JP2014170961A - 狭帯域化レーザ装置及びそのスペクトル幅調整方法 - Google Patents
狭帯域化レーザ装置及びそのスペクトル幅調整方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014170961A JP2014170961A JP2014096186A JP2014096186A JP2014170961A JP 2014170961 A JP2014170961 A JP 2014170961A JP 2014096186 A JP2014096186 A JP 2014096186A JP 2014096186 A JP2014096186 A JP 2014096186A JP 2014170961 A JP2014170961 A JP 2014170961A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- width
- narrow
- spectral width
- limit value
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 title claims abstract description 61
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 26
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 24
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims abstract description 16
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 92
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 53
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 31
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 26
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 17
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 17
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 6
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 4
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000013041 optical simulation Methods 0.000 description 2
- 101100456571 Mus musculus Med12 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
【解決手段】先ず予め複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定しておく。そして、狭帯域化レーザ装置のメンテナンス時や出荷時など、狭帯域化レーザ装置を半導体露光の光源として使用する前に、狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出する。この際、スペクトル幅が予め設定した上限値と下限値との間の値になるように、狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整する。
【選択図】 図1
Description
(1)光学素子(狭帯域化素子)の個体差
・グレーティングの回折波面のばらつき
・プリズムの透過波面のばらつき
・狭帯域化モジュール内の各光学素子の位置および光軸のばらつき
(2)レーザの光軸調整機差
・チャンバ交換時のチャンバ放電位置と光軸のばらつき
・狭帯域化モジュールの位置および光軸のばらつき
・レーザ共振器の光軸のばらつき
(3)レーザチャンバの機差
・放電位置のばらつき
・放電位置および放電状態のばらつき
等の要素がある。
半導体露光の光源として狭帯域化レーザを使用する場合に、レーザ光のスペクトル幅を調整する狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法において、
複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定し、
半導体露光前に狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出し、
狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする。
前記スペクトル幅調整部は、前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内の光路上に配置され、光の波面のシリンドリカル形状の頂点を結ぶ直線を、前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直にして前記光の波面の曲率半径を調整する波面調整器を有しており、
前記波面調整器を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする。
前記スペクトル幅調整部は、
中心軸がレーザ共振器内の光路上に配置され、また機械軸が前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直に配置されたシリンドリカル凹レンズおよびシリンドリカル凸レンズと、
前記光路上に沿って前記シリンドリカル凹レンズと前記シリンドリカル凸レンズとの間隔を変化させるレンズ間隔可変機構と、を有しており、
前記レンズ間隔可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする。
前記スペクトル幅調整部は、
中心軸がレーザ共振器内の光路上に配置され、また機械軸が前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直に配置されたシリンドリカルミラーと、
前記シリンドリカルミラーの曲率を変化させるミラー曲率可変機構と、を有しており、
前記ミラー曲率可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする。
前記スペクトル幅調整部は、
波長選択素子として使用されるグレーティングと、
前記グレーティングの多数の溝を直線状に維持した状態で当該グレーティングの曲率を変化させるグレーティング曲率可変機構と、を有しており、
前記グレーティング曲率可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする。
前記スペクトル幅調整部は、
レーザ共振器内の光路上に配置され、また前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直方向にビーム拡大する二以上のプリズムと、
前記二以上のプリズムの回転角度を変化させてビーム拡大率を変化させるプリズム角度可変機構と、を有しており、
前記プリズム角度可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする。
前記狭帯域化レーザ装置は、シード光を生成して出力する発振段レーザと、前段のレーザから出力されたレーザ光を入力し増幅して出力する一以上の増幅段チャンバまたは増幅段レーザと、を有し、
前記スペクトル幅調整部は、前記発振段レーザと前記増幅段チャンバまたは増幅段レーザの間のレーザ光路上に配置されるスペクトル幅可変機構を有しており、
前記スペクトル幅可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする。
前記狭帯域化レーザ装置は、シード光を生成して出力する発振段レーザと前段のレーザから出力されたレーザ光を入力し増幅して出力する一以上の増幅段チャンバまたは増幅段レーザと、を有し、
前記スペクトル幅調整部は、前記発振段レーザのレーザ共振器内のレーザ光路上に配置されるスペクトル幅可変機構を有しており、
前記スペクトル幅可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする。
図1に示すように、狭帯域化レーザ装置1においては、レーザチャンバ20のリア側(図面右側)の光路上にはスリット90rおよび狭帯域化モジュール30が配置され、レーザチャンバ20のフロント側(図面左側)の光路上にはスリット90fおよびE95幅調整部40が配置され、E95幅調整部40のフロント側(図面左側)の光路上には入射面にPR膜がコーティングされ出射面にAR膜がコーティングされた出力カプラ50と、モニタモジュール60とが配置されている。狭帯域化モジュール30と出力カプラ50は共振器を構成する。
先ず、半導体露光に使用する狭帯域化レーザに共通するE95幅の上限値ΔλHLと下限値ΔλLLとを予め設定する。この上限値ΔλHLと下限値ΔλLLは、半導体露光装置の光学システムで許容されるE95幅の範囲内で設定する。
MO200とPO300の間の光路には平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412とが互いに対向して配置されている。平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412の何れかは光軸に沿って移動自在にされている。移動機構としては例えば図2に示す機構と同一のものを用いればよい。また、平凸シリンドリカルレンズ411と平凹シリンドリカルレンズ412の代わりに、シリンドリカル凸レンズとシリンドリカル凹レンズを用いてもよい。
MO200とPO300の間の光路には二つのプリズム421、422が配置されている。二つのプリズム421、422は回転自在にされている。回転機構としては例えば図14に示す機構と同一のものを用いればよい。
MO200とPO300の間の光路にはスリット431が配置されている。スリット431としては例えば図17と同一のものを用いればよい。
9...パーソナルコンピュータ 10...表示装置 20...レーザチャンバ
30...狭帯域化モジュール 40...E95幅調整部
また、本出願に開示されるスペクトル幅調整方法は、半導体露光の光源として使用される狭帯域化レーザ装置のレーザ光のスペクトル幅を調整するスペクトル幅調整方法であって、前記狭帯域化レーザ装置によって前記レーザ光を発振する発振工程と、前記狭帯域化レーザ装置によって発振された前記レーザ光のスペクトル幅を検出する検出工程と、前記狭帯域化レーザ装置のスペクトル幅調整部を用いて前記スペクトル幅を調整する調整工程と、を備え、前記スペクトル幅調整部は、前記レーザチャンバのフロント側に配置され、前記レーザ光の光路上に配置されるシリンドリカル凸レンズ及びシリンドリカル凹レンズを有する。
Claims (8)
- 半導体露光の光源として狭帯域化レーザを使用する場合に、レーザ光のスペクトル幅を調整する狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法において、
複数の狭帯域化レーザ装置に共通するスペクトル幅の上限値と下限値とを設定し、
半導体露光前に狭帯域化レーザ装置をレーザ発振してスペクトル幅を検出し、
狭帯域化レーザ装置に備えられたスペクトル幅調整部を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。 - 前記スペクトル幅調整部は、前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内の光路上に配置され、光の波面のシリンドリカル形状の頂点を結ぶ直線を、前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直にして前記光の波面の曲率半径を調整する波面調整器を有しており、
前記波面調整器を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする請求項1記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。 - 前記スペクトル幅調整部は、
中心軸がレーザ共振器内の光路上に配置され、また機械軸が前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直に配置されたシリンドリカル凹レンズおよびシリンドリカル凸レンズと、
前記光路上に沿って前記シリンドリカル凹レンズと前記シリンドリカル凸レンズとの間隔を変化させるレンズ間隔可変機構と、を有しており、
前記レンズ間隔可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする請求項2記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。 - 前記スペクトル幅調整部は、
中心軸がレーザ共振器内の光路上に配置され、また機械軸が前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直に配置されたシリンドリカルミラーと、
前記シリンドリカルミラーの曲率を変化させるミラー曲率可変機構と、を有しており、
前記ミラー曲率可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする請求項2記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。 - 前記スペクトル幅調整部は、
波長選択素子として使用されるグレーティングと、
前記グレーティングの多数の溝を直線状に維持した状態で当該グレーティングの曲率を変化させるグレーティング曲率可変機構と、を有しており、
前記グレーティング曲率可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする請求項2記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。 - 前記スペクトル幅調整部は、
レーザ共振器内の光路上に配置され、また前記狭帯域化レーザ装置のレーザ共振器内に配置された波長選択素子の波長分散面に対して略垂直方向にビーム拡大する二以上のプリズムと、
前記二以上のプリズムの回転角度を変化させてビーム拡大率を変化させるプリズム角度可変機構と、を有しており、
前記プリズム角度可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする請求項1記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。 - 前記狭帯域化レーザ装置は、シード光を生成して出力する発振段レーザと、前段のレーザから出力されたレーザ光を入力し増幅して出力する一以上の増幅段チャンバまたは増幅段レーザと、を有し、
前記スペクトル幅調整部は、前記発振段レーザと前記増幅段チャンバまたは増幅段レーザの間のレーザ光路上に配置されるスペクトル幅可変機構を有しており、
前記スペクトル幅可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする請求項1記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。 - 前記狭帯域化レーザ装置は、シード光を生成して出力する発振段レーザと前段のレーザから出力されたレーザ光を入力し増幅して出力する一以上の増幅段チャンバまたは増幅段レーザと、を有し、
前記スペクトル幅調整部は、前記発振段レーザのレーザ共振器内のレーザ光路上に配置されるスペクトル幅可変機構を有しており、
前記スペクトル幅可変機構を調整してスペクトル幅を前記上限値と前記下限値との間の値にする
ことを特徴とする請求項1記載の狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014096186A JP5730428B2 (ja) | 2014-05-07 | 2014-05-07 | 狭帯域化レーザ装置及びそのスペクトル幅調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014096186A JP5730428B2 (ja) | 2014-05-07 | 2014-05-07 | 狭帯域化レーザ装置及びそのスペクトル幅調整方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011152861A Division JP5580256B2 (ja) | 2011-07-11 | 2011-07-11 | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014170961A true JP2014170961A (ja) | 2014-09-18 |
JP5730428B2 JP5730428B2 (ja) | 2015-06-10 |
Family
ID=51693080
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014096186A Active JP5730428B2 (ja) | 2014-05-07 | 2014-05-07 | 狭帯域化レーザ装置及びそのスペクトル幅調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5730428B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019532334A (ja) * | 2016-10-17 | 2019-11-07 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | ウェーハベースの光源パラメータ制御 |
JP2019532335A (ja) * | 2016-10-17 | 2019-11-07 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | スペクトルフィーチャ制御装置 |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01191489A (ja) * | 1988-01-27 | 1989-08-01 | Komatsu Ltd | 狭帯域エキシマレーザの起動方法及び装置 |
JPH01239923A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH01251771A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Komatsu Ltd | 狭帯域発振エキシマレーザの出力制御方法及び装置 |
JPH01274152A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-01 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH10313143A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-24 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザ装置 |
JPH11274632A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザの波面制御装置 |
JP2000357837A (ja) * | 1999-06-16 | 2000-12-26 | Komatsu Ltd | 超狭帯域化フッ素レーザ装置及びフッ素露光装置 |
JP2001168421A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-22 | Komatsu Ltd | 波長検出装置 |
JP2004191551A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Megaopto Co Ltd | レーザー装置およびレーザー装置における波長選択方法 |
WO2004095661A1 (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-04 | Komatsu Ltd. | 露光用2ステ-ジレ-ザ装置 |
JP2006024855A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザ装置 |
-
2014
- 2014-05-07 JP JP2014096186A patent/JP5730428B2/ja active Active
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01191489A (ja) * | 1988-01-27 | 1989-08-01 | Komatsu Ltd | 狭帯域エキシマレーザの起動方法及び装置 |
JPH01239923A (ja) * | 1988-03-22 | 1989-09-25 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH01251771A (ja) * | 1988-03-31 | 1989-10-06 | Komatsu Ltd | 狭帯域発振エキシマレーザの出力制御方法及び装置 |
JPH01274152A (ja) * | 1988-04-27 | 1989-11-01 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH10313143A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-24 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザ装置 |
JPH11274632A (ja) * | 1998-03-25 | 1999-10-08 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザの波面制御装置 |
JP2000357837A (ja) * | 1999-06-16 | 2000-12-26 | Komatsu Ltd | 超狭帯域化フッ素レーザ装置及びフッ素露光装置 |
JP2001168421A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-22 | Komatsu Ltd | 波長検出装置 |
JP2004191551A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Megaopto Co Ltd | レーザー装置およびレーザー装置における波長選択方法 |
WO2004095661A1 (ja) * | 2003-04-22 | 2004-11-04 | Komatsu Ltd. | 露光用2ステ-ジレ-ザ装置 |
JP2006024855A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | Komatsu Ltd | 狭帯域化レーザ装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019532334A (ja) * | 2016-10-17 | 2019-11-07 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | ウェーハベースの光源パラメータ制御 |
JP2019532335A (ja) * | 2016-10-17 | 2019-11-07 | サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー | スペクトルフィーチャ制御装置 |
US10845610B2 (en) | 2016-10-17 | 2020-11-24 | Cymer, Llc | Spectral feature control apparatus |
US11561407B2 (en) | 2016-10-17 | 2023-01-24 | Cymer, Llc | Spectral feature control apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5730428B2 (ja) | 2015-06-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5157004B2 (ja) | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法 | |
US7756183B2 (en) | Line narrowed laser apparatus | |
US5970082A (en) | Very narrow band laser | |
JP5114767B2 (ja) | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 | |
JP4437006B2 (ja) | リソグラフィ処理のためのレーザスペクトルエンジニアリング | |
WO2015008731A1 (ja) | 露光装置 | |
US11079686B2 (en) | Excimer laser apparatus and electronic-device manufacturing method | |
TW475303B (en) | Bandwidth control technique for a laser | |
JP5730428B2 (ja) | 狭帯域化レーザ装置及びそのスペクトル幅調整方法 | |
WO1999001915A1 (en) | Very narrow band laser with unstable resonance cavity | |
JP5580256B2 (ja) | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整方法 | |
US10797465B2 (en) | Laser apparatus | |
JP5755068B2 (ja) | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 | |
US6542243B2 (en) | Resonator optics monitoring method | |
US20170149199A1 (en) | Laser device | |
JP5832581B2 (ja) | 狭帯域化レーザのスペクトル幅調整装置 | |
WO2022219689A1 (ja) | レーザ装置、レーザ光のスペクトルの評価方法、及び電子デバイスの製造方法 | |
US20240136787A1 (en) | Gas laser device and electronic device manufacturing method | |
WO2022219690A1 (ja) | スペクトル波形の制御方法、レーザ装置、露光装置、及び電子デバイスの製造方法 | |
JP2012151495A (ja) | 露光用放電励起レーザ装置 | |
US20230349762A1 (en) | Laser system, spectrum waveform calculation method, and electronic device manufacturing method | |
JP7231560B2 (ja) | 光学素子の移動装置、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 | |
JP5607592B2 (ja) | 狭帯域化レーザ装置 | |
JP2023532413A (ja) | エタロンでの測定誤差の決定 | |
JP2006019365A (ja) | 紫外線レーザ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140626 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150310 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150407 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5730428 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |