JP2014182186A - Electrophotographic photoreceptor, method for repairing flaw of electrophotographic photoreceptor, image forming method, image forming apparatus, and process cartridge - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体の傷修復方法、画像形成方法、画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関する。 The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, an electrophotographic photoreceptor flaw repair method, an image forming method, an image forming apparatus, and a process cartridge.
近年、複写機、ファクシミリ、レーザープリンタ及びこれらの複合機に多く用いられている有機感光体（ＯＰＣ）は、電荷輸送層に低分子電荷輸送物質と不活性高分子を主成分として用いている。そのため一般に柔らかく、電子写真プロセスにおいて繰り返し使用された場合、現像システムやクリーニングシステムによる機械的な負荷により摩耗が発生しやすいという欠点がある。この様な、感光体の摩耗が局所的に発生したものである傷は、クリーニング不良による異常画像等をもたらす場合があった。そこで感光体の表面の傷を修復する試みが様々な方向から検討されてきた。 In recent years, organic photoreceptors (OPCs) frequently used in copying machines, facsimile machines, laser printers, and composite machines thereof use a low molecular charge transport material and an inert polymer as main components in a charge transport layer. For this reason, it is generally soft and has a drawback in that when it is repeatedly used in an electrophotographic process, wear is likely to occur due to a mechanical load caused by a developing system and a cleaning system. Such scratches caused by local wear of the photoconductor may cause abnormal images due to poor cleaning. Thus, attempts to repair the scratches on the surface of the photoreceptor have been studied from various directions.
感光体の表面の傷を修復する方法としては、感光体の表面層に修復材料を用いて傷を化学反応により分子構造から修復する方法が知られている。例えば、自己修復性樹脂を感光体の表面層に用い、切断された樹脂分子鎖を修復する方法や（特許文献１参照）、修復材料をカプセルに内包させて傷を修復する方法が提案されている（特許文献２参照）。 As a method for repairing scratches on the surface of the photoreceptor, a method is known in which a repair material is used for the surface layer of the photoreceptor to repair the scratches from the molecular structure by a chemical reaction. For example, a method of repairing a broken resin molecular chain using a self-healing resin for the surface layer of the photoreceptor (see Patent Document 1) and a method of repairing a wound by encapsulating a repair material in a capsule have been proposed. (See Patent Document 2).
しかしながら、従来の自己修復性樹脂を用いる修復の場合、（１）自己修復性樹脂である表面層が削り取られてしまい空隙となってしまうと修復をすることができず、（２）自己修復性樹脂が反応性のある置換基を有する樹脂であるため、感光層に含有させると電気特性に悪影響を与え、（３）自己修復性樹脂は架橋樹脂ではないので、十分な耐摩耗性を有していないという課題が生じる。 However, in the case of repair using a conventional self-healing resin, (1) the surface layer that is the self-healing resin cannot be repaired if the surface layer is scraped off to form voids, and (2) self-healing Since the resin is a resin having a reactive substituent, if it is included in the photosensitive layer, it adversely affects the electrical characteristics. (3) Since the self-repairing resin is not a crosslinked resin, it has sufficient wear resistance. The problem that it is not.
また、カプセルを用いる修復の場合、（４）カプセルに内包される修復材料により感光体表面の傷を修復できるのは一度であるため、再度同じ場所に傷が生じてしまうと繰り返し修復することができないという課題が生じる。 Further, in the case of repair using a capsule, (4) the scratch on the surface of the photoconductor can be repaired once by the repair material contained in the capsule. The problem of not being possible arises.
上記の課題を解決するために、請求項１に係る発明は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、前記フラン誘導体および前記マレイミド誘導体のうち少なくとも１つは融点１６０℃以下であることを特徴とする電子写真感光体である。
In order to solve the above problems, the invention according to
本発明によれば、（１）空隙となった傷の修復が容易になり、（２）良好な電気特性を得ることができ、（３）３次元架橋体を形成するので十分な耐摩耗性を有し、（４）再度同じ場所に傷が生じた場合であっても修復できる。 According to the present invention, (1) it becomes easy to repair the scratches that have become voids, (2) good electrical characteristics can be obtained, and (3) sufficient wear resistance since a three-dimensional crosslinked body is formed. (4) Even if the same place is damaged again, it can be repaired.
以下、図１乃至図９を用いて、本発明の実施形態について説明する。
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、上記のフラン誘導体および上記のマレイミド誘導体のうち少なくとも１つは融点１６０℃以下であることを特徴とする。
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体および上記のマレイミド誘導体の融点が１６０℃以下であることを特徴とする。
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体がトリアリールアミン部分構造を有するものであることを特徴とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 9.
An electrophotographic photoreceptor according to an embodiment of the present invention is an electrophotographic photoreceptor having a layer containing a structure in which a furan derivative and a maleimide derivative are cross-linked, and includes the above furan derivative and the above maleimide derivative. At least one of them has a melting point of 160 ° C. or lower.
The electrophotographic photoreceptor according to an embodiment of the present invention is characterized in that the melting point of the furan derivative and the maleimide derivative is 160 ° C. or lower.
The electrophotographic photosensitive member according to an embodiment of the present invention is characterized in that the furan derivative has a triarylamine partial structure.
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体が下記一般式（１）で表されるものであることを特徴とする。 An electrophotographic photosensitive member according to an embodiment of the present invention is characterized in that the furan derivative is represented by the following general formula (1).
（式中、Ｒ１はカルボニル基、または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。） (In the formula, R 1 represents a carbonyl group or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 2 to R 4 each independently represent a hydrogen atom or a C 1-6 which may have a substituent. Represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent.)
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体が下記一般式（２）で表されるものであることを特徴とする。 The electrophotographic photosensitive member according to an embodiment of the present invention is characterized in that the furan derivative is represented by the following general formula (2).
（式中、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。）
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記のフラン誘導体が下記構造式で表されるものであることを特徴とする。
(In the formula, R 2 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an optionally substituted substituent having 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxy group.)
An electrophotographic photoreceptor according to an embodiment of the present invention is characterized in that the furan derivative is represented by the following structural formula.
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、更に、上記の層が金属酸化物フィラーを有することを特徴とする。 The electrophotographic photosensitive member according to an embodiment of the present invention is further characterized in that the above layer has a metal oxide filler.
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記の金属酸化物フィラーの平均一次粒径が０．１５μｍ以上１．５μｍ以下であることを特徴とする。 The electrophotographic photosensitive member according to an embodiment of the present invention is characterized in that the average primary particle size of the metal oxide filler is 0.15 μm or more and 1.5 μm or less.
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記の層全体における上記の金属酸化物フィラーの含有率が１％以上３０％以下であることを特徴とする。
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、上記の金属酸化物フィラーがアルミナであることを特徴とする。
The electrophotographic photoreceptor according to an embodiment of the present invention is characterized in that the content of the metal oxide filler in the entire layer is 1% or more and 30% or less.
The electrophotographic photoreceptor according to an embodiment of the present invention is characterized in that the metal oxide filler is alumina.
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体の傷修復方法は、上記の電子写真感光体の傷修復方法であって、上記のフラン誘導体または上記のマレイミド誘導体の少なくとも１種の融点以上の温度で上記のフラン誘導体と上記のマレイミド誘導体とが架橋した構造体を架橋解離させることを特徴とする。 An electrophotographic photoconductor scratch repair method according to an embodiment of the present invention is the above electrophotographic photoconductor scratch repair method, wherein the temperature is at least one melting point of the furan derivative or the maleimide derivative. A structure in which the furan derivative and the maleimide derivative are crosslinked is dissociated by crosslinking.
本発明の一実施形態に係る画像形成方法は、上記の電子写真感光体に、少なくとも帯電、画像露光、現像を繰り返し行うことを特徴とする。 An image forming method according to an embodiment of the present invention is characterized in that at least charging, image exposure, and development are repeatedly performed on the electrophotographic photosensitive member.
本発明の一実施形態に係る画像形成装置は、少なくとも帯電手段、画像露光手段、現像手段及び上記の電子写真感光体を具備してなることを特徴とする。 An image forming apparatus according to an embodiment of the present invention includes at least a charging unit, an image exposing unit, a developing unit, and the electrophotographic photosensitive member.
本発明の一実施形態に係るプロセスカートリッジは、少なくとも上記の電子写真感光体を具備してなることを特徴とする。
＜＜電子写真感光体の構成＞＞
A process cartridge according to an embodiment of the present invention includes at least the electrophotographic photosensitive member described above.
<< Configuration of electrophotographic photoreceptor >>
まず、図１及び図５を用いて本実施形態の電子写真感光体について説明する。図１乃至図３は、本発明の実施形態に係る積層構成の電子写真感光体の一例を示す模式図である。図４及び図５は、本発明の実施形態に係る単層構成の電子写真感光体の一例を示す模式図である。 First, the electrophotographic photoreceptor of this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 5. 1 to 3 are schematic views showing an example of an electrophotographic photosensitive member having a laminated structure according to an embodiment of the present invention. 4 and 5 are schematic views showing an example of an electrophotographic photosensitive member having a single-layer structure according to an embodiment of the present invention.
図１の積層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に電荷発生層３、電荷輸送層４を順次積層している。図２の積層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に下引き層２、電荷発生層３、電荷輸送層４を順次積層している。図３の積層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に下引き層２、電荷発生層３、電荷輸送層４、保護層５を順次積層している。図４の単層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に電荷発生物質と電荷輸送物質を両方含有する単層型感光層６を順次積層している。図５の単層構成の電子写真感光体は、導電性支持体１の上に電荷発生物質と電荷輸送物質を両方含有する単層型感光層６、単層型感光層用の保護層５を順次積層している。なお、電子写真感光体は、いずれの層構成であってもよい。
＜＜電子写真感光体の各層の構成＞＞
＜導電性支持体＞
In the electrophotographic photosensitive member having the laminated structure of FIG. 1, a
<< Configuration of each layer of electrophotographic photoreceptor >>
<Conductive support>
導電性支持体１としては、体積抵抗１０１０Ω・ｃｍ以下の導電性を示すものが使用できる。例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属、酸化スズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はスパッタリングにより、フィルム状もしくは円筒状のプラスチック、紙に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレスなどの板及びそれらを、押し出し、引き抜きなどの工法で素管化後、切削、超仕上げ、研摩などの表面処理した管などを使用することができる。また、エンドレスニッケルベルト、エンドレスステンレスベルトも導電性支持体１として用いることができる。
As the
この他、上記支持体上に導電性粉体を適当なバインダー樹脂に分散して塗工したものについても、導電性支持体１として用いることができる。この導電性粉体としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、またアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉、あるいは導電性酸化スズ、ＩＴＯなどの金属酸化物粉体などが挙げられる。
In addition to this, the
また、同時に用いられるバインダー樹脂には、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱可塑性、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。 The binder resin used at the same time includes polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, Polyvinyl acetate, polyvinylidene chloride, polyarylate resin, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly-N-vinylcarbazole, acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine Thermoplastic, thermosetting resin or photo-curing resin such as resin, urethane resin, phenol resin, alkyd resin and the like can be mentioned.
このような導電性層は、これらの導電性粉体とバインダー樹脂を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、メチルエチルケトン、トルエンなどに分散して塗布することにより設けることができる。 Such a conductive layer can be provided by dispersing and applying these conductive powder and binder resin in a suitable solvent such as tetrahydrofuran, dichloromethane, methyl ethyl ketone, and toluene.
さらに、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、ポリテトラフロロエチレン系フッ素樹脂などの素材に上記の導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、導電性支持体１として良好に用いることができる。
＜電荷発生層＞
Furthermore, heat shrinkage that contains the above-mentioned conductive powder in materials such as polyvinyl chloride, polypropylene, polyester, polystyrene, polyvinylidene chloride, polyethylene, chlorinated rubber, polytetrafluoroethylene fluororesin on a suitable cylindrical substrate What provided the electroconductive layer with the tube can be used suitably as the
<Charge generation layer>
電荷発生層３は、電荷発生物質を主成分とする層である。電荷発生物質としては、特に限定はなく、フタロシアニンやアゾなど公知の材料を用いることができる。
The
必要に応じて電荷発生層３に用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミド、ポリビニルベンザール、ポリエステル、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリフェニレンオキシド、ポリアミド、ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンなどが挙げられる。バインダー樹脂の量は、電荷発生物質１００質量部に対し０〜５００質量部、好ましくは１０〜３００質量部が適当である。
As the binder resin used for the
電荷発生層３は、電荷発生物質を必要に応じてバインダー樹脂とともに適当な溶剤中にボールミル、アトライター、サンドミル、超音波などの公知の分散方法を用いて分散し、これを導電性支持体１上、もしくは下引き層や中間層上に塗布し、乾燥することにより形成される。バインダー樹脂の添加は、電荷発生物質の分散前、あるいは分散後のどちらでも構わない。
In the
電荷発生層３の形成に用いられる溶剤としては、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルセルソルブ、酢酸エチル、酢酸メチル、ジクロロメタン、ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、リグロイン等の一般に用いられる有機溶剤が挙げられるが、これらの中でも、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、エーテル系溶媒が特に好ましい。これらは単独で用いても２種以上混合して用いてもよい。
Solvents used for forming the
電荷発生層３の形成用塗工液は、電荷発生物質、溶媒及びバインダー樹脂を主成分とするが、その中には、増感剤、分散剤、界面活性剤、シリコーンオイル等のいかなる添加剤が含まれていてもよい。
The coating liquid for forming the
塗工液を用いて電荷発生層３を塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート、ビートコート、ノズルコート、スピナーコート、リングコート等の公知の方法を用いることができる。
As a method for applying the
電荷発生層３の膜厚は、０．０１〜５μｍが好ましく、０．１〜２μｍがより好ましい。塗工後には、オーブン等で加熱乾燥される。本発明における電荷発生層３の乾燥温度としては、５０℃以上１６０℃以下が好ましい。
＜電荷輸送層＞
The film thickness of the
<Charge transport layer>
電荷輸送層４は、電荷輸送物質及びバインダー樹脂を溶剤に溶解又は分散した塗工液を、塗布、乾燥することにより形成される。また、電荷輸送層４の塗工液には、必要に応じて、単独又は２種以上の可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤、滑剤等の添加剤を添加してもよい。
The
電荷輸送物質としては、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）及びその誘導体、ポリ（γ−カルバゾリルエチルグルタメート）及びその誘導体、ピレン−ホルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、α−フェニルスチルベン誘導体、アミノビフェニル誘導体、ベンジジン誘導体、ジアリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、９−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体等、ビススチルベン誘導体、ジスチリルベンゼン誘導体、エナミン誘導体等の材料が挙げられる。これらの電荷輸送物質は、単独又は２種以上混合して用いられる。電荷輸送物質の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、通常、２０〜３００質量部であり、４０〜１５０質量部が好ましい。 Examples of charge transport materials include poly (N-vinylcarbazole) and derivatives thereof, poly (γ-carbazolylethyl glutamate) and derivatives thereof, pyrene-formaldehyde condensates and derivatives thereof, polyvinylpyrene, polyvinylphenanthrene, polysilane, and oxazole derivatives. Oxadiazole derivatives, imidazole derivatives, monoarylamine derivatives, diarylamine derivatives, triarylamine derivatives, stilbene derivatives, α-phenylstilbene derivatives, aminobiphenyl derivatives, benzidine derivatives, diarylmethane derivatives, triarylmethane derivatives, 9- Bistilbene derivatives such as styrylanthracene derivatives, pyrazoline derivatives, divinylbenzene derivatives, hydrazone derivatives, indene derivatives, butadiene derivatives, pyrene derivatives, etc. Materials, distyrylbenzene derivatives, enamine derivatives and the like. These charge transport materials may be used alone or in combination of two or more. The content of the charge transport material is usually 20 to 300 parts by mass and preferably 40 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
バインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性又は熱硬化性樹脂が挙げられる。 Binder resins include polystyrene, styrene-acrylonitrile copolymer, styrene-butadiene copolymer, styrene-maleic anhydride copolymer, polyester, polyvinyl chloride, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyvinyl acetate, poly Vinylidene chloride, polyarylate, phenoxy resin, polycarbonate, cellulose acetate resin, ethyl cellulose resin, polyvinyl butyral, polyvinyl formal, polyvinyl toluene, poly (N-vinylcarbazole), acrylic resin, silicone resin, epoxy resin, melamine resin, urethane resin, Examples thereof include thermoplastic or thermosetting resins such as phenol resins and alkyd resins.
塗工溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレン、アセトン、ジエチルエーテル、メチルエチルケトン等が挙げられ、２種以上併用してもよい。電荷輸送層４の膜厚は、解像度や応答性の点から、１０〜５０μｍであることが好ましく、１５〜３５μｍがさらに好ましい。
Examples of the coating solvent include tetrahydrofuran, dioxane, toluene, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, xylene, acetone, diethyl ether, and methyl ethyl ketone. Two or more kinds may be used in combination. The film thickness of the
塗工する方法としては、浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法、ノズルコート法、スピナーコート法、リングコート法等の公知の方法を用いることができるが、電荷輸送層４は膜厚をある程度厚く塗る必要があるため、粘性の高い液で浸漬塗工法に塗工することが好ましい。
As a coating method, known methods such as a dip coating method, a spray coating method, a bead coating method, a nozzle coating method, a spinner coating method, and a ring coating method can be used, but the
塗工後の電荷輸送層４は、オーブン等で加熱乾燥される。乾燥温度は塗工液に含有される溶媒によっても異なるが、８０〜１６０℃あることが好ましく、１１０〜１４０℃がより好ましい。また、乾燥時間は、１０分以上であることが好ましく、２０分以上がさらに好ましい。
＜単層型感光層＞
The
<Single layer type photosensitive layer>
次に、単層構成の場合について述べる。単層構成の電子写真感光体は、上述した電荷発生物質、電荷輸送物質をバインダー樹脂中に分散乃至溶解させ、電荷発生機能、及び電荷輸送機能を一つの層で実現した感光体である。 Next, the case of a single layer configuration will be described. The electrophotographic photosensitive member having a single layer structure is a photosensitive member in which the above-described charge generating substance and charge transporting substance are dispersed or dissolved in a binder resin to realize a charge generating function and a charge transporting function in one layer.
単層型感光層６は、電荷発生物質、電荷輸送物質及びバインダー樹脂をテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジクロロエタン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエン、キシレン等の溶剤に溶解ないし分散し、これを浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート、リングコートなどの従来公知の方法を用いて塗工して形成できる。
The single-layer type
電荷輸送物質には、正孔輸送物質と電子輸送物質の双方が含有されることが好ましい。また、必要により可塑剤やレベリング剤、酸化防止剤等を添加することもできる。 The charge transport material preferably contains both a hole transport material and an electron transport material. Moreover, a plasticizer, a leveling agent, antioxidant, etc. can also be added as needed.
単層型感光層６に用いられる電荷発生物質、電荷輸送物質、バインダー樹脂、有機溶剤及び各種添加剤等に関しては、前述の電荷発生層３及び電荷輸送層４に含有されるいずれの材料をも使用することが可能である。
Regarding the charge generation material, charge transport material, binder resin, organic solvent and various additives used for the single-layer type
バインダー樹脂としては、先に電荷輸送層４で挙げたバインダー樹脂のほかに、電荷発生層３で挙げたバインダー樹脂を混合して用いてもよい。バインダー樹脂１００質量部に対する電荷発生物質の量は、５〜４０質量部が好ましく、１０〜３０質量部がより好ましい。
As the binder resin, in addition to the binder resin previously mentioned in the
また、電荷輸送物質の量は、０〜１９０質量部が好ましく、５０〜１５０質量部がより好ましい。また、感光層の膜厚は、５〜４０μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。
＜下引き層＞
The amount of the charge transport material is preferably 0 to 190 parts by mass, and more preferably 50 to 150 parts by mass. Further, the film thickness of the photosensitive layer is preferably 5 to 40 μm, more preferably 10 to 30 μm.
<Underlayer>
一実施形態の電子写真感光体においては、導電性支持体１と感光層の間に、下引き層２を設けることができる。下引き層２は、一般に、樹脂を主成分とするが、このような樹脂は、その上に溶剤を用いて感光層を塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対する耐溶剤性が高い樹脂であることが好ましい。このような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合ナイロン、メトキシメチル化ナイロン等のアルコール可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド−メラミン樹脂、イソシアネート、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形成する硬化型樹脂等が挙げられる。
In the electrophotographic photoreceptor of one embodiment, the
また、下引き層２には、モアレ防止、残留電位の低減等のために、酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等の金属酸化物の微粉末顔料を加えてもよい。
The
また、前述の電荷発生層３や電荷輸送層４と同様に、溶媒及び塗工法を用いて形成することができる。さらに、下引き層２として、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。
＜保護層＞
Further, similarly to the
<Protective layer>
本発明の一実施形態に係る電子写真感光体は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、フラン誘導体およびマレイミド誘導体のうち少なくとも１つは融点１６０℃以下である。上記の層とは、傷が発生し得る層であれば特に限定されないが、好ましくは最表層である。最表層とは、保護層を有する電子写真感光体であれば保護層５を指し、保護層を有さない電子写真感光体であれば電荷輸送層４を指す。上記の層は、保護層５において特に好適に使用できる。
An electrophotographic photoreceptor according to an embodiment of the present invention is an electrophotographic photoreceptor having a layer containing a structure in which a furan derivative and a maleimide derivative are cross-linked, and at least one of the furan derivative and the maleimide derivative. Has a melting point of 160 ° C. or lower. Although it will not specifically limit if said layer is a layer which can generate | occur | produce a damage | wound, Preferably it is the outermost layer. The outermost layer refers to the
初めに、保護層の形成で用いられるディールス・アルダー反応について念のため説明する。知られているように、この反応の基本反応は、ジエン化合物（ジエン）である１，３−ブタジエンと、親ジエン化合物（ジエノフィル）であるエチレンの環化付加反応（６員環のヒドロアリール環を生成）であり、この反応は、ジエンに電子供与基、ジエノフィルに電子吸引基が置換されている場合に反応し易くなることが知られている。 First, the Diels-Alder reaction used in forming the protective layer will be described just in case. As is known, the basic reaction of this reaction is a cycloaddition reaction of 1,3-butadiene, which is a diene compound (diene), and ethylene, which is a parent diene compound (dienophile) (a 6-membered hydroaryl ring). This reaction is known to be easy to react when an electron donating group is substituted for diene and an electron withdrawing group is substituted for dienophile.
上記のジエン及びジエノフィルには特に制限はないが、反応させやすいと言う点から好ましいジエン及びジエノフィルとして以下の構造を挙げることができる。
（好ましいジエン構造）
シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン、フラン及びこれらを置換基として結合させた化合物
（好ましいジエノフィル構造）
Although there is no restriction | limiting in particular in said diene and dienophile, The following structures can be mentioned as a preferable diene and dienophile from the point that it is made to react easily.
(Preferred diene structure)
Cyclopentadiene, cyclohexadiene, furan and compounds in which these are bonded as substituents (preferred dienophile structure)
シアノエチレン、マレイン酸ジメチル、無水マレイン酸、マレイン酸イミド、ビニルメチルケトン、ジメチルアセチレンジカルボキシレート及びこれらを置換基として結合させた化合物 Cyanoethylene, dimethyl maleate, maleic anhydride, maleic imide, vinyl methyl ketone, dimethyl acetylenedicarboxylate and compounds in which these are bonded as substituents
これらの構造を有するジエン及びジエノフィルには従来公知の材料が適用できる。特にジエンとしてフラン構造を有する化合物（フラン誘導体）とジエノフィルとしてマレイン酸イミド構造を有する化合物（マレイミド誘導体）との組合せが良好なディールス・アルダー反応性を示し、感光体の使用環境条件において安定した構造を保持し、ディールス・アルダー逆反応を素早く起こして架橋解離できることから、最も好ましい。なお、架橋解離とは、樹脂の架橋部分が解離することを意味する。 Conventionally known materials can be applied to the diene and dienophile having these structures. In particular, a combination of a compound having a furan structure as a diene (furan derivative) and a compound having a maleic imide structure as a dienophile (maleimide derivative) exhibits good Diels-Alder reactivity, and a stable structure under the usage conditions of the photoreceptor It is most preferable since the Diels-Alder reverse reaction can be quickly caused to crosslink and dissociate. Cross-linking dissociation means that the cross-linked portion of the resin is dissociated.
ディールス・アルダー正反応は、６０〜１００℃で加熱するだけで進行する。ルイス酸等の添加により反応が加速されることが知られており、感光体への副作用を抑える範囲で添加することもできる。ルイス酸としては、塩化アルミニウム、塩化チタン、塩化スズ、過塩素酸リチウム等の従来公知のものを使用できる。 Diels-Alder positive reaction proceeds only by heating at 60-100 ° C. It is known that the reaction is accelerated by the addition of a Lewis acid or the like, and it can be added within a range in which side effects on the photoreceptor are suppressed. As the Lewis acid, conventionally known ones such as aluminum chloride, titanium chloride, tin chloride and lithium perchlorate can be used.
環化付加体は、ジエンとジエノフィルとの組合せにより、ときによりｅｘｏ体やｅｎｄｏ体等の立体異性をとるが、特にどちらでも良い。例えば、フランと無水マレイン酸との環化付加体では、２０℃より高温側ではｅｘｏ体が熱力学的に安定であり主構造となる。特に限定されないが、熱をかけて反応させる方が製造上有利なため、ｅｘｏ体の環化付加体構造を主とした架橋様式が好ましい。 Cycloadducts sometimes have stereoisomerism such as exo and endo isomers depending on the combination of diene and dienophile. For example, in the cycloaddition product of furan and maleic anhydride, the exo form is thermodynamically stable and has a main structure at a temperature higher than 20 ° C. Although it is not particularly limited, since it is more advantageous in the production to react with heat, a crosslinking mode mainly comprising an exo-type cycloaddition structure is preferred.
次に、フラン誘導体とマレイミド誘導体とが架橋した構造体とは、１分子中に２個以上のフラン基を有する組成物と、１分子中に２個以上のマレイミド基を有する組成物とをディールス・アルダー反応させて得られる構造体を示す。 Next, a structure in which a furan derivative and a maleimide derivative are cross-linked includes a composition having two or more furan groups in one molecule and a composition having two or more maleimide groups in one molecule. -A structure obtained by an alder reaction is shown.
フラン誘導体には、電荷輸送機能を持たせるため、従来公知の低分子電荷輸送物質にフラン基を複数導入し、マレイミド誘導体にはバインダー樹脂にマレイミド基を複数導入し、これらを熱硬化させることでフラン誘導体とマレイミド誘導体とが架橋した構造体を形成することができる。また、バインダー樹脂の代わりにマレイミド構造を２個以上有するモノマーを使用し、フラン基を導入した低分子電荷輸送物質と反応硬化させて形成することもできる。 In order to give the furan derivative a charge transport function, a plurality of furan groups are introduced into a conventionally known low-molecular charge transport material, and a plurality of maleimide groups are introduced into a binder resin in a maleimide derivative, and these are thermally cured. A structure in which a furan derivative and a maleimide derivative are cross-linked can be formed. Alternatively, a monomer having two or more maleimide structures may be used in place of the binder resin, and it may be formed by reaction curing with a low molecular charge transport material having a furan group introduced.
また、フラン誘導体とマレイミド誘導体は、官能基当量比で０．８：１．２〜１．２：０．８で配合することが好ましく、フラン誘導体とマレイミド誘導体とが架橋した構造体は最表層において８０質量％以上包含されていることが好ましい。なぜなら、フラン誘導体とマレイミド誘導体の架橋した構造体が最表層において、含有量が少なくなると十分な耐摩耗性が得られなくなる可能性がある。また、架橋解離時にキズ部位を埋める効果が得られなくなる可能性がある。 Further, the furan derivative and the maleimide derivative are preferably blended at a functional group equivalent ratio of 0.8: 1.2 to 1.2: 0.8, and the structure obtained by crosslinking the furan derivative and the maleimide derivative is the outermost layer. It is preferable that 80 mass% or more is included. This is because if the structure in which the furan derivative and the maleimide derivative are cross-linked in the outermost layer has a small content, sufficient wear resistance may not be obtained. Moreover, there is a possibility that the effect of filling the flaw site at the time of cross-linking dissociation cannot be obtained.
塗工に用いられる溶媒としては上記の電荷輸送層と同様なものが使用できるが、フラン誘導体及びマレイミド誘導体を良好に溶解するものが適している。これらの溶剤は単独で使用しても２種以上混合して使用してもよい。
また、必要によりシリコーンオイルなどのレベリング剤を添加することもできる。
As the solvent used for the coating, those similar to the above-described charge transport layer can be used, but those that dissolve the furan derivative and the maleimide derivative well are suitable. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
Further, a leveling agent such as silicone oil can be added if necessary.
適用される感光体が負帯電型の積層感光体であり、従って、低分子電荷輸送物質が電荷輸送（ホール輸送）性を示すトリアリールアミン構造を有する化合物が使用される場合、構造的に電子供与性を示し、且つ反応性もよい。このため、低分子電荷輸送物質を、トリアリールアミン部分構造を有するフラン誘導体とすることが好ましい。なお、後で詳述する一般式（３）、（４）、（５）で表されるフラン誘導体が反応性と電荷輸送機能を併せ持つことから更に好ましい。上記のトリアリールアミン構造およびトリアリールアミン部分構造とは、特に限定されないが３個のアリール基が窒素に結合した３級アミン構造であり、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、フルオレニル基、ビフェニリル基、アントリル基、ピレニル基等を表す。 When the applied photoconductor is a negatively charged laminated photoconductor, and a compound having a triarylamine structure in which the low molecular charge transporting material exhibits charge transporting (hole transporting) properties is used, it is structurally an electron. It exhibits donating properties and has good reactivity. For this reason, it is preferable that the low molecular charge transport material is a furan derivative having a triarylamine partial structure. In addition, the furan derivatives represented by the general formulas (3), (4), and (5) described later in detail are more preferable because they have both reactivity and charge transport function. The triarylamine structure and the triarylamine partial structure are not particularly limited, but a tertiary amine structure in which three aryl groups are bonded to nitrogen. Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, a fluorenyl group, It represents a biphenylyl group, an anthryl group, a pyrenyl group, or the like.
ディールス・アルダー反応の加熱温度は、正反応については反応を十分に進行させるためにも、また、残留溶媒を防ぐためにも６０℃〜１００℃が好ましい。逆反応は感光層組成物の材料劣化やそれに起因する電気特性悪化を防ぐためにも比較的低温である１３０℃〜１６０℃が好ましい。さらに、フラン誘導体またはマレイミド誘導体の融点以上の温度でフラン誘導体とマレイミド誘導体とが架橋した構造体を架橋解離させることが、最表層構成材料がキズ部位を埋める効果を発揮する点で好ましい。逆反応により架橋解離を行うことによりキズ部位を埋める効果を発揮した後、再度６０℃〜１００℃の正反応を行うことにより再び架橋構造を形成することができる。 The heating temperature of the Diels-Alder reaction is preferably 60 ° C. to 100 ° C. in order to sufficiently advance the reaction for the positive reaction and to prevent residual solvent. The reverse reaction is preferably carried out at a relatively low temperature of 130 ° C. to 160 ° C. in order to prevent material deterioration of the photosensitive layer composition and deterioration of electrical characteristics resulting therefrom. Furthermore, it is preferable that the structure in which the furan derivative and the maleimide derivative are cross-linked at a temperature equal to or higher than the melting point of the furan derivative or the maleimide derivative is cross-linked and dissociated from the viewpoint that the outermost layer constituent material exhibits the effect of filling the flaw site. After exhibiting the effect of filling the scratch site by performing cross-linking dissociation by the reverse reaction, a cross-linked structure can be formed again by performing a normal reaction at 60 ° C. to 100 ° C. again.
ディールス・アルダー逆反応時にフラン誘導体とマレイミド誘導体を架橋解離することによりポリマーネットワーク状態からモノマー状態となることに加えて、逆反応温度において架橋解離したフラン誘導体またはマレイミド誘導体が液体状態になることによりキズ部位を埋める効果をもたらすことから、フラン誘導体およびマレイミド誘導体の少なくとも１種類の融点は１６０℃以下であることが好ましく、フラン誘導体およびマレイミド誘導体の融点がともに１６０℃以下であることがさらに好ましい。例えば、後で詳述する一般式（１）、（２）で表されるフラン誘導体が融点１６０℃以下であることから好ましい。 In addition to changing the furan derivative and maleimide derivative to the monomer state by crosslinking and dissociating the furan derivative and the maleimide derivative at the time of the Diels-Alder reverse reaction, the furan derivative or maleimide derivative that has been crosslinked and dissociated at the reverse reaction temperature becomes a scratch. In view of providing an effect of filling the site, at least one melting point of the furan derivative and the maleimide derivative is preferably 160 ° C. or lower, and more preferably both of the melting points of the furan derivative and the maleimide derivative are 160 ° C. or lower. For example, the furan derivatives represented by the general formulas (1) and (2) described later in detail are preferable because they have a melting point of 160 ° C. or lower.
また、電子写真感光体の使用環境条件（−５℃〜６０℃）において、安定性や耐摩耗性を発揮するためにもフラン誘導体およびマレイミド誘導体は常温において液体状態より固体状態のほうが好ましいので、フラン誘導体およびマレイミド誘導体の融点は６０℃以上であることが好ましい。さらに、フラン誘導体またはマレイミド誘導体が正反応時に液体となることがフラン誘導体及びマレイミド誘導体の反応性向上に寄与することから、フラン誘導体またはマレイミド誘導体の融点は正反応温度以下であることが好ましく、具体的には１００℃以下であることが好ましい。 Further, in order to exhibit stability and abrasion resistance under the use environment conditions (-5 ° C. to 60 ° C.) of the electrophotographic photoreceptor, the furan derivative and the maleimide derivative are preferably in a solid state rather than a liquid state at room temperature. The melting point of the furan derivative and the maleimide derivative is preferably 60 ° C. or higher. Furthermore, since the furan derivative or maleimide derivative becomes liquid during the positive reaction contributes to the improvement of the reactivity of the furan derivative and the maleimide derivative, the melting point of the furan derivative or the maleimide derivative is preferably equal to or lower than the positive reaction temperature. Specifically, the temperature is preferably 100 ° C. or lower.
また、加熱処理前後における最表層構成材料の組成変化による特性変化および最表層の膜厚減少を防ぐため、さらに、逆反応時に架橋解離したフラン誘導体またはマレイミド誘導体が液体状態となり最表層構成材料がキズ部位を埋める効果を発揮するためにも、加熱処理時にフラン誘導体およびマレイミド誘導体が揮発しないことが好ましい。具体的には、フラン誘導体、マレイミド誘導体ともに分子量２５０以上が好ましい。 In addition, in order to prevent changes in characteristics due to the composition change of the outermost layer constituent material before and after heat treatment and a decrease in the film thickness of the outermost layer, the furan derivative or maleimide derivative that has been crosslinked and dissociated during the reverse reaction becomes a liquid state, and the outermost layer constituent material is scratched. In order to exhibit the effect of filling the region, it is preferable that the furan derivative and the maleimide derivative do not volatilize during the heat treatment. Specifically, both the furan derivative and the maleimide derivative preferably have a molecular weight of 250 or more.
フラン誘導体の具体例を表１〜６で示す。なお、表中、Ａ−２〜Ａ−１９は、一般式（３）〜（５）で表されるフラン誘導体であり、Ａ２３〜Ａ２７は、一般式（１）、（２）で表されるフラン誘導体である。 Specific examples of furan derivatives are shown in Tables 1-6. In the table, A-2 to A-19 are furan derivatives represented by general formulas (3) to (5), and A23 to A27 are represented by general formulas (1) and (2). Furan derivative.
これらのフラン誘導体及びマレイミド誘導体は従来公知の方法で得られる。例えば、一般式（３）〜（５）で示されるフラン誘導体の場合は、下記の合成方法により合成することができる。 These furan derivatives and maleimide derivatives can be obtained by a conventionally known method. For example, in the case of furan derivatives represented by the general formulas (3) to (5), they can be synthesized by the following synthesis method.
この場合、フラン誘導体は、触媒とするアゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィンの存在下、アルコール体とジフェノール誘導体とを脱水縮合させることによって製造される。ここで使用されるアゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィンはいずれも市販品が使える。アゾジカルボン酸エステルは１、１’−（アゾカルボニル）ジピペリジン、アゾジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、アゾジカルボン酸ジメチルなどが挙げられる。トリフェニルホスフィンは４−（ジメチルアミノ）フェニルジフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジフェニル−２−ピリジルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、フェノキシジフェニル、トリ−ｎ−オクチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｎ−ヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。ジフェノール誘導体は従来公知の化合物及び合成方法を適用できる。この合成方法は、例えば、特許公報第３５４００９９号記載に記載されており、これらの記載内容を参照によりここに含めるものとする。溶媒としては、ピリジン、トリエチルアミン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジエチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホルム及びトルエンなどが挙げられる。 In this case, the furan derivative is produced by dehydrating and condensing an alcohol and a diphenol derivative in the presence of a catalyst azodicarboxylic acid ester and triphenylphosphine. Both azodicarboxylic acid ester and triphenylphosphine used here are commercially available products. Examples of the azodicarboxylic acid ester include 1,1 '-(azocarbonyl) dipiperidine, di-tert-butyl azodicarboxylate, dibenzyl azodicarboxylate, diisopropyl azodicarboxylate, and dimethyl azodicarboxylate. Triphenylphosphine is 4- (dimethylamino) phenyldiphenylphosphine, dicyclohexylphenylphosphine, diethylphenylphosphine, diphenyl-2-pyridylphosphine, isopropyldiphenylphosphine, phenoxydiphenyl, tri-n-octylphosphine, tri-tert-butylphosphine, Examples include tributylphosphine, tricyclohexylphosphine, tri-n-hexylphosphine, triphenylphosphine and the like. Conventionally known compounds and synthetic methods can be applied to the diphenol derivatives. This synthesis method is described in, for example, Japanese Patent Publication No. 3540099, and the contents of these descriptions are included here by reference. Examples of the solvent include pyridine, triethylamine, tetrahydrofuran, dimethylformamide, diethyl ether, dimethyl sulfoxide, dichloromethane, chloroform, and toluene.
反応温度は−５℃から溶媒の沸点の範囲で実施可能であり、０℃から室温の範囲が好ましい。さらに、反応は窒素、アルゴン等の不活性ガス気流下に実施することが好ましい。反応時間は通常１時間から２４時間で完結する。 The reaction temperature can be carried out in the range of −5 ° C. to the boiling point of the solvent, and preferably in the range of 0 ° C. to room temperature. Furthermore, the reaction is preferably carried out under an inert gas stream such as nitrogen or argon. The reaction time is usually 1 to 24 hours.
また、例示化合物Ａ２０〜Ａ２２では、フルフリルアルコールから誘導されるアルコキシドとハロゲン化アルキル含有トリフェニルアミン化合物とのＷｉｌｌｉａｍｓｏｎ反応によりエーテル結合によりフラン基を導入できる。 In Exemplified Compounds A20 to A22, a furan group can be introduced by an ether bond by a Williamson reaction between an alkoxide derived from furfuryl alcohol and a halogenated alkyl-containing triphenylamine compound.
（式中、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ２〜Ｒ１１は各々独立して、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルコキシ基、または置換基を有しても良いアリール基を表す。） (In the formula, R 1 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 2 to R 11 each independently has an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and a substituent which may have a substituent. It represents an optionally substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group which may have a substituent.
（式中、Ｒ２〜Ｒ１１は各々独立して、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルコキシ基、または置換基を有しても良いアリール基を表す。） (Wherein R 2 to R 11 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent, or Represents an aryl group which may have a substituent.)
一般式（３）、（４）、（５）において、Ｒ１は炭素数１〜６のアルキレン基を表し、メチレンが好ましい。Ａｒ１、Ａｒ２において置換基を有しても良いアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられ、また下記一般式（６）、（７）、（８）、（９）で表される基も挙げることができる。 Formula (3), (4), in (5), R 1 represents an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, methylene is preferable. Examples of the aryl group that may have a substituent in Ar 1 and Ar 2 include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a terphenylyl group, a pyrenyl group, a fluorenyl group, a 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, and an azulenyl group. , Anthryl group, triphenylenyl group, chrycenyl group, and the like, and groups represented by the following general formulas (6), (7), (8), and (9) can also be exemplified.
（ここで、Ｒ１２、Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、置換基を有しても良いアルキル基、または置換基を有しても良いアリール基を表し、ａは１〜１２の整数、ｂは１〜３の整数を表す。） (Wherein R 12 and R 13 represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group which may have a substituent, or an aryl group which may have a substituent, a is an integer of 1 to 12, b Represents an integer of 1 to 3.)
これらの置換基としては、ハロゲン原子、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基が挙げられる。ハロゲン原子の具体例として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を挙げることができる。また、炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基が挙げられる。また、置換基を有しても良いアルコキシ基は、上記置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基を有するアルコキシ基を表し、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。 Examples of these substituents include a halogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and an optionally substituted alkoxy group. Specific examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. Moreover, a halogen atom and a phenyl group are mentioned as a substituent of a C1-C6 alkyl group. Moreover, the alkoxy group which may have a substituent represents the alkoxy group which has the C1-C6 alkyl group which may have the said substituent, As a specific example, a methoxy group, an ethoxy group, Examples include n-propoxy group, i-propoxy group, t-butoxy group, n-butoxy group, benzyloxy group and the like.
Ｒ２〜Ｒ１１は、それぞれ独立して、置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有しても良いアルコキシ基、または置換基を有しても良いアリール基を表す。炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基が挙げられる。置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基等が挙げられる。 R 2 to R 11 are each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms that may have a substituent, an alkoxy group that may have a substituent, or an aryl that may have a substituent. Represents a group. Examples of the substituent for the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a halogen atom and a phenyl group. Specific examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, t-butyl group, s-butyl group, n- A butyl group, i-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group and the like can be mentioned.
また、アルコキシ基は、上記置換基を有しても良い炭素数１〜６のアルキル基を有するアルコキシ基を表し、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。 The alkoxy group represents an alkoxy group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have the above substituent, and specific examples thereof include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group. Group, t-butoxy group, n-butoxy group, benzyloxy group and the like.
また、アリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、ピレニル基、フルオレニル基、９，９−ジメチル−２−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリフェニレニル基、クリセニル基等が挙げられる。これらの置換基としては、ハロゲン原子や炭素数１〜６のアルキル基が挙げられる。ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基は、上記記載と同様である。
次に、一般式（１）、（２）で示されるフラン誘導体の場合は、下記の光延合成方法により合成することができる。
Examples of the aryl group include a phenyl group, a naphthyl group, a biphenylyl group, a terphenylyl group, a pyrenyl group, a fluorenyl group, a 9,9-dimethyl-2-fluorenyl group, an azulenyl group, an anthryl group, a triphenylenyl group, and a chrysenyl group. It is done. Examples of these substituents include halogen atoms and alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms. The halogen atom and the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms are the same as described above.
Next, in the case of the furan derivatives represented by the general formulas (1) and (2), they can be synthesized by the following Mitsunobu synthesis method.
この場合、フラン誘導体は、触媒とするアゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィンの存在下、カルボン酸またはアルコール体とトリメチロール体とを脱水縮合させることによって製造される。 In this case, the furan derivative is produced by dehydrating condensation of a carboxylic acid or alcohol and a trimethylol in the presence of a catalyst azodicarboxylic acid ester and triphenylphosphine.
ここで使用されるアゾジカルボン酸エステルとトリフェニルホスフィンは何れも市販品が使える。アゾジカルボン酸エステルは１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン、アゾジカルボン酸ジ−ｔｅｒｔ−ブチル、アゾジカルボン酸ジベンジル、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、アゾジカルボン酸ジメチルなどが挙げられる。トリフェニルホスフィンは４−（ジメチルアミノ）フェニルジフェニルホスフィン、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン、ジエチルフェニルホスフィン、ジフェニル−２−ピリジルホスフィン、イソプロピルジフェニルホスフィン、フェノキシジフェニルホスフィン、トリ−ｎ−オクチルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｎ−ヘキシルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどが挙げられる。
カルボン酸またはアルコール体は市販品、合成品ともに使える。例えば、２−フランカルボン酸、フルフリルアルコールなどが挙げられる。
Commercially available products can be used for both the azodicarboxylic acid ester and triphenylphosphine used here. Examples of the azodicarboxylic acid ester include 1,1 ′-(azodicarbonyl) dipiperidine, di-tert-butyl azodicarboxylate, dibenzyl azodicarboxylate, diethyl azodicarboxylate, diisopropyl azodicarboxylate, and dimethyl azodicarboxylate. Triphenylphosphine is 4- (dimethylamino) phenyldiphenylphosphine, dicyclohexylphenylphosphine, diethylphenylphosphine, diphenyl-2-pyridylphosphine, isopropyldiphenylphosphine, phenoxydiphenylphosphine, tri-n-octylphosphine, tri-tert-butylphosphine , Tributylphosphine, tricyclohexylphosphine, tri-n-hexylphosphine, triphenylphosphine, and the like.
Carboxylic acid or alcohol can be used for both commercial and synthetic products. For example, 2-furancarboxylic acid, furfuryl alcohol, etc. are mentioned.
トリメチロール体は従来公知（例えば、非特許文献のＭａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２０１１，４４（２２），８７７１−８７７９）の合成方法を適用できる。 A conventionally known synthesis method (for example, Macromolecules, 2011, 44 (22), 8771-8879) can be applied to the trimethylol body.
溶媒としては、ピリジン、トリエチルアミン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジエチルエーテル、ジメチルスルホキシド、ジクロロメタン、クロロホルムおよびトルエン等が挙げられる。 Examples of the solvent include pyridine, triethylamine, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dimethylformamide, diethyl ether, dimethyl sulfoxide, dichloromethane, chloroform and toluene.
反応温度は、−５℃から溶媒の沸点の範囲で実施可能であり、０℃から室温の範囲が好ましい。さらに、反応は窒素、アルゴン等の不活性ガス気流下に実施することが好ましい反応時間は通常１時間から４８時間で完結する。
次に一般式（１）、（２）で表されるフラン誘導体について詳述する。
The reaction temperature can be carried out in the range of −5 ° C. to the boiling point of the solvent, and preferably in the range of 0 ° C. to room temperature. Furthermore, the reaction is preferably carried out in an inert gas stream such as nitrogen or argon, and the reaction time is usually completed in 1 to 48 hours.
Next, the furan derivatives represented by the general formulas (1) and (2) will be described in detail.
（式中、Ｒ１はカルボニル基、または炭素数１〜６のアルキレン基を表し、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。） (In the formula, R 1 represents a carbonyl group or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms, and R 2 to R 4 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. Or an optionally substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.)
（式中、Ｒ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、または置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基を表す。）
上記の一般式（１）、（２）において、Ｒ１は上記ののようにカルボニル基、炭素数１〜６のアルキレン基を表すが、カルボニル基、メチレン基が好ましい。
(In the formula, R 2 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an optionally substituted substituent having 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxy group.)
In the general formulas (1) and (2), R 1 represents a carbonyl group or an alkylene group having 1 to 6 carbon atoms as described above, and is preferably a carbonyl group or a methylene group.
上記のＲ２〜Ｒ４は各々独立して、水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、フェニル基を表す。炭素数１〜６のアルキル基の置換基としては、ハロゲン原子、フェニル基が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、トリフルオロメチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メチルベンジル基等が挙げられる。 R 2 to R 4 are each independently a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an optionally substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, Represents a phenyl group. Examples of the substituent for the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include a halogen atom and a phenyl group. Specific examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent include a methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, t-butyl group, s-butyl group, n- A butyl group, i-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, cyclohexyl group, trifluoromethyl group, benzyl group, 4-chlorobenzyl group, 4-methylbenzyl group and the like can be mentioned.
また、アルコキシ基は、上記置換基を有してもよい炭素数１〜６のアルキル基を有するアルコキシ基を表わし、その具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基、ベンジルオキシ基等が挙げられる。一般式（２）のフラン誘導体としては、下記構造式で表されるものが例示される。 The alkoxy group represents an alkoxy group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have the above substituent, and specific examples thereof include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, i-propoxy group. Group, t-butoxy group, n-butoxy group, benzyloxy group and the like. Examples of the furan derivative of the general formula (2) include those represented by the following structural formula.
なお、フラン骨格とドナー構造であるトリフェニルアミン骨格が（−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１−）で表される構造を介することでフラン誘導体の融点が下げられることが判明した。この理由は明らかではないが、次のように推測される。フラン誘導体に（−ＣＨ２−Ｏ−Ｒ１−）で表される構造を用いる場合、この構造がスペーサーの役割を果たすという観点から、従来から公知のフラン誘導体と比べ、分子の柔軟性が増す効果が生じ、融点が下がるという効果が顕著に表れると推測される。−ＣＨ２−Ｏ−ＣＯ−の場合には、カルボニル基が立体障害となるために分子同士のパッキングを防ぐ効果と重なってさらに融点が低下する効果があると推測される。 It has been found that the melting point of the furan derivative can be lowered by passing the furan skeleton and the triphenylamine skeleton which is a donor structure through a structure represented by (—CH 2 —O—R 1 —). The reason for this is not clear, but is presumed as follows. When a structure represented by (—CH 2 —O—R 1 —) is used for the furan derivative, the flexibility of the molecule is increased as compared with conventionally known furan derivatives from the viewpoint that this structure serves as a spacer. It is presumed that the effect is produced and the effect of lowering the melting point appears remarkably. In the case of —CH 2 —O—CO—, since the carbonyl group becomes steric hindrance, it is presumed that the melting point is further lowered by overlapping with the effect of preventing packing between molecules.
次に、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する上記最表層において、更に金属酸化物フィラーを含有する場合について説明する。本発明では耐摩耗性をより向上させる目的でフラン誘導体とマレイミド誘導体を架橋した最表層中に金属酸化物フィラーが添加されていてもよい。 Next, the case where a metal oxide filler is further contained in the outermost layer containing a structure in which a furan derivative and a maleimide derivative are cross-linked will be described. In this invention, the metal oxide filler may be added in the outermost layer which bridge | crosslinked the furan derivative and the maleimide derivative in order to improve abrasion resistance more.
金属酸化物フィラーとしては、酸化チタン、アルミナ、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ケイ素などからなる無機微粒子が利用できる。その中でもアルミナは耐摩耗性、電気特性において好ましい。 As the metal oxide filler, inorganic fine particles made of titanium oxide, alumina, tin oxide, zinc oxide, silicon oxide or the like can be used. Among these, alumina is preferable in terms of wear resistance and electrical characteristics.
最表層に含有されるこれらの金属酸化物フィラーの含有率は、最表層において質量基準で１％以上、３０％以下、好ましくは、５％以上、１５％以下である。金属酸化物フィラーの量が１％未満では、摩耗が大きく、耐久性に劣り、３０％を越えると、傷部への最表層材料の流動性が阻害されると同時に露光時における明部電位の上昇が著しくなって、感度低下が無視できなくなるので望ましくない。 The content of these metal oxide fillers contained in the outermost layer is 1% or more and 30% or less, preferably 5% or more and 15% or less on a mass basis in the outermost layer. If the amount of the metal oxide filler is less than 1%, the wear is large and the durability is inferior. If it exceeds 30%, the fluidity of the outermost layer material to the flaws is inhibited, and at the same time the bright portion potential at the time of exposure is reduced. This is not desirable because the rise is significant and the sensitivity drop cannot be ignored.
金属酸化物フィラーの粒径は、平均１次粒径として０．１５μｍ以上、１．５μｍ以下、好ましくは、０．３以上、１．０μｍ以下であり、粒径が０．１５μｍ未満では耐摩耗性が充分でなく、また、粒径が１．５μｍを越えると傷部への最表層材料の流動性が阻害されるため好ましくない。尚、本発明における金属酸化物フィラーの平均粒径とは、特別な記載のない限り体積平均粒径であり、超遠心式自動粒度分布測定装置：ＣＡＰＡ−７００（堀場製作所製）により求めたものである。この際、累積分布の５０％に相当する粒子径（Ｍｅｄｉａｎ径）として算出されたものである。 The particle size of the metal oxide filler is 0.15 μm or more and 1.5 μm or less as an average primary particle size, preferably 0.3 or more and 1.0 μm or less. If the particle size is less than 0.15 μm, wear resistance is obtained. When the particle size exceeds 1.5 μm, the fluidity of the outermost layer material to the flaws is hindered. The average particle diameter of the metal oxide filler in the present invention is a volume average particle diameter unless otherwise specified, and is determined by an ultracentrifugal automatic particle size distribution analyzer: CAPA-700 (manufactured by Horiba). It is. At this time, the particle diameter (Median diameter) corresponding to 50% of the cumulative distribution was calculated.
さらに最表層には、金属酸化物フィラーの分散性を向上させるために分散助剤を添加することができる。添加される分散助剤は塗料等に使用されるものが適宜利用でき、その量は重量基準で含有する金属酸化物フィラーの量に対して０．５〜４％、好ましくは、１〜２％である。分散助剤としては、変性エポキシ樹脂縮合物、不飽和ポリカルボン酸低分子量ポリマー等が利用できる。 Furthermore, a dispersion aid can be added to the outermost layer in order to improve the dispersibility of the metal oxide filler. As the added dispersion aid, those used in paints and the like can be used as appropriate, and the amount thereof is 0.5 to 4%, preferably 1 to 2%, based on the amount of the metal oxide filler contained on a weight basis. It is. As the dispersion aid, modified epoxy resin condensates, unsaturated polycarboxylic acid low molecular weight polymers, and the like can be used.
塗工溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、キシレン、アセトン、ジエチルエーテル、メチルエチルケトン等が挙げられ、２種以上併用してもよい。 Examples of the coating solvent include tetrahydrofuran, dioxane, toluene, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, xylene, acetone, diethyl ether, and methyl ethyl ketone. Two or more kinds may be used in combination.
これら金属酸化物フィラーを最表層に含有させる際に用いる材料は、適当な分散機を用いることにより分散できる。最表層の透過率の点から、使用する金属酸化物フィラーは１次粒子レベルまで分散され、凝集体が少ない方が好ましい。 The material used when these metal oxide fillers are contained in the outermost layer can be dispersed by using an appropriate disperser. From the viewpoint of the transmittance of the outermost layer, it is preferable that the metal oxide filler to be used is dispersed to the primary particle level and has less aggregates.
最表層の形成法としては、スプレー法等通常の塗布法が採用され、最表層の厚さは、最表層が保護層であれば０．５〜１５μｍ、好ましくは３〜１０μｍ程度が適当である。
＜＜画像形成装置の構成＞＞
As a method for forming the outermost layer, a normal coating method such as a spray method is adopted, and the thickness of the outermost layer is 0.5 to 15 μm, preferably about 3 to 10 μm if the outermost layer is a protective layer. .
<< Configuration of Image Forming Apparatus >>
図６は、本発明の一実施形態に係る電子写真プロセス、及び画像形成装置を説明するための概略図である。電子写真感光体１０は図６中の矢印の方向に回転し、感光体（１０）の周りには、帯電手段の一例としての帯電部材１１、画像露光手段の一例としての画像露光部材１２、現像手段の一例としての現像部材１３、転写部材１６、クリーニング部材１７、除電部材１８等が配置される。クリーニング部材１７や除電部材１８が省略されることもある。
FIG. 6 is a schematic diagram for explaining an electrophotographic process and an image forming apparatus according to an embodiment of the present invention. The electrophotographic
画像形成装置の動作は基本的に以下のようになる。帯電部材１１により、感光体１０表面に対してほぼ均一に帯電が施される。続いて、画像露光部材１２により、入力信号に対応した画像光書き込みが行われ、静電潜像が形成される。次に、現像部材１３により、この静電潜像に現像が行われ、感光体表面にトナー像が形成される。形成されたトナー像は、搬送ローラ１４により転写部位に送られた転写紙１５に、転写部材により、トナー像が転写される。このトナー像は、図示しない定着装置により転写紙上に定着される。転写紙に転写されなかった一部のトナーは、クリーニング部材１７によりクリーニングされる。ついで、感光体上に残存する電荷は、除電部材１８により除電が行われ、次のサイクルに移行する。
また、本発明の一実施形態に係る画像形成方法によると、上記電子写真感光体に少なくとも帯電、画像露光、現像を繰り返し行う。
The operation of the image forming apparatus is basically as follows. The charging
Further, according to the image forming method according to an embodiment of the present invention, at least charging, image exposure, and development are repeatedly performed on the electrophotographic photosensitive member.
図６に示すように、電子写真感光体１０はドラム状の形状を示しているが、シート状、エンドレスベルト状のものであってもよい。帯電部材１１、転写部材１６には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリッド・ステート・チャージャ）のほか、ローラ状の帯電部材あるいはブラシ状の帯電部材等が用いられ、公知の手段がすべて使用可能である。
As shown in FIG. 6, the electrophotographic
一方、画像露光部材１２、除電部材１８等の光源には、蛍光灯、タングステンランプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、発光ダイオード（ＬＥＤ）、半導体レーザー（ＬＤ）、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）などの発光物全般を用いることができる。これらの中でも半導体レーザー（ＬＤ）や発光ダイオード（ＬＥＤ）が主に用いられる。所望の波長域の光のみを照射するために、シャープカットフィルター、バンドパスフィルター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィルター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各種フィルターを用いることもできる。
On the other hand, light sources such as a fluorescent lamp, a tungsten lamp, a halogen lamp, a mercury lamp, a sodium lamp, a light emitting diode (LED), a semiconductor laser (LD), and an electroluminescence (EL) are used as light sources such as the
光源等は、光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング工程、あるいは前露光などの工程を設けることにより、電子写真感光体１０に光が照射される。但し、除電工程における電子写真感光体１０への露光は、電子写真感光体１０に与える疲労の影響が大きく、特に帯電低下や残留電位の上昇を引き起こす場合がある。したがって、露光による除電ではなく、帯電工程やクリーニング工程において逆バイアスを印加することによっても除電することが可能な場合もあり、感光体の高耐久化の面から有効な場合がある。電子写真感光体１０に正（負）帯電を施し、画像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られる。かかる現像には、公知の方法が適用されるし、また、除電にも公知の方法が用いられる。
The light source or the like provides the electrophotographic
感光体表面に付着する汚染物質の中でも帯電によって生成する放電物質やトナー中に含まれる外添剤等は、湿度の影響を拾いやすく異常画像の原因となっているが、このような異常画像の原因物質には、紙粉もその一つであり、それらが感光体に付着することによって、異常画像が発生しやすくなるだけでなく、耐摩耗性を低下させたり、偏摩耗を引き起こしたりする傾向が見られる。したがって、上記の理由により感光体と紙とが直接接触しない構成であることが高画質化の点からより好ましい。現像部材１３により、感光体１０上に現像されたトナーは、転写紙１５に転写されるが、すべてが転写されるわけではなく、感光体１０上に残存するトナーも生ずる。このようなトナーは、クリーニング部材１７により、感光体１０から除去される。このクリーニング部材は、クリーニングブレードあるいはクリーニングブラシ等公知のものが用いられる。また、両者が併用されることもある。
Among the contaminants that adhere to the surface of the photoconductor, discharge substances generated by charging and external additives contained in the toner are easy to pick up the effects of humidity and cause abnormal images. Paper powder is one of the causative substances, and when they adhere to the photoreceptor, abnormal images are more likely to occur, as well as a tendency to reduce wear resistance and cause uneven wear. Is seen. Therefore, it is more preferable from the viewpoint of high image quality that the photoconductor and the paper are not in direct contact for the above reason. The toner developed on the
電子写真感光体は、高光感度ならびに高安定化を実現したことから小径感光体に適用できる。したがって、上記の感光体がより有効に用いられる画像形成装置あるいはその方式としては、複数色のトナーに対応した各々の現像部に対して、対応した複数の感光体を具備し、それによって並列処理を行なう、いわゆるタンデム方式の画像形成装置に極めて有効に使用される。上記タンデム方式の画像形成装置は、フルカラー印刷に必要とされるイエロー（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の少なくとも４色のトナー及びそれらを保持する現像部を配置し、更にそれらに対応した少なくとも４本の感光体を具備することによって、従来のフルカラー印刷が可能な画像形成装置に比べ極めて高速なフルカラー印刷を可能としている。 The electrophotographic photoreceptor can be applied to a small-diameter photoreceptor because high photosensitivity and high stability are realized. Therefore, as an image forming apparatus or method for using the above photoreceptor more effectively, each developing unit corresponding to a plurality of colors of toner is provided with a plurality of corresponding photoreceptors, thereby performing parallel processing. It is very effectively used in a so-called tandem type image forming apparatus. The tandem image forming apparatus includes at least four color toners of yellow (C), magenta (M), cyan (C), and black (K) required for full-color printing and a developing unit that holds them. Further, by providing at least four photoconductors corresponding to them, full-color printing can be performed at an extremely high speed as compared with a conventional image forming apparatus capable of full-color printing.
図７は、本発明の一実施形態に係るタンデム方式のフルカラー電子写真装置（画像形成装置）を説明するための概略図であり、下記するような変形例も本発明の範疇に属するものである。 FIG. 7 is a schematic diagram for explaining a tandem-type full-color electrophotographic apparatus (image forming apparatus) according to an embodiment of the present invention, and the following modifications also belong to the category of the present invention. .
図７の画像形成装置１００において、電子写真感光体（１０Ｃ（シアン），１０Ｍ（マゼンタ），１０Ｙ（イエロー），１０Ｋ（ブラック））は、ドラム状の電子写真感光体１０であり、これらの電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）は、図中の矢印方向に回転する。電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する。電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）の周りに少なくとも回転順に帯電部材（１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙ，１１Ｋ）、現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）、クリーニング部材（１７Ｃ，１７Ｍ，１７Ｙ，１７Ｋ）が配置されている。この帯電部材（１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙ，１１Ｋ）と、現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）との間の電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）の表面に、露光部材からのレーザー光（１２Ｃ，１２Ｍ，１２Ｙ，１２Ｋ）が照射され、電子写真感光体１０に静電潜像が形成されるようになっている。
In the
そして、このような電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）を中心とした４つの画像形成ユニット（２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｙ、２０Ｋ）が、中間転写ベルト１９に沿って並置されている。 Four image forming units (20C, 20M, 20Y, 20K) centering on such electrophotographic photosensitive members (10C, 10M, 10Y, 10K) are juxtaposed along the intermediate transfer belt 19.
中間転写ベルト１９は、各画像形成ユニット（２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｙ、２０Ｋ）の現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）と、クリーニング部材（１７Ｃ，１７Ｍ，１７Ｙ，１７Ｋ）との間で感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）に当接しており、中間転写ベルト１９の感光体側の裏側に当たる面（裏面）には転写バイアスを印加するための転写部材（１６Ｃ，１６Ｍ，１６Ｙ，１６Ｋ）が配置されている。各画像形成ユニット（２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｙ、２０Ｋ）は現像装置内部のトナーの色が異なることであり、その他は全て同様の構成となっている。 The intermediate transfer belt 19 is a photosensitive member between the developing member (13C, 13M, 13Y, 13K) of each image forming unit (20C, 20M, 20Y, 20K) and the cleaning member (17C, 17M, 17Y, 17K). (10C, 10M, 10Y, 10K), and a transfer member (16C, 16M, 16Y, 16K) for applying a transfer bias to the surface (rear surface) of the intermediate transfer belt 19 that contacts the back side of the photosensitive member side. Has been placed. Each image forming unit (20C, 20M, 20Y, 20K) is different in the color of the toner inside the developing device, and the others are the same in configuration.
図６に示す構成のカラー電子写真装置において、画像形成動作は次のようにして行なわれる。まず、各画像形成ユニット（２０Ｃ、２０Ｍ、２０Ｙ、２０Ｋ）において、感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）が、感光体と連れ周り方向に回転する帯電部材（１１Ｃ，１１Ｍ，１１Ｙ，１１Ｋ）により帯電され、次に、露光部（図示せず）でレーザー光（１２Ｃ，１２Ｍ，１２Ｙ，１２Ｋ）により、作成する各色の画像に対応した静電潜像が形成される。 In the color electrophotographic apparatus having the configuration shown in FIG. 6, the image forming operation is performed as follows. First, in each of the image forming units (20C, 20M, 20Y, and 20K), the charging member (11C, 11M, 11Y, and 11K) in which the photosensitive member (10C, 10M, 10Y, and 10K) rotates along with the photosensitive member. Then, an electrostatic latent image corresponding to each color image to be created is formed by laser light (12C, 12M, 12Y, 12K) in an exposure unit (not shown).
次に現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）により潜像を現像してトナー像が形成される。現像部材（１３Ｃ，１３Ｍ，１３Ｙ，１３Ｋ）は、それぞれＣ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー），Ｋ（ブラック）のトナーで現像を行なう現像部材で、４つの感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）上で作られた各色のトナー像は中間転写ベルト（１９）上で重ねられる。 Next, the latent image is developed by a developing member (13C, 13M, 13Y, 13K) to form a toner image. The developing members (13C, 13M, 13Y, and 13K) are developing members that perform development with toners of C (cyan), M (magenta), Y (yellow), and K (black), respectively. 10M, 10Y, and 10K) are overlaid on the intermediate transfer belt (19).
転写紙１５は給紙コロ２１によりトレイから送り出され、一対のレジストローラ２２で一旦停止し、上記電子写真感光体１０上への画像形成とタイミングを合わせて転写部材２３に送られる。中間転写ベルト１９上に保持されたトナー像は転写部材２３に印加された転写バイアスと転写ベルト１９との電位差から形成される電界により、転写紙１５上に転写される。転写紙上に転写されたトナー像は、搬送されて、定着ユニット２４により転写紙上にトナーが定着されて、図示しない排紙部に排紙される。また、転写部で転写されずに各電子写真感光体（１０Ｃ，１０Ｍ，１０Ｙ，１０Ｋ）上に残った残留トナーは、それぞれのユニットに設けられたクリーニング部材（１７Ｃ，１７Ｍ，１７Ｙ，１７Ｋ）で回収される。
The transfer paper 15 is sent out from the tray by the paper supply roller 21, temporarily stopped by the pair of
図７に示したような、中間転写方式は、フルカラー印刷が可能な画像形成装置に特に有効であり、複数のトナー像を一度中間転写体上に形成した後に紙に一度に転写することによって、色ズレの防止の制御もしやすく高画質化に対しても有効である。中間転写方式で用いる中間転写体には、ドラム状やベルト状など種々の材質あるいは形状のものがあるが、本発明においては従来公知である中間転写体のいずれも使用することが可能であり、感光体の高耐久化あるいは高画質化に対し有効かつ有用である。 The intermediate transfer method as shown in FIG. 7 is particularly effective for an image forming apparatus capable of full-color printing. By forming a plurality of toner images once on an intermediate transfer body and transferring them to paper at once, It is easy to control the color shift and is effective for high image quality. The intermediate transfer member used in the intermediate transfer method includes various materials or shapes such as a drum shape and a belt shape, but any of conventionally known intermediate transfer members can be used in the present invention. It is effective and useful for improving the durability and image quality of the photoreceptor.
なお、図７の例では画像形成要素は中間転写ベルトの走行方向上流側から下流側に向けて、Ｃ（シアン），Ｍ（マゼンタ），Ｙ（イエロー），Ｋ（ブラック）の色の順で並んでいるが、この順番に限るものでは無く、色順は任意に設定されるものである。また、黒色のみの原稿を作成する際には、黒色以外の画像形成ユニット（２０Ｃ，２０Ｍ，２０Ｙ）が停止するような機構を設けることは本発明に特に有効に利用できる。また、耐摩耗性に優れ、かつ、異常画像の原因となる電子写真感光体に生じたキズを修復することができる特徴を有する電子写真感光体を用いることで、信頼性の高い画像形成方法及び画像形成装置を実現できる。 In the example of FIG. 7, the image forming elements are arranged in the order of C (cyan), M (magenta), Y (yellow), and K (black) from the upstream side to the downstream side in the running direction of the intermediate transfer belt. Although they are lined up, they are not limited to this order, and the color order is arbitrarily set. Further, when a black-only document is created, it is particularly effective to use the present invention to provide a mechanism that stops the image forming units (20C, 20M, 20Y) other than black. In addition, by using an electrophotographic photosensitive member that has excellent wear resistance and can repair a scratch generated in the electrophotographic photosensitive member that causes an abnormal image, a highly reliable image forming method and An image forming apparatus can be realized.
この画像形成手段は、複写装置、ファクシミリ、プリンタ内に固定して組み込まれていてもよいが、電子写真用プロセスカートリッジの形態でそれら装置内に組み込まれ、着脱自在としたものであってもよい。電子写真用プロセスカートリッジの一例としての画像形成装置用プロセスカートリッジを図７に示す。画像形成装置用プロセスカートリッジとは、電子写真感光体１０を内蔵し、他に、帯電部材１１、現像部材１３、転写部材１６、クリーニング部材１７、除電手段の少なくとも一つを一体に具備し、画像形成装置本体に着脱可能とした装置（部品）である。電子写真感光体１０は、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する。図８に例示される装置による画像形成プロセスについて示すと、感光体１０は、回転しながら、帯電部材１１による帯電、画像露光部材１２による露光１２により、その表面に露光像に対応する静電潜像が形成され、この静電潜像は、現像手段（１３）で現像されてトナー像となり、該トナー像は転写部材１６により、転写紙１５に転写され、プリントアウトされる。次いで、像転写後の感光体表面は、クリーニング部材１７によりクリーニングされ、再び以上の操作を繰り返すものである。一実施形態に係る電子写真感光体１０と、帯電部材１１、現像部材１３、転写部材１６、クリーニング部材１７、除電手段のうち少なくとも一つとを一体に具備し、画像形成装置に対して脱着可能な画像形成装置用プロセスカートリッジとして、好ましく用いることができるものである。
The image forming means may be fixedly incorporated in a copying apparatus, facsimile, or printer, but may be incorporated in the apparatus in the form of an electrophotographic process cartridge and detachable. . FIG. 7 shows a process cartridge for an image forming apparatus as an example of an electrophotographic process cartridge. The process cartridge for the image forming apparatus includes the electrophotographic
本実施形態によれば、（１）レトロディールス・アルダー反応により架橋解離して、ポリマーネットワーク状態から低分子モノマーの液体状態となることで、空隙となった傷の修復が容易になり、（２）未反応のフラン誘導体および未反応のマレイミド誘導体が表面層に残留したとしても共に極性が低く、および反応に触媒等が不要なことから良好な電気特性を得ることができ、（３）３次元架橋体を形成するので十分な耐摩耗性を有し、（４）レトロディールス・アルダー反応による架橋解離を用いるので、再度同じ場所に傷が生じた場合であっても修復できる。 According to the present embodiment, (1) the cross-link dissociation by the retro Diels-Alder reaction is changed to the liquid state of the low molecular weight monomer from the polymer network state, thereby facilitating the repair of the scratches that have become voids. ) Even if an unreacted furan derivative and an unreacted maleimide derivative remain in the surface layer, both have low polarity, and a catalyst or the like is not required for the reaction, so that good electrical characteristics can be obtained. (3) 3D Since it forms a cross-linked body, it has sufficient wear resistance. (4) Since cross-linking dissociation by retro Diels-Alder reaction is used, it can be repaired even when a flaw occurs again at the same place.
以下、実施例及び比較例を示して本実施形態をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではない。各例中の「部」は「質量部」を表す。
［合成例１］（トリアリールアミン構造を有するジエン（具体例Ａ−７の化合物）の合成）
Hereinafter, the present embodiment will be described more specifically with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to these examples. “Part” in each example represents “part by mass”.
[Synthesis Example 1] (Synthesis of a diene having a triarylamine structure (compound of specific example A-7))
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、下記分子式で表されるジエノフェノール誘導体１０ｇ、フルフリルアルコール４．０６ｇ（東京化成品製）、トリブチルホスフィン１０．０５ｇ（東京化成品製）、脱水ジクロロメタン２００ｍｌを入れ、窒素気流下、１、１’−（アゾカルボニル）ジピペリジン１２．５３ｇ（東京化成品製）を溶かしたジクロロメタン溶液３０ｍｌを３℃でゆっくり滴下し、さらに同温度で１０時間反応を行った。その後、ろ過して、エバポレーターにより反応溶媒を除き、粗収物の黄色粉体を得、さらにシリカゲルによりカラム精製を行った後、淡黄色粉体のフラン誘導体（具体例Ａ−７の化合物）４．５３ｇを得た。 In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel, 10 g of a dienophenol derivative represented by the following molecular formula, 4.06 g of furfuryl alcohol (manufactured by Tokyo Chemicals), 10.05 g of tributylphosphine (manufactured by Tokyo Chemicals) ), 200 ml of dehydrated dichloromethane was added, and 30 ml of a dichloromethane solution in which 12.53 g of 1,1 ′-(azocarbonyl) dipiperidine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was dissolved was slowly added dropwise at 3 ° C. in a nitrogen stream. Time reaction was performed. Thereafter, the mixture is filtered, and the reaction solvent is removed by an evaporator to obtain a yellow powder of a coarse product. Further, after column purification using silica gel, a furan derivative (compound of specific example A-7) 4 as a pale yellow powder. .53 g was obtained.
［合成例２］（トリアリールアミン構造を有するジエン（具体例Ａ−２５の化合物）の合成）
[Synthesis Example 2] (Synthesis of a diene having a triarylamine structure (compound of specific example A-25))
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、下記分子式で表わされるトリメチロール体３．００ｇ、２−フランカルボン酸３．３０ｇ（東京化成品社製）、トリブチルホスフィン５．９７ｇ（東京化成品社製）、脱水テトラヒドロフラン１００ｍｌを入れ、窒素気流下、１，１’−（アゾジカルボニル）ジピペリジン７．４４ｇ（東京化成品社製）を溶かしたテトラヒドロフラン溶液３０ｍｌを１℃でゆっくり滴下し、さらに還流下で４８時間反応を行なった。その後、ろ過して、エバポレーターにより反応溶媒を除き、粗収物の白色粉体を得、さらにシリカゲルによりカラム精製を行なった後、白色粉体のフラン誘導体１．１２ｇ（具体例Ａ−２５の化合物）を得た。 In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a dropping funnel, 3.00 g of trimethylol represented by the following molecular formula, 3.30 g of 2-furancarboxylic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), 5.97 g of tributylphosphine (Tokyo) 100 ml of dehydrated tetrahydrofuran was added, and 30 ml of a tetrahydrofuran solution dissolving 7.44 g of 1,1 ′-(azodicarbonyl) dipiperidine (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) was slowly added dropwise at 1 ° C. under a nitrogen stream. The reaction was further carried out for 48 hours under reflux. Thereafter, the mixture was filtered and the reaction solvent was removed by an evaporator to obtain a white powder of a coarse product. Further, after column purification with silica gel, 1.12 g of a furan derivative of white powder (compound of specific example A-25) )
［合成例３］（ビスマレイミド（具体例Ｂ−１の化合物）の合成）
[Synthesis Example 3] (Synthesis of Bismaleimide (Compound of Specific Example B-1))
かき混ぜ装置、温度計、滴下漏斗をつけた反応容器に、ジアミノペンタン１７．２ｇ（東京化成品製）、無水酢酸３６．０ｇ（東京化成品製）、ＤＭＦ７０ｍｌを入れ、窒素気流下、７５℃で２時間撹拌した。その後、無水酢酸６４ｍｌ（東京化成品製）、トリエチルアミン８ｍｌ、二酢酸ニッケル（ＩＩ）・４水和物（東京化成品製）０．４ｇを加え、８０℃で２時間撹拌した。その後、水を加えて、エバポレーターにより反応溶媒を除き、さらにシリカゲルによりカラム精製を行い、再結晶を行った後、白色粉体の（具体例Ｂ−１の化合物）３．６ｇを得た。
［融点測定方法］
Into a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a dropping funnel, 17.2 g of diaminopentane (manufactured by Tokyo Chemicals), 36.0 g of acetic anhydride (manufactured by Tokyo Chemicals), and 70 ml of DMF were placed at 75 ° C. under a nitrogen stream. Stir for 2 hours. Thereafter, 64 ml of acetic anhydride (manufactured by Tokyo Chemicals), 8 ml of triethylamine, and 0.4 g of nickel (II) diacetate (manufactured by Tokyo Chemicals) were added and stirred at 80 ° C. for 2 hours. Then, water was added, the reaction solvent was removed by an evaporator, column purification was further performed by silica gel, and recrystallization was performed. Then, 3.6 g of a white powder (compound of specific example B-1) was obtained.
[Measuring method of melting point]
ＢＵＣＨＩ社製の融点測定装置Ｂ−５１０を用いて融点測定を行った。ガラス毛細管に微粉砕した固体試料を入れて、それをシリコーンオイル中に浸漬し、加温させながら目視で融点を測定した。
［実施例１］
＜電子写真感光体の作製＞
−下引き層の形成−
Melting | fusing point measurement was performed using melting | fusing point measuring apparatus B-510 made from BUCHI. A finely ground solid sample was put in a glass capillary tube, immersed in silicone oil, and the melting point was visually measured while heating.
[Example 1]
<Production of electrophotographic photoreceptor>
-Formation of undercoat layer-
アルミニウム製板上に、下記組成の下引き層塗工液をドクターブレードで塗工し、１３０℃で３０分乾燥・硬化させて、厚みが３．５μｍの下引き層を形成した。
〔下引き層塗工液の組成〕
・アルキッド樹脂（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業株式会社製）・・・６質量部
・メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ−８２１−６０、大日本インキ化学工業株式会社製）・・・４質量部
・酸化チタン粒子・・・５０質量部
・メチルエチルケトン・・・５０質量部
−電荷発生層の形成−
On the aluminum plate, an undercoat layer coating solution having the following composition was applied with a doctor blade and dried and cured at 130 ° C. for 30 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 3.5 μm.
[Composition of undercoat layer coating solution]
・ Alkyd resin (Beckosol 1307-60-EL, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) ... 6 parts by mass Melamine resin (Super Becamine G-821-60, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)・ 4 parts by mass ・ Titanium oxide particles: 50 parts by mass ・ Methyl ethyl ketone: 50 parts by mass-formation of charge generation layer-
次に、上記の下引き層上に、下記組成のチタニルフタロシアニン顔料を含む電荷発生層塗工液をドクターブレードで塗工し、加熱乾燥させて、厚み０．２μｍの電荷発生層を形成した。
〔電荷発生層塗工液の組成〕
・チタニルフタロシアニン顔料・・・１．５質量部
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ社製）・・・０．５質量部
・シクロヘキサノン・・・２００質量部
・メチルエチルケトン・・・８０質量部
−電荷輸送層の形成−
次に、上記の電荷発生層上に、下記組成の電荷輸送層塗工液をドクターブレードで塗工し、加熱乾燥させて、厚み２０．０μｍの電荷輸送層を形成した。
〔電荷輸送層塗工液の組成〕
・ビスフェノールＺ型ポリカーボネート・・・１０質量部
・下記構造式で表される低分子電荷輸送物質・・・１０質量部
Next, a charge generation layer coating solution containing a titanyl phthalocyanine pigment having the following composition was applied on the undercoat layer with a doctor blade and dried by heating to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.
[Composition of charge generation layer coating solution]
-Titanyl phthalocyanine pigment: 1.5 parts by mass-Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 part by mass-Cyclohexanone: 200 parts by mass-Methyl ethyl ketone: 80 parts by mass-charge transport layer Formation of
Next, a charge transport layer coating solution having the following composition was applied onto the charge generation layer with a doctor blade and dried by heating to form a charge transport layer having a thickness of 20.0 μm.
[Composition of charge transport layer coating solution]
・ Bisphenol Z-type polycarbonate: 10 parts by mass ・ Low molecular charge transport material represented by the following structural formula: 10 parts by mass
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
−保護層の形成−
次に、上記の電荷輸送層上に、下記組成のドクターブレードで塗工し、８０℃で３０分間乾燥して、厚み８．０μｍの保護層を形成した。以上により、実施例１の電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−１の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・５．５質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２０の化合物（融点２００℃以上）・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・１０．９質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−１５の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・７．９質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例４］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−３の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・７．８質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例５］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例６］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・具体例Ｂ−５の化合物（融点１９９℃）・・・８．３質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例７］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−５の化合物（融点１９９℃）・・・８．７質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例８］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例９］
＜電子写真感光体ドラムの作製＞
−下引き層の形成−
Next, it coated with the doctor blade of the following composition on said charge transport layer, and dried for 30 minutes at 80 degreeC, and formed the protective layer of thickness 8.0 micrometers. Thus, the electrophotographic photosensitive member of Example 1 was produced.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-1 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-20 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-15 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-3 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-7 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
-Compound of specific example A-7 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point: 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-5 (melting point: 199 ° C.): 8.7 parts by weight Tetrahydrofuran of 1% silicone oil Solution (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.2 parts by mass [Example 8]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by mass Tetrahydrofuran 160 parts by mass -Tetrahydrofuran solution of 1% by mass silicone oil (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ... 0.2 parts by mass [Example 9]
<Production of electrophotographic photosensitive drum>
-Formation of undercoat layer-
φ６０ｍｍの表面研磨したアルミニウム基体上に、下記組成の下引き層塗工液を浸漬塗工により成膜し、１３０℃で３０分乾燥・硬化させて、厚みが３．５μｍの下引き層を形成した。
〔下引き層塗工液の組成〕
・アルキッド樹脂（ベッコゾール１３０７−６０−ＥＬ、大日本インキ化学工業株式会社製）・・・６質量部
・メラミン樹脂（スーパーベッカミンＧ−８２１−６０、大日本インキ化学工業株式会社製）・・・４質量部
・酸化チタン粒子・・・５０質量部
・メチルエチルケトン・・・５０質量部
−電荷発生層の形成−
An undercoat layer coating solution of the following composition is formed on an aluminum substrate whose surface is polished by φ60 mm by dip coating, and dried and cured at 130 ° C. for 30 minutes to form an undercoat layer having a thickness of 3.5 μm. did.
[Composition of undercoat layer coating solution]
・ Alkyd resin (Beckosol 1307-60-EL, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) ... 6 parts by mass Melamine resin (Super Becamine G-821-60, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)・ 4 parts by mass ・ Titanium oxide particles: 50 parts by mass ・ Methyl ethyl ketone: 50 parts by mass-formation of charge generation layer-
次に、上記の下引き層上に、下記組成のチタニルフタロシアニン顔料を含む電荷発生層塗工液を浸漬塗布し、加熱乾燥させて、厚み０．２μｍの電荷発生層を形成した。
〔電荷発生層塗工液の組成〕
・チタニルフタロシアニン顔料・・・１．５質量部
・ポリビニルブチラール（ＸＹＨＬ、ＵＣＣ社製）・・・０．５質量部
・シクロヘキサノン・・・２００質量部
・メチルエチルケトン・・・８０質量部
−電荷輸送層の形成−
次に、上記の電荷発生層上に、下記組成の電荷輸送層塗工液を浸漬塗布し、加熱乾燥させて、厚み２０．０μｍの電荷輸送層を形成した。
〔電荷輸送層塗工液の組成〕
・ビスフェノールＺ型ポリカーボネート・・・１０質量部
・下記構造式で表される低分子電荷輸送物質・・・１０質量部
Next, a charge generation layer coating liquid containing a titanyl phthalocyanine pigment having the following composition was dip-coated on the undercoat layer and dried by heating to form a charge generation layer having a thickness of 0.2 μm.
[Composition of charge generation layer coating solution]
-Titanyl phthalocyanine pigment: 1.5 parts by mass-Polyvinyl butyral (XYHL, manufactured by UCC): 0.5 part by mass-Cyclohexanone: 200 parts by mass-Methyl ethyl ketone: 80 parts by mass-charge transport layer Formation of
Next, a charge transport layer coating solution having the following composition was dip-coated on the charge generation layer and dried by heating to form a charge transport layer having a thickness of 20.0 μm.
[Composition of charge transport layer coating solution]
・ Bisphenol Z-type polycarbonate: 10 parts by mass ・ Low molecular charge transport material represented by the following structural formula: 10 parts by mass
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
−保護層の形成−
次に、上記の電荷輸送層上に、下記組成の保護層塗工液を浸漬塗布し、８０℃で３０分間乾燥して、厚み８．０μｍの保護層を形成した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃以上）・・・８．１質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
以上により、実施例９の電子写真感光体ドラムを作製した。
［比較例１］
Next, a protective layer coating solution having the following composition was applied on the charge transport layer by dip coating and dried at 80 ° C. for 30 minutes to form a protective layer having a thickness of 8.0 μm.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-7 (
[Comparative Example 1]
実施例１において、電荷輸送層液を塗工後、以下のように下記組成の保護層塗工液をスプレーで塗工した。アルミニウム基体とＵＶ硬化ランプから１２０ｍｍ距離を置いて、ＵＶ硬化を施した。この位置でのＵＶ硬化ランプ照度は６００ｍＷ／ｃｍ２（紫外線積算光量計ＵＩＴ−１５０、ウシオ社製による測定値）であった。また、ＵＶ硬化は３０秒間の露光と１２０秒間の休止を繰り返し、通算７分間露光した。ＵＶ硬化後、１３０℃にて３０分加熱乾燥させて、４μｍの保護層を設け電子写真感光体を得た。
〔保護層塗工液の組成〕
・下記構造の架橋型電荷輸送物質
In Example 1, after coating the charge transport layer solution, a protective layer coating solution having the following composition was applied by spraying as follows. UV curing was performed at a distance of 120 mm from the aluminum substrate and the UV curing lamp. The illuminance of the UV curing lamp at this position was 600 mW / cm 2 (ultraviolet integrated light meter UIT-150, measured value by Ushio Inc.). In UV curing, exposure was repeated for 30 minutes and rested for 120 seconds, and exposure was performed for 7 minutes in total. After UV curing, the film was heated and dried at 130 ° C. for 30 minutes to provide a 4 μm protective layer to obtain an electrophotographic photosensitive member.
[Composition of protective layer coating solution]
・ Cross-linked charge transport material with the following structure
・トリメチロールプロパントアクリレート（ＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ，日本化薬製）・・・６０質量部
・ Trimethylol propantoacrylate (KAYARAD TMPTA, Nippon Kayaku) ... 60 parts by mass
・アクリル基含有ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンとプロポキシ変性−２−ネオペンチルグリコールジアクリレート混合物（ＢＹＫ−ＵＶ３５７０、ビックケミー社製）・・・０．１質量部
・１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア１８４、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製）・・・５質量部
・両末端メタクリロイル変性ジメチルポリシロキサン（Ｘ−２２−１６４Ｃ、信越化学工業社製）
・アクリル・シリコン共重合体 １次粒径０．２μｍ（シャリーヌＲ−１７０Ｓ、日信化学社製）・・・１３．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・４００質量部
［比較例２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・下記構造のフラン誘導体（融点１９６℃）・・・６．８質量部
Acrylic group-containing polyester-modified polydimethylsiloxane and propoxy-modified-2-neopentylglycol diacrylate mixture (BYK-UV3570, manufactured by BYK Chemie) 0.1 mass part 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, Ciba・ Specialty Chemicals Co., Ltd.) ・ ・ ・ 5 parts by mass ・ Both-terminal methacryloyl-modified dimethylpolysiloxane (X-22-164C, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Acrylic / silicone copolymer Primary particle size 0.2 μm (Charine R-170S, manufactured by Nissin Chemical Co., Ltd.) 13.0 parts by
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
-Compound of specific example A-7 (
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
実施例１〜９、比較例１、２の内容を表９にまとめて示す。
＜キズ修復性評価（実施例１〜８、比較例１、２）＞
<Scratch Repairability Evaluation (Examples 1 to 8, Comparative Examples 1 and 2)>
レスカ製超薄膜スクラッチ試験機ＣＳＲ−２０００を用いて、スタイラス径５μｍ、スクラッチ速度１０μｍ／ｓ、励振レベル５０μｍ、設定加重１０ｍＮ、設定荷重時間３００ｓの設定により、キズ幅５０μｍ、キズ深さ５μｍの最表層の膜を削りとったキズをつけた感光体を１４０℃の乾燥機に５分間入れた後、８０℃の乾燥機に３０分間入れ、表面粗さ計を用いてキズ断面を測定した。加熱処理前後のキズ深さ変化率を表面粗さ計を用いて評価を行い、８０％以上を◎、５０％以上８０％未満を○、２０％以上５０％未満を△、２０％未満を×とした。その結果を表１０に示す。
＜感光体特性評価（実施例１〜８、比較例１、２）＞
By using an ultra-thin film scratch tester CSR-2000 manufactured by Reska, a maximum width of 50 μm and a depth of 5 μm can be obtained by setting a stylus diameter of 5 μm, a scratch speed of 10 μm / s, an excitation level of 50 μm, a set load of 10 mN, and a set load time of 300 s. The scratched photoconductor from which the film of the surface layer was shaved was placed in a dryer at 140 ° C. for 5 minutes, then placed in a dryer at 80 ° C. for 30 minutes, and the scratch cross section was measured using a surface roughness meter. Scratch depth change rate before and after heat treatment is evaluated using a surface roughness meter, 80% or more is ◎, 50% or more and less than 80% is ◯, 20% or more and less than 50% is △, and less than 20% is × It was. The results are shown in Table 10.
<Photoreceptor characteristic evaluation (Examples 1 to 8, Comparative Examples 1 and 2)>
感光体を１４０℃の乾燥機に５分間入れた後、８０℃の乾燥機に３０分間入れ、フィッシャーインストルメンツ製表面皮膜物性試験機フィッシャースコープＨ１００を用いて、加熱処理前後のユニバーサル硬度及び弾性仕事率の評価を行った。その結果を表１０に示す。 The photoreceptor is placed in a dryer at 140 ° C. for 5 minutes, then placed in a dryer at 80 ° C. for 30 minutes, and the surface hardness tester Fischer Scope H100 manufactured by Fischer Instruments is used. The rate was evaluated. The results are shown in Table 10.
また、川口電気製作所製静電複写試験装置ＳＰ８１００型を用いて、暗所で−６ｋＶのコロナ放電を２０秒間行って帯電させた後、感光体の表面電位Ｖｍ（Ｖ）を測定し、さらに２０秒間暗所に放置した後、表面電位Ｖ０（Ｖ）を測定し、暗減衰率Ｖ０／Ｖｍ（−）を算出した。次いで、タングステンランプ光を感光体表面での照度が５．３ｌｕｘになるように照射して３０秒後の表面電位Ｖ３０（Ｖ）を測定した。加熱処理後も同様に評価を行った。その結果を表１０に示す。
＜実機通紙試験（実施例９）＞
Further, using an electrostatic copying test apparatus SP8100 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd., a -6 kV corona discharge was charged in the dark for 20 seconds, and then the surface potential V m (V) of the photoreceptor was measured. After leaving it in the dark for 20 seconds, the surface potential V 0 (V) was measured, and the dark decay rate V 0 / V m (−) was calculated. Next, the surface potential V 30 (V) after 30 seconds was measured by irradiating tungsten lamp light so that the illuminance on the surface of the photoreceptor was 5.3 lux. Evaluation was similarly performed after heat processing. The results are shown in Table 10.
<Actual machine paper feeding test (Example 9)>
感光体ドラム（φ６０ｍｍ）をリコー製デジタルフルカラー複合機ＭＰ ７５００ ＳＰのプロセスカートリッジに着装し、本体に取り付けて６００×６００ｄｐｉの画素密度でリコーマイリサイクルペーパーＧＰのＡ４用紙を用い、イエロー、マゼンダ、シアン、ブラックの各中間調帯模様のテストパターンの毎分６０枚の印刷速度で１万枚の印刷を行った。１万枚目の印刷結果の画像が綺麗に得られたものを○とし、部分的に異常画像が見られるものを△、画像として著しく悪いものを×とした。その結果を表１０に示す。 A photoreceptor drum (φ60 mm) is mounted on a process cartridge of Ricoh's digital full-color multifunction peripheral MP 7500 SP, and is attached to the main body. In addition, 10,000 sheets were printed at a printing speed of 60 sheets per minute for each of the black halftone test patterns. An image in which the image of the 10,000th printed image was clearly obtained was marked with ◯, an image in which an abnormal image was partially observed was marked with Δ, and a markedly bad image was marked with ×. The results are shown in Table 10.
キズ修復性評価では、比較例１、２が修復性を有していないことが分かった。比較例１は、表面層を有しない感光体であり、もともと修復性を有していない。比較例２、は、フラン誘導体及びマレイミド誘導体の融点が高いためにレトロディールス・アルダー反応（逆反応）時に固体状態であるためにキズ部位を埋める効果を発揮していないと考えられる。一方、実施例１〜８は良好な修復性を有していることが分かった。また、実施例８においては、特に優れた傷修復性を示した。これは、フラン誘導体及びマレイミド誘導体の融点以上の温度で逆反応を行うため、フラン誘導体及びマレイミド誘導体がともに液体となり、キズ部位を埋めやすくなったためと考えられる。 In the scratch repairability evaluation, it was found that Comparative Examples 1 and 2 did not have repairability. Comparative Example 1 is a photoreceptor having no surface layer and originally has no restorability. It is considered that Comparative Example 2 does not exhibit the effect of filling the scratch site because the furan derivative and the maleimide derivative have a high melting point and are in a solid state during the retro Diels-Alder reaction (reverse reaction). On the other hand, Examples 1 to 8 were found to have good repairability. Moreover, in Example 8, the especially outstanding wound repair property was shown. This is presumably because the furan derivative and the maleimide derivative both became liquid because the reverse reaction was performed at a temperature equal to or higher than the melting point of the furan derivative and the maleimide derivative, making it easier to fill the flaw site.
耐摩耗性評価について、耐摩耗性は硬度及び弾性仕事率と良い相関性を示すことが従来知られている。実施例１〜８において、比較例１に示す従来のＵＶ硬化型架橋膜と同程度の弾性仕事率を示し、且つ硬度においても同程度以上の値であることから、ＵＶ硬化型架橋膜と同程度の耐摩耗性を有していると考えられる。また、加熱処理前後においても比較例２を除いては硬度及び弾性仕事率にほとんど変化はなく、加熱処理後も同等の耐摩耗性を有していると考えられる。比較例１については加熱処理前後の比較は実施していない。 Regarding the wear resistance evaluation, it is conventionally known that the wear resistance has a good correlation with the hardness and elastic power. In Examples 1 to 8, since the elastic power of the same degree as that of the conventional UV curable crosslinked film shown in Comparative Example 1 is exhibited and the hardness is also equal to or greater than that, it is the same as the UV curable crosslinked film. It is considered to have a degree of wear resistance. In addition, the hardness and the elastic power are almost unchanged before and after the heat treatment except for Comparative Example 2, and are considered to have the same wear resistance after the heat treatment. About the comparative example 1, the comparison before and behind heat processing is not implemented.
電気特性評価は、いずれも加熱処理前後において残留電位の上昇などの悪化はなく、加熱処理後も同等の電気特性を示すと考えられる。比較例１については加熱処理前後の比較は実施していない。また、感光体ドラムを作製した実施例９で画像評価を行ったが異常画像は見られなかった。 In any of the electrical property evaluations, it is considered that there is no deterioration such as an increase in the residual potential before and after the heat treatment, and the same electrical property is exhibited after the heat treatment. About the comparative example 1, the comparison before and behind heat processing is not implemented. Further, image evaluation was performed in Example 9 in which the photosensitive drum was manufactured, but no abnormal image was observed.
以上のように、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、フラン誘導体およびマレイミド誘導体のうち少なくとも１つが融点１６０℃以下である感光体は、優れた耐摩耗性と良好な電気特性を示すとともに、この層に生じたキズを加熱処理を行うことにより埋める（修復する）ことができ、且つ、加熱処理前後に基本的感光体特性を低下させることなく維持することができる。これにより機械的耐久性に優れた感光体の提供及び高寿命ながらキズを修復することができる感光体の提供が可能になる。
［実施例１０］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−１の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・５．５質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・６．４質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１１］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２０の化合物（融点２００℃以上）・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・１０．９質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．７質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−１５の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・７．９質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１３］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−３の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・７．８質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１４］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１５］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−７の化合物（融点２００℃以上）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・具体例Ｂ−５の化合物（融点１９９℃）・・・８．３質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・９．１質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１６］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−５の化合物（融点１９９℃）・・・８．７質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．２質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１７］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０１：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１８］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０２：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例１９］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２０］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０４：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２１］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０５：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０７：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２３］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ１：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２４］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ２：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２５］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・０．２６質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２６］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・０．３４質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２７］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・１．６７質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２８］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・１１．２０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例２９］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・αアルミナ（スミコランダムＡＡ０３：住友化学工業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・１２．８６質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３０］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・酸化チタン（ＣＲ９７：石原産業株式会社製、平均１次粒径０．３μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３１］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・酸化スズ（ＮａｎｏＴｅｋ：シーアイ化成株式会社製、平均１次粒径０．０２１μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３２］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・酸化亜鉛（２３−Ｋ：ハクスイテック株式会社製、平均１次粒径０．２μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
［実施例３３］
実施例１において、保護層塗工液中の組成を以下のように変えた以外は、実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
〔保護層塗工液の組成〕
・具体例Ａ−２５の化合物（融点１２２℃）・・・２０．０質量部
・具体例Ｂ−１の化合物（融点８４℃）・・・８．１質量部
・酸化ケイ素（ＫＭＰＸ１００：信越化学工業株式会社製、平均１次粒径０．１μｍ）・・・７．０質量部
・テトラヒドロフラン・・・１６０質量部
・１質量％シリコーンオイルのテトラヒドロフラン溶液（ＫＦ５０−１００ＣＳ、信越化学工業株式会社製）・・・０．２質量部
実施例１０〜３３の内容を表１１にまとめて示す。
As described above, an electrophotographic photoreceptor having a layer containing a structure in which a furan derivative and a maleimide derivative are cross-linked, wherein at least one of the furan derivative and the maleimide derivative has a melting point of 160 ° C. or less. In addition to excellent wear resistance and good electrical properties, scratches in this layer can be filled (repaired) by heat treatment, and basic photoconductor properties are reduced before and after heat treatment. Can be maintained. As a result, it is possible to provide a photoconductor excellent in mechanical durability and a photoconductor capable of repairing scratches with a long life.
[Example 10]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-1 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-20 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-15 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-3 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-7 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-7 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-5 (
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA01: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 18]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA02: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 19]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA03: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 20]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA04: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 21]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA05: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 22]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA07: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 23]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA1: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 24]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA2: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 25]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA03: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 0.26 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 26]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA03: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 0.34 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 27]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA03: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 1.67 parts by mass, tetrahydrofuran: 160 parts by mass, 1% by weight silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 28]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA03: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 11.20 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1 mass% silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 29]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight α-alumina (Sumicorundum AA03: Sumitomo Chemical Co., Ltd., average primary particle size 0.3 μm) ... 12.86 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1 mass% silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) Company made) 0.2 parts by mass [Example 30]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight Titanium oxide (CR97: Ishihara Sangyo) 7.0 mass parts, tetrahydrofuran ... 160 mass parts, 1 mass% silicone oil in tetrahydrofuran (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ... 0.2 parts by mass [Example 31]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point: 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point: 84 ° C.): 8.1 parts by weight Tin oxide (NanoTek: Cii Kasei) (Made by Co., Ltd., average primary particle size 0.021 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by mass silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ... 0.2 parts by mass [Example 32]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight Zinc oxide (23-K: Made by Hakusuitec Co., Ltd., average primary particle size 0.2 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by mass silicone oil in tetrahydrofuran solution (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) ... 0.2 parts by mass [Example 33]
In Example 1, an electrophotographic photosensitive member was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition in the protective layer coating solution was changed as follows.
[Composition of protective layer coating solution]
Compound of specific example A-25 (melting point 122 ° C.) 20.0 parts by mass Compound of specific example B-1 (melting point 84 ° C.) 8.1 parts by weight Silicon oxide (KMPX 100: Shin-Etsu Chemical) Kogyo Co., Ltd., average primary particle size 0.1 μm) ... 7.0 parts by mass, tetrahydrofuran ... 160 parts by mass, 1% by mass silicone oil in tetrahydrofuran (KF50-100CS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ) ... 0.2 parts by mass The contents of Examples 10 to 33 are summarized in Table 11.
次に、実施例１０〜３３で得られた電子写真感光体、電子写真感光体ドラムについて、上記のキズ修復性評価、感光体特性評価、実機通紙試験を行い評価した。それらの結果を表１２に示す。 Next, the electrophotographic photosensitive member and the electrophotographic photosensitive drum obtained in Examples 10 to 33 were evaluated by performing the above-described scratch repairability evaluation, photosensitive member characteristic evaluation, and actual machine paper passing test. The results are shown in Table 12.
以上の結果より、フラン誘導体と、マレイミド誘導体とが架橋した構造体を含有する層を有する電子写真感光体であって、上記のフラン誘導体および上記のマレイミド誘導体のうち少なくとも１つの融点が１６０℃以下であることを特徴とする電子写真感光体において、更に、上記の最表層が金属酸化物フィラーを有する場合、キズ修復効果を低減させることなく、耐摩耗性が格段に向上した感光体の提供が可能となる。 From the above results, an electrophotographic photosensitive member having a layer containing a structure in which a furan derivative and a maleimide derivative are cross-linked, and at least one melting point of the furan derivative and the maleimide derivative has a melting point of 160 ° C. or lower. In addition, in the electrophotographic photosensitive member characterized in that, when the outermost layer has a metal oxide filler, it is possible to provide a photosensitive member with significantly improved wear resistance without reducing the scratch repair effect. It becomes possible.
１ 導電性支持体
２ 下引き層
３ 電荷発生層
４ 電荷輸送層
５ 保護層
６ 単層型感光層
１０、１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ 電子写真感光体
１１、１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ 帯電部材
１２、１２Ｙ、１２Ｍ、１２Ｃ、１３Ｋ 画像露光部材
１３、１３Ｙ、１３Ｍ、１３Ｃ、１３Ｋ 現像部材
１４ 搬送ローラ
１５ 転写紙
１６、１６Ｙ、１６Ｍ、１６Ｃ、１６Ｋ 転写部材
１７、１７Ｙ、１７Ｍ、１７Ｃ、１７Ｋ クリーニング部材
１８ 除電部材
２０Ｙ、２０Ｍ、２０Ｃ、２０Ｋ 画像形成ユニット
２１ 給紙コロ
２２ レジストローラ
２３ 転写部材（二次転写部材）
２４ 定着ユニット
DESCRIPTION OF
24 Fixing unit
Claims (14)
前記層が金属酸化物フィラーを有することを特徴とする電子写真感光体。 The electrophotographic photosensitive member according to claim 1, further comprising:
The electrophotographic photoreceptor, wherein the layer has a metal oxide filler.
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| US10768539B2 (en) * | 2018-05-23 | 2020-09-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, production method therefor, process cartridge, and electrophotographic image-forming apparatus |
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| JP6636220B1 (en) * | 2019-01-15 | 2020-01-29 | 三菱電機株式会社 | Liquid curable resin composition, stator coil, rotating electric machine, and method for detecting abnormal overheating of rotating electric machine |
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