JP2014191094A - Sunlight-collecting film mirror - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sunlight-collecting film mirror that has excellent reflectance.SOLUTION: This sunlight-collecting film mirror includes at least a fluorine-containing layer 16 containing an organic fluorine compound, a silver reflective layer 14, and a substrate 12 in this order from the light incident side, wherein the fluorine-containing layer 16 and the silver reflective layer 14 are provided adjacently, and the fluorine-containing layer 16 has a refraction index of 1.42 or less.

Description

本発明は、太陽光集光用フィルムミラーに係り、特に、銀反射層に所定の屈折率を示すフッ素含有層が隣接して配置された太陽光集光用フィルムミラーに関する。   The present invention relates to a solar light collecting film mirror, and more particularly, to a solar light collecting film mirror in which a fluorine-containing layer having a predetermined refractive index is disposed adjacent to a silver reflecting layer.

太陽光の反射装置には、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂塵等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。
しかしながら、ガラス製ミラーを用いる場合、輸送時に破損する問題や、ミラーを設置する架台に高い強度が要求されるため建設費がかさむといった問題があった。
このような問題を解決するために、近年では、ガラス製ミラーを樹脂製反射シート（フィルムミラー）に置き換えることが提案されている。 Conventionally, glass mirrors have been used for sunlight reflecting devices because they are exposed to ultraviolet rays, heat, wind and rain, and dust from sunlight.
However, when a glass mirror is used, there are problems that it is damaged during transportation and that a high strength is required for the mount on which the mirror is installed, resulting in an increase in construction costs.
In order to solve such problems, in recent years, it has been proposed to replace a glass mirror with a resin reflection sheet (film mirror).

例えば、特許文献１には、樹脂基材と、該樹脂基材上に少なくとも銀反射層および保護層を有するフィルムミラーが開示されている。なお、特許文献１の実施例においては、保護層としてポリエステル樹脂が開示されている。   For example, Patent Document 1 discloses a resin base material and a film mirror having at least a silver reflective layer and a protective layer on the resin base material. In the example of Patent Document 1, a polyester resin is disclosed as a protective layer.

特開２０１１−１５８７５２号公報JP 2011-158752 A

一方、近年、太陽光のより効率的なエネルギー変換が求められており、それに伴って、フィルムミラーの反射率のより一層の向上が求められている。
本発明者らが、特許文献１を参照してフィルムミラーの反射率に関して評価したところ、昨今要求されるレベルに達しておらず、更なる向上が必要であった。 On the other hand, in recent years, more efficient energy conversion of sunlight has been demanded, and accordingly, further improvement in the reflectance of the film mirror has been demanded.
When the present inventors evaluated the reflectance of a film mirror with reference to Patent Document 1, it did not reach the level required recently, and further improvement was necessary.

本発明は、上記実情に鑑みて、反射率に優れるフィルムミラーを提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the film mirror which is excellent in a reflectance in view of the said situation.

本発明者は、上記課題を達成すべく鋭意研究した結果、銀反射層に所定の屈折率を示すフッ素含有層を隣接させることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。 As a result of earnest research to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that the above-mentioned problems can be solved by making a fluorine-containing layer exhibiting a predetermined refractive index adjacent to a silver reflective layer, and have completed the present invention.
That is, the present inventors have found that the above problem can be solved by the following configuration.

（１） 光入射側から順に、有機フッ素化合物を含有するフッ素含有層、銀反射層、および基材を少なくとも有し、フッ素含有層と銀反射層とが隣接して配置され、フッ素含有層の屈折率が１．４２以下である、太陽光集光用フィルムミラー。
（２） フッ素含有層の屈折率が１．４０以下である、（１）に記載の太陽光集光用フィルムミラー。
（３） フッ素含有層の厚みが、２０ｎｍ以上である、（１）または（２）に記載の太陽光集光用フィルムミラー。
（４） 有機フッ素化合物が、有機フッ素樹脂である、（１）〜（３）のいずれか一つに記載の太陽光集光用フィルムミラー。
（５） 有機フッ素樹脂が、後述する式（１）で表される繰り返し単位を有する、（４）に記載の太陽光集光用フィルムミラー。 (1) In order from the light incident side, at least a fluorine-containing layer containing an organic fluorine compound, a silver reflective layer, and a substrate are provided, and the fluorine-containing layer and the silver reflective layer are disposed adjacent to each other. A film mirror for collecting sunlight, having a refractive index of 1.42 or less.
(2) The film mirror for condensing sunlight according to (1), wherein the refractive index of the fluorine-containing layer is 1.40 or less.
(3) The film mirror for condensing sunlight according to (1) or (2), wherein the fluorine-containing layer has a thickness of 20 nm or more.
(4) The solar light collecting film mirror according to any one of (1) to (3), wherein the organic fluorine compound is an organic fluorine resin.
(5) The film mirror for solar light collection according to (4), wherein the organic fluororesin has a repeating unit represented by the formula (1) described later.

本発明によれば、反射率に優れるフィルムミラーを提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the film mirror excellent in a reflectance can be provided.

本発明のフィルムミラーの第１の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 1st Embodiment of the film mirror of this invention. 本発明のフィルムミラーの第２の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 2nd Embodiment of the film mirror of this invention. 本発明のフィルムミラーの第３の実施形態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows 3rd Embodiment of the film mirror of this invention.

以下に、本発明のフィルムミラーの好適実施態様について説明する。
まず、本発明の従来技術と比較した特徴点について詳述する。
本発明の特徴点の一つとしては、銀反射層上の光入射側の表面上に所定の屈折率を示すフッ素含有層を隣接させることが挙げられる。以下に、本発明のメカニズムについて詳述する。
銀反射層の表面には微細な凹凸があり、光が銀反射層上に入射される際に、表面プラズモン吸収が生じる。表面プラズモン吸収が生じる（励起される）と、入射光のエネルギーが表面プラズモンの励起によって奪われるため、反射率は低下する。特に、銀反射層に隣接する層の屈折率が高いほど、可視光（４００〜５００ｎｍ）の反射率が低下する。それに対して、後述するように、所定の低屈折率のフッ素含有層を銀反射層の光入射層側に配置すると、表面プラズモン吸収の励起が抑制され、結果として反射率が向上する。 Below, the suitable embodiment of the film mirror of this invention is demonstrated.
First, the feature point compared with the prior art of this invention is explained in full detail.
One of the features of the present invention is that a fluorine-containing layer having a predetermined refractive index is adjacent to the surface on the light incident side on the silver reflective layer. Below, the mechanism of this invention is explained in full detail.
The surface of the silver reflective layer has fine irregularities, and surface plasmon absorption occurs when light is incident on the silver reflective layer. When surface plasmon absorption occurs (excited), the energy of incident light is deprived by the excitation of the surface plasmon, and the reflectivity decreases. In particular, the higher the refractive index of the layer adjacent to the silver reflective layer, the lower the reflectivity of visible light (400 to 500 nm). On the other hand, as described later, when a fluorine-containing layer having a predetermined low refractive index is arranged on the light incident layer side of the silver reflective layer, excitation of surface plasmon absorption is suppressed, and as a result, the reflectance is improved.

＜第１の実施形態＞
以下に、本発明のフィルムミラーの第１の実施形態について図面を参照して説明する。図１に、本発明のフィルムミラーの一実施形態の断面図を示す。
フィルムミラー１０は、基材１２と、銀反射層１４と、フッ素含有層１６とをこの順で有する。なお、太陽光などの光は、フッ素含有層１６側から入射されて、銀反射層１４表面上で反射する。
以下に、フィルムミラー１０を構成する各層について詳述する。 <First Embodiment>
Below, 1st Embodiment of the film mirror of this invention is described with reference to drawings. In FIG. 1, sectional drawing of one Embodiment of the film mirror of this invention is shown.
The film mirror 10 has the base material 12, the silver reflection layer 14, and the fluorine-containing layer 16 in this order. Light such as sunlight is incident from the fluorine-containing layer 16 side and reflected on the surface of the silver reflecting layer 14.
Below, each layer which comprises the film mirror 10 is explained in full detail.

［基材］
基材１２は、後述する銀反射層１４およびフッ素含有層１６を支持する基材であればその種類は特に制限されない。例えば、樹脂基材、金属基材、ガラス基材、セラミック基材、紙基材などが挙げられる。なかでも、フィルムミラー１０にフレキシブル性を付与できる点で、樹脂基材が好ましい。 [Base material]
If the base material 12 is a base material which supports the silver reflective layer 14 and the fluorine-containing layer 16 which are mentioned later, the kind in particular will not be restrict | limited. For example, a resin base material, a metal base material, a glass base material, a ceramic base material, a paper base material, etc. are mentioned. Especially, the resin base material is preferable at the point which can provide flexibility to the film mirror 10. FIG.

基材１２が樹脂基材の場合、基材１２を構成する材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂；ポリアミド系樹脂；ポリイミド系樹脂；ポリ塩化ビニル系樹脂；ポリフェニレンサルファイド系樹脂；ポリエーテルサルフォン系樹脂；ポリエチレンサルファイド系樹脂；ポリフェニレンエーテル系樹脂；スチレン系樹脂；セルロースアセテートなどのセルロース系樹脂；等が挙げられる。
これらのうち、フィルムミラーの耐候性が高い理由から、ポリエステル系樹脂またはアクリル系樹脂が好ましい。
また、基材１２が金属基材の場合、基材１２を構成する材料としては、アルミ、アルミ合金、ステンレス、鉄鋼、銅、ニッケルが挙げられる。これらのうち、金属の耐腐食性の観点から、アルミ、アルミ合金、ステンレスが好ましい。 When the substrate 12 is a resin substrate, examples of the material constituting the substrate 12 include polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polycarbonate resins; polymethyl methacrylate Acrylic resins such as: Polyamide resins; Polyimide resins; Polyvinyl chloride resins; Polyphenylene sulfide resins; Polyether sulfone resins; Polyethylene sulfide resins; Polyphenylene ether resins; Styrene resins; Cellulosic resin; and the like.
Among these, a polyester resin or an acrylic resin is preferable because the weather resistance of the film mirror is high.
Moreover, when the base material 12 is a metal base material, as a material which comprises the base material 12, aluminum, an aluminum alloy, stainless steel, steel, copper, nickel is mentioned. Among these, aluminum, an aluminum alloy, and stainless steel are preferable from the viewpoint of corrosion resistance of the metal.

基材１２の形状は平面状であるが、その形状は図１の形態に特に限定されず、例えば、凹面、凸面等のいずれであってもよい。
基材１２の厚さはその形状によっても左右されるため特に限定されないが、図１に示すように基材１２が平面形状である場合は、通常、２５〜３００μｍであるのが好ましい。 Although the shape of the base material 12 is planar, the shape is not particularly limited to the form of FIG. 1 and may be any one of a concave surface, a convex surface, and the like.
The thickness of the substrate 12 is not particularly limited because it depends on its shape, but when the substrate 12 has a planar shape as shown in FIG. 1, it is usually preferably 25 to 300 μm.

［銀反射層］
銀反射層１４は、上記基材１２上に設けられる層であり、入射される光を反射する機能を有する。
銀反射層１４には、銀原子が主成分として含まれる。なお、主成分とは、銀反射層１４を構成する金属成分のうち最も含有量が多い成分を意図する。より具体的には、主成分とは、銀反射層１４を構成する金属成分中、９０質量％以上である態様が好ましい。
銀反射層１４には、反射特性に影響がない程度に銀以外の他の金属が含まれていてもよく、他の金属としては、例えば、金、銅、ニッケル、鉄、パラジウムなどが挙げられる。 [Silver reflection layer]
The silver reflective layer 14 is a layer provided on the base material 12 and has a function of reflecting incident light.
The silver reflecting layer 14 contains silver atoms as a main component. In addition, a main component means the component with most content among the metal components which comprise the silver reflection layer 14. FIG. More specifically, an embodiment in which the main component is 90% by mass or more in the metal component constituting the silver reflecting layer 14 is preferable.
The silver reflection layer 14 may contain other metals other than silver to the extent that the reflection characteristics are not affected. Examples of the other metals include gold, copper, nickel, iron, and palladium. .

銀反射層１４の厚さは特に限定されないが、反射率等の観点から、５０〜５００ｎｍが好ましく、８０〜３００ｎｍがより好ましい。   Although the thickness of the silver reflection layer 14 is not specifically limited, From viewpoints, such as a reflectance, 50-500 nm is preferable and 80-300 nm is more preferable.

銀反射層１４の形成方法は特に限定されず、湿式法および乾式法のいずれも採用することができる。
湿式法としては、例えば、いわゆる金属めっき法（無電解めっき、または、電気めっき）として公知の方法が挙げられる。
また、乾式法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法などが挙げられる。 The method for forming the silver reflective layer 14 is not particularly limited, and either a wet method or a dry method can be employed.
Examples of the wet method include a known method as a so-called metal plating method (electroless plating or electroplating).
Examples of the dry method include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method.

［フッ素含有層］
フッ素含有層１６は、銀反射層１４と隣接して設けられる層であり、銀反射層１４表面上での表面プラズモン吸収の発現を抑制する層である。つまり、フッ素含有層１６と銀反射層１４とは接するように配置される。 [Fluorine-containing layer]
The fluorine-containing layer 16 is a layer provided adjacent to the silver reflective layer 14 and is a layer that suppresses the expression of surface plasmon absorption on the surface of the silver reflective layer 14. That is, the fluorine-containing layer 16 and the silver reflecting layer 14 are disposed so as to be in contact with each other.

フッ素含有層１６の屈折率は、１．４２以下である。なかでも、フィルムミラーの反射率がより優れる点で、１．４０以下が好ましい。なお、下限は特に制限されないが、合成上の問題より、１．３５以上の場合が多い。
屈折率が１．４２超の場合、フィルムミラーの反射率が劣る。
なお、フッ素含有層１６の屈折率の測定方法は、エリプソメータを使用する方法が挙げられる。 The refractive index of the fluorine-containing layer 16 is 1.42 or less. Especially, 1.40 or less is preferable at the point which the reflectance of a film mirror is more excellent. The lower limit is not particularly limited, but is often 1.35 or more due to problems in synthesis.
When the refractive index exceeds 1.42, the reflectivity of the film mirror is inferior.
In addition, the measuring method of the refractive index of the fluorine-containing layer 16 includes a method using an ellipsometer.

フッ素含有層１６の厚さは特に限定されないが、フィルムミラーの反射率もより優れる点から、１０〜５００ｎｍが好ましく、２０〜５００ｎｍがより好ましく、６０〜３００ｎｍがさらに好ましい。   The thickness of the fluorine-containing layer 16 is not particularly limited, but is preferably 10 to 500 nm, more preferably 20 to 500 nm, and even more preferably 60 to 300 nm, from the viewpoint that the reflectance of the film mirror is more excellent.

フッ素含有層１６には、有機フッ素化合物が含有される。
有機フッ素化合物としては、フッ素原子が含まれる有機化合物であれば特にその種類は制限されない。なかでも、成膜性に優れると共に、フィルムミラーの反射率がより向上する点で、有機フッ素樹脂（言い換えると、フッ素系樹脂またはフッ素原子含有ポリマー）であることが好ましい。 The fluorine-containing layer 16 contains an organic fluorine compound.
The organic fluorine compound is not particularly limited as long as it is an organic compound containing a fluorine atom. Among these, an organic fluororesin (in other words, a fluororesin or a fluorine atom-containing polymer) is preferable from the viewpoints of excellent film formability and further improved reflectance of the film mirror.

有機フッ素樹脂としては、フッ素原子を含む樹脂（ポリマー）であれば特にその種類は限定されない。例えば、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、テトラフロオロエチレン−ペルフロオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、クロロトリフルオロエチレン−エチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）、パーフルオロ（ブテニルビニルエーテル）の環化重合体（サイトップ（登録商標））などが挙げられる。   The organic fluororesin is not particularly limited as long as it is a resin (polymer) containing a fluorine atom. For example, polytetrafluoroethylene (PTFE), polychlorotrifluoroethylene (CTFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether Copolymer (PFA), tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETFE), chlorotrifluoroethylene-ethylene copolymer (ECTFE), cyclized polymer of perfluoro (butenyl vinyl ether) (Cytop®) )).

有機フッ素樹脂の好適態様の一つとしては、成膜性に優れると共に、フィルムミラーの反射率がより向上する点で、フッ素含有エチレン性モノマー由来の繰り返し単位を有する有機フッ素樹脂が挙げられる。
フッ素含有エチレン性モノマーとしては、例えば、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、三フッ化塩化ビニル、フッ化ビニル、パーフルオロアルキルビニルエーテル、フッ素含有（メタ）アクリル系単量体などが挙げられ、なかでも、フッ素含有（メタ）アクリル系単量体が好ましい。
フッ素含有（メタ）アクリル系単量体としては、例えば、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルメタクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、２，２，３，３−テトラフルオロプロピルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、パーフロロオクチルエチルメタクリレート、パーフロロオクチルエチルアクリレート）などが挙げられる。 As a preferred embodiment of the organic fluororesin, an organic fluororesin having a repeating unit derived from a fluorine-containing ethylenic monomer is mentioned in that it has excellent film formability and further improves the reflectivity of the film mirror.
Examples of the fluorine-containing ethylenic monomer include vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, vinyl trifluoride chloride, vinyl fluoride, perfluoroalkyl vinyl ether, and fluorine-containing (meth) acrylic monomers. Of these, fluorine-containing (meth) acrylic monomers are preferred.
Examples of fluorine-containing (meth) acrylic monomers include 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl methacrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl methacrylate, 2,2,3,3-tetrafluoro. Propyl methacrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 1H, 1H, 2H, 2H-heptadecafluorodecyl acrylate, 1H, 1H, 5H-octafluoropentyl acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl Acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, perfluorooctylethyl methacrylate, perfluorooctylethyl acrylate) and the like.

上記有機フッ素樹脂の最好適態様の一つとしては、取り扱い性に優れ、フィルムミラーの反射率もより優れる点から、以下の式（１）で表される繰り返し単位を有するフッ素樹脂が挙げられる。   One of the most preferred embodiments of the organic fluororesin is a fluororesin having a repeating unit represented by the following formula (1) from the viewpoint of excellent handleability and better reflectivity of the film mirror. .

式（１）中、Ｒ₁は、水素原子またはアルキル基を表す。アルキル基としては、取扱い性に優れる点で、炭素数１〜４が好ましく、炭素数１〜２がより好ましい。
Ｌ₁は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基としては、２価の脂肪族炭化水素基（好ましくは炭素数１〜８、より好ましくは炭素数１〜５）、２価の芳香族炭化水素基（好ましくは炭素数６〜１２）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ₂−、−Ｎ(Ｒ)−（Ｒ：アルキル基）、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＨ−、またはこれらを組み合わせた基（例えば、アルキレンオキシ基、アルキレンオキシカルボニル基、アルキレンカルボニルオキシ基など）などが挙げられる。
２価の脂肪族炭化水素基（例えば、アルキレン基）としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、またはブチレン基などが挙げられる。
２価の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基などが挙げられる。 In formula (1), R ₁ represents a hydrogen atom or an alkyl group. As an alkyl group, C1-C4 is preferable and C1-C2 is more preferable at the point which is excellent in handleability.
L ₁ represents a single bond or a divalent linking group. As the divalent linking group, a divalent aliphatic hydrocarbon group (preferably having 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 5 carbon atoms), a divalent aromatic hydrocarbon group (preferably having 6 to 6 carbon atoms). 12), - O -, - S -, - SO 2 -, - N (R) - (R: alkyl group), - CO -, - NH -, - COO -, - CONH-, or a combination thereof Groups (for example, an alkyleneoxy group, an alkyleneoxycarbonyl group, an alkylenecarbonyloxy group, and the like).
Examples of the divalent aliphatic hydrocarbon group (for example, an alkylene group) include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, or a butylene group.
Examples of the divalent aromatic hydrocarbon group include a phenylene group and a naphthylene group.

Ｒ₂は、炭化水素基を表し、炭化水素中の一部または全部の水素原子はフッ素原子で置換されている。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素基（例えば、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基など）、芳香族炭化水素基、または、これらを組み合わせた基を表す。なお、脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであってもよい。
炭化水素基中の炭素原子の数は特に制限されないが、フッ素樹脂の取り扱いにより優れる点で、１〜５個が好ましく、２〜４個がより好ましい。 R ₂ represents a hydrocarbon group, and some or all of the hydrogen atoms in the hydrocarbon are substituted with fluorine atoms.
The hydrocarbon group represents an aliphatic hydrocarbon group (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, etc.), an aromatic hydrocarbon group, or a group obtained by combining these. The aliphatic hydrocarbon group may be linear, branched or cyclic.
The number of carbon atoms in the hydrocarbon group is not particularly limited, but 1 to 5 is preferable and 2 to 4 is more preferable in terms of excellent handling of the fluororesin.

炭化水素基中の炭素原子に結合する水素原子の一部または全部はフッ素原子で置換されている。
なかでも、炭化水素基中の全水素原子の個数のうち、２０％以上の水素原子がフッ素原子に置換されていることが好ましく、５０％以上の水素原子がフッ素原子に置換されていることがより好ましい。上限は特に制限されないが、１００％である。 Some or all of the hydrogen atoms bonded to the carbon atoms in the hydrocarbon group are substituted with fluorine atoms.
Especially, it is preferable that 20% or more of hydrogen atoms are replaced by fluorine atoms, and 50% or more of hydrogen atoms are replaced by fluorine atoms, out of the total number of hydrogen atoms in the hydrocarbon group. More preferred. The upper limit is not particularly limited, but is 100%.

上記式（１）で表される繰り返し単位の好適態様としては、取り扱い性に優れ、フィルムミラーの反射率もより優れる点から、式（２）で表される繰り返し単位が挙げられる。   A preferred embodiment of the repeating unit represented by the above formula (1) includes the repeating unit represented by the formula (2) from the viewpoint of excellent handleability and more excellent reflectivity of the film mirror.

式（２）中、Ｒ₁の定義は、上述の通りである。
Ｒ₃は、炭素数１〜４の脂肪族炭化水素基を表す。なかでも、炭素数１〜２が好ましく、炭素数１がより好ましい。なお、Ｒ₃は、ｎ＋１価の脂肪族炭化水素基である。
Ｒ₄は、炭素数１〜１０のパーフルオロアルキル基を表す。なかでも、炭素数１〜５が好ましく、炭素数１〜３がより好ましい。
ｎは、１〜３の整数を表す。 In formula (2), the definition of R ₁ is as described above.
R ₃ represents an aliphatic hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. Especially, C1-C2 is preferable and C1-C1 is more preferable. R ₃ is an n + 1 valent aliphatic hydrocarbon group.
R ₄ represents a perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Especially, C1-C5 is preferable and C1-C3 is more preferable.
n represents an integer of 1 to 3.

フッ素樹脂に上記式（１）で表される繰り返し単位が含まれる場合、式（１）で表される繰り返し単位の含有量は、フッ素樹脂の全繰り返し単位に対して、５０モル％以上が好ましく、８０モル％以上が好ましい。上限は特に制限されないが、１００モル％である。   When the fluororesin contains the repeating unit represented by the above formula (1), the content of the repeating unit represented by the formula (1) is preferably 50 mol% or more with respect to all repeating units of the fluororesin 80 mol% or more is preferable. The upper limit is not particularly limited, but is 100 mol%.

フッ素含有層１６の形成方法は特に限定されないが、例えば、有機フッ素化合物を含むフッ素含有フィルムを銀反射層１４上に貼り合わせる方法（貼り合わせ法）や、上述した有機フッ素化合物を含む組成物を銀反射層１４上に塗布した後、必要に応じて乾燥処理を施し、フッ素含有層１６を形成する方法（塗布法）などが挙げられる。なかでも、フッ素含有層１６の厚みの調整が容易である点より、塗布法が好ましい。
なお、塗布法を実施した場合、塗布後、必要に応じて、加熱処理や露光処理などの硬膜処理を実施してもよい。 Although the formation method of the fluorine-containing layer 16 is not particularly limited, for example, a method of bonding a fluorine-containing film containing an organic fluorine compound onto the silver reflective layer 14 (bonding method) or a composition containing the above-described organic fluorine compound is used. Examples of the method include a method (coating method) for forming the fluorine-containing layer 16 by applying a drying treatment as necessary after coating on the silver reflection layer 14. Among these, a coating method is preferable because the thickness of the fluorine-containing layer 16 can be easily adjusted.
In addition, when the coating method is performed, after the coating, a hardening process such as a heat treatment or an exposure process may be performed as necessary.

なお、塗布法の際に実施される塗布方法は特に制限されず、具体的な方法としては、スピンコーター、ダブルロールコーター、スリットコーター、エアナイフコーター、ワイヤーバーコーター、スライドホッパー、スプレーコーティング、ブレードコーター、ドクターコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、トランスファーロールコーター、エクストロージョンコーター、カーテンコーター、ディップコーター、ダイコーター、グラビアロールによる塗工法、押し出し塗布法、ロール塗布法等の公知の方法を用いることができる。
また、有機フッ素化合物を含む組成物には、必要に応じて、有機フッ素化合物が溶解する溶媒が含まれていてもよい。 In addition, the coating method implemented in the case of a coating method is not restrict | limited in particular, As a specific method, a spin coater, a double roll coater, a slit coater, an air knife coater, a wire bar coater, a slide hopper, spray coating, a blade coater , Doctor coaters, squeeze coaters, reverse roll coaters, transfer roll coaters, extrusion coaters, curtain coaters, dip coaters, die coaters, gravure roll coating methods, extrusion coating methods, roll coating methods, etc., may be used. it can.
In addition, the composition containing the organic fluorine compound may contain a solvent in which the organic fluorine compound is dissolved, if necessary.

フッ素含有層１６中における有機フッ素化合物の含有量は、上記屈折率の範囲になれば特に制限されない。なかでも、フィルムミラーの反射率がより優れる点で、フッ素含有層１６全質量に対して、有機フッ素化合物の含有量が３０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％である。
なお、フッ素含有層１６には、上述した有機フッ素化合物以外の成分（例えば、glycidyl methacrylate）が含まれていてもよい。 The content of the organic fluorine compound in the fluorine-containing layer 16 is not particularly limited as long as it falls within the above refractive index range. Especially, it is preferable that content of an organic fluorine compound is 30 mass% or more with respect to the fluorine-containing layer 16 total mass in the point which the reflectance of a film mirror is more excellent, and it is more preferable that it is 50 mass% or more. preferable. The upper limit is not particularly limited, but is 100% by mass.
The fluorine-containing layer 16 may contain components other than the organic fluorine compounds described above (for example, glycidyl methacrylate).

［フィルムミラー］
フィルムミラー１０は、太陽光を集光する目的（太陽光集光用）において、好ましく使用できる。つまり、太陽電池や太陽熱発電などの太陽光用部材として好適に使用できる。 [Film mirror]
The film mirror 10 can be preferably used for the purpose of collecting sunlight (for collecting sunlight). That is, it can be suitably used as a solar member such as a solar cell or solar thermal power generation.

＜第２の実施形態＞
以下に、本発明のフィルムミラーの第２の実施形態について図面を参照して説明する。図２に、本発明のフィルムミラーの第２の実施形態の断面図を示す。
フィルムミラー１００は、基材１２と、プライマー層２０と、銀反射層１４と、フッ素含有層１６とをこの順で有する。
図２に示すフィルムミラー１００は、プライマー層２０を備える点を除いて、図１に示すフィルムミラー１０と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下では主としてプライマー層２０について詳述する。 <Second Embodiment>
Below, 2nd Embodiment of the film mirror of this invention is described with reference to drawings. In FIG. 2, sectional drawing of 2nd Embodiment of the film mirror of this invention is shown.
The film mirror 100 has the base material 12, the primer layer 20, the silver reflection layer 14, and the fluorine-containing layer 16 in this order.
Since the film mirror 100 shown in FIG. 2 has the same configuration as the film mirror 10 shown in FIG. 1 except that the primer layer 20 is provided, the same components are denoted by the same reference numerals. The description will be omitted, and the primer layer 20 will be mainly described in detail below.

［プライマー層］
プライマー層２０は、基材１２と銀反射層１４との間に配置される層であり、両者の密着性を高める層である。
プライマー層２０は、金属（特に、銀）と相互作用する官能基および重合性基を有するポリマーを含む層に、加熱処理および／または光照射処理を施して得られる層である。
以下では、まず、使用されるポリマーについて詳述し、その後層形成の手順について詳述する。 [Primer layer]
The primer layer 20 is a layer disposed between the base material 12 and the silver reflecting layer 14 and is a layer that enhances the adhesion between them.
The primer layer 20 is a layer obtained by performing heat treatment and / or light irradiation treatment on a layer containing a polymer having a functional group that interacts with a metal (particularly silver) and a polymerizable group.
Below, the polymer used is explained in full detail first, and the procedure of layer formation is explained in full detail after that.

（金属と相互作用する官能基および重合性基を有するポリマー）
ポリマーには、金属と相互作用する官能基（以後、相互作用性基とも称する）および重合性基が含まれる。相互作用性基は、上述した銀反射層１４と相互作用する基であり、銀反射層１４とプライマー層２０との密着性を高める役割を果たす。重合性基は、後述する加熱処理および／または光照射処理を施すことにより、架橋反応が進行し、プライマー層２０の強度を高めると共に、その一部が基材１２と反応して基材１２とプライマー層２０との密着性を高める役割を果たす。 (Polymer having functional group and polymerizable group that interacts with metal)
The polymer includes a functional group that interacts with a metal (hereinafter also referred to as an interactive group) and a polymerizable group. The interacting group is a group that interacts with the above-described silver reflecting layer 14 and plays a role of improving the adhesion between the silver reflecting layer 14 and the primer layer 20. The polymerizable group undergoes a heat treatment and / or a light irradiation treatment, which will be described later, so that a crosslinking reaction proceeds and increases the strength of the primer layer 20, and part of the polymerizable group reacts with the base material 12 to form the base material 12. It plays the role which improves adhesiveness with the primer layer 20.

重合性基は、エネルギー付与により、ポリマー同士、または、ポリマーと基材１２との間で化学結合を形成しうる官能基であればよい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基などが挙げられる。なかでも、反応性の観点から、ラジカル重合性基が好ましい。
ラジカル重合性基としては、例えば、メタクリロイル基、アクリロイル基、イタコン酸エステル基、クロトン酸エステル基、イソクロトン酸エステル基、マレイン酸エステル基、スチリル基、ビニル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基などが挙げられる。なかでも、メタクリロイル基、アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基が好ましく、なかでも、ラジカル重合反応性、合成汎用性の点から、メタクリロイル基、アクリロイル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基がより好ましく、耐アルカリ性の観点から、アクリルアミド基、メタクリルアミド基がさらに好ましい。 The polymerizable group may be a functional group that can form a chemical bond between polymers or between the polymer and the substrate 12 by applying energy. Examples of the polymerizable group include a radical polymerizable group and a cationic polymerizable group. Of these, a radical polymerizable group is preferable from the viewpoint of reactivity.
Examples of the radical polymerizable group include a methacryloyl group, an acryloyl group, an itaconic acid ester group, a crotonic acid ester group, an isocrotonic acid ester group, a maleic acid ester group, a styryl group, a vinyl group, an acrylamide group, and a methacrylamide group. It is done. Of these, methacryloyl group, acryloyl group, vinyl group, styryl group, acrylamide group, and methacrylamide group are preferable. Among them, methacryloyl group, acryloyl group, acrylamide group, and methacrylamide are preferable in terms of radical polymerization reactivity and synthesis versatility. Group is more preferable, and from the viewpoint of alkali resistance, an acrylamide group and a methacrylamide group are more preferable.

相互作用性基は、金属と相互作用を形成する基であればその種類は特に制限されず、例えば、アミノ基、アミド基、イミド基、ウレア基、３級のアミノ基、アンモニウム基、アミジノ基、トリアジン環、トリアゾール環、ベンゾトリアゾール基、イミダゾール基、ベンズイミダゾール基、キノリン基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、キナゾリン基、キノキサリン基、プリン基、トリアジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピロリジン基、ピラゾール基、アニリン基、アルキルアミン構造を含む基、イソシアヌル構造を含む基、ニトロ基、ニトロソ基、アゾ基、ジアゾ基、アジド基、シアノ基、シアネート基（Ｒ−Ｏ−ＣＮ）などの含窒素官能基；エーテル基、水酸基、フェノール性水酸基、カルボキシル基、カーボネート基、カルボニル基、エステル基、Ｎ−オキシド構造を含む基、Ｓ−オキシド構造を含む基、Ｎ−ヒドロキシ構造を含む基などの含酸素官能基；チオフェン基、チオール基、チオウレア基、チオシアヌール酸基、ベンズチアゾール基、メルカプトトリアジン基、チオエーテル基、チオキシ基、スルホキシド基、スルホン基、サルファイト基、スルホキシイミン構造を含む基、スルホン酸塩構造を含む基、スルホン酸基、スルホン酸エステル構造を含む基などの含硫黄官能基；ホスフェート基、ホスフォロアミド基、ホスフィン基、リン酸エステル構造を含む基などの含リン官能基；塩素、臭素などのハロゲン原子を含む基などが挙げられ、塩構造をとりうる官能基においてはそれらの塩も使用することができる。
なかでも、極性が高く、金属への吸着能が高いことから、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、およびボロン酸基などのイオン性極性基や、エーテル基またはシアノ基などの非解離性官能基がより好ましい。 The kind of the interactive group is not particularly limited as long as it is a group that forms an interaction with a metal. For example, amino group, amide group, imide group, urea group, tertiary amino group, ammonium group, amidino group , Triazine ring, triazole ring, benzotriazole group, imidazole group, benzimidazole group, quinoline group, pyridine group, pyrimidine group, pyrazine group, quinazoline group, quinoxaline group, purine group, triazine group, piperidine group, piperazine group, pyrrolidine group , Pyrazole group, aniline group, group containing alkylamine structure, group containing isocyanuric structure, nitro group, nitroso group, azo group, diazo group, azide group, cyano group, cyanate group (R-O-CN), etc. Nitrogen functional group: ether group, hydroxyl group, phenolic hydroxyl group, carboxyl group, carbonate group, carbon Oxygen-containing functional groups such as bonyl group, ester group, group containing N-oxide structure, group containing S-oxide structure, group containing N-hydroxy structure; thiophene group, thiol group, thiourea group, thiocyanuric acid group, benz Thiazole group, mercaptotriazine group, thioether group, thiooxy group, sulfoxide group, sulfone group, sulfite group, group containing sulfoximine structure, group containing sulfonate structure, group containing sulfonic acid group, sulfonic acid ester structure, etc. Sulfur-containing functional groups; Phosphorus-containing functional groups such as phosphate groups, phosphoramide groups, phosphine groups, groups containing phosphate ester structures; groups containing halogen atoms such as chlorine and bromine, etc., and can have a salt structure These salts can also be used in the functional group.
Among them, since it has high polarity and high adsorption ability to metals, it is non-dissociable such as ionic polar groups such as carboxyl group, sulfonic acid group, phosphoric acid group, and boronic acid group, and ether group or cyano group. A functional group is more preferable.

ポリマーの合成がより容易で、銀反射層１４の密着性がより向上する点で、ポリマー中には以下の式（３）で表されるユニット（繰り返し単位）、および、式（４）で表されるユニットが含まれることが好ましい。   The polymer is easier to synthesize, and the adhesion of the silver reflective layer 14 is further improved. In the polymer, the unit represented by the following formula (3) (repeating unit) and the formula (4) are used. It is preferable that a unit to be included is included.

式（３）中、Ｒ₁₀は、水素またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基など）を表す。
式（３）中、Ｌ₂は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基の定義は、上記式（１）中のＬ₁中の連結基の定義と同義である。
式（３）中、Ｒ₁₁は、相互作用性基を表す。相互作用性基の定義は、上述の通りである。
なお、ポリマー中においては、Ｒ₁₁で表される相互作用性基の種類が異なる２種以上の式（３）で表されるユニットが含まれていてもよい。例えば、Ｒ₁₁がイオン性極性基である式（３）で表されるユニットと、Ｒ₁₁が非解離性官能基である式（３）で表されるユニットとが、ポリマー中に含まれていてもよい。 In formula (3), R ₁₀ represents hydrogen or an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, etc.).
In formula (3), L ₂ represents a single bond or a divalent linking group. Definition of the divalent linking group are the same as those defined linking group in L ₁ in the formula (1).
In formula (3), R ₁₁ represents an interactive group. The definition of the interactive group is as described above.
In the polymer, may contain units kinds of interactive group represented by R ₁₁ is represented by two or more expressions that different (3). For example, a unit represented by the formula (3) in which R ₁₁ is an ionic polar group and a unit represented by the formula (3) in which R ₁₁ is a non-dissociable functional group are contained in the polymer. May be.

式（４）中、Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅は、それぞれ独立して、水素原子、または置換若しくは無置換のアルキル基を表す。
Ｒ₁₂〜Ｒ₁₅が、置換または無置換のアルキル基である場合、炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。より具体的には、無置換のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられ、また、置換アルキル基としては、メトキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子）などで置換された、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が挙げられる。 In formula (4), R _{12 to} R ₁₅ each independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group.
When R < ₁₂ > -R < ₁₅ > is a substituted or unsubstituted alkyl group, a C1-C6 alkyl group is preferable and a C1-C4 alkyl group is more preferable. More specifically, examples of the unsubstituted alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and examples of the substituted alkyl group include a methoxy group, a hydroxy group, and a halogen atom (for example, a chlorine atom). , A bromine atom, a fluorine atom) and the like, and a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group.

なお、Ｒ₁₂としては、水素原子、メチル基、または、ヒドロキシ基若しくは臭素原子で置換されたメチル基が好ましい。Ｒ₁₃としては、水素原子、メチル基、または、ヒドロキシ基若しくは臭素原子で置換されたメチル基が好ましい。Ｒ₁₄としては、水素原子が好ましい。Ｒ₁₅としては、水素原子が好ましい。 R ₁₂ is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a methyl group substituted with a hydroxy group or a bromine atom. R ₁₃ is preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a methyl group substituted with a hydroxy group or a bromine atom. R ₁₄ is preferably a hydrogen atom. R ₁₅ is preferably a hydrogen atom.

式（４）中、Ｌ₃は、単結合または２価の連結基を表す。２価の連結基の定義は、上記式（１）中のＬ₁中の連結基の定義と同義である。 In formula (4), L ₃ represents a single bond or a divalent linking group. Definition of the divalent linking group are the same as those defined linking group in L ₁ in the formula (1).

ポリマーの最好適範囲としては、式（Ａ）で表されるユニットと、式（Ｂ）で表されるユニットと、式（Ｃ）で表されるユニットとを含む共重合体、式（Ａ）で表されるユニットと式（Ｂ）で表されるユニットとを含む共重合体、式（Ａ）で表されるユニットと式（Ｃ）で表されるユニットとを含む共重合体、などが挙げられる。   The most preferred range of the polymer is a copolymer comprising a unit represented by the formula (A), a unit represented by the formula (B), and a unit represented by the formula (C), a formula (A ), A copolymer comprising a unit represented by formula (B), a copolymer comprising a unit represented by formula (A) and a unit represented by formula (C), etc. Is mentioned.

上記式（Ａ）〜（Ｃ）中、Ｒ₂₁〜Ｒ₂₆は、それぞれ独立して、水素原子、または、炭素数１〜４の置換若しくは無置換のアルキル基を表す。Ｘ、Ｙ、Ｚ、およびＵは、それぞれ独立して、単結合または２価の連結基を表す。Ｌ₄、Ｌ₅、およびＬ₆は、それぞれ独立して、単結合または２価の連結基を表す。Ｗは、非解離性の相互作用基（非解離性官能基）を表す。Ｖは、イオン性極性基を表す。連結基の定義は、上述の通りである。
式（Ａ）で表されるユニットにおいて、ＹおよびＺは、それぞれ独立に、エステル基、アミド基、フェニレン基（−Ｃ₆Ｈ₄−）が好ましい。Ｌ₄は、炭素数１〜１０の置換または無置換の２価の有機基（特に、炭化水素基）であることが好ましい。
式（Ｂ）で表されるユニットにおいて、Ｗは、シアノ基またはエーテル基であることが好ましい。また、ＸおよびＬ₅は、いずれも単結合であることが好ましい。
式（Ｃ）で表されるユニットにおいて、Ｖはカルボン酸基であることが好ましく、また、Ｖがカルボン酸基であり、且つ、Ｌ₆がＶと連結する部分において４員〜８員の環構造を含む態様が好ましく、さらに、Ｖがカルボン酸基であり、且つ、Ｌ₆の鎖長が６原子〜１８原子である態様も好ましい。さらに、式（Ｃ）で表されるユニットにおいて、Ｖがカルボン酸基であり、且つ、ＵおよびＬ₆が単結合であることも好ましい態様の１つである。なかでも、Ｖがカルボン酸基であり、且つ、ＵおよびＬ₆のいずれも単結合である態様が最も好ましい。 In the above formulas (A) to (C), R _{21 to} R ₂₆ each independently represents a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. X, Y, Z, and U each independently represent a single bond or a divalent linking group. L ₄ , L ₅ and L ₆ each independently represents a single bond or a divalent linking group. W represents a non-dissociable interactive group (non-dissociable functional group). V represents an ionic polar group. The definition of the linking group is as described above.
In the unit represented by the formula (A), Y and Z are preferably each independently an ester group, an amide group, or a phenylene group (—C ₆ H ₄ —). L ₄ is preferably a substituted or unsubstituted divalent organic group (particularly a hydrocarbon group) having 1 to 10 carbon atoms.
In the unit represented by the formula (B), W is preferably a cyano group or an ether group. Further, X and L ₅ is preferably either a single bond.
In the unit represented by the formula (C), V is preferably a carboxylic acid group, V is a carboxylic acid group, and L ₆ is a 4-membered to 8-membered ring in the portion connected to V. An embodiment including a structure is preferable, and an embodiment in which V is a carboxylic acid group and the chain length of L ₆ is 6 to 18 atoms is also preferable. Furthermore, in the unit represented by the formula (C), V is a carboxylic acid group, and U and L ₆ are single bonds. Among these, an embodiment in which V is a carboxylic acid group and both U and L ₆ are single bonds is most preferable.

式（Ａ）〜式（Ｃ）で表されるユニットの含有量は、以下の範囲が好ましい。
即ち、式（Ａ）で表されるユニットと式（Ｂ）で表されるユニットと式（Ｃ）で表されるユニットとを含む共重合体の場合には、式（Ａ）で表されるユニット：式（Ｂ）で表されるユニット：式（Ｃ）で表されるユニット＝５〜５０ｍｏｌ％：５〜４０ｍｏｌ％：２０〜７０ｍｏｌ％であることが好ましく、１０〜４０ｍｏｌ％：１０〜３５ｍｏｌ％：２０〜６０ｍｏｌ％であることがより好ましい。
また、式（Ａ）で表されるユニットと式（Ｂ）で表されるユニットとを含む共重合体の場合には、式（Ａ）で表されるユニット：式（Ｂ）で表されるユニット＝５〜５０ｍｏｌ％：５０〜９５ｍｏｌ％であることが好ましく、１０〜４０ｍｏｌ％：６０〜９０ｍｏｌ％であるこがより好ましい。
さらに、式（Ａ）で表されるユニットと式（Ｃ）で表されるユニットとを含む共重合体の場合は、式（Ａ）で表されるユニット：式（Ｃ）で表されるユニット＝５〜５０ｍｏｌ％：５０〜９５ｍｏｌ％であることが好ましく、１０〜４０ｍｏｌ％：６０〜９０ｍｏｌ％であることがより好ましい。
この範囲にて、加熱処理または光照射処理によるポリマーの重合性の向上、プライマー層２０の抵抗値の低下、また耐湿密着力の向上などが達成される。 The content of the units represented by formula (A) to formula (C) is preferably in the following range.
That is, in the case of a copolymer including a unit represented by the formula (A), a unit represented by the formula (B), and a unit represented by the formula (C), the copolymer is represented by the formula (A). Unit: Unit represented by formula (B): Unit represented by formula (C) = 5-50 mol%: 5-40 mol%: 20-70 mol%, preferably 10-40 mol%: 10-35 mol %: More preferably, it is 20-60 mol%.
In the case of a copolymer containing a unit represented by the formula (A) and a unit represented by the formula (B), a unit represented by the formula (A): represented by the formula (B) Unit = 5-50 mol%: 50-95 mol% is preferable, and 10-40 mol%: 60-90 mol% is more preferable.
Furthermore, in the case of a copolymer containing a unit represented by the formula (A) and a unit represented by the formula (C), a unit represented by the formula (A): a unit represented by the formula (C) = 5 to 50 mol%: 50 to 95 mol% is preferable, and 10 to 40 mol%: 60 to 90 mol% is more preferable.
Within this range, an improvement in the polymerizability of the polymer by heat treatment or a light irradiation treatment, a decrease in the resistance value of the primer layer 20, an improvement in moisture-resistant adhesion, and the like are achieved.

上記ポリマーを含む層の形成方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、上記ポリマーを含む層形成用組成物を基材１２上に塗布して、必要に応じて乾燥処理を施して層を形成する方法が挙げられる。   The formation method in particular of the layer containing the said polymer is not restrict | limited, A well-known method is employable. For example, the layer forming composition containing the said polymer is apply | coated on the base material 12, and the method of giving a drying process as needed and forming a layer is mentioned.

上記ポリマーを含む層には、加熱処理および／または光照射処理が施される。上記ポリマーを含む層に実施される処理は、加熱処理および光照射処理の一方のみが実施されても、両者が実施されてもよい。また、両者の処理を実施する場合、別々の工程で実施してもよいし、同時に実施してもよい。
これらの処理を実施することにより、重合性基が活性化され、重合性基間および重合性基と基材１２との間で反応が進行し、基材１２とプライマー層２０との密着性が向上する。 The layer containing the polymer is subjected to heat treatment and / or light irradiation treatment. The treatment carried out on the layer containing the polymer may be carried out either by heat treatment or light irradiation treatment, or by both. Moreover, when performing both processing, you may implement by a separate process and may implement simultaneously.
By carrying out these treatments, the polymerizable group is activated, the reaction proceeds between the polymerizable groups and between the polymerizable group and the substrate 12, and the adhesion between the substrate 12 and the primer layer 20 is improved. improves.

加熱処理の条件は使用されるポリマーの種類に応じて最適な条件が選択されるが、なかでもプライマー層２０の架橋密度が高まり、フィルムミラーの耐侯性およびフレキシブル性がより高まる点で、６０〜１５０℃（好ましくは、８０〜１２０℃）で０．１〜３時間（好ましくは、０．５〜２時間）処理することが好ましい。
光照射処理の条件は使用されるポリマーの種類に応じて最適な条件が選択されるが、なかでもプライマー層２０の架橋密度が高まり、フィルムミラーの耐侯性およびフレキシブル性がより高まる点で、露光量は１０〜８０００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ²がより好ましい。
なお、露光に使用される光源は特に制限されず、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線などがある。 The optimum conditions for the heat treatment are selected according to the type of polymer used. Among these, the crosslinking density of the primer layer 20 is increased, and the weather resistance and flexibility of the film mirror are further increased. It is preferable to process at 150 degreeC (preferably 80-120 degreeC) for 0.1 to 3 hours (preferably 0.5 to 2 hours).
Optimum conditions are selected according to the type of polymer used for the light irradiation treatment. Among these, exposure is performed in that the crosslinking density of the primer layer 20 is increased, and the weather resistance and flexibility of the film mirror are further increased. the amount is preferably from ^{10~8000mJ / cm 2, 100~3000mJ / cm} 2 is more preferable.
The light source used for exposure is not particularly limited, and examples thereof include a mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp, and a carbon arc lamp. Examples of radiation include electron beams, X-rays, ion beams, and far infrared rays.

プライマー層２０の層厚は特に制限されないが、フィルムミラーの耐侯性およびフレキシブル性がより優れる点で、０．０５〜１０μｍが好ましく、０．３〜５μｍがより好ましい。   The layer thickness of the primer layer 20 is not particularly limited, but is preferably 0.05 to 10 μm and more preferably 0.3 to 5 μm in terms of more excellent weather resistance and flexibility of the film mirror.

第２の実施形態において、プライマー層２０上に銀反射層１４を形成する際には、プライマー層２０にめっき触媒またはその前駆体を付与する触媒付与工程と、めっき触媒またはその前駆体が付与されたプライマー層２０に対して銀めっき処理を実施するめっき工程とを実施することが好ましい。これらの工程を実施することにより形成された銀反射層１４はプライマー層２０との密着性がより優れる。つまり、プライマー層２０が、めっき下塗り層として機能する。
以下に、それぞれの工程の手順について詳述する。 In the second embodiment, when the silver reflective layer 14 is formed on the primer layer 20, a catalyst application step for applying a plating catalyst or a precursor thereof to the primer layer 20, and a plating catalyst or a precursor thereof are applied. It is preferable to perform a plating step of performing silver plating on the primer layer 20. The silver reflective layer 14 formed by carrying out these steps is more excellent in adhesion with the primer layer 20. That is, the primer layer 20 functions as a plating undercoat layer.
Below, the procedure of each process is explained in full detail.

（触媒付与工程）
触媒付与工程は、プライマー層２０にめっき触媒またはその前駆体を付与する工程である。本工程においては、プライマー層２０に相互作用性基が、その機能に応じて、付与されためっき触媒またはその前駆体を吸着する。例えば、めっき触媒前駆体として金属イオンを使用した場合は、金属イオンがプライマー層２０に吸着する。
めっき触媒またはその前駆体としては、後述するめっき工程における、めっきの触媒や、めっきの電極として機能するものが挙げられる。そのため、めっき触媒またはその前駆体は、めっき工程におけるめっきの種類により決定される。
以下に、使用されるめっき触媒またはその前駆体について詳述する。 (Catalyst application process)
The catalyst application step is a step of applying a plating catalyst or a precursor thereof to the primer layer 20. In this step, the interactive group adsorbs the applied plating catalyst or its precursor to the primer layer 20 according to its function. For example, when metal ions are used as the plating catalyst precursor, the metal ions are adsorbed on the primer layer 20.
Examples of the plating catalyst or a precursor thereof include those that function as a plating catalyst or a plating electrode in a plating step described later. Therefore, the plating catalyst or its precursor is determined by the type of plating in the plating process.
Below, the plating catalyst used or its precursor is explained in full detail.

無電解めっき触媒としては、無電解めっき時の活性核となるものであれば、如何なるものも用いることができる。具体的には、自己触媒還元反応の触媒能を有する金属（Ｎｉよりイオン化傾向の低い無電解めっきできる金属として知られるもの）などが挙げられ、具体的には、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどが挙げられる。なかでも、多座配位可能なものが好ましく、特に、配位可能な官能基の種類数、触媒能の高さから、Ｐｄが特に好ましい。   As the electroless plating catalyst, any catalyst can be used as long as it becomes an active nucleus during electroless plating. Specific examples include metals having catalytic ability for autocatalytic reduction reaction (known as metals capable of electroless plating having a lower ionization tendency than Ni), and specifically, Pd, Ag, Cu, Ni, Al, Fe, Co, etc. are mentioned. Among these, those capable of multidentate coordination are preferable, and Pd is particularly preferable from the viewpoint of the number of types of functional groups capable of coordination and high catalytic ability.

無電解めっき触媒前駆体とは、化学反応により無電解めっき触媒となりうるものであれば、特に制限なく使用することができる。主には、上記無電解めっき触媒として挙げた金属の金属イオンが用いられる。無電解めっき触媒前駆体である金属イオンは、還元反応により無電解めっき触媒である０価金属になる。無電解めっき触媒前駆体である金属イオンをプライマー層２０へ付与した後、無電解めっき浴への浸漬前に、別途還元反応により０価金属に変化させて無電解めっき触媒としてもよいし、無電解めっき触媒前駆体のまま無電解めっき浴に浸漬し、無電解めっき浴中の還元剤により金属（無電解めっき触媒）に変化させてもよい。
無電解めっき触媒前駆体である金属イオンは、金属塩を用いてプライマー層２０に付与されることが好ましい。使用される金属塩としては、適切な溶媒に溶解して金属イオンと塩基（陰イオン）とに解離されるものであれば特に制限はなく、Ｍ(ＮＯ₃)_n、ＭＣｌ_n、Ｍ_2/n（ＳＯ₄）、Ｍ_3/n(ＰＯ₄)Ｐｄ(ＯＡｃ)_n（Ｍは、ｎ価の金属原子を表す）などが挙げられる。金属イオンとしては、上記の金属塩が解離したものを好適に用いることができる。具体例としては、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ａｌイオン、Ｎｉイオン、Ｃｏイオン、Ｆｅイオン、Ｐｄイオンが挙げられる。なかでも、多座配位可能なものが好ましく、特に、配位可能な官能基の種類数および触媒能の点で、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ｐｄイオンが好ましい。 The electroless plating catalyst precursor can be used without particular limitation as long as it can become an electroless plating catalyst by a chemical reaction. The metal ions of the metals mentioned as the electroless plating catalyst are mainly used. The metal ion that is an electroless plating catalyst precursor becomes a zero-valent metal that is an electroless plating catalyst by a reduction reaction. After applying the metal ion, which is an electroless plating catalyst precursor, to the primer layer 20 and before immersion in the electroless plating bath, the electroless plating catalyst may be changed to a zero-valent metal by a separate reduction reaction, or an electroless plating catalyst may be used. The electroplating catalyst precursor may be immersed in an electroless plating bath and changed to a metal (electroless plating catalyst) by a reducing agent in the electroless plating bath.
It is preferable that the metal ion which is an electroless-plating catalyst precursor is provided to the primer layer 20 using a metal salt. The metal salt used is not particularly limited as long as it is dissolved in a suitable solvent and dissociated into a metal ion and a base (anion), and M (NO ₃ ) _n , MCl _n , M _{2 / n} (SO ₄ ), M _{3 / n} (PO ₄ ) Pd (OAc) _n (M represents an n-valent metal atom), and the like. As a metal ion, the thing which said metal salt dissociated can be used suitably. Specific examples include Ag ions, Cu ions, Al ions, Ni ions, Co ions, Fe ions, and Pd ions. Among them, those capable of multidentate coordination are preferable, and Ag ions, Cu ions, and Pd ions are particularly preferable in terms of the number of types of functional groups capable of coordination and catalytic ability.

なお、無電解めっき触媒前駆体をめっき工程の前に還元させる場合、触媒活性化液（還元液）を準備し、無電解めっき前の別工程として行うことも可能である。触媒活性化液は、無電解めっき触媒前駆体（主に金属イオン）を０価金属に還元できる還元剤と還元剤を活性化するためのｐＨ調整剤が含有される場合が多い。
液全体に対する還元剤の濃度は、０．１〜５０質量％が好ましく、１〜３０質量％がより好ましい。
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボランのようなホウ素系還元剤、ホルムアルデヒド、次亜リン酸などの還元剤を使用することが可能である。
特に、ホルムアルデヒドを含有するアルカリ水溶液で還元することが好ましい。 In addition, when reducing an electroless-plating catalyst precursor before a plating process, it is also possible to prepare a catalyst activation liquid (reducing liquid) and to perform as a separate process before electroless plating. The catalyst activation liquid often contains a reducing agent capable of reducing the electroless plating catalyst precursor (mainly metal ions) to a zero-valent metal and a pH adjusting agent for activating the reducing agent.
0.1-50 mass% is preferable and, as for the density | concentration of the reducing agent with respect to the whole liquid, 1-30 mass% is more preferable.
As the reducing agent, it is possible to use a boron-based reducing agent such as sodium borohydride or dimethylamine borane, or a reducing agent such as formaldehyde or hypophosphorous acid.
In particular, reduction with an aqueous alkaline solution containing formaldehyde is preferred.

なお、めっき触媒として、無電解めっきを行わず直接電気めっきを行うために用いられる触媒を使用してもよい。このような触媒としては、例えば、０価金属が挙げられ、より具体的には、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどが挙げられる。なかでも、多座配位可能なものが好ましく、特に、相互作用性基に対する吸着（付着）性、触媒能の高さから、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕが好ましい。   In addition, you may use the catalyst used in order to perform electroplating directly, without performing electroless plating as a plating catalyst. Examples of such a catalyst include zero-valent metals, and more specifically, Pd, Ag, Cu, Ni, Al, Fe, Co, and the like. Among them, those capable of multidentate coordination are preferable, and Pd, Ag, and Cu are particularly preferable from the viewpoints of the adsorptive (adhesive) property to the interactive group and the high catalytic ability.

めっき触媒またはその前駆体をプライマー層２０に付与する方法としては、これらを含む溶液（例えば、金属を適当な分散媒に分散した分散液、または、金属塩を適切な溶媒で溶解し、解離した金属イオンを含む溶液）を調製し、その分散液若しくは溶液をプライマー層２０上に塗布するか、または、その分散液若しくは溶液中にプライマー層２０が形成された基材１２を浸漬すればよい。   As a method for applying the plating catalyst or its precursor to the primer layer 20, a solution containing these (for example, a dispersion in which a metal is dispersed in an appropriate dispersion medium, or a metal salt is dissolved in an appropriate solvent and dissociated). A solution containing metal ions) is prepared and the dispersion or solution is applied onto the primer layer 20, or the substrate 12 on which the primer layer 20 is formed may be immersed in the dispersion or solution.

（めっき工程）
めっき工程は、めっき触媒またはその前駆体が付与されたプライマー層２０に対し、銀めっき処理を施すことで、銀反射層１４を形成する工程である。
本工程において行われるめっきの種類は、無電解めっき、電気めっきが挙げられ、上記触媒付与工程でプライマー層２０に付与されためっき触媒またはその前駆体の機能によって、適宜選択することができる。つまり、本工程では、めっき触媒またはその前駆体が付与されたプライマー層２０に対し、電気めっきを行ってもよいし、無電解めっきを行ってもよい。
以下、本工程において好適に行われるめっき処理について説明する。 (Plating process)
A plating process is a process of forming the silver reflective layer 14 by giving a silver plating process with respect to the primer layer 20 to which the plating catalyst or its precursor was provided.
The type of plating performed in this step includes electroless plating and electroplating, and can be appropriately selected depending on the function of the plating catalyst applied to the primer layer 20 or the precursor thereof in the catalyst applying step. That is, in this step, electroplating may be performed on the primer layer 20 to which the plating catalyst or its precursor has been applied, or electroless plating may be performed.
Hereinafter, the plating process suitably performed in this process will be described.

無電解めっきとは、銀イオンを溶かした溶液を用いて、化学反応によって銀を析出させる操作のことをいう。
無電解めっきは、例えば、無電解めっき触媒が付与されたプライマー層２０を備える基材１２を、水洗して余分な無電解めっき触媒（金属）を除去した後、無電解めっき浴に浸漬して行う。使用される無電解めっき浴としては、公知の無電解めっき浴を使用することができる。
また、無電解めっき触媒前駆体が付与されたプライマー層２０を備える基材１２を、無電解めっき触媒前駆体がプライマー層２０に吸着または含浸した状態で無電解めっき浴に浸漬する場合には、基板を洗浄して余分な前駆体（金属塩など）を除去した後、無電解めっき浴中へ浸漬することが好ましい。この場合には、無電解めっき浴中において、めっき触媒前駆体の還元とこれに引き続き無電解めっきが行われる。ここで使用される無電解めっき浴としても、上記同様、公知の無電解めっき浴を使用することができる。 Electroless plating refers to an operation of depositing silver by a chemical reaction using a solution in which silver ions are dissolved.
For example, the electroless plating is performed by rinsing the base material 12 provided with the primer layer 20 provided with the electroless plating catalyst with water to remove excess electroless plating catalyst (metal) and then immersing it in the electroless plating bath. Do. As the electroless plating bath used, a known electroless plating bath can be used.
Further, when the substrate 12 including the primer layer 20 provided with the electroless plating catalyst precursor is immersed in the electroless plating bath in a state where the electroless plating catalyst precursor is adsorbed or impregnated in the primer layer 20, It is preferable to immerse in an electroless plating bath after cleaning the substrate to remove excess precursors (metal salts, etc.). In this case, reduction of the plating catalyst precursor and subsequent electroless plating are performed in the electroless plating bath. As the electroless plating bath used here, a known electroless plating bath can be used as described above.

本工程おいては、付与されためっき触媒またはその前駆体が電極としての機能を有する場合、めっき触媒またはその前駆体が付与されたプライマー層２０に対して、電気めっきを行うことができる。
電気めっきの方法としては、従来公知の方法を用いることができる。
また、前述の無電解めっきの後、形成された銀めっき膜を電極とし、さらに、電気めっきを行ってもよい。
なお、めっきに用いる銀化合物としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀が挙げられる。 In this step, when the applied plating catalyst or its precursor has a function as an electrode, electroplating can be performed on the primer layer 20 provided with the plating catalyst or its precursor.
As a method of electroplating, a conventionally known method can be used.
Further, after the above-described electroless plating, the formed silver plating film may be used as an electrode, and electroplating may be further performed.
The silver compounds used for plating include silver nitrate, silver acetate, silver sulfate, silver carbonate, silver methanesulfonate, ammonia silver, silver cyanide, silver thiocyanate, silver chloride, silver bromide, silver chromate, and chloranilic acid. Examples thereof include silver, silver salicylate, silver diethyldithiocarbamate, silver diethyldithiocarbamate, and silver p-toluenesulfonate.

＜第３の実施形態＞
以下に、本発明のフィルムミラーの第３の実施形態について図面を参照して説明する。図３に、本発明のフィルムミラーの第３の実施形態の断面図を示す。
フィルムミラー２００は、基材１２と、銀反射層１４と、フッ素含有層１６と、表面保護層２２とをこの順で有する。
図３に示すフィルムミラー２００は、表面保護層２２を備える点を除いて、図１に示すフィルムミラー１０と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下では主として表面保護層２２について詳述する。 <Third Embodiment>
Below, 3rd Embodiment of the film mirror of this invention is described with reference to drawings. In FIG. 3, sectional drawing of 3rd Embodiment of the film mirror of this invention is shown.
The film mirror 200 has the base material 12, the silver reflection layer 14, the fluorine-containing layer 16, and the surface protective layer 22 in this order.
Since the film mirror 200 shown in FIG. 3 has the same configuration as the film mirror 10 shown in FIG. 1 except that the surface mirror 22 is provided, the same components are denoted by the same reference numerals. The description thereof will be omitted, and the surface protective layer 22 will be mainly described in detail below.

［表面保護層］
表面保護層２２は、フッ素含有層１６上に配置される層であり、通常、図に示すようにフィルムミラー２００の最表層に配置され、フィルムミラー２００の表面の耐傷性、防汚性を高めるために設けられる。
表面保護層２２を構成する材料は特に制限されず、光を透過する透明性を有していればよい。例えば、樹脂、ガラス、セラミックなどが挙げられ、なかでも、フレキシブル性に優れる点で樹脂が好ましい。言い換えれば、表面保護層２２は樹脂層（樹脂保護層）であることが好ましい。
樹脂としては、硬化性樹脂（例えば、ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、シリコーン（メタ）アクリレート樹脂、エポキシ（メタ）アクリレート樹脂などの光硬化性樹脂；フェノール樹脂、ユリア樹脂（尿素樹脂）、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂、ジアリルフタレート樹脂、フラン樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネート樹脂などの熱硬化性樹脂）または、熱可塑性樹脂（例えば、フェノキシ樹脂、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンスルフォンなど）が挙げられる。 [Surface protective layer]
The surface protective layer 22 is a layer disposed on the fluorine-containing layer 16 and is generally disposed on the outermost layer of the film mirror 200 as shown in the figure, and improves the scratch resistance and antifouling property of the surface of the film mirror 200. Provided for.
The material constituting the surface protective layer 22 is not particularly limited as long as it has transparency to transmit light. For example, resin, glass, ceramic and the like can be mentioned, and among them, resin is preferable in terms of excellent flexibility. In other words, the surface protective layer 22 is preferably a resin layer (resin protective layer).
Examples of the resin include curable resins (for example, urethane (meth) acrylate resins, polyester (meth) acrylate resins, silicone (meth) acrylate resins, epoxy (meth) acrylate resins) and other photocurable resins; phenol resins, urea resins ( Urea resins), phenoxy resins, silicone resins, polyimide resins, diallyl phthalate resins, furan resins, bismaleimide resins, cyanate resins and other thermosetting resins) or thermoplastic resins (eg, phenoxy resins, polyether sulfones, polysulfones). And polyphenylene sulfone).

なかでも、表面保護層２２を形成する樹脂フィルムとしては、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルムなどを挙げることができる。
なかでも、耐候性の観点から、ポリカーボネート系樹脂フィルム、ポリエステル系樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、アクリル樹脂フィルム、フッ素樹脂フィルム、オレフィン系樹脂フィルムなどが好ましく、より具体的には、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）フィルム、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）フィルムが好ましく、ＰＭＭＡフィルムがより好ましい。 Among these, as the resin film for forming the surface protective layer 22, for example, cellulose ester film, polyester film, polycarbonate film, polyarylate film, polysulfone (including polyethersulfone) film, polyethylene terephthalate, polyethylene Polyester film such as naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, cellulose diacetate film, cellulose triacetate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate butyrate film, polyvinylidene chloride film, polyvinyl alcohol film, ethylene vinyl alcohol film , Syndiotactic polystyrene film, polycarbonate Irumu, norbornene resin film, a polymethylpentene film, a polyether ketone film, polyether ketone imide film, a polyamide film, a fluororesin film, a nylon film, polymethyl methacrylate film, and the like acrylic film.
Of these, polycarbonate resin films, polyester resin films, norbornene resin films, acrylic resin films, fluororesin films, olefin resin films, and the like are preferable from the viewpoint of weather resistance. More specifically, polyvinylidene fluoride ( PVDF) film and polymethyl methacrylate (PMMA) film are preferable, and PMMA film is more preferable.

表面保護層２２の層厚は特に制限されないが、フィルムミラーの耐侯性およびフレキシブル性がより優れる点で、１０〜２００μｍが好ましく、２５〜１００μｍがより好ましい。   The layer thickness of the surface protective layer 22 is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 μm, more preferably 25 to 100 μm, in terms of more excellent weather resistance and flexibility of the film mirror.

また、表面保護層２２の形成方法は特に限定されないが、例えば、所定の表面保護層２２をフッ素含有層１６上に貼り合わせる方法や、上述した光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂を含有する硬化性組成物をフッ素含有層１６上に塗布した後、紫外線照射による光硬化や加熱による加熱硬化する方法等が挙げられる。
なかでも、表面保護層２２のフッ素含有層１６に対する密着性を高めるために、フッ素含有層１６の表面にプラズマ処理、オゾン処理、またはコロナ放電処理などの表面処理を実施した後、表面保護層２２を配置することが好ましい。 Further, the method for forming the surface protective layer 22 is not particularly limited. For example, a method in which a predetermined surface protective layer 22 is bonded onto the fluorine-containing layer 16 or a curing containing the above-described photocurable resin or thermosetting resin. Examples thereof include a method of applying a functional composition on the fluorine-containing layer 16 and then performing photocuring by ultraviolet irradiation or heat curing by heating.
In particular, in order to improve the adhesion of the surface protective layer 22 to the fluorine-containing layer 16, the surface of the fluorine-containing layer 16 is subjected to surface treatment such as plasma treatment, ozone treatment, or corona discharge treatment, and then the surface protective layer 22. Is preferably arranged.

また、必要に応じて、フッ素含有層１６と表面保護層２２との間の接着性を高めるために、接着層を設けてもよい。   Moreover, in order to improve the adhesiveness between the fluorine containing layer 16 and the surface protective layer 22, you may provide an adhesive layer as needed.

以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited to these.

＜実施例１＞
ＰＥＴ支持体（Ａ４３００、東洋紡社製）上に、以下の式で表されるアクリルポリマーを含む溶液を、厚さ０．５μｍになるようにバーコート法により塗布し、８０℃にて５分乾燥して塗膜を得た。 <Example 1>
On a PET support (A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), a solution containing an acrylic polymer represented by the following formula was applied by a bar coating method to a thickness of 0.5 μm and dried at 80 ° C. for 5 minutes. To obtain a coating film.

なお、上記式で表されるアクリルポリマーの合成方法は以下の通りである。
（合成例）
２Ｌの三口フラスコに酢酸エチル１Ｌ、２−アミノエタノール１５９ｇを入れ、氷浴にて冷却をした。そこへ、２−ブロモイソ酪酸ブロミド１５０ｇを内温２０℃以下になるように調節して滴下した。その後、内温を室温（２５℃）まで上昇させて２時間反応させた。反応終了後、蒸留水３００ｍＬを追加して反応を停止させた。その後、酢酸エチル層を蒸留水３００ｍＬで４回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、さらに酢酸エチルを留去することで原料Ａを８０ｇ得た。
次に、５００ｍＬの三口フラスコに、原料Ａ４７．４ｇ、ピリジン２２ｇ、酢酸エチル１５０ｍＬを入れて氷浴にて冷却した。そこへ、アクリル酸クロライド２５ｇを内温２０℃以下になるように調節して滴下した。その後、室温に上げて３時間反応させた。反応終了後、蒸留水３００ｍＬを追加し、反応を停止させた。その後、酢酸エチル層を蒸留水３００ｍＬで４回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、さらに酢酸エチルを留去した。その後、カラムクロマトグラフィーにて、以下のモノマーＭ１を精製し２０ｇ得た。 The method for synthesizing the acrylic polymer represented by the above formula is as follows.
(Synthesis example)
1 L of ethyl acetate and 159 g of 2-aminoethanol were placed in a 2 L three-necked flask and cooled in an ice bath. Thereto, 150 g of 2-bromoisobutyric acid bromide was added dropwise while adjusting the internal temperature to 20 ° C. or lower. Thereafter, the internal temperature was raised to room temperature (25 ° C.) and reacted for 2 hours. After completion of the reaction, 300 mL of distilled water was added to stop the reaction. Thereafter, the ethyl acetate layer was washed four times with 300 mL of distilled water, dried over magnesium sulfate, and 80 g of raw material A was obtained by distilling off ethyl acetate.
Next, 47.4 g of raw material A, 22 g of pyridine, and 150 mL of ethyl acetate were placed in a 500 mL three-necked flask and cooled in an ice bath. Thereto, 25 g of acrylic acid chloride was added dropwise while adjusting the internal temperature to 20 ° C. or lower. Then, it was raised to room temperature and reacted for 3 hours. After completion of the reaction, 300 mL of distilled water was added to stop the reaction. Thereafter, the ethyl acetate layer was washed four times with 300 mL of distilled water and dried over magnesium sulfate, and ethyl acetate was further distilled off. Thereafter, the following monomer M1 was purified by column chromatography to obtain 20 g.

５００ｍＬの三口フラスコに、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８ｇを入れ、窒素気流下６５℃まで加熱した。そこへ、上記で得たモノマーＭ１：１４．３ｇ、アクリロニトリル（東京化成工業（株）製）３．０ｇ、アクリル酸（東京化成製）６．５ｇ、Ｖ−６５（和光純薬製）０．４ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８ｇ溶液を、４時間かけて滴下した。滴下終了後、さらに３時間撹拌した。その後、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド４１ｇを足し、室温まで反応溶液を冷却した。上記の反応溶液に、４−ヒドロキシＴＥＭＰＯ（東京化成製）０．０９ｇ、ＤＢＵ５４．８ｇを加え、室温で１２時間反応を行った。その後、反応溶液に７０質量％メタンスルホン酸水溶液５４ｇを加えた。反応終了後、水で再沈を行い、固形物を取り出し、上記式で表されるアクリルポリマー（重量平均分子量５．３万）を１２ｇ得た。   In a 500 mL three-necked flask, 8 g of N, N-dimethylacetamide was added and heated to 65 ° C. under a nitrogen stream. The monomer M1: 14.3g obtained above, acrylonitrile (made by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) 3.0g, acrylic acid (made by Tokyo Chemical Industry) 6.5g, V-65 (made by Wako Pure Chemical Industries) 0. 4 g of N, N-dimethylacetamide 8 g solution was added dropwise over 4 hours. After completion of dropping, the mixture was further stirred for 3 hours. Thereafter, 41 g of N, N-dimethylacetamide was added, and the reaction solution was cooled to room temperature. 4-hydroxy TEMPO (product made from Tokyo Chemical Industry) 0.09g and DBU54.8g were added to said reaction solution, and reaction was performed at room temperature for 12 hours. Thereafter, 54 g of a 70 mass% methanesulfonic acid aqueous solution was added to the reaction solution. After completion of the reaction, reprecipitation was carried out with water, the solid matter was taken out, and 12 g of an acrylic polymer (weight average molecular weight 53,000) represented by the above formula was obtained.

また、上記式で表されるアクリルポリマーを含む溶液の調製法は以下の通りである。
上記式で表されるアクリルポリマー（７質量部）、１−メトキシ−２−プロパノール（７４質量部）、水（１９質量部）の割合で混合し、さらにこの混合溶液に対して、光重合開始剤（エサキュアＫＴＯ−４６、ランベルディー社製）（０．３５質量部）を添加して、攪拌混合した。 Moreover, the preparation method of the solution containing the acrylic polymer represented by the said formula is as follows.
Mixing at a ratio of acrylic polymer (7 parts by mass) represented by the above formula, 1-methoxy-2-propanol (74 parts by mass) and water (19 parts by mass), and then starting photopolymerization for this mixed solution An agent (Esacure KTO-46, manufactured by Lamberdy) (0.35 parts by mass) was added and stirred and mixed.

その後、三永電機製のＵＶ露光機（型番：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）を用い、上記で得られた塗膜に対して２５４ｎｍの波長で１０００ｍＪ／ｃｍ²の積算露光量にて照射を行い、プライマー層（厚み：５００nｍ）を製造した。 Thereafter, using a UV exposure machine (model number: UVF-502S, lamp: UXM-501MD) manufactured by Mitsunaga Electric Co., Ltd., with an integrated exposure amount of 1000 mJ / cm ² at a wavelength of 254 nm for the coating film obtained above. Irradiation was performed to produce a primer layer (thickness: 500 nm).

得られたプライマー層付きＰＥＴ支持体（プライマー層付き樹脂基材）を１ｗｔ％炭酸水素ナトリウム水溶液中に５分間浸漬し、その後さらに純水で洗浄した。
次に、プライマー層付き樹脂基材を１ｗｔ％硝酸銀水溶液中に５分間浸漬し、その後純水で洗浄して、プライマー層に無電解めっき触媒前駆体（銀イオン）を付与した。
次に、プライマー層付き樹脂基材を、４０ｍｍｏｌ／ＬのＮａＯＨと２．２重量％のホルマリンとを含むアルカリ水溶液（ｐＨ１２）（還元剤に該当）に浸漬し、その後純水で洗浄して、プライマー層中に銀を付与した。 The obtained PET support with a primer layer (resin base material with a primer layer) was immersed in a 1 wt% aqueous sodium hydrogen carbonate solution for 5 minutes, and then further washed with pure water.
Next, the resin base material with a primer layer was immersed in a 1 wt% silver nitrate aqueous solution for 5 minutes and then washed with pure water to give an electroless plating catalyst precursor (silver ions) to the primer layer.
Next, the resin substrate with a primer layer is immersed in an aqueous alkaline solution (pH 12) (corresponding to a reducing agent) containing 40 mmol / L NaOH and 2.2 wt% formalin, and then washed with pure water. Silver was applied in the primer layer.

次に、還元銀が付与されたプライマー層に対して、以下の電気めっき処理を行い、銀反射層（厚み：１００ｎｍ）を製造した。
電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（大和化成社製）を用い、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ９．０に調整した。還元銀を表面にもつプライマー層付き樹脂基材を、電気めっき液に浸漬し、０．５Ａ／ｄｍ²にて２０秒間めっきし、純水で１分間掛け流しにより洗浄した。
電気めっき後処理として、めっき後のプライマー層付き樹脂基材を、ダインシルバーＡＣＣ（大和化成社製）の１０質量％水溶液に９０秒間浸漬後、純水で１分間掛け流しにより洗浄した。こうして、銀反射層付き樹脂基材を得た。 Next, the following electroplating process was performed with respect to the primer layer to which reduced silver was provided, and the silver reflection layer (thickness: 100 nm) was manufactured.
As an electroplating solution, Dyne Silver Bright PL50 (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd.) was used, and the pH was adjusted to 9.0 with 8M potassium hydroxide. The resin base material with a primer layer having reduced silver on the surface was immersed in an electroplating solution, plated at 0.5 A / dm ^{2 for} 20 seconds, and washed by pouring with pure water for 1 minute.
As a post-electroplating treatment, the resin base material with a primer layer after plating was immersed in a 10% by mass aqueous solution of Dyne Silver ACC (manufactured by Daiwa Kasei Co., Ltd.) for 90 seconds, and then washed by pouring with pure water for 1 minute. Thus, a resin base material with a silver reflective layer was obtained.

Poly(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate)（sigma aldrich社製）をmethylene chlorideに溶解させて得られたフッ素含有層形成用組成物に、Irgacure184（ＢＡＳＦ社製）を溶質に対して１％添加し、銀反射層上に塗布して、８０℃で５分間乾燥処理を行い、フッ素含有層（厚み１００ｎｍ）を形成した。形成したフッ素含有層に三永電機製のＵＶ露光機（型番：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）を用い、上記で得られた塗膜に対して３６５ｎｍの波長で１０００ｍＪ／ｃｍ²の積算露光量にて照射を行い、フィルムミラーを製造した。 Poly (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate) (manufactured by sigma aldrich) was dissolved in methylene chloride into a fluorine-containing layer forming composition, and Irgacure184 (manufactured by BASF) Was added to the solute, applied onto the silver reflective layer, and dried at 80 ° C. for 5 minutes to form a fluorine-containing layer (thickness: 100 nm). Using a UV exposure machine (model number: UVF-502S, lamp: UXM-501MD) manufactured by Mitsunaga Electric for the formed fluorine-containing layer, integration of 1000 mJ / cm ² at a wavelength of 365 nm with respect to the coating film obtained above. Irradiation was performed with an exposure amount to produce a film mirror.

（屈折率測定）
Poly(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate)（sigma aldrich社製）をmethylene chlorideに溶解させて得られたフッ素含有層形成用組成物に、Irgacure184（ＢＡＳＦ社製）を溶質に対して１％添加し、ＰＥＴフィルム上に塗布して、８０℃で５分間乾燥処理を行い、フッ素含有層（厚み１０μｍ）を形成した。形成したフッ素含有層に三永電機製のＵＶ露光機（型番：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）を用い、上記で得られた塗膜に対して３６５ｎｍの波長で１０００ｍＪ／ｃｍ²の積算露光量にて照射を行い、サンプルを形成した。サンプルを、可視分光エリプソメータ（Smart SE、株式会社堀場製作所製）にて測定した。 (Refractive index measurement)
Poly (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate) (manufactured by sigma aldrich) was dissolved in methylene chloride into a fluorine-containing layer forming composition, and Irgacure184 (manufactured by BASF) Was added to the solute, applied onto a PET film, and dried at 80 ° C. for 5 minutes to form a fluorine-containing layer (thickness 10 μm). Using a UV exposure machine (model number: UVF-502S, lamp: UXM-501MD) manufactured by Mitsunaga Electric for the formed fluorine-containing layer, integration of 1000 mJ / cm ² at a wavelength of 365 nm with respect to the coating film obtained above. Irradiation was performed at an exposure amount to form a sample. The sample was measured with a visible spectroscopic ellipsometer (Smart SE, manufactured by Horiba, Ltd.).

（反射率評価）
製造したフィルムミラーの４５０ｎｍにおける反射率を測定した。反射率の測定には、紫外可視近赤外分光光度計ＵＶ−３１００（島津製作所製）を用いて、評価を行った。以下の基準に従って評価した。結果を表１に示す。実用上、ＡまたはＢであることが必要である。
「Ａ」：８８％以上
「Ｂ」：８０％以上８８％未満
「Ｃ」：８０％未満 (Reflectance evaluation)
The reflectance at 450 nm of the produced film mirror was measured. The reflectance was measured using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer UV-3100 (manufactured by Shimadzu Corporation). Evaluation was made according to the following criteria. The results are shown in Table 1. Practically, it must be A or B.
“A”: 88% or more “B”: 80% or more and less than 88% “C”: less than 80%

＜実施例２＞
Poly(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate)の代わりに、Poly(1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methacrylate)（sigma aldrich社製）を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。 <Example 2>
Other than using Poly (1,1,1,3,3,3-hexafluoroisopropyl methacrylate) (sigma aldrich) instead of Poly (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate) Manufactured a film mirror according to the same procedure as in Example 1, and performed various evaluations. The results are shown in Table 1.

＜実施例３＞
Poly(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate)の代わりに、Poly(2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate)（sigma aldrich社製）を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。 <Example 3>
Except for using Poly (2,2,3,3,3-pentafluoropropyl methacrylate) (sigma aldrich) instead of Poly (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate), A film mirror was produced according to the same procedure as in Example 1, and various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

＜実施例４＞
Poly(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate)の代わりに、Poly(2,2,2-trifluoroethyl acrylate)（sigma aldrich社製）を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。 <Example 4>
Example 1 was used except that Poly (2,2,2-trifluoroethyl acrylate) (manufactured by sigma aldrich) was used instead of Poly (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate). According to the same procedure, a film mirror was manufactured and various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

＜実施例５＞
Poly(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate)の代わりに、Poly(2,2,2-trifluoroethyl methacrylate)（sigma aldrich社製）を使用した以外は、実施例１と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。 <Example 5>
Example 1 was used except that Poly (2,2,2-trifluoroethyl methacrylate) (manufactured by sigma aldrich) was used instead of Poly (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate). According to the same procedure, a film mirror was manufactured and various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

＜実施例６＞
フッ素含有層の厚みを１００ｎｍから７０ｎｍに変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。 <Example 6>
Except that the thickness of the fluorine-containing layer was changed from 100 nm to 70 nm, a film mirror was produced according to the same procedure as in Example 2, and various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

＜実施例７＞
フッ素含有層の厚みを１００ｎｍから５０ｎｍに変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。 <Example 7>
Except that the thickness of the fluorine-containing layer was changed from 100 nm to 50 nm, a film mirror was produced according to the same procedure as in Example 2, and various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

＜実施例８＞
フッ素含有層の厚みを１００ｎｍから２０ｎｍに変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。 <Example 8>
A film mirror was produced according to the same procedure as in Example 2 except that the thickness of the fluorine-containing layer was changed from 100 nm to 20 nm, and various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

＜実施例９＞
フッ素含有層の厚みを１００nmから１０nmに変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。 <Example 9>
Except that the thickness of the fluorine-containing layer was changed from 100 nm to 10 nm, a film mirror was produced according to the same procedure as in Example 2, and various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.

＜比較例１＞
Poly(2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate)（sigma aldrich社製）をmethylene chlorideに溶解させて得られたフッ素含有層形成用組成物の代わりに、ポリエステル樹脂（ポリエスター ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）、メラミン樹脂（スーパーベッカミンＪ−８２０、ＤＩＣ社製）、ＴＤＩ系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）、ＨＭＤＩ系イソシアネート（１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で２０：１：１：２に混合した樹脂中に、さらに腐食防止剤としてグリコールジメルカプトアセテートを塗布後に０．２ｇ／ｍ²となるよう調整した量を添加した組成物を使用した以外は、実施例２と同様の手順に従って、フィルムミラーを製造し、各種評価を行った。結果を表１に示す。
上記使用された組成物は、特許文献１の実施例で使用されていた組成物に該当する。 <Comparative Example 1>
Instead of the fluorine-containing layer forming composition obtained by dissolving Poly (2,2,3,3,4,4,4-heptafluorobutyl methacrylate) (manufactured by sigma aldrich) in methylene chloride, a polyester resin (poly Esther SP-181, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), melamine resin (Super Becamine J-820, manufactured by DIC), TDI isocyanate (2,4-tolylene diisocyanate), HMDI isocyanate (1,6-hexamethylene) Diisocyanate) in a resin mixed at a resin solid content ratio of 20: 1: 1: 2 is added to the resin, and an amount adjusted to 0.2 g / m ² after application of glycol dimercaptoacetate as a corrosion inhibitor is added. A film mirror was produced according to the same procedure as in Example 2 except that the product was used, and various evaluations were performed. The results are shown in Table 1.
The composition used above corresponds to the composition used in the examples of Patent Document 1.

表１中、「屈折率」は、フッ素含有層の屈折率を示す。「厚み」は、フッ素含有層の厚みを示す。   In Table 1, “refractive index” indicates the refractive index of the fluorine-containing layer. “Thickness” indicates the thickness of the fluorine-containing layer.

表１に示すように、本発明のフィルムミラーは優れた反射特性を示すことが確認された。なかでも、実施例１〜５の比較から分かるように、屈折率が１．４０以下の場合、より反射特性に優れることが確認された。また、実施例２、６〜９から分かるように、フッ素含有層の厚みが２０ｎｍ以上の場合、より反射特性に優れることが確認された。
一方、所定の屈折率を示さない層を使用した比較例１においては、反射特性が劣っていた。 As shown in Table 1, it was confirmed that the film mirror of the present invention exhibits excellent reflection characteristics. In particular, as can be seen from the comparison of Examples 1 to 5, when the refractive index is 1.40 or less, it was confirmed that the reflection characteristics were more excellent. Further, as can be seen from Examples 2 and 6 to 9, when the thickness of the fluorine-containing layer was 20 nm or more, it was confirmed that the reflection characteristics were more excellent.
On the other hand, in the comparative example 1 using the layer which does not show a predetermined refractive index, the reflection characteristic was inferior.

１０，１００，２００ フィルムミラー
１２ 樹脂基材
１４ 銀反射層
１６ フッ素含有層
２０ プライマー層
２２ 表面保護層 10, 100, 200 Film mirror 12 Resin substrate 14 Silver reflective layer 16 Fluorine-containing layer 20 Primer layer 22 Surface protective layer

Claims (5)

光入射側から順に、有機フッ素化合物を含有するフッ素含有層、銀反射層、および基材を少なくとも有し、
前記フッ素含有層と前記銀反射層とが隣接して配置され、
前記フッ素含有層の屈折率が１．４２以下である、太陽光集光用フィルムミラー。 In order from the light incident side, at least a fluorine-containing layer containing an organic fluorine compound, a silver reflective layer, and a substrate,
The fluorine-containing layer and the silver reflective layer are disposed adjacent to each other;
The film mirror for sunlight condensing whose refractive index of the said fluorine content layer is 1.42 or less. 前記フッ素含有層の屈折率が１．４０以下である、請求項１に記載の太陽光集光用フィルムミラー。   The film mirror for sunlight condensing of Claim 1 whose refractive index of the said fluorine-containing layer is 1.40 or less. 前記フッ素含有層の厚みが、２０ｎｍ以上である、請求項１または２に記載の太陽光集光用フィルムミラー。   The film mirror for sunlight condensing according to claim 1 or 2 whose thickness of said fluorine content layer is 20 nm or more. 前記有機フッ素化合物が、有機フッ素樹脂である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の太陽光集光用フィルムミラー。   The film mirror for sunlight condensing according to any one of claims 1 to 3 in which said organic fluorine compound is organic fluororesin. 前記有機フッ素樹脂が、式（１）で表される繰り返し単位を有する、請求項４に記載の太陽光集光用フィルムミラー。
（式（１）中、Ｒ₁は、水素原子またはアルキル基を表す。Ｌ₁は、単結合または２価の連結基を表す。Ｒ₂は、炭化水素基を表し、前記炭化水素中の一部または全部の水素原子はフッ素原子で置換されている。） The film mirror for sunlight condensing of Claim 4 in which the said organic fluororesin has a repeating unit represented by Formula (1).
(In the formula (1), R ₁ represents a hydrogen atom or an alkyl group. L ₁ represents a single bond or a divalent linking group. R ₂ represents a hydrocarbon group. Some or all of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms.)