JP2014173774A

JP2014173774A - Deodorization treatment apparatus

Info

Publication number: JP2014173774A
Application number: JP2013045798A
Authority: JP
Inventors: Yoshimi Niihara; 良美新原; Masatoshi Shinomori; 正利篠森
Original assignee: Mazda Motor Corp
Current assignee: Mazda Motor Corp
Priority date: 2013-03-07
Filing date: 2013-03-07
Publication date: 2014-09-22
Anticipated expiration: 2033-03-07
Also published as: JP5991234B2

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a deodorization treatment apparatus 1 which suppresses the degradation of recovery amount of deodorization rate due to heating treatment succeeding in the time lapse as much as possible and prevents the deodorization rate from lowering too much, in the deodorization treatment apparatus 1 having deodorization treatment means which has gas passage members 23, 24 causing gas to be treated containing organic material to pass therethrough and performs deodorization treatment of the gas to be treated, and deodorization rate recovery means which recovers deodorization rate of the deodorization treatment by subjecting the gas passage members 23, 24 to heating treatment for performing heating into a temperature higher than the temperature upon the deodorization treatment.SOLUTION: Gas to be treated which is heated into a temperature higher than the temperature upon the deodorization treatment is caused to pass through the gas passage member when the deodorization rate is deteriorated to a predetermined value and, thereby, the gas passage member is subjected to the heating treatment and, in the heating treatment succeeding in the time lapse, the heating treatment temperature for the gas passage member is set higher than that in the preceding heating treatment.

Description

本発明は、有機物を含む被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理装置に関する技術分野に属する。 The present invention belongs to a technical field related to a deodorizing apparatus that performs a deodorizing process on a gas to be processed containing an organic substance.

例えば自動車のボディの塗装やその乾燥工程では、トルエンやキシレン等の有機物が排出されるが、そのような排出ガスは環境に悪影響を及ぼすため、脱臭処理装置により脱臭処理される。このような脱臭処理装置としては、被処理ガス中の臭気成分を触媒（例えばPt、Pd）によって燃焼（酸化）させる触媒燃焼式脱臭処理装置や、例えば特許文献１に示されているように、被処理ガス中の臭気成分を７００℃〜８００℃の高温で燃焼させるとともに、加熱した被処理ガスの熱を蓄熱材に蓄熱して、その蓄熱した熱を、処理前の被処理ガスの余熱に利用するようにした蓄熱式脱臭処理装置がある。 For example, organic substances such as toluene and xylene are exhausted in the painting of the body of an automobile and the drying process thereof. Since such exhaust gas adversely affects the environment, it is deodorized by a deodorizing apparatus. As such a deodorizing apparatus, a catalytic combustion type deodorizing apparatus that burns (oxidizes) an odorous component in the gas to be treated by a catalyst (for example, Pt, Pd), or as disclosed in Patent Document 1, for example, The odor component in the gas to be processed is burned at a high temperature of 700 ° C. to 800 ° C., the heat of the heated gas to be processed is stored in the heat storage material, and the stored heat is used as the residual heat of the gas to be processed before processing. There is a heat storage type deodorization treatment device that is used.

上記触媒燃焼式脱臭処理装置の触媒は、フィルター状部材に担持されており、被処理ガスがその部材を通過する際に酸化燃焼して脱臭処理が行われる。この触媒燃焼式脱臭処理装置では、上記触媒が触媒毒によって性能低下しないように、通常、触媒の上流側に、触媒毒を補足する前処理剤が設けられる。この前処理剤も、フィルター状部材に担持される。また、上記蓄熱式脱臭処理装置の蓄熱材は、ハニカム状に構成され、被処理ガスがそこを通過することで、被処理ガスと蓄熱材との間で熱の授受が行われる。このように脱臭処理装置（触媒燃焼式脱臭処理装置や蓄熱式脱臭処理装置）には、被処理ガスが通過するガス通過部材が設けられている。 The catalyst of the catalytic combustion type deodorizing apparatus is supported on a filter-like member, and deodorizing treatment is performed by oxidizing combustion when the gas to be processed passes through the member. In this catalytic combustion type deodorizing apparatus, a pretreatment agent for supplementing the catalyst poison is usually provided on the upstream side of the catalyst so that the performance of the catalyst does not deteriorate due to the catalyst poison. This pretreatment agent is also carried on the filter member. Moreover, the heat storage material of the said heat storage type deodorization processing apparatus is comprised by the honeycomb form, and transfer of heat is performed between a to-be-processed gas and a heat storage material, when a to-be-processed gas passes there. As described above, the deodorizing apparatus (catalytic combustion type deodorizing apparatus or heat storage type deodorizing apparatus) is provided with a gas passage member through which the gas to be processed passes.

上記脱臭処理装置においては、上記被処理ガス中の有機物のヤニ等の炭素分が燃焼カスとなり、これが上記ガス通過部材に付着する。このような燃焼カスにより、脱臭処理が進行すると、ガス通過部材に目詰まりが生じ、これにより、被処理ガスの通過風量が減少して、触媒（通常、被処理ガスを熱源として加熱する）を適切な温度に加熱することができなくなったり、処理前の被処理ガスに十分な余熱を与えることができなくなったりする。このようにガス通過部材に目詰まりが生じると、脱臭率が低下する。 In the deodorizing apparatus, carbon such as organic matter in the gas to be treated becomes combustion residue, which adheres to the gas passage member. When the deodorizing process proceeds due to such combustion debris, the gas passage member is clogged, thereby reducing the amount of air passing through the gas to be treated, and the catalyst (usually heating the gas to be treated as a heat source). It may not be possible to heat to an appropriate temperature, or sufficient residual heat may not be applied to the gas to be processed before processing. When the gas passage member is clogged in this way, the deodorization rate is lowered.

そこで、上記特許文献１に示されているように、脱臭率を回復させるために、定期的に、上記ガス通過部材に対し、被処理ガスの脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理を施して、ガス通過部材に付着した燃焼カスを燃焼ないし酸化分解させるようにしている。このような加熱処理は、空焼き処理とも呼ばれる。この加熱処理（空焼き処理）の後は再び脱臭処理が行われる。 Therefore, as shown in Patent Document 1, in order to recover the deodorization rate, the gas passage member is periodically heated to a temperature higher than the temperature during the deodorization process of the gas to be processed. The combustion residue adhering to the gas passage member is burned or oxidized and decomposed. Such a heat treatment is also called an empty baking process. After this heat treatment (empty baking treatment), deodorization treatment is performed again.

特開２００８−４５８１８号公報JP 2008-45818 A

ところで、上記脱臭処理と上記加熱処理（空焼き処理）とを繰り返し行う場合、経時的に後の加熱処理ほど、加熱処理による脱臭率の回復量（上昇量）が低下していく。これは、空焼きしても燃焼ないし酸化分解されない燃焼カスが存在し、このような燃焼カスが蓄積していくからである。また、触媒燃焼式脱臭処理装置では、触媒が触媒毒によって覆われることも、脱臭率の回復量が低下していく要因となる。また、脱臭率の回復量が低下していくために、例えば一定時間間隔で加熱処理を行うようにすると、加熱処理を行う前に脱臭率が低下しすぎて、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度が高くなってしまう可能性がある。 By the way, when performing the said deodorizing process and the said heat processing (empty baking process) repeatedly, the recovery | restoration amount (increase amount) of the deodorizing rate by heat processing falls as time-dependent heat processing. This is because there are combustion residues that are not burned or oxidatively decomposed even when burned, and such combustion residues accumulate. Further, in the catalytic combustion type deodorizing apparatus, the catalyst being covered with the catalyst poison also causes a reduction in the recovery amount of the deodorizing rate. In addition, since the recovery amount of the deodorization rate is decreasing, for example, if heat treatment is performed at regular time intervals, the deodorization rate is too low before the heat treatment is performed, and the gas to be treated discharged to the atmosphere There is a possibility that the concentration of odor will increase.

本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、上記脱臭処理と上記加熱処理（空焼き処理）とを繰り返し行う場合に、経時的に後の加熱処理による脱臭率の回復量の低下を出来る限り抑制するとともに、脱臭率が低下しすぎるのを防止しようとすることにある。 The present invention has been made in view of such a point, and the object of the present invention is to perform the subsequent heat treatment over time when the deodorization treatment and the heat treatment (empty baking treatment) are repeated. The purpose is to suppress the decrease in the recovery amount of the deodorization rate as much as possible and to prevent the deodorization rate from decreasing too much.

上記の目的を達成するために、本発明では、有機物を含む被処理ガスが通過するフィルター状のガス通過部材を有し、該被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理手段と、該ガス通過部材に対し、脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理を施すことで、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる脱臭率回復手段とを備えた脱臭処理装置を対象として、上記脱臭率回復手段は、上記脱臭率が所定値まで低下したときに、上記脱臭処理時の温度よりも高温に加熱した上記被処理ガスを上記ガス通過部材に通すことにより、該ガス通過部材に対し上記加熱処理を施すとともに、経時的に後の上記加熱処理において、先の上記加熱処理に比べて上記ガス通過部材に対する加熱処理温度を高く設定するように構成されている、という構成とした。 In order to achieve the above object, the present invention has a filter-like gas passage member through which a gas to be treated containing an organic substance passes, and a deodorizing treatment means for performing a deodorizing treatment of the gas to be treated, and the gas passage member. On the other hand, the deodorization rate recovery means for a deodorization treatment device provided with a deodorization rate recovery means for recovering the deodorization rate of the deodorization treatment by performing a heat treatment that is heated to a temperature higher than the temperature at the time of the deodorization treatment. When the deodorizing rate is reduced to a predetermined value, the gas to be treated is heated by passing the gas to be treated heated to a temperature higher than the temperature at the time of the deodorizing treatment. In addition, in the heat treatment performed later with time, the heat treatment temperature for the gas passage member is set higher than that in the previous heat treatment.

上記の構成により、脱臭率が所定値まで低下したときに加熱処理を施すので、脱臭率が所定値未満に低下することを防止することができ、この結果、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度を常に低レベルに維持することができる。また、脱臭処理時の温度よりも高温に加熱した被処理ガスをガス通過部材に通すことにより、該ガス通過部材に対し加熱処理を施すので、ガス通過部材を直接加熱する加熱手段を設けることなく、ガス通過部材に対する加熱処理を容易に行うことができる。さらに、経時的に後の加熱処理において、先の加熱処理に比べてガス通過部材に対する加熱処理温度を高く設定するので、この高くした加熱処理温度により、ガス通過部材に蓄積した燃焼カスを焼失し易くすることができ、この結果、経時的に後の加熱処理による脱臭率の回復量の低下を抑制することができる。 With the above configuration, since the heat treatment is performed when the deodorization rate is reduced to a predetermined value, it is possible to prevent the deodorization rate from being reduced below the predetermined value. As a result, the gas to be processed discharged to the atmosphere can be prevented. Odor concentration can always be kept at a low level. In addition, since the gas passage member is heated by passing the gas to be treated heated to a temperature higher than the temperature at the time of the deodorizing treatment, the gas passage member is subjected to the heat treatment, so that a heating means for directly heating the gas passage member is not provided. The heat treatment for the gas passage member can be easily performed. Furthermore, since the heat treatment temperature for the gas passage member is set higher in the later heat treatment over time than the previous heat treatment, the combustion residue accumulated in the gas passage member is burned out by this increased heat treatment temperature. As a result, it is possible to suppress a decrease in the recovery amount of the deodorization rate due to the subsequent heat treatment over time.

本発明の一実施形態によれば、上記脱臭率回復手段は、上記ガス通過部材に対する前回の加熱処理による上記脱臭率の上昇量、及び、当該前回の加熱処理後における上記脱臭率の低下状態の少なくとも一方に基づいて、今回の加熱処理における加熱処理温度を設定するように構成されている。 According to an embodiment of the present invention, the deodorization rate recovery means includes an increase amount of the deodorization rate due to the previous heat treatment on the gas passage member, and a decrease state of the deodorization rate after the previous heat treatment. Based on at least one, it is comprised so that the heat processing temperature in this heat processing may be set.

この場合、上記脱臭率の低下状態は、上記脱臭率の時間に対する低下率、又は、上記脱臭率が、予め決められた基準量だけ低下するまでの時間であることが好ましい。 In this case, the reduced state of the deodorization rate is preferably a decrease rate with respect to time of the deodorization rate or a time until the deodorization rate is reduced by a predetermined reference amount.

このようにすることで、これから実行しようとしている今回の加熱処理における加熱処理温度を適切に設定することができる。 By doing in this way, the heat processing temperature in this heat processing which is going to be performed from now on can be set appropriately.

以上説明したように、本発明の脱臭処理装置によると、脱臭率が所定値まで低下したときに、ガス通過部材に対し加熱処理を施すとともに、経時的に後の上記加熱処理において、先の上記加熱処理に比べて上記ガス通過部材に対する加熱処理温度を高く設定するようにしたことにより、経時的に後の加熱処理による脱臭率の回復量の低下を出来る限り抑制することができるとともに、脱臭率が所定値未満に低下することを防止することができて、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度が高くなるのを防止することができる。 As described above, according to the deodorization processing device of the present invention, when the deodorization rate is reduced to a predetermined value, the gas passage member is subjected to heat treatment, and in the above heat treatment over time, By setting the heat treatment temperature for the gas passage member higher than that in the heat treatment, it is possible to suppress a decrease in the recovery amount of the deodorization rate due to the subsequent heat treatment as much as possible, and to reduce the deodorization rate. Can be prevented from falling below a predetermined value, and the odor concentration of the gas to be treated discharged to the atmosphere can be prevented from increasing.

本発明の実施形態に係る脱臭処理装置（触媒燃焼式脱臭処理装置）を用いた脱臭処理システム全体の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows schematic structure of the whole deodorizing processing system using the deodorizing processing apparatus (catalyst combustion type deodorizing processing apparatus) which concerns on embodiment of this invention. 脱臭処理装置の内部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the inside of a deodorizing processing apparatus. 脱臭処理装置の制御系の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the control system of a deodorizing processing apparatus. 前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率と、今回の空焼き処理における加熱温度との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the deodorizing rate immediately after the start of the deodorizing process after the last baking process, and the heating temperature in this empty baking process. 脱臭率ｄの時間に対する変化の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the change with respect to time of the deodorizing rate d. 脱臭率ｄの時間に対する変化の別の例を示すグラフである。It is a graph which shows another example of the change with respect to time of the deodorizing rate d. コントローラによる処理動作を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the processing operation by a controller. 脱臭処理装置の別の例である蓄熱式脱臭処理装置の構成を示す概略図である。It is the schematic which shows the structure of the thermal storage type deodorizing processing apparatus which is another example of a deodorizing processing apparatus.

以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図１は、本発明の実施形態に係る脱臭処理装置１を用いた脱臭処理システム全体の概略構成を示す。この脱臭処理システムは、塗装乾燥炉において発生する、有機物を含む被処理ガスの脱臭処理を行うものである。上記被処理ガスの有機物（臭気成分）は、トルエン、キシレン、ベンゼン、メチルエチルケトン、酢酸エチル等である。本実施形態では、脱臭処理装置１は、被処理ガス中の有機物（臭気成分）を触媒（例えばPt、Pd）によって燃焼（酸化）させる触媒燃焼式脱臭処理装置である。 FIG. 1 shows a schematic configuration of an entire deodorization processing system using a deodorization processing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. This deodorization processing system performs the deodorization processing of the to-be-processed gas containing the organic substance which generate | occur | produces in a coating drying furnace. The organic matter (odor component) of the gas to be treated is toluene, xylene, benzene, methyl ethyl ketone, ethyl acetate or the like. In the present embodiment, the deodorization treatment apparatus 1 is a catalytic combustion type deodorization treatment apparatus that burns (oxidizes) an organic substance (odor component) in a gas to be treated with a catalyst (for example, Pt, Pd).

上記塗装乾燥炉からの被処理ガスは、脱臭処理装置１の入口部２に接続された導入管５を介して該入口部２から該脱臭処理装置１内に入る。そして、脱臭処理装置１内にて後述の如く脱臭処理がなされ、この脱臭処理後の被処理ガスが、出口部３（図２参照）から、該出口部３に接続された導出管６へと排出される（図２における被処理ガスの流れを示す矢印参照）。 The gas to be treated from the coating and drying furnace enters the deodorizing treatment apparatus 1 from the inlet portion 2 through the inlet pipe 5 connected to the inlet portion 2 of the deodorizing treatment apparatus 1. And the deodorizing process is made in the deodorizing apparatus 1 as described later, and the gas to be treated after the deodorizing process is passed from the outlet part 3 (see FIG. 2) to the outlet pipe 6 connected to the outlet part 3. The gas is discharged (see the arrow indicating the flow of the gas to be processed in FIG. 2).

上記導出管６には、上流側熱交換器７と下流側熱交換器８とが設けられている。上流側熱交換器７は、脱臭処理後の被処理ガス（反応熱により５００℃程度になっている）により、導入管５を流れる処理前の被処理ガスを余熱するためのものである。また、下流側熱交換器８は、上流側熱交換器７を通過した後の被処理ガス（３００℃程度になっている）により、上記塗装乾燥炉に熱風を供給するためのエアー供給管９を流れるエアーを加熱するためのものである。下流側熱交換器８を通過した後の被処理ガスは、大気に排出される。 The outlet pipe 6 is provided with an upstream heat exchanger 7 and a downstream heat exchanger 8. The upstream heat exchanger 7 preheats the gas to be processed before the treatment flowing through the introduction pipe 5 with the gas to be treated after the deodorization treatment (having a temperature of about 500 ° C. due to reaction heat). Further, the downstream heat exchanger 8 has an air supply pipe 9 for supplying hot air to the coating drying furnace by the gas to be treated (having a temperature of about 300 ° C.) after passing through the upstream heat exchanger 7. It is for heating the air which flows. The gas to be processed after passing through the downstream heat exchanger 8 is discharged to the atmosphere.

上記塗装乾燥炉からの被処理ガスは、上流側熱交換器７において、脱臭処理後の被処理ガスによって余熱された後、上記入口部２を通って脱臭処理装置１内の入口側室１１に入る。脱臭処理装置１の入口側室１１の側壁部には、図２に示すように、バーナー２１が設けられており、このバーナー２１によって、上記触媒を活性化させるべく、被処理ガスが所定温度（３００℃〜４００℃）に加熱される。 The gas to be treated from the coating drying furnace is preheated by the gas to be treated after the deodorizing treatment in the upstream heat exchanger 7 and then enters the inlet side chamber 11 in the deodorizing treatment apparatus 1 through the inlet portion 2. . As shown in FIG. 2, a burner 21 is provided on the side wall portion of the inlet side chamber 11 of the deodorizing treatment apparatus 1, and the gas to be treated is heated to a predetermined temperature (300 to activate the catalyst by the burner 21. To 400 ° C.).

また、脱臭処理装置１には、バーナー２１によって加熱された被処理ガスが通過するフィルター状の上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４が設けられている。これら上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４は、脱臭処理装置１内を入口側室１１と出口側室１２とに区画する区画壁１３に固定された複数の取付部材２２のそれぞれに、ガス流動方向に並ぶように取り付けられている。そして、上記加熱された被処理ガスが、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４を順に通り抜けることで入口側室１１から出口側室１２に達し、この出口側室１２の側壁部に設けられた出口部３から導出管６へと排出される。 The deodorizing apparatus 1 is provided with filter-like upstream and downstream gas passage members 23 and 24 through which the gas to be treated heated by the burner 21 passes. These upstream and downstream gas passage members 23, 24 are arranged in the direction of gas flow in each of a plurality of attachment members 22 fixed to a partition wall 13 that partitions the inside of the deodorizing apparatus 1 into an inlet side chamber 11 and an outlet side chamber 12. It is attached to line up. The heated gas to be processed passes through the upstream side and downstream side gas passage members 23 and 24 in order to reach the outlet side chamber 12 from the inlet side chamber 11, and the outlet portion provided on the side wall portion of the outlet side chamber 12. 3 is discharged to the outlet pipe 6.

上記下流側ガス通過部材２４に、上記触媒が担持されている。この触媒によって、被処理ガス中の臭気成分が酸化燃焼して、脱臭処理がなされる。この触媒は、上記バーナー２１によって加熱された被処理ガスによって、該触媒が活性化する温度になる。また、上記上流側ガス通過部材２３には、上記触媒の性能を低下させる触媒毒（特に有機シリコーン化合物や有機リン化合物）を補足する前処理剤が担持されている。被処理ガス中に有機シリコーン化合物や有機リン化合物が微量でも含有されていると、上記触媒によって酸化されて不揮発性のＳｉＯ_２やＰ_２Ｏ_５を生成し、これらが触媒の表面を被覆することにより触媒の性能を低下させるので、下流側ガス通過部材２４の上流側に、上記触媒毒を取り除くための上流側ガス通過部材２３を設ける。本実施形態では、バーナー２１、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４並びに後述のコントローラ５１の脱臭処理実行部５１ａが、被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理手段を構成する。 The catalyst is supported on the downstream gas passage member 24. By this catalyst, the odor component in the gas to be treated is oxidized and burned to perform deodorization treatment. This catalyst has a temperature at which the catalyst is activated by the gas to be treated heated by the burner 21. The upstream gas passage member 23 carries a pretreatment agent that supplements a catalyst poison (especially an organic silicone compound or an organic phosphorus compound) that lowers the performance of the catalyst. If even a small amount of organosilicone compound or organophosphorus compound is contained in the gas to be treated, it is oxidized by the above catalyst to generate nonvolatile SiO ₂ or P ₂ O ₅ , which covers the surface of the catalyst. Therefore, the upstream gas passage member 23 for removing the catalyst poison is provided on the upstream side of the downstream gas passage member 24. In the present embodiment, the burner 21, the upstream and downstream gas passage members 23 and 24, and the deodorization processing execution unit 51a of the controller 51 described later constitute deodorization processing means for performing the deodorization processing of the gas to be processed.

脱臭処理装置１には、図３に示すように、上記被処理ガスの脱臭処理時にバーナー２１の出力を制御したり、後述の空焼き処理を実行したりするコントローラ５１が設けられている。このコントローラ５１は、周知のマイクロコンピュータをベースとするものであって、プログラムを実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）と、例えばＲＡＭやＲＯＭにより構成されてプログラム及びデータを格納するメモリと、電気信号の入出力をする入出力（Ｉ／Ｏ）部と、を備えている。 As shown in FIG. 3, the deodorizing apparatus 1 is provided with a controller 51 that controls the output of the burner 21 during the deodorizing process of the gas to be processed and performs an after-mentioned baking process. The controller 51 is based on a well-known microcomputer, and includes a central processing unit (CPU) that executes a program, a memory that includes, for example, a RAM or ROM, and stores a program and data, and an electrical signal. And an input / output (I / O) unit for inputting / outputting.

コントローラ５１内には、上記被処理ガスの脱臭処理を実行する脱臭処理実行部５１ａと、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に対して空焼き処理を実行すべきか否かを判定する空焼き判定部５１ｂと、この空焼き判定部５１ｂにより空焼き処理を実行すべきと判定されたときに空焼き条件を設定する空焼き条件設定部５１ｃと、空焼き処理を実行する空焼き処理実行部５１ｄと、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４の点検及び保守が必要である旨の警報を出力すべきか否かを判定する点検・保守警報判定部５１ｅと、点検・保守警報判定部５１ｅにより上記警報を出力すべきと判定されたときに、警報装置５２に、上記警報を出力させる警報出力部５１ｆとが設けられている。 In the controller 51, a deodorizing process execution unit 51a that performs the deodorizing process of the gas to be processed, and an empty for determining whether or not the baking process should be performed on the upstream side and downstream side gas passage members 23 and 24 are performed. Burn determination unit 51b, an empty firing condition setting unit 51c for setting an empty firing condition when it is determined by this empty firing determination unit 51b that an empty firing process should be executed, and an empty firing process execution for executing an empty firing process 51d, an inspection / maintenance alarm determination unit 51e for determining whether or not an alarm indicating that inspection and maintenance of the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are necessary, and an inspection / maintenance alarm determination unit When it is determined by 51e that the alarm should be output, the alarm device 52 is provided with an alarm output unit 51f that outputs the alarm.

コントローラ５１には、温度センサ５５、入口側ＨＣ濃度センサ５６及び出口側ＨＣ濃度センサ５７からの各検出情報が入力される。上記温度センサ５５は、入口側室１１に配設されていて、上記バーナー２１によって加熱された後でかつ上流側ガス通過部材２３に入る手前の被処理ガスの温度を検出するものである。 The controller 51 receives detection information from the temperature sensor 55, the inlet side HC concentration sensor 56, and the outlet side HC concentration sensor 57. The temperature sensor 55 is disposed in the inlet side chamber 11 and detects the temperature of the gas to be processed after being heated by the burner 21 and before entering the upstream side gas passage member 23.

上記脱臭処理実行部５１ａは、上記被処理ガスの脱臭処理時において、温度センサ５５による検出温度が上記所定温度になるように上記バーナー２１の出力を制御（本実施形態では、ＰＩＤ制御）する。 The deodorizing process execution unit 51a controls the output of the burner 21 (PID control in this embodiment) so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the predetermined temperature during the deodorizing process of the gas to be processed.

上記空焼き処理は、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に対し、上記脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理を施すことで、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる処理のことである。すなわち、脱臭処理装置１においては、上記被処理ガス中の有機物のヤニ等の炭素分が燃焼カスとなり、これが上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に付着する。脱臭処理が進行すると、このような燃焼カスにより、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に目詰まり等が生じ、これにより、被処理ガスの通過風量が減少して、触媒を適切な温度に加熱することができなくなり、上記脱臭率が低下する。そこで、コントローラ５１の空焼き処理実行部５１ｄが、上記空焼き処理を実行する。本実施形態では、上記空焼き処理において、上記被処理ガスを上記所定温度よりも高温に加熱して上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に通すことにより、該上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に対し上記加熱処理を施す。 The air baking process is a process of recovering the deodorization rate of the deodorizing process by performing a heating process for heating the upstream and downstream gas passage members 23, 24 to a temperature higher than the temperature during the deodorizing process. That is. That is, in the deodorizing apparatus 1, carbon such as organic matter in the gas to be treated becomes combustion residue, which adheres to the upstream and downstream gas passage members 23 and 24. As the deodorization process proceeds, such combustion debris causes clogging and the like in the upstream and downstream gas passage members 23, 24, thereby reducing the amount of air passing through the gas to be treated and keeping the catalyst at an appropriate temperature. Can no longer be heated and the deodorization rate is reduced. Therefore, the empty baking process execution unit 51d of the controller 51 executes the empty baking process. In the present embodiment, in the empty baking process, the gas to be processed is heated to a temperature higher than the predetermined temperature and passed through the upstream and downstream gas passage members 23 and 24, whereby the upstream and downstream gas passages are passed. The heat treatment is performed on the members 23 and 24.

上記脱臭率ｄは、以下の式（１）
ｄ＝（１−出口側臭気濃度／入口側臭気濃度）×１００（％） …（１）
で表される。ここで、臭気濃度は、臭気のある気体を無臭の空気で希釈して、人の臭覚で臭いが感じられなくなる希釈倍数のことである。 The deodorization rate d is expressed by the following formula (1)
d = (1−outlet side odor concentration / inlet side odor concentration) × 100 (%) (1)
It is represented by Here, the odor concentration is a dilution factor in which an odorous gas is diluted with odorless air so that no odor can be felt by human odor.

入口側臭気濃度及び出口側臭気濃度は、入口側ＨＣ濃度及び出口側ＨＣ濃度とそれぞれ相関関係があるので、脱臭率ｄは、（１−出口側ＨＣ濃度／入口側ＨＣ濃度）の値と相関関係がある。この相関関係を予め関数ｆとして求めておけば、以下の式（２）
ｄ＝ｆ（１−出口側ＨＣ濃度／入口側ＨＣ濃度） …（２）
より、脱臭率ｄを求めることができる。すなわち、入口側ＨＣ濃度及び出口側ＨＣ濃度から脱臭率ｄを求めることができる。 Since the inlet-side odor concentration and the outlet-side odor concentration are correlated with the inlet-side HC concentration and the outlet-side HC concentration, respectively, the deodorization rate d is correlated with the value of (1-outlet-side HC concentration / inlet-side HC concentration). There is a relationship. If this correlation is obtained in advance as a function f, the following equation (2)
d = f (1−outlet side HC concentration / inlet side HC concentration) (2)
Thus, the deodorization rate d can be obtained. That is, the deodorization rate d can be obtained from the inlet HC concentration and the outlet HC concentration.

そこで、本実施形態では、脱臭率ｄを検出するために、入口側ＨＣ濃度センサ５６及び出口側ＨＣ濃度センサ５７により、入口側ＨＣ濃度及び出口側ＨＣ濃度をそれぞれ検出する。入口側ＨＣ濃度センサ５６は、入口側室１１に配設されていて、上流側ガス通過部材２３に入る手前の被処理ガスのＨＣ濃度を検出する。出口側ＨＣ濃度センサ５７は、出口側室１２に配設されていて、下流側ガス通過部材２４を通過した被処理ガスのＨＣ濃度を検出する。 Therefore, in this embodiment, in order to detect the deodorization rate d, the inlet-side HC concentration and the outlet-side HC concentration are detected by the inlet-side HC concentration sensor 56 and the outlet-side HC concentration sensor 57, respectively. The inlet-side HC concentration sensor 56 is disposed in the inlet-side chamber 11 and detects the HC concentration of the gas to be processed before entering the upstream gas passage member 23. The outlet side HC concentration sensor 57 is disposed in the outlet side chamber 12 and detects the HC concentration of the gas to be processed that has passed through the downstream side gas passage member 24.

尚、脱臭率ｄは、（出口側ガス圧力／入口側ガス圧力）の値、又は、（初期の出入口差圧／現時点の出入口差圧）の値とも相関関係があるので、これらの関係を予め関数ｇ又はｈとして求めておけば、以下の式（３）又は式（４）
ｄ＝ｇ（出口側ガス圧力／入口側ガス圧力） …（３）
ｄ＝ｈ（初期の出入口差圧／現時点の出入口差圧） …（４）
より、脱臭率ｄを求めることができる。 The deodorization rate d has a correlation with the value of (exit side gas pressure / inlet side gas pressure) or the value of (initial inlet / outlet differential pressure / current inlet / outlet differential pressure). If it is obtained as a function g or h, the following formula (3) or formula (4)
d = g (outlet side gas pressure / inlet side gas pressure) (3)
d = h (initial inlet / outlet differential pressure / current inlet / outlet differential pressure) (4)
Thus, the deodorization rate d can be obtained.

この場合、入口側室１１に、入口側ガス圧力（入口側の被処理ガスの圧力）を検出する入口側ガス圧力センサを配設し、出口側室１２に、出口側ガス圧力（出口側の被処理ガスの圧力）を検出する出口側ガス圧力センサを配設して、これら入口側及び出口側ガス圧力センサにより、入口側ガス圧力及び出口側ガス圧力をそれぞれ検出するか、又は、該両圧力の差（出入口差圧）を検出することで、脱臭率ｄを求めることができる。 In this case, an inlet side gas pressure sensor for detecting the inlet side gas pressure (pressure of the gas to be processed on the inlet side) is disposed in the inlet side chamber 11, and the outlet side gas pressure (the outlet side gas to be processed) is disposed in the outlet side chamber 12. An outlet side gas pressure sensor for detecting the gas pressure) is provided, and the inlet side gas pressure sensor and the outlet side gas pressure sensor detect the inlet side gas pressure and the outlet side gas pressure, respectively. By detecting the difference (inlet / outlet differential pressure), the deodorization rate d can be obtained.

上記空焼き判定部５１ｂは、式（２）より上記脱臭率ｄを算出して、該算出した脱臭率ｄが所定値ｄ０まで低下したときに、空焼き処理を実行すべきと判定する。上記所定値ｄ０は、脱臭率ｄが、該所定値ｄ０よりも低下すると、環境に悪影響を及ぼすような値であって、予め上記メモリに記憶されている。 The empty baking determination unit 51b calculates the deodorization rate d from the equation (2), and determines that the empty baking process should be executed when the calculated deodorization rate d is reduced to a predetermined value d0. The predetermined value d0 is a value that adversely affects the environment when the deodorization rate d is lower than the predetermined value d0, and is stored in the memory in advance.

上記空焼き条件設定部５１ｃは、上記記空焼き判定部５１ｂにより空焼き処理を実行すべきと判定されたときに、空焼き条件を設定する。すなわち、被処理ガスの加熱温度（つまり上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に対する加熱処理温度）と、空焼き処理の時間（上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に対する加熱処理時間）とを設定する。 The empty baking condition setting unit 51c sets the empty baking condition when the empty baking determination unit 51b determines that the empty baking process should be executed. That is, the heating temperature of the gas to be processed (that is, the heat treatment temperature for the upstream and downstream gas passage members 23 and 24) and the time for the baking process (the heat treatment time for the upstream and downstream gas passage members 23 and 24) And set.

上記被処理ガスの加熱温度は、上記所定温度（３００℃〜４００℃）よりも高い温度でかつ上記触媒の熱劣化発生開始温度（通常、５５０℃程度）よりも低い温度である。また、この加熱温度は、経時的に後の空焼き処理（加熱処理）において、先の空焼き処理（加熱処理）に比べて高く設定される。上記加熱処理時間は、上記加熱温度とは異なり、経時的な後先には関係なく一定である。 The heating temperature of the gas to be treated is a temperature higher than the predetermined temperature (300 ° C. to 400 ° C.) and lower than the thermal degradation start temperature (usually about 550 ° C.) of the catalyst. Further, this heating temperature is set higher in the later baking process (heating process) over time than in the previous baking process (heating process). The heat treatment time is different from the heating temperature and is constant regardless of the point of time.

空焼き条件設定部５１ｃは、本実施形態では、前回の空焼き処理（加熱処理）による上記脱臭率の上昇量（回復量）に基づいて、これから実行しようとしている今回の加熱処理における加熱温度を設定する。前回の加熱処理開始直前における上記脱臭率は、基本的には上記所定値ｄ０であるので、上記上昇量（回復量）が大きいほど、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率が大きくなる。したがって、上記上昇量は、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率で代用することができる。今回の空焼き処理における加熱温度は、図４に示すように、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率が小さくなるほど、高くなる。１回目の空焼き処理時の加熱温度は、ｗ０（上記所定温度よりも僅かに高い温度）とする。図４の加熱温度は、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率がｄ０ないしその近傍から１００％までの間で設定されている。そして、経時的に後の空焼き処理ほど、上記回復量は小さくなる（図５参照）。したがって、上記空焼き条件設定部５１ｃは、経時的に後の加熱処理（空焼き処理）において、先の加熱処理に比べて加熱温度を高く設定することになる。 In the present embodiment, the air baking condition setting unit 51c determines the heating temperature in the current heat treatment to be executed from now on, based on the increase amount (recovery amount) of the deodorization rate due to the previous air baking processing (heat processing). Set. Since the deodorization rate immediately before the start of the previous heat treatment is basically the predetermined value d0, the larger the increase amount (recovery amount), the more the deodorization rate immediately after the start of the deodorization treatment after the previous baking process. growing. Therefore, the amount of increase can be substituted by the deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the previous baking process. As shown in FIG. 4, the heating temperature in the current baking process increases as the deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the previous baking process decreases. The heating temperature during the first baking process is set to w0 (temperature slightly higher than the predetermined temperature). The heating temperature in FIG. 4 is set so that the deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the previous baking process is between d0 and the vicinity thereof to 100%. And the amount of recovery | restoration becomes so small that it is the later baking process with time (refer FIG. 5). Accordingly, the empty baking condition setting unit 51c sets the heating temperature higher in the later heating process (empty baking process) over time than in the previous heating process.

経時的に後の空焼き処理ほど、上記回復量が小さくなるのは、空焼き処理しても燃焼ないし酸化分解されない燃焼カスが存在し、このような燃焼カスが上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に蓄積していくとともに、触媒が触媒毒によって覆われるからである。そこで、上記燃焼カスを焼失し易くして経時的に後の加熱処理による脱臭率の回復量の低下を出来る限り抑制するべく、各回の空焼き処理における加熱温度を、上記のように設定する。 The amount of recovery decreases with time of the subsequent baking process, because there is combustion residue that is not combusted or oxidatively decomposed even when the baking process is performed. This is because the catalyst is covered with the catalyst poison as it accumulates at 23 and 24. Therefore, the heating temperature in each empty baking process is set as described above in order to easily burn down the combustion residue and to suppress a decrease in the recovery amount of the deodorization rate due to the subsequent heat treatment over time.

各回の空焼き処理においては、加熱処理時間を長くしても、加熱処理開始から或る時間が経過した後は、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に付着した燃焼カスの燃焼ないし酸化分解は殆どしなくなるので、加熱処理時間は、このことを考慮して設定すればよい。 In each baking process, even if the heat treatment time is increased, after a certain time has elapsed since the start of the heat treatment, the combustion residue adhering to the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 is burned or oxidized. Since the decomposition hardly occurs, the heat treatment time may be set in consideration of this.

尚、上記前回の加熱処理による上記脱臭率の上昇量（前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率）に代えて、又は、該上昇量に加えて、当該前回の加熱処理後における上記脱臭率の低下状態に基づいて、今回の加熱処理における加熱処理時間を設定するようにしてもよい。上記低下状態は、上記脱臭率の時間に対する低下率、又は、上記脱臭率が、予め決められた基準量だけ低下するまでの時間等である。すなわち、経時的に後の空焼き処理ほど、脱臭率の低下度合いが大きくなるので、上記低下状態に応じて、加熱温度を適切に設定することができる。 In addition, instead of or in addition to the amount of increase, the amount of increase in the deodorization rate due to the previous heat treatment (deodorization rate immediately after the start of the deodorization treatment after the previous empty baking treatment) You may make it set the heat processing time in this heat processing based on the fall state of the said deodorizing rate. The reduced state is a decrease rate with respect to time of the deodorization rate or a time until the deodorization rate is decreased by a predetermined reference amount. That is, since the degree of decrease in the deodorization rate increases with time of the subsequent baking process, the heating temperature can be appropriately set according to the above-described decrease state.

上記空焼き処理実行部５１ｄは、上記空焼き条件設定部５１ｃにより設定された空焼き条件に従って、空焼き処理を実行する。すなわち、空焼き処理実行部５１ｄは、上記脱臭率ｄが上記所定値ｄ０まで低下したときに、空焼き処理を上記空焼き条件に従って実行することになる。このとき、空焼き処理実行部５１ｄは、温度センサ５５による検出温度が、上記空焼き条件設定部５１ｃにより設定された加熱温度になるようにバーナー２１の出力を制御（本実施形態では、ＰＩＤ制御）する。 The empty baking process execution unit 51d executes the empty baking process according to the empty baking conditions set by the empty baking condition setting unit 51c. That is, when the deodorization rate d is reduced to the predetermined value d0, the empty baking process execution unit 51d executes the empty baking process according to the empty baking condition. At this time, the baking process execution unit 51d controls the output of the burner 21 so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the heating temperature set by the baking condition setting unit 51c (in this embodiment, PID control). )

空焼き処理実行部５１ｄは、上記空焼き処理を、上記設定された加熱処理時間だけ実行した後に終了する。これにより、脱臭処理実行部５１ａは、再び脱臭処理を実行する、つまり、温度センサ５５による検出温度が上記所定温度になるようにバーナー２１の出力を制御する。 The air baking process execution unit 51d ends the air baking process after executing the air baking process for the set heat treatment time. Thereby, the deodorizing process execution part 51a performs a deodorizing process again, ie, controls the output of the burner 21 so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the predetermined temperature.

本実施形態では、コントローラ５１の空焼き判定部５１ｂ、空焼き条件設定部５１ｃ及び空焼き処理実行部５１ｄ並びにバーナー２１が、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる脱臭率回復手段を構成する。 In the present embodiment, the empty baking determination unit 51b, the empty baking condition setting unit 51c, the empty baking process execution unit 51d, and the burner 21 of the controller 51 constitute deodorization rate recovery means for recovering the deodorization rate of the deodorization process.

図５は、脱臭処理の進行に伴う脱臭率ｄの変化の一例を示す。このように、脱臭率ｄが所定値ｄ０に低下する毎に、空焼き処理が実行されて脱臭率ｄが回復する（上昇する）。但し、経時的に後の空焼き処理ほど、上記回復量（つまり、空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率）は小さくなる。そして、本実施形態では、経時的に後の加熱処理（空焼き処理）において、先の加熱処理に比べて、被処理ガスの加熱温度（上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に対する加熱処理温度）を高く設定する。これにより、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に蓄積した燃焼カスを焼失し易くすることができ、経時的に後の加熱処理による脱臭率の回復量の低下を出来る限り抑制することができる。 FIG. 5 shows an example of a change in the deodorization rate d as the deodorization process proceeds. Thus, every time the deodorization rate d decreases to the predetermined value d0, the baking process is executed, and the deodorization rate d recovers (increases). However, the recovery amount (that is, the deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the baking process) becomes smaller as the baking process is performed later. In the present embodiment, the heating temperature of the gas to be processed (the heating process for the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 in the later heating process (empty baking process) over time is compared with the previous heating process. Set temperature higher. As a result, the combustion residue accumulated in the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 can be easily burned out, and the decrease in the recovery amount of the deodorization rate due to the subsequent heat treatment over time can be suppressed as much as possible. it can.

また、図５から分かるように、経時的に後であるほど、上記回復量が小さくて脱臭率ｄが早く所定値ｄ０に達するために、空焼き処理が実行される周期Ｔ１、Ｔ２、…は、基本的に短くなる。すなわち、Ｔ１＞Ｔ２＞…となる。 Further, as can be seen from FIG. 5, since the recovery amount is smaller and the deodorization rate d quickly reaches the predetermined value d0 as the time passes, the periods T1, T2,. Basically shorter. That is, T1> T2>.

上記点検・保守警報判定部５１ｅは、空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率ｄが、予め設定されかつ上記メモリに記憶された設定値ｄ１以下であるとき（図５の例では、３回目の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率が設定値ｄ１以下である）、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４の点検及び保守が必要である旨の警報を出力すべきと判定する。上記設定値ｄ１は、上記所定値ｄ０よりも大きい値であって、所定値ｄ０に近い値である。 When the deodorization rate d immediately after the start of the deodorizing process after the empty baking process is equal to or less than the preset value d1 stored in the memory, the inspection / maintenance alarm determination unit 51e (3 in the example of FIG. 5). The deodorization rate immediately after the start of the deodorizing process after the first baking process is equal to or less than the set value d1), and an alarm indicating that the inspection and maintenance of the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are necessary. judge. The set value d1 is larger than the predetermined value d0 and close to the predetermined value d0.

上記警報出力部５１ｆは、点検・保守警報判定部５１ｅにより上記警報を出力すべきと判定されたときに、警報装置５２に、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４の点検及び保守が必要である旨の警報を出力させる。警報装置５２により上記警報が出力されたときには、作業者は、脱臭処理装置１の運転を停止して上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４の点検及び保守を早期に実施する必要がある。すなわち、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４への燃焼カスや触媒毒の付着量が多くなりすぎたために、空焼き処理を実行しても、脱臭率ｄが殆ど回復せず、このまま放置しておけば、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度が高くなってしまうので、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４を薬液等によって洗浄して燃焼カスや触媒毒等を除去し、これによって上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４を再生する。或いは、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４を新品のものに交換してもよい。こうして上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４を再生又は新品のものに交換すれば、図５に二点鎖線で示すように、脱臭処理の開始直後と同様の高い脱臭率となり、こうして、脱臭処理の開始から上記再生又は交換までの動作と同様の動作を繰り返すことになる。 The alarm output unit 51f requires the alarm device 52 to inspect and maintain the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 when the inspection / maintenance alarm determination unit 51e determines that the alarm should be output. An alarm to the effect is output. When the alarm is output by the alarm device 52, the operator needs to stop the operation of the deodorizing apparatus 1 and inspect and maintain the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 at an early stage. That is, since the amount of combustion residue and catalyst poison attached to the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 has increased too much, the deodorization rate d is hardly recovered even if the baking process is performed, and the state is left as it is. If this is done, the odor concentration of the gas to be treated discharged to the atmosphere will increase, so the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are washed with chemicals to remove combustion debris, catalyst poisons, etc. As a result, the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 are regenerated. Alternatively, the upstream side and downstream side gas passage members 23 and 24 may be replaced with new ones. If the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are regenerated or replaced with new ones as described above, as shown by the two-dot chain line in FIG. 5, the same high deodorization rate as that immediately after the start of the deodorization treatment is obtained. The same operation as the operation from the start of the process to the reproduction or exchange is repeated.

図６は、脱臭処理の進行に伴う脱臭率ｄの変化の別の例を示す。図６では、縦軸の脱臭率ｄは、図５とは逆に、上側に行くほど小さくなる。図６では、脱臭率ｄの低下の要因を併せて示しており、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４を再生する時刻ｔａまでは、経時劣化による影響（触媒が触媒毒によって覆われる等）の分が徐々に増えていく。また、空焼き処理後における脱臭処理開始直後から次回の空焼き処理開始直前までは、目詰まりによる影響及びヤニ付着による影響の分が徐々に増えていき、これらの影響は空焼き処理によってなくなる。尚、経時劣化による影響、目詰まりによる影響及びヤニ付着による影響の分は明確には区別できない。 FIG. 6 shows another example of a change in the deodorization rate d as the deodorization process proceeds. In FIG. 6, the deodorization rate d on the vertical axis decreases as it goes upward, contrary to FIG. 5. FIG. 6 also shows the cause of the decrease in the deodorization rate d. Until the time ta at which the upstream and downstream gas passage members 23 and 24 are regenerated, the influence of deterioration over time (the catalyst is covered by the catalyst poison, etc.) ) Will gradually increase. Further, immediately after the start of the deodorizing process after the baking process, immediately before the start of the next baking process, the influence of clogging and the influence of spear adhesion gradually increase, and these effects are eliminated by the baking process. It should be noted that the effects of deterioration over time, clogging, and influence due to spear adhesion cannot be clearly distinguished.

図５の例と同様に、空焼き処理が実行される周期Ｔ００１、Ｔ００２、…は、経時的に後であるほど、基本的に短くなる。上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４の再生後の上記周期Ｔ１０１、Ｔ１０２、…も、経時的に後であるほど、基本的に短くなる。また、完全に再生するのは困難であるので、再生後の上記周期Ｔ１０１、Ｔ１０２、…は、対応する周期Ｔ００１、Ｔ００２、…よりも短くなる（Ｔ１０１＜Ｔ００１、Ｔ１０２＜Ｔ００２）。 As in the example of FIG. 5, the periods T001, T002,. The above-described periods T101, T102,... After the regeneration of the upstream side and downstream side gas passage members 23, 24 are basically shorter as the time passes. Further, since it is difficult to reproduce completely, the periods T101, T102,... After reproduction are shorter than the corresponding periods T001, T002,... (T101 <T001, T102 <T002).

ここで、上記コントローラ５１による処理動作について、図７のフローチャートに基づいて説明する。 Here, the processing operation by the controller 51 will be described based on the flowchart of FIG.

最初のステップＳ１で、作業者の操作により脱臭処理装置１の運転が開始されたか否かを判定する。このステップＳ１の判定がＮＯであるときには、ステップＳ１の動作を繰り返し、ステップＳ１の判定がＹＥＳになると、ステップＳ２に進む。 In the first step S1, it is determined whether or not the operation of the deodorizing apparatus 1 has been started by the operator's operation. When the determination at step S1 is NO, the operation at step S1 is repeated. When the determination at step S1 is YES, the process proceeds to step S2.

上記ステップＳ２では、脱臭処理実行部５１ａが、脱臭処理を実行する。すなわち、脱臭処理実行部５１ａが、温度センサ５５による検出温度が上記所定温度になるようにバーナー２１の出力を制御する。 In step S2, the deodorizing process execution unit 51a executes the deodorizing process. That is, the deodorizing process execution unit 51a controls the output of the burner 21 so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the predetermined temperature.

次のステップＳ３では、空焼き判定部５１ｂが、入口側及び出口側ＨＣ濃度センサ５６，５７より入口側及び出口側ＨＣ濃度をそれぞれ入力して、式（２）より脱臭率ｄを算出する。 In the next step S3, the empty-burn determination unit 51b inputs the inlet side and outlet side HC concentrations from the inlet side and outlet side HC concentration sensors 56 and 57, respectively, and calculates the deodorization rate d from equation (2).

次のステップＳ４では、空焼き判定部５１ｂが、上記メモリから所定値ｄ０を読み出し、次のステップＳ５で、空焼き判定部５１ｂが、ｄ≦ｄ０であるか否か（つまり、空焼き処理を実行すべきか否か）を判定する。このステップＳ５の判定がＹＥＳであるときには、ステップＳ６に進む一方、ステップＳ５の判定がＮＯであるときには、ステップＳ１５に進む。 In the next step S4, the empty-burn determination unit 51b reads the predetermined value d0 from the memory, and in the next step S5, whether or not the empty-burn determination unit 51b satisfies d ≦ d0 (that is, the empty-burn process is performed). Whether or not to execute). When the determination at step S5 is YES, the process proceeds to step S6, while when the determination at step S5 is NO, the process proceeds to step S15.

上記ステップＳ６では、空焼き条件設定部５１ｃが、空焼き条件（上記加熱温度及び上記加熱処理時間）を設定する。このとき、後述のステップＳ１１で記憶した、前回の空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率ｄａに基づいて、上記加熱温度を設定する。 In step S6, the baking condition setting unit 51c sets the baking conditions (the heating temperature and the heat treatment time). At this time, the heating temperature is set based on the deodorization rate da immediately after the start of the deodorizing process after the previous baking process, which is stored in step S11 described later.

次のステップＳ７では、空焼き処理実行部５１ｄが、上記ステップＳ６で設定された空焼き条件に従って空焼き処理を実行し、次のステップＳ８では、空焼き処理実行部５１ｄが、上記ステップＳ６で設定された加熱処理時間の経過後に空焼き処理を終了する。 In the next step S7, the empty baking process execution unit 51d executes the empty baking process in accordance with the empty baking conditions set in step S6. In the next step S8, the empty baking process execution unit 51d performs the operation in step S6. After the set heat treatment time has elapsed, the baking process is terminated.

次のステップＳ９では、脱臭処理実行部５１ａが、脱臭処理を実行する、つまり、温度センサ５５による検出温度が上記所定温度になるようにバーナー２１の出力を制御する。 In the next step S9, the deodorizing process execution unit 51a executes the deodorizing process, that is, controls the output of the burner 21 so that the temperature detected by the temperature sensor 55 becomes the predetermined temperature.

次のステップＳ１０では、空焼き処理後における脱臭処理開始直後の脱臭率ｄａを算出し、次のステップＳ１１で、ステップＳ１０で算出した脱臭率ｄａを上記メモリに更新記憶する。 In the next step S10, the deodorization rate da immediately after the start of the deodorization process after the empty baking process is calculated, and in the next step S11, the deodorization rate da calculated in step S10 is updated and stored in the memory.

次のステップＳ１２では、点検・保守警報判定部５１ｅが、上記メモリから設定値ｄ１を読み出し、次のステップＳ１３で、点検・保守警報判定部５１ｅが、ｄａ≦ｄ１であるか否かを判定する。このステップＳ１３の判定がＹＥＳであるときには、ステップＳ１４に進む一方、ステップＳ１３の判定がＮＯであるときには、ステップＳ１５に進む。 In the next step S12, the inspection / maintenance alarm determination unit 51e reads the set value d1 from the memory, and in the next step S13, the inspection / maintenance alarm determination unit 51e determines whether da ≦ d1. . When the determination in step S13 is YES, the process proceeds to step S14. When the determination in step S13 is NO, the process proceeds to step S15.

上記ステップＳ１４では、警報出力部５１ｆが、警報装置５２に、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４の点検及び保守が必要である旨の警報を出力させ、しかる後にステップＳ１５に進む。 In step S14, the alarm output unit 51f causes the alarm device 52 to output an alarm indicating that inspection and maintenance of the upstream and downstream gas passage members 23, 24 are necessary, and then proceeds to step S15.

上記ステップＳ１５では、作業者の操作により脱臭処理装置１の運転を停止するか否かを判定する。このステップＳ１５の判定がＮＯであるときには、上記ステップＳ２に戻る一方、ステップＳ１５の判定がＹＥＳであるときには、本処理動作を終了する。 In step S15, it is determined whether or not to stop the operation of the deodorizing apparatus 1 by the operator's operation. When the determination in step S15 is NO, the process returns to step S2. On the other hand, when the determination in step S15 is YES, the processing operation is terminated.

したがって、本実施形態では、経時的に後の空焼き処理（加熱処理）において、先の空焼き処理（加熱処理）に比べて加熱温度を高く設定するようにしたので、経時的に後の加熱処理による脱臭率の回復量の低下を出来る限り抑制することができる。 Therefore, in the present embodiment, the heating temperature is set higher in the later baking process (heating process) over time than in the previous baking process (heating process). A reduction in the recovery amount of the deodorization rate due to the treatment can be suppressed as much as possible.

また、脱臭処理の脱臭率ｄが所定値ｄ０まで低下したときに、上流側及び下流側ガス通過部材２３，２４に対し空焼き処理（加熱処理）を施すようにしたので、脱臭率が所定値ｄ０未満に低下することを防止することができ、この結果、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度を常に低レベルに維持することができる。 In addition, when the deodorization rate d of the deodorization process is reduced to the predetermined value d0, the upstream side and the downstream side gas passage members 23 and 24 are subjected to the empty baking process (heating process). As a result, it is possible to keep the odor concentration of the gas to be processed discharged to the atmosphere at a low level.

尚、上記実施形態では、脱臭処理装置１を触媒燃焼式脱臭処理装置としたが、本発明は、例えば図８に示すような蓄熱式脱臭処理装置７１にも適用することができる。この蓄熱式脱臭処理装置７１は、第１蓄熱材７６が配設された第１蓄熱槽７２と、第２蓄熱材７７が配設された第２蓄熱槽７３とを有している。第１及び第２蓄熱槽７２，７３の長手方向の一端部同士は、上記実施形態のコントローラ５１と同様のコントローラにより出力が制御されるバーナー８１が配設された連結通路７４で接続され、第１及び第２蓄熱槽７２，７３の他端部の各々には、２つの切替弁８２が設けられている。上記コントローラは、これら切替弁８２の開閉を制御して、被処理ガスの流動状態を、予め設定された設定時間間隔（例えば９０ｓ）で、第１状態と第２状態とに交互に切り替えるようになっている。上記第１及び第２蓄熱材７６，７７はハニカム状に構成され、被処理ガスがそこを通過することで、被処理ガスと第１又は第２蓄熱材７６，７７との間で熱の授受が行われる。第１及び第２蓄熱材７６，７７は、フィルター状のガス通過部材と見做すことが可能である。 In the above embodiment, the deodorizing apparatus 1 is a catalytic combustion type deodorizing apparatus, but the present invention can also be applied to a heat storage type deodorizing apparatus 71 as shown in FIG. The heat storage type deodorization processing device 71 includes a first heat storage tank 72 in which a first heat storage material 76 is disposed and a second heat storage tank 73 in which a second heat storage material 77 is disposed. One ends of the first and second heat storage tanks 72 and 73 in the longitudinal direction are connected to each other by a connecting passage 74 provided with a burner 81 whose output is controlled by a controller similar to the controller 51 of the above embodiment. Two switching valves 82 are provided in each of the other end portions of the first and second heat storage tanks 72 and 73. The controller controls the opening and closing of the switching valve 82 so as to alternately switch the flow state of the gas to be processed between the first state and the second state at a preset time interval (for example, 90 s). It has become. The first and second heat storage materials 76 and 77 are formed in a honeycomb shape. When the gas to be processed passes therethrough, heat is transferred between the gas to be processed and the first or second heat storage materials 76 and 77. Is done. The first and second heat storage materials 76 and 77 can be regarded as filter-like gas passage members.

上記第１状態では、第１蓄熱槽７２に流入した被処理ガスが、第１蓄熱材７６（前回の第２状態であったときに蓄熱されている）を通過することで余熱され、この被処理ガスがバーナー８１で所定温度（本例では、７００℃〜８００℃）に加熱される。これにより、被処理ガスの臭気成分が熱分解されて、脱臭処理がなされる。この加熱された被処理ガスが第２蓄熱材７７を通過することで第２蓄熱材７７に蓄熱し、この後、被処理ガスが第２蓄熱槽７３から流出する（上記第１状態での被処理ガスの流れを示す実線の矢印参照）。また、上記第２状態では、第２蓄熱槽７３に流入した被処理ガスが、前回の第１状態であるときに蓄熱された第２蓄熱材７７を通過することで余熱され、この被処理ガスがバーナー８１で上記所定温度に加熱されて脱臭され、この加熱された被処理ガスが第１蓄熱材７６を通過することで第１蓄熱材７６に蓄熱し、この後、被処理ガスが第１蓄熱槽７２から流出する（上記第２状態での被処理ガスの流れを示す破線の矢印参照）。本例では、第１及び第２蓄熱材７６，７７、バーナー８１、切替弁８２並びに上記コントローラが、被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理手段を構成する。 In the first state, the gas to be treated that has flowed into the first heat storage tank 72 is preheated by passing through the first heat storage material 76 (stored when it was in the second state of the previous time). The processing gas is heated to a predetermined temperature (in this example, 700 ° C. to 800 ° C.) by the burner 81. As a result, the odor component of the gas to be treated is thermally decomposed and deodorized. The heated gas to be processed passes through the second heat storage material 77 to store heat in the second heat storage material 77, and then the gas to be processed flows out of the second heat storage tank 73 (the gas to be processed in the first state). (See solid arrows for process gas flow). Moreover, in the said 2nd state, the to-be-processed gas which flowed into the 2nd heat storage tank 73 is preheated by passing the 2nd heat storage material 77 stored in the 1st last time, and this to-be-processed gas Is heated to the predetermined temperature by the burner 81 and deodorized, and the heated gas to be processed passes through the first heat storage material 76 to store heat in the first heat storage material 76. It flows out of the heat storage tank 72 (refer to the broken arrow indicating the flow of the gas to be treated in the second state). In this example, the 1st and 2nd thermal storage materials 76 and 77, the burner 81, the switching valve 82, and the said controller comprise the deodorizing process means which performs the deodorizing process of to-be-processed gas.

上記蓄熱式脱臭処理装置７１においても、燃焼カスにより第１及び第２蓄熱材７６，７７に目詰まり等が生じ、これにより、処理前の被処理ガスに十分な余熱を与えることができなくなって、脱臭処理の脱臭率が低下する。そして、上記実施形態と同様に、脱臭率が所定値まで低下したとき、第１及び第２蓄熱材７６，７７に対し、脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理（空焼き処理）を実行する。このとき、上記コントローラの制御により、被処理ガスの流動状態を上記第１状態にして、バーナー８１により、被処理ガスを上記所定温度よりも高温（例えば９００℃〜１０００℃）に加熱して上記第２蓄熱材７７に通すことにより、該第２蓄熱材７７に対し上記加熱処理を施し、次いで、被処理ガスの流動状態を上記第２状態にして、バーナー８１により、被処理ガスを上記所定温度よりも高温（例えば９００℃〜１０００℃）に加熱して上記第１蓄熱材７６に通すことにより、該第１蓄熱材７６に対し上記加熱処理を施す。第１及び第２蓄熱材７６，７７に対する空焼き処理（加熱処理）の条件は、上記実施形態と同様であり（加熱処理時間及び加熱温度の値自体は異なる）、経時的に後の空焼き処理（加熱処理）において、先の空焼き処理（加熱処理）に比べて被処理ガスの加熱温度（つまり第１及び第２蓄熱材７６，７７に対する加熱処理温度）を高く設定し、加熱処理時間は、経時的な後先に関係なく一定とする。本例では、バーナー８１、切替弁８２及び上記コントローラが、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる脱臭率回復手段を構成する。 Also in the heat storage deodorization processing device 71, the first and second heat storage materials 76 and 77 are clogged by the combustion residue, and as a result, sufficient residual heat cannot be given to the gas to be processed before the processing. The deodorizing rate of the deodorizing process is reduced. And similarly to the said embodiment, when the deodorization rate falls to a predetermined value, it heat-processes to the 1st and 2nd heat storage materials 76 and 77 higher than the temperature at the time of a deodorizing process (empty baking process). Execute. At this time, under the control of the controller, the flow state of the gas to be processed is set to the first state, and the gas to be processed is heated to a temperature higher than the predetermined temperature (for example, 900 ° C. to 1000 ° C.) by the burner 81. By passing the second heat storage material 77 through the second heat storage material 77, the heat treatment is performed on the second heat storage material 77. Then, the flow state of the gas to be processed is changed to the second state, and the gas to be processed is supplied to the predetermined gas by the burner 81. The first heat storage material 76 is heated by heating to a temperature higher than the temperature (for example, 900 ° C. to 1000 ° C.) and passing through the first heat storage material 76. The conditions of the baking process (heating process) for the first and second heat storage materials 76 and 77 are the same as in the above-described embodiment (the heating process time and the heating temperature values themselves are different). In the treatment (heat treatment), the heating temperature of the gas to be treated (that is, the heat treatment temperature for the first and second heat storage materials 76 and 77) is set higher than the previous baking (heat treatment), and the heat treatment time Is constant regardless of the future over time. In this example, the burner 81, the switching valve 82, and the controller constitute deodorization rate recovery means for recovering the deodorization rate of the deodorization process.

したがって、上記蓄熱式脱臭処理装置７１においても、上記実施形態の触媒燃焼式脱臭処理装置１と同様に、経時的に後の加熱処理による脱臭率の回復量の低下を出来る限り抑制することができるとともに、脱臭率が所定値未満に低下することを防止することができて、大気に排出される被処理ガスの臭気濃度が高くなるのを防止することができる。 Therefore, also in the heat storage deodorization processing device 71, as in the catalytic combustion type deodorization processing device 1 of the above embodiment, it is possible to suppress a decrease in the recovery amount of the deodorization rate due to subsequent heat treatment over time as much as possible. At the same time, the deodorization rate can be prevented from decreasing below a predetermined value, and the odor concentration of the gas to be treated discharged to the atmosphere can be prevented from increasing.

本発明は、有機物を含む被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理装置（触媒燃焼式脱臭処理装置や蓄熱式脱臭処理装置）に有用である。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is useful for a deodorization treatment device (a catalytic combustion type deodorization treatment device or a heat storage type deodorization treatment device) that performs a deodorization treatment of a gas to be treated containing organic matter.

１脱臭処理装置（触媒燃焼式脱臭処理装置）
２１バーナー（脱臭処理手段）（脱臭率回復手段）
２３上流側ガス通過部材（脱臭処理手段）
２４下流側ガス通過部材（脱臭処理手段）
５１コントローラ
５１ａ脱臭処理実行部（脱臭処理手段）
５１ｂ空焼き判定部（脱臭率回復手段）
５１ｃ空焼き条件設定部（脱臭率回復手段）
５１ｄ空焼き処理実行部（脱臭率回復手段）
７１蓄熱式脱臭処理装置
７６第１蓄熱材（脱臭処理手段）
７７第２蓄熱材（脱臭処理手段）
８１バーナー（脱臭処理手段）（脱臭率回復手段）
８２切替弁（脱臭処理手段）（脱臭率回復手段） 1 Deodorization treatment device (catalytic combustion deodorization treatment device)
21 Burner (deodorization treatment means) (deodorization rate recovery means)
23 Upstream gas passage member (deodorizing means)
24 Downstream gas passage member (deodorizing means)
51 controller 51a deodorization processing execution unit (deodorization processing means)
51b Empty baking judgment part (deodorization rate recovery means)
51c Baking condition setting part (deodorization rate recovery means)
51d Empty baking processing execution part (deodorization rate recovery means)
71 Thermal Storage Deodorization Treatment Device 76 First Thermal Storage Material (Deodorization Treatment Means)
77 Second heat storage material (deodorizing means)
81 Burner (deodorization treatment means) (deodorization rate recovery means)
82 Switching valve (deodorization treatment means) (deodorization rate recovery means)

Claims

有機物を含む被処理ガスが通過するフィルター状のガス通過部材を有し、該被処理ガスの脱臭処理を行う脱臭処理手段と、該ガス通過部材に対し、脱臭処理時の温度よりも高温に加熱する加熱処理を施すことで、上記脱臭処理の脱臭率を回復させる脱臭率回復手段とを備えた脱臭処理装置であって、
上記脱臭率回復手段は、上記脱臭率が所定値まで低下したときに、上記脱臭処理時の温度よりも高温に加熱した上記被処理ガスを上記ガス通過部材に通すことにより、該ガス通過部材に対し上記加熱処理を施すとともに、経時的に後の上記加熱処理において、先の上記加熱処理に比べて上記ガス通過部材に対する加熱処理温度を高く設定するように構成されていることを特徴とする脱臭処理装置。 It has a filter-like gas passage member through which the gas to be treated containing organic matter passes, and deodorizing means for deodorizing the gas to be treated, and the gas passage member is heated to a temperature higher than the temperature at the time of the deodorizing treatment. A deodorization treatment device comprising a deodorization rate recovery means for recovering the deodorization rate of the deodorization treatment by performing a heat treatment,
When the deodorization rate is reduced to a predetermined value, the deodorization rate recovery means passes the gas to be processed heated to a temperature higher than the temperature at the time of the deodorization treatment, to the gas passage member. The deodorization is characterized in that the heat treatment is performed on the gas passage member and the heat treatment temperature is set higher in the heat treatment after the heat treatment than in the previous heat treatment. Processing equipment.

請求項１記載の脱臭処理装置において、
上記脱臭率回復手段は、上記ガス通過部材に対する前回の加熱処理による上記脱臭率の上昇量、及び、当該前回の加熱処理後における上記脱臭率の低下状態の少なくとも一方に基づいて、今回の加熱処理における加熱処理温度を設定するように構成されていることを特徴とする脱臭処理装置。 In the deodorization processing apparatus of Claim 1,
The deodorization rate recovery means is based on at least one of the amount of increase in the deodorization rate due to the previous heat treatment on the gas passage member and the state of decrease in the deodorization rate after the previous heat treatment. It is comprised so that the heat processing temperature in may be set, The deodorizing processing apparatus characterized by the above-mentioned.

請求項２記載の脱臭処理装置において、
上記脱臭率の低下状態は、上記脱臭率の時間に対する低下率、又は、上記脱臭率が、予め決められた基準量だけ低下するまでの時間であることを特徴とする脱臭処理装置。 In the deodorization processing apparatus of Claim 2,
The reduced state of the deodorization rate is a reduction rate with respect to time of the deodorization rate or a time until the deodorization rate is reduced by a predetermined reference amount.