移金属錯体である、［１２］または［１３］に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［１５］前記原料磁性粒子は、六方晶フェライト粒子である、［１］〜［１４］のいずれかに記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［１６］前記原料磁性粒子は、ε−酸化鉄粒子である、［１］〜［１４］のいずれかに記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
［１７］［１］〜［１６］のいずれかに記載の製造方法により得られた磁気記録用磁性粒子。

本発明によれば、記録に適した保磁力を有する微粒子の磁気記録用磁性粒子を提供することができる。

本発明は、原料磁性粒子にガラス成分を被着させるガラス成分被着処理を施すこと、および、前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子に、加熱を伴う保磁力低減処理を施すことにより、前記原料磁性粒子よりも低い保磁力を有する磁性粒子を得ること、を含む磁気記録用磁性粒子の製造方法（以下、「磁性粒子の製造方法」または「製造方法」とも記載する。）に関する。
前述の通り、上記工程を経て磁性粒子を製造することにより、原料磁性粒子に対して保磁力が低減された、微粒子の磁気記録用磁性粒子を得ることが可能となる。
以下、本発明の磁性粒子の製造方法について、更に詳細に説明する。

原料磁性粒子
原料磁性粒子としては、磁気記録用途に用いられる各種磁性粒子を用いることができる。中でも、高密度記録化のために微粒子化しても高い熱的安定性を示すことができる高い結晶磁気異方性を有する磁性粒子（異方性定数Ｋｕの高い高Ｋｕ磁性粒子）を用いることが好ましい。そのような磁性粒子としては、ＦｅＰｔ等の貴金属、ＮｄＦｅＢ等の希土類、Ｆｅ₁₆Ｎ₂のような窒化物、および六方晶フェライト、ε−酸化鉄等のフェライト磁性粒子を挙げることができる。
ただし、高Ｋｕ磁性粒子は保磁力が高く情報の書き込みが困難であり記録性に劣る点が課題である。これに対し、本発明によれば、原料磁性粒子よりも保磁力の低い磁性粒子を得ることができるため、上記磁性粒子の記録性の改善が可能である。

原料磁性粒子としては、粒子サイズが８〜３０ｎｍであって高密度記録用磁気記録媒体の磁性体として好適な微粒子磁性粒子を用いることが好ましい。上記粒子サイズは、より好ましくは８〜２０ｎｍの範囲である。本発明によれば、原料磁性粒子の焼結を防止しつつ保磁力を低減することにより、記録に適した保磁力を有する微粒子の磁気記録用磁性粒子を提供することが可能となる。

ここで、本発明において粒子サイズとは、以下の方法により測定した値をいうものとする。
日立製透過型電子顕微鏡Ｈ−９０００型を用いて粒子を撮影倍率１０００００倍で撮影し、総倍率５０００００倍になるように印画紙にプリントして粒子写真を得る。粒子写真から目的の粒子を選びデジタイザーで粒子の輪郭をトレースしカールツァイス製画像解析ソフトＫＳ−４００で粒子のサイズを測定する。粒子が集合した粉体については、５００個の粒子のサイズを測定し、それら粒子サイズの平均値を粒子サイズ（平均粒子サイズ）とする。

なお、本発明において、磁性粒子等の粉体のサイズ（以下、「粉体サイズ」と言う）は、（１）粉体の形状が針状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、粉体を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、（２）粉体の形状が板状乃至柱状（ただし、厚さ乃至高さが板面乃至底面の最大長径より小さい）場合は、その板面乃至底面の最大長径で表され、（３）粉体の形状が球形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。円相当径とは、円投影法で求められるものを言う。
また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉体サイズの算術平均であり、５００個の一次粒子について上記の如く測定を実施して求めたものである。一次粒子とは、凝集のない独立した粉体をいう。

また、該粉体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の（長軸長／短軸長）の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体サイズの定義で（１）の場合は、粉体を構成する短軸の長さを、同じく（２）の場合は、厚さ乃至高さを各々指し、（３）の場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸長）は、便宜上１とみなす。
そして、粉体の形状が特定の場合、例えば、上記粉体サイズの定義（１）の場合は、平均粉体サイズを平均長軸長と言い、同定義（２）の場合は平均粉体サイズを平均板径と言い、（最大長径／厚さ乃至高さ）の算術平均を平均板状比という。同定義（３）の場合は平均粉体サイズを平均直径（平均粒径、平均粒子径ともいう）という。
形状異方性は（２）、（３）、（１）の順に大きくなる。磁化容易軸を面内に配向させる場合には形状異方性を単純に大きくできる方を選択することが、微粒子化の観点から好ましい。一方、垂直記録用に磁化容易軸を面に対し垂直に配向する場合には、塗布等の流動配向の観点を加味すべきであるため、（２）、（１）、（３）の順に好ましくなっていく。一方、後述するε−酸化鉄は、熱的安定性の観点から、（３）の形態をとることが好ましく、球形をとることがより好ましい。

原料磁性粒子としては、熱的安定性の観点から上述の各種高Ｋｕ磁性粒子を使用することが好ましい。磁性粒子の磁気的特性として、熱的安定性に優れる高Ｋｕ磁性粒子の保磁力Ｈｃは、２５℃において、通常２３０ｋＡ／ｍ以上、更には２４０ｋＡ／ｍ以上、例えば２４０ｋＡ／ｍ〜１６００ｋＡ／ｍ程度の範囲である。

ガラス成分被着処理
原料磁性粒子へのガラス成分の被着は、乾式法により行ってもよく、湿式法により行ってもよい。ガラス成分の被着処理の容易性の観点からは、湿式法により行うことが好ましく、共沈法または逆ミセル法によりフェライト磁性粒子を得る工程において、磁性粒子にガラス成分を被着させることが、より好ましい。
以下、フェライト磁性粒子である六方晶フェライト、ε−酸化鉄のそれぞれについて、湿式でガラス成分を被着させる方法の具体的態様について、説明する。

（ｉ）ガラス成分が被着した六方晶フェライト磁性粒子の作製例
共沈法では、フェライトを構成するために必要な金属元素（鉄、アルカリ土類金属、Ｃｏ等）の水溶性塩および必要に応じて保磁力制御用の元素（Ｔｉ、Ｚｎ等）の水溶性塩を水に溶解した水溶液とアルカリ水溶液とを混合し、鉄塩とアルカリ土類金属塩（および任意に含まれる上記元素の塩）を共沈させる。
一方、逆ミセル法では、フェライトを構成するために必要な金属元素の塩を溶解した水溶液に、界面活性剤および水と混ざり合わない有機溶媒を添加しＷ／Ｏエマルジョンを形成し、これにアルカリを加えて沈殿させることにより、鉄塩とアルカリ土類金属塩との共沈物を得る。逆ミセル法では、例えば界面活性剤と水との混合比により、共沈物の粒子サイズをコントロールすることができる。
上記水溶性塩としては、硝酸塩、塩化物等を挙げることができ、アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、等を挙げることができる。
共沈法、逆ミセル法はいずれも六方晶フェライトの製造方法として公知であり、本発明でも公知技術により、鉄塩およびアルカリ土類金属塩を含む粒子（共沈物）を得ることができる。粒子中に含まれる鉄塩およびアルカリ土類金属塩の種類は、使用した水溶性塩の種類により定まるものである。例えば硝酸鉄(III)およびアルカリ土類金属の硝酸塩を使用することにより、鉄塩として水酸化鉄を、アルカリ土類金属塩として炭酸塩を含む共沈物を得ることができる。なおアルカリ土類金属としてバリウムを使用することによりバリウムフェライトを、ストロンチウムを使用することによりストロンチウムフェライトを、カルシウムを使用することによりカルシウムフェライトを得ることができる。
後述するように本発明では粒子にガラス成分を被着させる。アルカリ土類金属はガラスに取込まれやすいため、ここでは化学両論組成以上の量、例えば化学両論組成の１倍〜５倍の量のアルカリ土類金属を加えることが好ましく、化学両論組成の１．５倍〜４倍の量のアルカリ土類金属を加えることがより好ましい。

ガラス成分を被着させた後の焼成は、例えば５００〜１０００℃の焼成温度で行うことができる。本作製例における焼成およびそれ以降の工程についても、共沈法および逆ミセル法に関する公知技術を適用することができる。
共沈法の詳細については、例えば特開２０１０−１１７１号公報段落［００４３］〜［００５０］および実施例１〜５、特開平４−３２００５号公報第４欄３７行目〜第６欄３１行目および実施例、逆ミセル法については特開平３−２０４９０９号公報の２頁左下欄３行目〜３頁左下欄１２行目の記載および実施例、特開２００７−９１５１７号公報段落［００１１］〜［００２４］、［００２７］〜［００３０］および実施例、の記載を参照できる。

本作製例では、以上説明した鉄塩およびアルカリ土類金属塩を含む粒子にガラス成分を被着させる。ガラス成分の被着を溶液中で行うことが、被着が容易であり好ましい。例えば、鉄塩およびアルカリ土類金属塩を含む粒子を含有する溶液にガラス成分の前駆体を添加し撹拌することにより、当該前駆体の加水分解物であるガラス成分を粒子に被着させることができる。共沈法または逆ミセル法により上記粒子を得る場合には、粒子を共沈（沈殿）させた溶液に前駆体を添加することにより、いわゆるゾル−ゲル法により粒子表面にガラス成分を析出させることができる。粒子にガラス成分を被着させるために好適な前駆体としては、ケイ素化合物を挙げることができる。ケイ素化合物としては、アルコキシシラン等のシラン化合物を用いることが好ましい。シラン化合物を加水分解することにより、粒子表面にシリカ（ＳｉＯ₂）を被着させることができる。中でも、ゾル−ゲル法によりシリカを形成可能なオルトケイ酸テトラエチル（ＴＥＯＳ）を用いることが好ましい。

ただし、粒子がガラス成分に完全に覆われてしまうと、焼成においてフェライト形成に対してヘマタイト形成が優位に進行してしまい、六方晶フェライト磁性粒子ではなく、ヘマタイトが形成されてしまう。なお本発明において、六方晶フェライト磁性粒子とは、Ｘ線回折による分析において主成分として六方晶フェライトが検出される粒子をいうものとする。ここで主成分として六方晶フェライトが検出されるとは、Ｘ線回折スペクトルにおいて最大強度を示すピークが六方晶フェライトの結晶構造由来のピークであることをいう。

粒子をガラス成分により完全に覆った場合、ヘマタイト形成が優位に進行する理由は、以下の点にあると推察される。
例えば、水酸化鉄と炭酸バリウムを含む粒子を焼成することによりバリウムフェライト磁性粒子を得ることができる。焼成中には、Ｆｅ（ＯＨ）₂が酸化されＦｅＯが生成し、ＢａＣＯ₃が分解しＢａＯとＣＯ₂が生成し、生成されたＦｅＯとＢａＯによりバリウムフェライトが合成される。ただし、六方晶フェライトの合成において、粒子が完全にガラス成分に覆われた状態では、生成したＣＯ₂は反応系内に留まってしまう。これによりＢａＣＯ₃からＢａＯを生成する反応の進行が妨げられることが、ヘマタイトの生成が優位に進行する理由と考えられる。他の鉄塩およびアルカリ土類金属塩を含む粒子を焼成する場合も同様に、アルカリ土類金属塩の分解反応の進行が妨げられることが、フェライト形成が妨げられる理由と推察される。また、六方晶フェライトの合成には酸素分圧依存性があることが知られており、粒子をガラス成分で完全に覆った場合、酸素が供給されなくなり、六方晶フェライトの合成が阻害されると推察される。
したがって本作製例では、Ｘ線回折による分析において主成分として六方晶フェライトが検出される焼成物を得られる量のガラス成分により、粒子表面を被着する。粒子の一部が未被着の状態となるようにガラス成分を粒子に被着させれば、例えば先に例示した反応系では、生成したＣＯ₂が未被着部分から反応系外に出るため、ＢａＣＯ₃からＢａＯを生成する反応の進行が妨げられることなく、その結果、Ｘ線回折による分析において主成分として六方晶フェライトが検出される焼成物を得ることができる。例えば、溶液中に存在する鉄（粒子に含まれているものと溶液中に含まれているものを含む）１モルに対して０．０５〜０．４モル％の範囲の量で、ガラス成分の前駆体を溶液に添加することにより、ガラス成分が被着していない部分を有する粒子を得ることができる。また、こうしてガラス成分を被着させることにより、本発明では保磁力低減処理における加熱により、磁性粒子同士が焼結し粗大粒子化してしまうことを防ぐことができる。

ガラス成分が被着した粒子は、好ましくは焼成前に、洗浄および風乾等による乾燥に付される。洗浄は、例えば特開２００７−９１５１７号公報段落［００２４］に記載されているように、水と１級アルコールとの混合溶媒を用いて行うことができる。または、他の有機溶媒による洗浄を行ってもよい。

その後、乾燥させた粒子は、任意に粉砕工程に付した後、焼成される。粉砕工程を行うことにより焼成を均一に行うことができ、最終的に行われ得るガラス成分の除去が容易になる。
前述のように、焼成については、共沈法および逆ミセル法に関する公知技術を適用することができる。焼成後の粒子は、Ｘ線回折による分析において、主成分として六方晶フェライトが検出されるものである。
こうして得られた六方晶フェライト磁性粒子は、後述する加熱を伴う保磁力低減処理に付される。六方晶フェライトの形成を優位に進行させるために、粒子をガラス成分により完全には被覆していないため、ガラス成分の存在により保磁力調整が妨げることなく、磁性粒子の保磁力を容易に低減することができる。

（ｉｉ）ガラス成分が被着したε−酸化鉄磁性粒子の作製例
ε−酸化鉄の調製方法としては、逆ミセル法による方法が好ましく用いられる。逆ミセル法によるε−酸化鉄の調製は、
（１）ε−酸化鉄の前駆体である鉄塩粒子（以下、「前駆体粒子」ともいう。）の作製工程；
（２）好ましくはゾル−ゲル法による、ガラス成分による前駆体粒子の被覆工程；
（３）ガラス成分に被覆された前駆体粒子の加熱焼成
を含むことができる。これにより、加熱焼成により前駆体粒子が転換することでε−酸化鉄磁性粒子が得られる。こうして得られたε−酸化鉄磁性粒子は、工程（２）により前駆体粒子に被着させたガラス成分が被着している。
以下、各工程について、順次説明する。

工程（１）では、逆ミセル法によりミセル溶液から前駆体の鉄塩粒子を析出させることができる。より詳しくは、鉄の水溶性塩を溶解した水溶液に、界面活性剤および水と混ざり合わない有機溶媒を添加しＷ／Ｏエマルジョンを形成し、これにアルカリを加えることで鉄塩を析出させる。例えば界面活性剤と水との混合比により、析出する鉄塩の粒子サイズをコントロールすることができる。後述するようにガラス成分によって前駆体粒子を被覆した後に加熱焼成を行うことで、ε−酸化鉄粒子が焼結し粗大粒子となることを防ぐことができる。したがって、最終的に得られるε−酸化鉄粒子の粒子サイズは、主にここで析出する鉄塩粒子の粒子サイズによって制御することができる。

上記水溶性塩としては、鉄の硝酸塩、塩化物等を挙げることができ、アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、アンモニア水等を挙げることができる。また、ε−酸化鉄は、Ｆｅの一部を他の元素に置換することで磁気特性を制御することができる。置換元素としては、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｔｉ等を挙げることができる。このような置換型のε−酸化鉄も、本発明において原料磁性粒子として使用することができる。逆ミセル法により置換型ε−酸化鉄を得る場合には、工程（１）においてミセル溶液に置換元素の化合物（硝酸塩、水酸化物等）を添加すればよい。

工程（２）は、工程（３）において粒子同士が焼結し粗大粒子化することを防ぐために、加熱焼成前に前駆体粒子表面にガラス成分を被覆する工程である。ガラス成分を前駆体粒子表面に均一に被覆する観点からは、ゾル−ゲル法により前駆体粒子表面にガラス成分を被覆させることが好ましい。ここでは、ガラス成分により前駆体粒子を完全には被覆しないことが好ましい。ここで被着させるガラス成分は、加熱焼成後に得られるε−酸化鉄磁性粒子表面に残留することとなるが、粒子がガラス成分により完全に被覆されていると、その後に行われる保磁力低減処理により磁性粒子の保磁力を低下させることは容易ではないからである。
そのためには、例えば、溶液中に存在する鉄（粒子に含まれているものと溶液中に含まれているものを含む）１モルに対して０．０５〜０．４モル％の範囲の量で、ガラス成分の前駆体を溶液に添加することが好ましい。本作製例で用いるガラス成分およびその前駆体については、先に六方晶フェライト磁性粒子に関する作製例について、説明した通りである。

ガラス成分により被覆した前駆体粒子は、工程（３）の前に前駆体粒子表面から未反応物（上記のシラン化合物等）を除去するために洗浄に付すこともできる。洗浄は、水、有機溶媒、またはそれらの混合溶媒を用いて行うことができる。

以上のようにガラス成分により被覆された前駆体粒子は、必要に応じて、溶液からの取り出し、洗浄、乾燥、粉砕等の処理を施した後に、工程（３）の加熱焼成に付される。粉砕することにより、焼成を均一に行うことができ、また焼成後の焼結防止剤の除去が容易になる。

工程（３）における加熱焼成は、例えば５００〜１５００℃の雰囲気温度で行うことができる。例えば空気中で上記雰囲気温度で前駆体粒子を加熱焼成することにより、酸化反応等により、前駆体粒子をε−酸化鉄に転換することができる。
こうして得られたε−酸化鉄磁性粒子は、工程（２）においてガラス成分が、好ましくは後述する保磁力低減処理における保磁力調整を妨げない程度に被着されたものである。

以上説明したように、原料磁性粒子を含む溶液にガラス成分の前駆体を添加し撹拌することにより、該前駆体の加水分解物であるガラス成分を前記原料磁性粒子に被着させる方法は、共沈法または逆ミセル法の工程において実施可能であるため、工程の簡略化および作業性の観点から好ましい。ただし、上記方法は、共沈法または逆ミセル法の工程において実施する態様に限定されるものではない。共沈法、逆ミセル法、または他の調製法により作製された磁性粒子に、上記方法によりガラス成分被着処理を施すことも、可能である。
また、本発明におけるガラス成分被着処理は、上記具体的態様に限定されるものではない。加熱を伴う保磁力低減処理を施す前の磁性粒子にガラス成分を被着可能な方法であれば、何ら制限なく用いることができる。

保磁力低減処理
本発明において、前述のガラス成分被着処理によりガラス成分が被着した磁性粒子は、保磁力低減処理に付される。ここで行われる保磁力低減処理は加熱を伴う処理であるため、ガラス成分の被着なしでは、微粒子の磁性粒子を得ることは困難である。これは、加熱時に粒子同士が焼結、凝集することで粗大粒子が形成されるためである。これに対し本発明では、保磁力低減処理の前に磁性粒子に被着させたガラス成分の存在により、焼結を低減ないし防止することができるため、保磁力低減と微粒子化を同時に達成することが可能である。

加熱を伴う保磁力低減処理の具体的態様としては、下記態様ＡおよびＢを例示することができる。
（態様Ａ）ガラス成分被着処理後の磁性粒子を、還元性雰囲気中で加熱処理（以下、「加熱還元処理」ともいう。）する態様；
（態様Ｂ）ガラス成分被着処理後の磁性粒子表面に遷移金属含有有機化合物を付着させた後、この遷移金属含有有機化合物を熱分解する態様。

以下、上記態様Ａ、Ｂについて、順次説明する。

（ｉ）保磁力低減処理の具体的態様Ａ
態様Ａは、ガラス成分被着処理後の磁性粒子に加熱還元処理を施すことにより、原料磁性粒子よりも低い保磁力を示す磁性粒子を得る。加熱還元処理の一態様としては、ガラス成分被着処理後の磁性粒子を、炭化水素ガスを含有する還元性雰囲気中で加熱する方法を挙げることができる。本方法の詳細については、特開２０１２−１６０４８６号公報の段落００１９〜００２１、および同公報の実施例を参照できる。

また、態様Ａの他の一態様としては、ガラス成分被着処理後の磁性粒子を、水素ガスを含有する還元性雰囲気中で加熱する方法を挙げることができる。本方法の詳細については、特開２０１２−１６９０２６号公報の段落００２２〜００２４、および同公報の実施例を参照できる。なお特開２０１２−１６９０２６号公報に記載の技術では、飽和磁化の調整を主な目的と、同公報段落００１３に記載の第一領域に相当する加熱還元処理を行うべく加熱還元条件を制御している。これに対し本発明では、保磁力を低減させることができれば、第一領域に限らず、他の領域、例えば第二領域に相当する加熱還元処理を行うことも可能である。

また、加熱還元処理を行う還元性雰囲気は、上述の炭化水素ガス、水素ガスを含むものに限定されるものではなく、一酸化炭素等の他の還元性ガスを含む雰囲気であってもよい。

一方、加熱還元処理の他の態様としては、加熱還元処理を施す前に、ガラス成分被着処理後の磁性粒子表面に、遷移金属塩を被着させる方法を挙げることもできる。本方法の詳細については、特開２０１１−２１６８３８号公報の段落００３９〜００５３、および同公報の実施例の記載を参照できる。なお本方法による処理が施された磁性粒子は、特開２０１１−２１６８３８号公報の段落００２９〜００３８に記載されているように、硬磁性粒子であるコアの表面に軟磁性体（シェル）が被着したコア／シェル構造を取り得る。本明細書に記載のコア／シェル構造とは、コアの全表面がシェルにより被覆されている態様とともに、コアの表面に部分的に、好ましくは海島状にシェルが被着している態様も含むものとする。また、同公報に記載されているように、硬磁性粒子と軟磁性体が交換結合することが、磁性粒子の保磁力低減に寄与し得る。本態様では、磁性粒子と遷移金属塩が直接接触することが保磁力低減に大きく寄与すると推察される。したがって、ガラス成分被着処理により磁性粒子の全表面をガラス成分で被覆してしまうと、その後の処理により保磁力を低減することは困難になると考えられる。したがって、本態様により保磁力低減処理を行う場合には、ガラス成分被着処理において磁性粒子表面を部分的に被覆するようにガラス成分を被着させることが好ましい。これに対し、遷移金属塩を被着させることなく、ガラス成分被着処理後の磁性粒子を保磁力低減処理に付す態様では、ガラス成分被着処理において磁性粒子の全表面をガラス成分で被覆することも可能である。ただし、ガラス成分を介して磁性粒子の、好ましくは表層部を改質し磁性粒子の保磁力を低減するには、還元処理条件を強化しなければならない。したがって、保磁力低減の容易性の観点からは、本態様についても、ガラス成分被着処理により磁性粒子の全表面をガラス成分により被覆せず、部分的に被覆することが好ましい。

（ｉｉ）保磁力低減処理の具体的態様Ｂ
態様Ｂは、ガラス成分被着処理後の磁性粒子表面に遷移金属含有有機化合物を付着させた後、この遷移金属含有有機化合物を熱分解することにより、原料磁性粒子よりも低い保磁力を示す磁性粒子を得る。磁性粒子表面に付着させる遷移金属含有有機化合物は、例えばアセチルアセトナート化合物を配位子とする遷移金属錯体である。また、上記熱分解は、気相または液相で行うことができ、好ましくは気相で行われる。
その他、本態様の詳細については、特開２０１２−２７９７８号公報の段落００２８〜００４６、および同公報の実施例を参照できる。本態様による処理が施された磁性粒子は、特開２０１２−２７９７８号公報の段落０００８、００４４に記載されているように、硬磁性粒子であるコアの表面に上記有機化合物の熱分解物がシェルとして存在するコア／シェル構造を取り得る。また、同公報に記載されているように、このコア／シェル構造においてコアとシェルが交換結合することが、磁性粒子の保磁力低減に寄与し得ると推察される。本態様についても、磁性粒子と遷移金属含有有機化合物が直接接触することが保磁力低減に大きく寄与すると推察される。したがって、ガラス成分被着処理により磁性粒子の全表面をガラス成分で被覆してしまうと、その後の処理により保磁力を低減することは困難になると考えられる。したがって、本態様により保磁力低減処理を行う場合にも、ガラス成分被着処理において磁性粒子表面を部分的に被覆するようにガラス成分を被着させることが好ましい。

以上の処理により原料磁性粒子と比べて保磁力が低く、記録に適した保磁力を有する磁気記録用磁性粒子を得ることができる。こうして得られる磁性粒子の保磁力は、原料磁性粒子よりも低い値であって、記録性と記録の保持性（熱的安定性）とを両立する観点からは、例えば８０ｋＡ／ｍ以上２４０ｋＡ／ｍ未満、好ましくは８０ｋＡ／ｍ以上２３０ｋＡ／ｍ未満、より好ましくは１６０ｋＡ／ｍ以上２３０ｋＡ／ｍ未満である。

上記保磁力低減処理後の磁性粒子は、任意にガラス成分除去処理に付される。ガラス成分は、例えば水酸化ナトリウム等のアルカリ溶液に粒子を浸漬する方法（アルカリ洗浄）またはフッ酸（ＨＦ）等により、溶解除去することができる。フッ酸は取扱いが容易ではないため、アルカリ洗浄が好ましく用いられる。

更に本発明は、以上説明した本発明の製造方法により得られた磁気記録用磁性粒子に関する。
本発明の磁気記録用磁性粒子は、加熱を伴う保磁力低減処理により、原料磁性粒子よりも低い保磁力を示すものである。更に、ガラス成分により加熱を伴う保磁力低減処理における粒子の焼結が防止されることで粗大粒子化が抑制される結果、原料磁性粒子に近い粒子サイズを有するものとなり得る。本発明の磁気記録用磁性粒子は、原料磁性粒子と同等の粒子サイズ、例えば８~３０ｎｍｎｍの範囲の粒子サイズを有することができ、更には８〜２０ｎｍの範囲の粒子サイズを有することができる。

本発明の磁気記録用磁性粒子を、結合剤および溶媒と混合し塗布液として支持体上に塗布することにより磁性層を形成することができる。したがって、本発明の磁気記録用磁性粒子は、塗布型磁気記録媒体への適用に好適である。即ち、本発明の磁気記録用磁性粒子を用いることにより、非磁性支持体上に強磁性粉末と結合剤とを含有する磁性層を有する磁気記録媒体であって、前記強磁性粉末が本発明の磁気記録用磁性粒子である磁気記録媒体を得ることができる。上記磁気記録媒体は、非磁性支持体上に、非磁性粉末および結合剤を含む非磁性層と本発明の磁気記録用磁性粒子および結合剤を含む磁性層とをこの順に有する重層構成の磁気記録媒体であることもでき、非磁性支持体の磁性層を有する面とは反対の面にバックコート層を有する磁気記録媒体であることもできる。本発明の磁気記録用磁性粒子を用いて磁気記録媒体を製造するためには、磁気記録媒体に関する公知技術を適用することができる。

以下に、本発明の具体的実施例および比較例を挙げるが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。以下に記載の「％」は、質量％を示し、記載されている割合は質量比を示す。

Ａ．シリカ被着バリウムフェライトの調製
〔手順１：ミセル溶液の作製〕
ミセル溶液Ｉおよびミセル溶液ＩＩを、以下の方法で作製した。
（１）ミセル溶液Ｉの作製
硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物１０．４６ｇ、硝酸バリウム０．８４６ｇ、臭化セチルトリメチルアンモニウム１２３．７ｇに純水２０７．９ｇを添加した後、ｎ−オクタン４３９．８ｇ、１−ブタノール１０１．２ｇを添加し撹拌し溶解した。
（２）ミセル溶液ＩＩの作製
臭化セチルトリメチルアンモニウム２４７．５ｇに１０％アンモニア水１７８．５ｇ、純水２５５．２ｇを添加した後、ｎ−オクタン８７９．６ｇ、１−ブタノール２０２．３ｇを添加し撹拌し溶解した。

〔手順２：共沈物の形成〕
ミセル溶液Ｉと混合する１０分前にミセル溶液IIに炭酸ナトリウム８．２ｇを添加し撹拌しながら、撹拌したミセル溶液Ｉを滴下した。滴下終了後、混合液を３０分間撹拌し続けた。

〔手順３：ガラス成分前駆体の加水分解〕
手順２で得られた混合液中には、水酸化鉄Ｆｅ（ＯＨ）₂と炭酸バリウムＢａＣＯ₃との共沈物が含まれている。上記ミセル溶液にはアンモニアが過剰量含まれていること、および水酸化鉄の溶解度は比較的低いことから、ミセル溶液に含まれていた鉄は、すべて共沈物に取り込まれていると考えられる。
当該混合液を撹拌しながら、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を、溶液中の鉄１モルに対して０．１４モルとなる量で加えた。約１日そのまま、撹拌し続けた。これにより、ＴＥＯＳが加水分解し、混合液中の共沈物表面にシリカが被着する。

〔手順４：洗浄〕
手順３で得られた溶液を分液ロートに入れ、純水、エタノールの１：１混合液を２００ｍｌ加え、静置し、赤褐色の部分とそれ以外の部分に分かれるのを待ち、赤褐色の部分以外を捨てた。この操作を３回繰返した後、遠心分離機にセットして遠心分離処理した。
以上の処理で得られた沈殿物を回収した。回収された沈殿物をクロロホルムとエタノールの混合溶液を用いて再分散し、遠心分離を行い得られた沈殿物を回収した。

〔手順５：焼成〕
手順４で得られた沈殿物を風乾により乾燥した後、乳鉢で粉砕した。その後、アルバック理工製イメージ炉で１Ｌ／ｍｉｎで酸素を送りながら炉内温度を８００℃として５分間、熱処理を施した。

以上の工程により、表面にシリカが被着したバリウムフェライト磁性粒子が得られた。得られた粒子については、粉末Ｘ線回折分析を、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社製Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ（線源ＣｕＫα線、電圧４５ｋＶ、電流４０ｍＡ）により行い、主成分が六方晶フェライトであることを確認した。

Ｂ．シリカ被着無置換ε−酸化鉄の調製
〔手順１：ミセル溶液の作製〕
ミセル溶液Ｉおよびミセル溶液ＩＩの２種類のミセル溶液を、以下の方法で作製した。
（１）ミセル溶液Ｉの作製
硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物１０．４６ｇ、臭化セチルトリメチルアンモニウム１２３．７ｇに純水２０７．９ｇを添加した後、ｎ−オクタン４３９．８ｇ、１−ブタノール１０１．２ｇを添加し撹拌し溶解した。
（２）ミセル溶液ＩＩの作製
臭化セチルトリメチルアンモニウム１２３．７ｇに１０％アンモニア水１７８．５ｇ、ｎ−オクタン４３９．８ｇ、１−ブタノール１０１．２を添加し撹拌し溶解した。

〔手順２：前駆体粒子の析出〕
ミセル溶液Ｉにミセル溶液ＩＩを撹拌しながら滴下した。滴下終了後、混合液を３０分間撹拌し続けた。

〔手順３：ガラス成分前駆体の加水分解〕
手順２で得られた混合液には、前駆体粒子である水酸化鉄Ｆｅ（ＯＨ）₂が析出している。当該混合液を撹拌しながら、当該混合液にテトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）を４８．９ｇ加えた。約１日そのまま、撹拌し続けた。これにより、ＴＥＯＳが加水分解し、混合液中の前駆体粒子表面にシリカが被着する。

〔手順４：洗浄〕
手順３で得られた溶液を分液ロートに入れ、純水、エタノールの１：１混合液を２００ｍｌ加え、静置し、赤褐色の部分とそれ以外の部分に分かれるのを待ち、赤褐色の部分以外を捨てた。この操作を３回繰返した後、遠心分離機にセットして遠心分離処理した。この処理で得られた沈殿物を回収した。回収された沈殿物をクロロホルムとエタノールの混合溶液を用いて再分散し、遠心分離を行い得られた沈殿物を回収した。

〔手順５：加熱焼成〕
手順４で得られた沈殿物を風乾により乾燥した後、乳鉢で粉砕した。その後、アルバック理工製イメージ炉で１Ｌ／ｍｉｎで空気を送りながら炉内温度を１０３０℃として２時間加熱処理を施した。これにより、表面にシリカが被着したε−酸化鉄粒子が得られた。得られた粒子がε−酸化鉄であることは、ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ社製Ｘ’Ｐｅｒｔ ＰＲＯ（線源ＣｕＫα線、電圧４５ｋＶ、電流４０ｍＡ）による粉末Ｘ線回折分析により確認した。

Ｃ．シリカ被着Ａｌ置換ε−酸化鉄の調製
手順１におけるミセル溶液Ｉの作製を以下の方法で行った点、および手順５における炉内温度を１０５０℃、加熱処理時間を１時間とした点以外、上記Ｂ．と同様の方法でＦｅの一部がＡｌに置換されたＡｌ置換ε−酸化鉄粉末を得た。
＜ミセル溶液Ｉの作製＞
硝酸鉄（ＩＩＩ）９水和物８．３７ｇ、硝酸アルミニウム１．９４ｇ、臭化セチルトリメチルアンモニウム１２３．７ｇに純水２０７．９ｇを添加した後、ｎ−オクタン４３９．８ｇ、１−ブタノール１０１．２ｇを添加し撹拌し溶解した。

Ｄ．ガラス成分被着なし（シリカ除去済）磁性粒子の調製
上記Ａ．（シリカ被着バリウムフェライトの調製）で得た表面にシリカが被着したバリウムフェライト磁性粒子を３モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中で２４時間撹拌し、粒子表面のシリカの除去処理を行った。次いで、遠心分離処理し沈殿物を回収して純水で再分散し遠心分離処理をすることで洗浄を行い、その後、風乾により乾燥した。

上記Ａ．で得た表面にシリカが被着したバリウムフェライト磁性粒子については、下記の保磁力低減処理後に、上記処理を施し、表面のシリカを除去した。

Ｅ．ガラス成分被着なし（シリカ除去済）磁性粒子の調製
上記Ｂ．（シリカ被着無置換ε−酸化鉄の調製）で得た表面にシリカが被着した無置換ε−酸化鉄粒子１ｇを５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液２５ｃｃの中に入れ、７０℃の温度で超音波をかけながら４時間処理し、その後、一昼夜撹拌した。こうして、ε−酸化鉄粒子表面からシリカを除去した。
その後、水洗、遠心分離を繰返し、上澄み液のｐＨが８未満になるまで洗浄を行った後、風乾により乾燥した。

上記Ｂ．で得た表面にシリカが被着した無置換ε−酸化鉄粒子については、下記の保磁力低減処理後に、上記処理を施し、表面のシリカを除去した。

Ｆ．ガラス成分被着なし（シリカ除去済）磁性粒子の調製
上記Ｃ．（シリカ被着Ａｌ置換ε−酸化鉄の調製）で得た表面にシリカが被着したＡｌ置換ε酸化鉄粒子に対して上記Ｅ．と同様の処理を施すことにより、表面からシリカが除去されたε−酸化鉄粒子を得た。

上記Ｃ．で得た表面にシリカが被着したＡｌ置換ε−酸化鉄粒子については、下記の保磁力低減処理後に、上記処理を施し、表面のシリカを除去した。

Ｇ．水素還元による保磁力低減処理
処理対象の磁性粒子を反応炉内で、純水素ガス気流中で加熱処理した。還元処理中、反応炉のガス流入口から純水素ガス気流ガス気流を常時流入させつつ排気口から反応後のガスを排出した。反応炉としては、アルバック理工製ゴールドイメージ炉（Ｐ８１０Ｃ）を用い、昇温速度１５０℃／ｍｉｎで表１に示す加熱処理温度まで昇温し、該温度で表１に示す時間加熱処理を行い、その後、降温速度２０℃／ｍｉｎで炉内を４０℃まで冷却した後、空気を導入した。その後、温度が数度上昇した後、室温まで冷却した。

Ｈ．メタンガス還元による保磁力低減処理
処理対象の磁性粒子を反応炉内で、メタンガス含有還元性雰囲気ガス気流（４ｖｏｌ％ＣＨ₄＋９６Ｖｏｌ％Ｎ₂）中で加熱処理した。還元処理中、反応炉のガス流入口から還元性雰囲気ガス気流を常時流入させつつ排気口から反応後のガスを排出した。還元性雰囲気ガスは、炉にガスを供給する前に、表１記載の濃度になるよう混合調整した。反応炉としては、アルバック理工製ゴールドイメージ炉（Ｐ８１０Ｃ）を用い、昇温速度１５０℃／ｍｉｎで表１に示す加熱処理温度まで昇温し、該温度で表１に示す時間加熱処理を行い、その後、降温速度２０℃／ｍｉｎで炉内を室温まで冷却し、還元処理後の磁性粒子を窒素ガス気流中で炉から取り出した。

Ｉ．遷移金属塩被着後メタンガス還元による保磁力低減処理
塩化コバルト６水和物を用いて、溶液１００ｇあたりの塩化コバルト量が２ｍｍｏｌの塩化コバルト溶液を調製した。
処理対象の磁性粒子を、粒子表面が濡れるように調製した塩化コバルト溶液（粒子１ｇに対し溶液１ｇ）に浸漬し、アスピレーターで減圧しながら、溶媒を除去した。この際、３０分毎に塩溶液中の粒子を攪拌する処理を行った。
溶媒除去により得られた乾燥粉体を４ｖｏｌ％ＣＨ₄９６ｖｏｌ％Ｎ₂気流中で表１に示す温度で表１に示す時間処理することで、粒子表面の被覆層に含まれるＣｏ塩を還元分解した。
以上の工程により、処理対象の磁性粒子をコアとし、Ｃｏ含有軟磁性相をシェルとするコア／シェル磁性粒子が得られる。

Ｊ．遷移金属錯体被着後熱分解による保磁力低減処理
（１）鉄（III）アセチルアセトナートをアセトンで溶解し６質量％の赤色の溶液を作製した。
（２）処理対象の磁性粒子を、粒子表面が濡れるように上記溶液に浸漬した後（粒子１ｇに対し溶液１ｇ（鉄（III）アセチルアセトナート含有量：３４０μｍｏｌ）使用）、アスピレーターで減圧しながら、溶媒を除去した。この際、３０分毎に溶液中の粒子を攪拌する処理を行った。
（３）上記（２）の溶媒除去により得られた乾燥粉体を加熱炉（アルバック理工社製ゴールドイメージ炉QH−P810P）において、窒素気流中で表１に示す温度および時間で加熱処理することにより、粒子表面に析出（付着）した鉄（III）アセチルアセトナートを熱分解した。

以上の各調製例では、粒子表面を完全に覆う量のガラス形成成分を被着していないため、保磁力低減処理前の磁性粒子表面には、ガラス成分（シリカ）が部分的に、海島状に被着している。

評価方法
（１）保磁力
上記Ｇ．〜Ｊ．のいずれかにより保磁力低減処理を施す前後の磁性粒子の保磁力を、玉川製作所製超電導振動式磁力計ＶＳＭ（外部磁場３Ｔ）より測定した。
（２）粒子サイズ測定
上記Ｆ．〜Ｉ．のいずれかにより保磁力低減処理を施す前後の磁性粒子の粒子サイズを、透過型電子顕微鏡により前述の方法で測定した。

以上の結果を、表１に示す。

表１に示すように、ガラス成分を被着させた後に加熱を伴う保磁力低減処理を施し得られた磁性粒子は、微粒子かつ処理前の磁性粒子に対して保磁力が低減し、記録に適した保磁力を有する磁性粒子であった。
以上の結果から、本発明によれば、記録に適した保磁力を有する微粒子磁性体が得られることが確認できる。

本発明は、高密度記録用磁気記録媒体の製造分野において有用である。

Claims (17)

1. 原料磁性粒子にガラス成分を被着させるガラス成分被着処理を施すこと、および、
   前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子に、加熱を伴う保磁力低減処理を施すことにより、前記原料磁性粒子よりも低い保磁力を有する磁性粒子を得ること、
   を含む磁気記録用磁性粒子の製造方法。
2. 前記ガラス成分被着処理において、原料磁性粒子表面をガラス成分により部分的に被覆する請求項１に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
3. 前記原料磁性粒子は、フェライト磁性粒子である請求項１または２に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
4. 前記ガラス成分は、ケイ素化合物の加水分解物である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
5. 前記ケイ素化合物は、アルコキシシランである、請求項４に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
6. 前記原料磁性粒子を含む溶液に前記ガラス成分の前駆体を添加し撹拌することにより、該前駆体の加水分解物であるガラス成分を前記原料磁性粒子に被着させることを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
7. 前記保磁力低減処理後の磁性粒子表面からガラス成分を除去する工程を更に含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
8. 前記ガラス成分を、アルカリにより溶解除去する、請求項７に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
9. 前記保磁力低減処理を、前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子を還元性雰囲気中で加熱処理することにより行う、請求項１〜８のいずれか１項に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
10. 前記還元性雰囲気は、水素ガスおよび炭化水素ガスからなる群から選ばれる還元性ガスを含む、請求項９に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
11. 前記加熱処理前に、前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子表面に遷移金属塩を被着させることを更に含む、請求項９または１０に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
12. 前記保磁力低減処理を、前記ガラス成分被着処理後の磁性粒子表面に遷移金属含有有機化合物を付着させた後、該化合物を熱分解することにより行う、請求項１〜８のいずれか１項に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
13. 前記熱分解を気相熱分解により行う、請求項１２に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
14. 前記遷移金属含有有機化合物は、アセチルアセトナート化合物を配位子とする遷移金属錯体である、請求項１２または１３に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
15. 前記原料磁性粒子は、六方晶フェライト粒子である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
16. 前記原料磁性粒子は、ε−酸化鉄粒子である、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の磁気記録用磁性粒子の製造方法。
17. 請求項１〜１６のいずれか１項に記載の製造方法により得られた磁気記録用磁性粒子。