JP2014174309A - 液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】配向膜の剥がれを抑制して良好な表示品位を維持することが可能な液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、有効画素領域としての画素部に複数の画素電極を有する駆動基板と、駆動基板に対向配置され、複数の画素電極と対向配置された対向電極を有する対向基板と、駆動基板と対向基板との間に封止された液晶層と、駆動基板の液晶層側の面に、画素部およびその周辺部の少なくとも一部に亘って形成された配向膜と、駆動基板の少なくとも画素部において、画素電極と配向膜との間に形成された保護膜と、駆動基板の周辺部の少なくとも一部に形成され、配向膜と接触する導電膜とを備えたものである。
【選択図】図１

Description

本開示は、配向膜を用いて液晶層を配向制御する液晶表示装置に関する。

液晶表示装置（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）では、液晶表示パネルにおいて、駆動基板と対向基板との間に液晶層が封止され、これらの駆動基板および対向基板の各対向面に、配向膜が形成される。このため、駆動基板では、配向膜が画素電極上に形成されるが、配向膜は、その成膜手法等に起因して膜中に欠陥（未結合手あるいは空孔）等を多く含む。つまり配向膜は化学的に活性となり易く、水分や電流等の補助要員と相俟って、画素電極を腐食させてしまう。

そこで、画素電極と配向膜との間に、上記のような腐食防止のための保護膜を形成する手法が提案されている（例えば、特許文献１）。

特開２００３−１６７２５５号公報

しかしながら、上記特許文献１の手法では、配向膜の保護膜に対する密着性が、画素電極に対するものよりも低いことから、配向膜が剥がれ、表示品位に影響を与えるという問題がある。

本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、配向膜の剥がれを抑制して良好な表示品位を維持することが可能な液晶表示装置を提供することにある。

本開示の液晶表示装置は、有効画素領域としての画素部に複数の画素電極を有する駆動基板と、駆動基板に対向配置され、複数の画素電極と対向配置された対向電極を有する対向基板と、駆動基板と対向基板との間に封止された液晶層と、駆動基板の液晶層側の面に、画素部およびその周辺部の少なくとも一部に亘って形成された配向膜と、駆動基板の少なくとも画素部において、画素電極と配向膜との間に形成された保護膜と、駆動基板の周辺部の少なくとも一部に形成され、配向膜と接触する導電膜とを備えたものである。

本開示の液晶表示装置では、駆動基板の画素部およびその周辺部の少なくとも一部に亘って配向膜が形成されると共に、駆動基板の少なくとも画素部では、その配向膜と画素電極との間に保護膜が形成されている。この駆動基板の周辺部の少なくとも一部に、配向膜と接触する導電膜が形成されていることにより、配向膜の駆動基板への密着性が維持される。

本開示の液晶表示装置によれば、駆動基板の画素部およびその周辺部の少なくとも一部に亘って配向膜を設けると共に、駆動基板の少なくとも画素部では、その配向膜と画素電極との間に保護膜を設ける。この駆動基板の周辺部の少なくとも一部に、配向膜と接触する導電膜を設けるようにしたので、配向膜の駆動基板への密着性を維持することができる。よって、配向膜の剥がれを抑制して良好な表示品位を維持することが可能となる。

本開示の一実施の形態に係る液晶表示装置の全体構成を表す機能ブロック図である。 図１に示した液晶表示パネルの要部構成を表す平面模式図である。 接着部（ダミー導電膜および開口部）の配置例を表す平面模式図である。 液晶表示パネルにおける図３のＩ−Ｉ線に対応する部分の矢視断面図である。 液晶表示パネルにおける図３のII−II線に対応する部分の矢視断面図である。 図３および図５に示した接着部の詳細構成例を表す模式図である。 図３および図５に示した接着部を拡大して表す断面図である。 変形例１に係る接着部の配置例を表す平面模式図である。 変形例２に係る接着部の配置例を表す平面模式図である。 変形例３に係る接着部の配置例を表す平面模式図である。 変形例４に係る液晶表示パネルの構成を表す断面図である。

以下、本開示における実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。尚、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（信号線駆動回路に対向する領域に、複数の接着部を設けた液晶表示装置の例）
２．変形例１（配向膜の４隅に対応する領域に接着部を設けた例）
３．変形例２（配向膜の３辺に対応する領域に接着部を設けた例）
４．変形例３（配向膜の４辺に対応する領域に接着部を設けた例）
５．変形例４（保護膜を画素部にのみ選択的に形成した例）

＜実施の形態＞
［構成］
図１は、本開示の一実施の形態に係る液晶表示装置（液晶表示装置１）の全体構成を表したものである。液晶表示装置１は、例えば液晶表示パネル１０、バックライト３６、バックライト駆動部６３およびタイミング制御部６４等を備え、外部から入力される映像信号Ｄinに基づいて映像表示を行うものである。液晶表示パネル１０には、例えば、有効画素領域としての画素部１０Ａと、画素部１０Ａを表示駆動するための周辺回路部（信号線駆動回路６１および走査線駆動回路６２）が形成されている。画素部１０Ａには、例えばマトリクス状に複数の画素（例えばＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）のサブピクセル）が配置されている。信号線駆動回路６１および走査線駆動回路６２等を含む周辺回路部は、後述の駆動基板１１の画素部１０Ａの周辺部（周辺部１０Ｂ）に形成されている。

タイミング制御部６４は、信号線駆動回路６１、走査線駆動回路６２およびバックライト駆動部６３の駆動タイミングを制御すると共に、映像信号Ｄinを信号線駆動回路６１へ供給するものである。走査線駆動回路６２は、タイミング制御部６４によるタイミング制御に従って、各画素を線順次駆動するものである。信号線駆動回路６１は、各画素へそれぞれ、タイミング制御部６４から供給される映像信号Ｄinに基づく映像電圧を供給するものである。具体的には、映像信号Ｄinに対してＤ／Ａ（デジタル／アナログ）変換を施すことにより、アナログ信号である映像信号を生成し、各画素へ出力する。

バックライト３６は、液晶表示パネル１０へ向けて光を照射する光源であり、例えばＬＥＤ（Light Emitting Diode）やＣＣＦＬ（Cold Cathode Fluorescent Lamp）等を複数含むものである。このバックライト３６は、バックライト駆動部６３によって駆動され、点灯状態および消灯状態が制御されるようになっている。

（液晶表示パネル１０）
図２は、液晶表示パネル１０の要部構成（駆動基板に設けられる画素部、回路部、配向膜および保護膜の平面配置例）を表したものである。図３は、接着部の具体的な配置例（レイアウト例）を表したものである。図４は、液晶表示パネル１０における図３のＩ−Ｉ線に対応する部分の矢視断面図であり、図５は、液晶表示パネル１０における図３のII−II線に対応する部分の矢視断面図である。

液晶表示パネル１０は、対向配置された駆動基板１１と対向基板１８との間に、液晶層１５が封止されたものである。駆動基板１１の画素部１０Ａには、複数の画素電極１２が例えば２次元アレイ状に設けられている。対向基板１８の画素電極１２との対向面には、対向電極１７が設けられている。駆動基板１１の液晶層１５側の面には、配向膜１４が形成されており、対向基板１８の液晶層１５側の面（対向電極１７の表面）には、配向膜１６が形成されている。

尚、図示はしないが、駆動基板１０の光入射側および対向基板１８の光出射側にはそれぞれ、偏光板が貼り合わせられている。また、液晶表示パネルの周縁部にはシール層が形成されており、このシール層により液晶層１５が駆動基板１０および対向基板１８間に封止されている。

駆動基板１１は、例えばガラス基板よりなり、例えば矩形状の面形状（表示画面に平行な面形状）を有する。この駆動基板１０には、画素部１０Ａおよび、その周辺部１０Ｂに、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）、保持容量素子（図示せず）および配線等が配設されている。画素部１０Ａでは、各画素電極１２が上記ＴＦＴに接続されており、このＴＦＴを介して画素電極１２に映像信号Ｄinに対応する映像電圧が供給されるようになっている。

画素電極１２は、画素毎に設けられ、例えば透明導電膜よりなる。透明導電膜としては、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、あるいはＩＧＺＯ（インジウム，ガリウム，亜鉛含有酸化物）と呼ばれる酸化物半導体が用いられる。本実施の形態では、上記透明導電膜のうちＩＴＯを例に挙げて説明するが、画素電極１２の構成材料はＩＴＯに限定されるものではない。但し、後述するように配向膜１４（例えばＳｉＯ₂からなる無機配向膜）との間で還元反応を生じ得る導電膜材料を用いた場合に、本開示の効果は有効である。

対向基板１８は、例えばガラス基板よりなる。この対向基板１８には、例えば図示しないカラーフィルタおよび遮光層（ブラックマトリクス層）が設けられ、これらが例えばオーバーコート膜によって覆われている。このオーバーコート膜上に対向電極１７が設けられている。

対向電極１７は、例えば各画素に共通の電極となっており、画素電極１２と共に液晶層１５へ映像電圧を供給するものである。この対向電極１７は、上記画素電極１２と同様、例えば上述したような透明導電膜よりなる。

液晶層１５は、画素電極１２および対向電極１７を通じて供給される映像電圧に応じて、そこを透過する光の透過率を制御する機能を有する。この液晶層１５には、例えばＶＡ（Vertical Alignment）モード、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＥＣＢ（Electrically controlled birefringence）モード、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードあるいはＩＰＳ（In Plane Switching）モード等により表示駆動される液晶を含むものである。このように液晶層１５の液晶材料は特に限定されないが、後述の配向膜１４，１６のように無機配向膜を用いて配向制御が行われる場合に特に有効である。

配向膜１４，１６は、液晶層１５の配向制御を行うためのものであり、例えばシリコン酸化物（ＳｉＯ₂）等の無機配向膜よりなる。配向膜１４，１６の厚みは、例えば１２０ｎｍ〜３６０ｎｍ程度である。これらの配向膜１４，１６はそれぞれ、例えば蒸着法により成膜されるものである。また、配向膜１４は、図２および図４に示したように、画素部１０Ａから周辺部１０Ｂにわたって、画素電極１２を覆うように形成されている。換言すると、配向膜１４は、周辺部１０Ｂに端縁ｅ１を有する。また、配向膜１４の成膜領域の面形状は、例えば駆動基板１１の面形状と略同一の矩形状である。尚、配向膜１７も同様である。但し、駆動基板１１では、少なくとも画素部１０Ａにおいて、画素電極１２と配向膜１４との間に、保護膜１３が形成されている。

保護膜１３は、画素電極１２の腐食を抑制するために形成されるものである。この保護膜１３は、例えばシリコン酸化膜あるいはシリコン窒化膜（ＳｉＮ）等の、配向膜１４よりも化学的に安定な無機膜であり、厚みは例えば３０ｎｍ〜７０ｎｍである。この保護膜１３は、少なくとも画素部１０Ａを覆って形成されており、例えばＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition：化学気相成長）法あるいはスパッタ法等の、蒸着法よりも化学的に安定な手法により成膜されたものである。ここで、配向膜１４は、上記のように蒸着法により成膜された無機膜であることから、膜中に欠陥（未結合手、空孔）等を生じ易く、またＳｉとＯの組成比も一定ではない場合が多い。このため、配向膜１４は化学的に活性となり易く、配向膜１４と画素電極１２とが接触する場合には、配向膜１４（例えばＳｉＯ₂）の還元等によって画素電極１２（例えばＩＴＯ）が腐食してしまう。このような配向膜１４と画素電極１２との間に、配向膜１４よりも化学的な安定な保護膜１３が形成されることにより、上記のような画素電極１２の腐食が抑制される。本実施の形態では、この保護膜１３が、例えば画素部１０Ａから周辺部１０Ｂにわたって、上記配向膜１４の端縁ｅ１を囲む領域に（例えば駆動基板１１の全面にわたって）形成されている。

（接着部２０，２１）
本実施の形態では、上記のような駆動基板１１において、周辺部１０Ｂの少なくとも一部に、配向膜１４と接触する導電膜（ダミー導電膜１２Ａ）が設けられている。上述したように、駆動基板１１では、画素部１０Ａから周辺部１０Ｂにわたって保護膜１３が形成されるが、この保護膜１３は、ダミー導電膜１２Ａに対向する領域に、開口部（開口部２０ａ）を有している。配向膜１４は、周辺部１０Ｂにおいて、この開口部２０ａを介して（開口部２０ａにおいて）ダミー導電膜１２Ａと接触している。尚、ダミー導電膜１２Ａが、本開示における「導電膜」の一具体例に相当する。以下では、これらのダミー導電膜１２Ａおよび開口部２０ａから構成される部分を、接着部（接着部２０，２１）と称して説明を行う。

ダミー導電膜１２Ａは、配向膜１４を駆動基板１１へ接着させるための導電膜であり、例えば画素電極１２と同様の透明導電膜により構成されている。但し、このダミー導電膜１２Ａは、駆動基板１１に設けられた配線層の一部として機能するものであってもよい。即ち、駆動基板１１に予め設けられた配線層の一部を利用して、接着部２０，２１を形成してもよい。ダミー導電膜１２Ａの構成材料としては、保護膜１３よりも配向膜１４に対する密着性が高いものであれば特に限定されない。ここでは、ダミー導電膜１２Ａは、例えば画素電極１２と同一の透明導電膜（例えばＩＴＯ）から構成される。ダミー導電膜１２Ａおよび画素電極１２の成膜およびパターニングを、一括して（同一工程において）行うことができるためである。本実施の形態では、このダミー導電膜１２Ａが複数設けられており、それぞれが接着部２０あるいは接着部２１（詳細には後述の接着部２１Ａ）を構成する。

開口部２０ａは、保護膜１３の所定の領域（ダミー導電膜１２Ａに対向する領域）に、例えばフォトリソグラフィ法を用いたエッチングにより形成されるものである。開口部２０ａは、ダミー導電膜１２Ａと対向配置されると共に、ダミー導電膜１２Ａの面形状よりも小さな開口形状を有している。例えば、開口部２０ａは、ダミー導電膜１２Ａと１対１対応で設けられ、ダミー導電膜１２Ａの面形状よりも一回り小さな開口形状を有している。但し、これらの開口部２０ａおよびダミー導電膜１２Ａは、必ずしも１対１対応で設けられる必要はなく、１つのダミー導電膜１２Ａに対して複数の開口部２０ａが設けられていてもよい。また、開口部２０ａの位置、形状、大きさおよび個数等は、特に限定されないが、配向膜１４の密着性を高めるという観点では、配向膜１４とダミー導電膜１２Ａとの接触面積をできるだけ大きく確保できるように設計されるとよい。また、開口部２０ａおよびダミー導電膜１２Ａは、後述するように、駆動基板１１の回路や配線パターンに応じて設計されることが望ましく、また配向膜１４の端縁ｅ１に沿って形成されることが望ましい。以下、これらのダミー導電膜１２Ａおよび開口部２０ａからなる接着部２０，２１の詳細構成について説明する。

接着部２０，２１は、例えば図３に示したように、配向膜１４の矩形状の成膜領域の各辺に対応する領域に形成されている。ここで、駆動基板１１の周辺部１０Ｂには、上述したように、信号線駆動回路６１および走査線駆動回路６２等からなる回路部が配設される。接着部２１は、信号線駆動回路６１あるいはそれに接続される配線（配線６５あるいは信号線ＤＴＬ）が設けられている領域（第１の領域）に形成され、接着部２０は、周辺部１０Ｂのうちの上記以外の領域（第２の領域）に形成されている。これらのうち接着部２１は、詳細は後述するが、複数の接着部２１Ａによって構成されている。

まず、図３および図４を参照して、接着部２０について説明する。接着部２０は、例えば配向膜１４の矩形状の３辺のそれぞれに沿った領域（コの字型の領域）に、配向膜１４の端縁ｅ１に沿って、ひと続きに（連なって）形成されている。つまり、接着部２０では、ダミー導電膜１２Ａは、例えば配向膜１４の端縁ｅ１に沿ってベタ形成され、開口部２０ａは、ダミー導電膜１２Ａ上において、例えば所定幅（例えば数１００μｍ程度）のスリット（溝）を成している。この接着部２０は、配向膜１４の矩形状の３辺と、４隅（角部）とを含む領域に形成されていることが望ましい。配向膜１４の膜剥がれが、矩形状の面形状のうち特に４隅を起点として生じ易いためである。

この接着部２０では、配向膜１４の端縁ｅ１が、開口部２０ａにおいてダミー導電膜１２Ａに接触しており、即ち、配向膜１４がその端縁ｅ１において駆動基板１１に接着されている。但し、接着部２０の構成は、これに限定されるものではなく、例えば、接着部２０が、配向膜１４の端縁ｅ１と画素部１０Ａとの間の領域に形成され、配向膜１４が、端縁ｅ１よりも内側の部分（画素部１０Ａ寄りの部分）において駆動基板１１に接着されていてもよい。即ち、配向膜１４は、必ずしも端縁ｅ１がダミー導電膜１２Ａに接触しなければならない訳ではなく、周辺部１０Ｂのうちの少なくとも一部分がダミー導電膜１２Ａに接触していればよい。

次に、図３および図５を参照して、接着部２１について説明する。接着部２１は、例えば配向膜１４の矩形状の１辺に対応する領域に形成されている。ここで、駆動基板１１の周辺部１０Ｂの一部には、信号線駆動回路６１が設けられると共に、例えばＦＰＣ（フレキシブルプリント配線板）に接続される引き出し配線（配線６５）等が設けられ、様々な回路および配線が密集する。つまり、信号線駆動回路６１付近では、各種配線が交差して形成され、複雑な配線パターンが形成されている。

このため、駆動基板１１の周辺部１０Ｂのうち、上記のような信号線駆動回路６１付近の領域では、上記のような配線パターンに応じて、接着部２１として複数の接着部２１Ａが形成されている（接着部２１が細分化されている）。尚、図３には、簡便化のため、接着部２１の全体の平面形状のみを示しており、細分化された接着部２１Ａについては図示していない。

図６は、接着部２１の詳細構成例を、配線パターンの一例と共に表したものである。図７は、各接着部２１Ａ付近の断面構成を拡大したものである。図６に示したように、接着部２１では、複数の接着部２１Ａが離散配置されている（各接着部２１Ａが島状に形成されている）。即ち、接着部２１では、複数のダミー導電膜１２Ａが２次元的に離散して配置されており、各開口部２０ａは、各ダミー導電膜１２Ａ上において、例えば所定幅（例えば数１０μｍ程度）の細孔を成している。詳細には、駆動基板１１には、配線パターン（例えば互いに交差する複数の配線１１０，１２０）が設けられるが、このような配線パターンに対し、例えば配線１１０同士の間、配線１２０同士の間、あるいは配線１１０と配線１２０との間の各領域を跨ぐことなく、接着部２１Ａが形成されている。これにより、接着部２１において、ダミー導電膜１２Ａの設置に起因して、配線１１０同士、配線１２０同士あるいは配線１１０と配線１２０とが導通し、寄生容量が発生（あるいは増大）することを抑制することができる。

接着部２１では、各接着部２１Ａにおいて、開口部２０ａを介してダミー導電膜１２Ａと配向膜１４が接触することにより、配向膜１４の密着性が確保される。このように、本実施の形態では、信号線駆動回路６１またはそれに接続される配線（６５，ＤＴＬ）が形成された領域において、複数の接着部２１Ａ（即ちダミー導電膜１２Ａ）が離散配置されている。これにより、配線パターンにおける寄生容量の発生等を抑制しつつ、配向膜１４とダミー導電膜１２Ａの接触面積を確保し、密着性を高めることができる。

［作用、効果］
液晶表示装置１では、図１に示したように、タイミング制御部６４へ映像信号Ｄinが入力されると、走査線駆動回路６２および信号線駆動回路６１が、画素部１０Ａの各画素を表示駆動する。具体的には、タイミング制御部６４の制御に応じて、走査線駆動回路６２が、各画素に接続された走査線ＷＳＬに走査信号を順次供給すると共に、信号線駆動回路６１が、映像信号Ｄinに基づく映像信号を、所定の信号線ＤＴＬに供給する。これにより、映像信号が供給された信号線ＤＴＬと走査信号が供給された走査線ＷＳＬとの交差点に位置する画素が選択され、その画素に映像電圧が印加される。

上記のようにして選択された画素では、画素電極１２および対向電極１７を通じて映像電圧が供給され、これにより、液晶層１５における液晶分子の配向状態が、その映像電圧の大きさに応じて変化する。その結果、液晶層１５における光学的特性が変化し、バックライト３６から液晶層１５へ入射した光は、画素毎に変調されて、対向基板１８上へ出射する。液晶表示装置１では、このようにして映像が表示される。

ここで、本実施の形態では、駆動基板１１において、画素電極１２と配向膜１４（例えば蒸着法により成膜された無機配向膜）との間に、画素電極１２の腐食を抑制するために、保護膜１３（例えばＣＶＤ法により成膜された無機膜）が形成される。ところが、配向膜１４は、このような保護膜１３に対して密着性が低い。

そこで、本実施の形態では、駆動基板１１の周辺部１０Ｂの少なくとも一部に、配向膜１４と接触するダミー導電膜１２Ａが設けられている。具体的には、画素部１０Ａから周辺部１０Ｂにわたって形成された保護膜１３が、その周辺部１０Ｂの所定の領域（ダミー導電膜１２Ａと対向する領域）に、開口部２０ａを有している。この開口部２０ａを介して配向膜１４とダミー導電膜１２Ａが接触する。これにより、配向膜１２Ａの駆動基板１１に対する密着性が維持される。ここで配向膜１４では、吸湿あるいは熱ストレスによる体積変動に起因して応力が発生し、この応力によって、配向膜１４が駆動基板１１から剥がれたり、配向膜１４に亀裂が生じたりすることがある。このような配向膜１４の剥がれ等が画素部１０Ａまで到達すると、液晶層１５の配向が乱れ、液晶表示パネル１０の表示不良を引き起こし易い。また、このような現象はパネル形成時だけでなく、使用時にも進行する可能性がある。上記のようなダミー導電膜１２Ａおよび開口部２０ａを設けることにより、配向膜１４と駆動基板１１との密着性が維持され、配向膜１４の剥がれ等が抑制される。

また、本実施の形態では、信号線駆動回路６１およびこれに接続される配線（６５，ＤＴＬ）が設けられた領域では、接着部２１において、複数の接着部２１Ａ（ダミー導電膜１２Ａおよび開口部２０ａ）が離散配置されている。これにより、配線パターンにおける寄生容量の発生等を抑制しつつ、密着性を高めることができる。信号線駆動回路６１付近において寄生容量が生じると信号線ＤＴＬ等の配線電位が変動し、表示画質に影響を与える虞があるが、本実施の形態では、接着部２１Ａの離散配置により、そのような寄生容量の発生に基づく表示画質の低下を抑制することができる。

更に、本実施の形態では、上記のような信号線駆動回路６１付近以外の領域では、接着部２０が、配向膜１４の３辺および４隅に対応する領域を含むコの字型の面形状を有する。ここで、走査線駆動回路６２は、例えば配向膜１４の矩形状の対向する２辺に対応する領域に形成されるが、この走査線駆動回路６２付近では、信号線駆動回路６１付近に比べ回路や配線が密集しにくい。このため、接着部２０の配置（レイアウト）は制約を受けにくく、接着部２０を、配向膜１４の３辺および４隅に対応する領域に、端縁ｅ１に沿って形成することができ、密着性を十分に確保することが可能となる。

以上説明したように、本実施の形態では、駆動基板１１の画素部１０Ａおよび周辺部１０Ｂの少なくとも一部に亘って配向膜１４を設けると共に、この配向膜１４と画素電極１２との間に保護膜１３を設ける。駆動基板１１の周辺部１０Ｂの少なくとも一部に、配向膜１４と接触するダミー導電膜１２Ａを設けるようにしたので、配向膜１４の駆動基板１１への密着性を維持することができる。よって、配向膜１４の剥がれを抑制して良好な表示品位を維持することが可能となる。

また、配向膜１４の密着性が維持されることで、例えば初期の画質歩留まりが良好となると共に、液晶表示パネル１０の寿命向上にも寄与する。

以下、上記実施の形態の接着部の変形例（変形例１〜４）について説明する。上記実施の形態では、駆動基板１１において、ダミー導電膜１２Ａおよび開口部２０ａからなる接着部２０，２１が、駆動基板１１の配線パターンに応じて配置された場合を例示したが、以下の変形例１〜４のような配置構成であってもよい。尚、上記実施の形態と同一の構成要素については同一の符号を付し説明を省略する。

＜変形例１＞
図８は、変形例１に係る接着部（接着部２２）の配置例を表したものである。本変形例では、接着部２２が、配向膜１４の矩形状の成膜領域の４隅に対応する領域にそれぞれ形成されている。各接着部２２は、上記実施の形態と同様、ダミー導電膜１２Ａと保護膜１３に設けられた開口部２０ａとからなり、この開口部２０ａを介してダミー導電膜１２Ａと配向膜１４とが接触するようになっている（いずれも図８には図示せず）。

上記実施の形態において述べたように、配向膜１４は、吸湿等による応力に起因して剥がれ等を生じるが、この応力は、特に膜の連続性が崩れる４隅（角部）に集中することから、その４隅が膜剥がれの起点となり易い。本変形例のように、配向膜１４の４隅に対応する領域に選択的に接着部２２を形成することにより、最小限の接着面積で効率的に配向膜１４の剥がれを抑制することができる。これは、例えば、周辺部１０Ｂの配線密度が信号線駆動回路付近以外の領域においても高い場合、あるいは狭額縁化が要求される場合等、接着部２２の配置の制約が大きい場合に有効である。

＜変形例２＞
図９は、変形例２に係る接着部（接着部２３）の配置例を表したものである。本変形例では、接着部２３が、配向膜１４の矩形状の成膜領域のうち、３辺および４隅に対応する領域（信号線駆動回路６１に対応する領域を除いた領域）に形成されている。接着部２３は、上記実施の形態の接着部２０と同様、コの字型の領域に、配向膜１４の端縁ｅ１に沿って形成されている。また、各接着部２３は、ダミー導電膜１２Ａと保護膜１３に設けられた開口部２０ａとからなり、この開口部２０ａを介してダミー導電膜１２Ａと配向膜１４とが接触するようになっている（いずれも図９には図示せず）。

上記実施の形態において述べたように、駆動基板１１では、信号線駆動回路６１付近において回路等が密集する。本変形例のように、信号線駆動回路６１付近を除いた３辺と４隅に対応する領域に、選択的に接着部２３を形成することで、上記実施の形態よりも簡易な配置により、寄生容量の発生を抑制しつつ、効率的に配向膜１４の剥がれを抑制可能となる。

＜変形例３＞
図１０は、変形例３に係る接着部（接着部２４）の配置例を表したものである。本変形例では、接着部２４が、配向膜１４の矩形状の成膜領域のうち、４辺に対応する領域に形成されている。接着部２４は、配向膜１４の矩形状を囲むように配向膜１４の端縁ｅ１に沿って形成されている。また、各接着部２４は、ダミー導電膜１２Ａと保護膜１３に設けられた開口部２０ａとからなり、この開口部２０ａを介してダミー導電膜１２Ａと配向膜１４とが接触するようになっている（いずれも図１０には図示せず）。

本変形例のように、配向膜１４の４辺に対応する領域に、接着部２４を形成してもよく、この場合にも、上記実施の形態等とほぼ同等の効果を得ることができる。

＜変形例４＞
図１１は、変形例３に係る接着部（接着部２５）を含む液晶表示パネルの断面構成を表したものである。上記実施の形態等では、保護膜１３が画素部１０Ａから周辺部１０Ｂにわたって形成され、この保護膜１３の周辺部１０Ｂに設けられた開口部２０ａを介して、配向膜１４がダミー導電膜１２Ａと接触する場合について説明した。このように、保護膜１３のうち、ダミー導電膜１２Ａに対向する選択的な領域のみをエッチングして開口部２０ａを形成する際には、ダミー導電膜１２Ａ（例えばＩＴＯ）および保護膜１３（例えばＳｉＯ₂等）のエッチング選択比を取り易く、パターニングが比較的容易である。このように、上記実施の形態の接着部は、プロセス容易性の観点では優れているが、保護膜１３は必ずしも周辺部１０Ｂに形成される必要はない。

例えば本変形例のように、保護膜１３が画素部１０Ａにのみ形成されていてもよい（周辺部１０Ｂに対応する部分が除去されていてもよい）。これにより、周辺部１０Ｂにおいて、ダミー導電膜１２Ａ（接着部２５）の全体（具体的には、上面および側面）が保護膜１３から露出し、このダミー導電膜１２Ａの一部または全部（ここでは一部）が配向膜１４によって覆われる。これにより、配向膜１４が駆動基板１１に接着される。この場合、まず保護膜１３を駆動基板１１の全面にわたって成膜した後、例えばフォトリソグラフィ法を用いたエッチングにより周辺部１０Ｂに対応する部分を選択的に除去すればよい。この際、駆動基板１１の表面と保護膜１３との間でエッチング選択比がとれるようにエッチング条件を最適化するか、あるいは異方性エッチング等を用いることにより、周辺部１０Ｂに形成された保護膜１３のみを選択的に除去することができる。

これにより、本変形例では、上記実施の形態と同等の効果を得ることができる。また、開口部２０ａを介して接触させる場合よりも、ダミー導電膜１２Ａとの接触面積を確保し易い。よって、密着性をより高めることができる。

以上、いくつかの実施の形態および変形例を挙げて説明したが、本開示内容はこれらの実施の形態等に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、配向膜１４の成膜領域が矩形状である場合を例示したが、本開示内容は、矩形状以外の配向膜にも適用可能である。例えば、配向膜が方形状等であってもよく、角部を含む形状を有する場合に特に有用である。

また、本開示の導電膜および開口部の配置および面形状等は、上記実施の形態等において説明した、接着部２０，２１（ダミー導電膜１２Ａ、開口部２０ａ）の各配置および面形状等に限定されるものではない。駆動基板１１の面形状、配向膜１４の成膜領域、配線パターン、導電膜の配置自由度等に応じて様々な形態を取り得ることは言うまでもない。

更に、上記実施の形態等では、駆動基板１１と配向膜１４との接着部としてダミー導電膜および開口部を設けたが、同様の構成を対向基板１８に適用することも可能である。即ち、対向電極１７と配向膜１６との間に、対向電極１７の腐食を抑制するための保護膜が形成される場合、駆動基板１１の場合と同様、対向基板１８においても、配向膜１６の剥がれが懸念される。このため、対向基板１８においても、周辺部１０Ｂにダミー導電膜を設けると共に、保護膜のダミー導電膜に対向する領域に開口部を設けることにより、開口部を介して配向膜１６とダミー導電膜とを接触させることができる。このように、本開示内容は、駆動基板１１に限らず、対向基板１８にも適用可能である。

尚、本開示の表示装置および電子機器は、以下のような構成であってもよい。
（１）
有効画素領域としての画素部に複数の画素電極を有する駆動基板と、
前記駆動基板に対向配置され、前記複数の画素電極と対向配置された対向電極を有する対向基板と、
前記駆動基板と前記対向基板との間に封止された液晶層と、
前記駆動基板の前記液晶層側の面に、前記画素部およびその周辺部の少なくとも一部に亘って形成された配向膜と、
前記駆動基板の少なくとも前記画素部において、前記画素電極と前記配向膜との間に形成された保護膜と、
前記駆動基板の前記周辺部の少なくとも一部に形成され、前記配向膜と接触する導電膜と
を備えた液晶表示装置。
（２）
前記保護膜は、前記駆動基板において、前記画素部および前記周辺部の少なくとも一部に亘って形成されると共に、前記周辺部の前記導電膜に対向する領域に開口部を有し、
前記開口部において、前記配向膜と前記導電膜とが接触する
上記（１）に記載の液晶表示装置。
（３）
前記開口部において、前記配向膜の端縁が前記導電膜に接触する
上記（２）に記載の液晶表示装置。
（４）
前記導電膜は、前記周辺部において複数設けられ、
前記開口部は、複数の前記導電膜のそれぞれに対向して設けられている
上記（２）または（３）に記載の液晶表示装置。
（５）
前記駆動基板は、前記周辺部に、前記画素部に映像信号を供給するための信号線駆動回路を有し、
前記複数の導電膜のうちの２以上の導電膜は、前記周辺部のうちの、前記信号線駆動回路、または前記信号線駆動回路に接続される配線を有する第１の領域において、離散配置されている
上記（１）〜（４）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（６）
前記周辺部のうちの他の第２の領域において、前記複数の導電膜のうちの他の導電膜は、前記配向膜の端縁に沿って設けられている
上記（５）に記載の液晶表示装置。
（７）
前記配向膜の面形状は矩形状であり、
前記第１の領域は、前記矩形状の１辺に対応する領域であると共に、前記第２の領域は、前記矩形状の他の３辺と４隅とに対応する領域である
上記（６）に記載の液晶表示装置。
（８）
前記配向膜の面形状は矩形状であり、
前記複数の導電膜は、前記矩形状の４隅に対応する領域に設けられている
上記（４）〜（７）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（９）
前記複数の導電膜は、前記矩形状の４隅および３辺に対応する領域に設けられている
上記（４）〜（８）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１０）
前記配向膜の面形状は矩形状であり、
前記導電膜は、前記矩形状の４辺に対応する領域に、前記配向膜の端縁に沿って設けられている
上記（３）に記載の液晶表示装置。
（１１）
前記保護膜は、前記駆動基板において、前記画素部および前記周辺部のうちの前記画素部に選択的に形成されている
上記（１）に記載の液晶表示装置。
（１２）
前記配向膜は無機配向膜であり、
前記保護膜は、前記配向膜よりも化学的に安定な無機膜である
上記（１）〜（１１）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１３）
前記配向膜は蒸着法により形成されたものであり、
前記保護膜は化学気相成長法により形成されたものである
上記（１）〜（１２）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１４）
前記配向膜はシリコン酸化物膜であり、
前記保護膜はシリコン酸化物膜またはシリコン窒化物膜である
上記（１）〜（１３）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１５）
前記導電膜は、前記画素電極と同一の透明導電膜から構成されている
上記（１）〜（１４）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１６）
前記画素電極および前記導電膜は、インジウム錫酸化物により構成されている
上記（１）〜（１５）のいずれかに記載の液晶表示装置。
（１７）
前記導電膜は、前記駆動基板に設けられた配線層の一部として機能するものである
上記（１）〜（１６）のいずれかに記載の液晶表示装置。

１…液晶表示装置、１０…液晶表示パネル、１０Ａ…画素部、１０Ｂ…周辺部、１１…駆動基板、１２…画素電極、１２Ａ…ダミー導電膜、１３…保護膜、１４，１６…配向膜、１５…液晶層、１７…対向電極、１８…対向基板、２０〜２５，２１Ａ…接着部、２０ａ…開口部、６１…信号線駆動回路、６２…走査線駆動回路、ｅ１…（配向膜）端縁。

Claims (17)

1. 有効画素領域としての画素部に複数の画素電極を有する駆動基板と、
   前記駆動基板に対向配置され、前記複数の画素電極と対向配置された対向電極を有する対向基板と、
   前記駆動基板と前記対向基板との間に封止された液晶層と、
   前記駆動基板の前記液晶層側の面に、前記画素部およびその周辺部の少なくとも一部に亘って形成された配向膜と、
   前記駆動基板の少なくとも前記画素部において、前記画素電極と前記配向膜との間に形成された保護膜と、
   前記駆動基板の前記周辺部の少なくとも一部に形成され、前記配向膜と接触する導電膜と
   を備えた液晶表示装置。
2. 前記保護膜は、前記駆動基板において、前記画素部および前記周辺部の少なくとも一部に亘って形成されると共に、前記周辺部の前記導電膜に対向する領域に開口部を有し、
   前記開口部において、前記配向膜と前記導電膜とが接触する
   請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記開口部において、前記配向膜の端縁が前記導電膜に接触する
   請求項２に記載の液晶表示装置。
4. 前記導電膜は、前記周辺部において複数設けられ、
   前記開口部は、複数の前記導電膜のそれぞれに対向して設けられている
   請求項２に記載の液晶表示装置。
5. 前記駆動基板は、前記周辺部に、前記画素部に映像信号を供給するための信号線駆動回路を有し、
   前記複数の導電膜のうちの２以上の導電膜は、前記周辺部のうちの、前記信号線駆動回路、または前記信号線駆動回路に接続される配線を有する第１の領域において、離散配置されている
   請求項４に記載の液晶表示装置。
6. 前記周辺部のうちの他の第２の領域において、前記複数の導電膜のうちの他の導電膜は、前記配向膜の端縁に沿って設けられている
   請求項５に記載の液晶表示装置。
7. 前記配向膜の面形状は矩形状であり、
   前記第１の領域は、前記矩形状の１辺に対応する領域であると共に、前記第２の領域は、前記矩形状の他の３辺と４隅とに対応する領域である
   請求項６に記載の液晶表示装置。
8. 前記配向膜の面形状は矩形状であり、
   前記複数の導電膜は、前記矩形状の４隅に対応する領域に設けられている
   請求項４に記載の液晶表示装置。
9. 前記複数の導電膜は、前記矩形状の４隅および３辺に対応する領域に設けられている
   請求項８に記載の液晶表示装置。
10. 前記配向膜の面形状は矩形状であり、
    前記導電膜は、前記矩形状の４辺に対応する領域に、前記配向膜の端縁に沿って設けられている
    請求項３に記載の液晶表示装置。
11. 前記保護膜は、前記駆動基板において、前記画素部および前記周辺部のうちの前記画素部に選択的に形成されている
    請求項１に記載の液晶表示装置。
12. 前記配向膜は無機配向膜であり、
    前記保護膜は、前記配向膜よりも化学的に安定な無機膜である
    請求項１に記載の液晶表示装置。
13. 前記配向膜は蒸着法により形成されたものであり、
    前記保護膜は化学気相成長法により形成されたものである
    請求項１２に記載の液晶表示装置。
14. 前記配向膜はシリコン酸化物膜であり、
    前記保護膜はシリコン酸化物膜またはシリコン窒化物膜である
    請求項１３に記載の液晶表示装置。
15. 前記導電膜は、前記画素電極と同一の透明導電膜から構成されている
    請求項１に記載の液晶表示装置。
16. 前記画素電極および前記導電膜は、インジウム錫酸化物により構成されている
    請求項１５に記載の液晶表示装置。
17. 前記導電膜は、前記駆動基板に設けられた配線層の一部として機能するものである
    請求項１に記載の液晶表示装置。

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