JP2014165197A - リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 - Google Patents
リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014165197A JP2014165197A JP2013032216A JP2013032216A JP2014165197A JP 2014165197 A JP2014165197 A JP 2014165197A JP 2013032216 A JP2013032216 A JP 2013032216A JP 2013032216 A JP2013032216 A JP 2013032216A JP 2014165197 A JP2014165197 A JP 2014165197A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lead frame
- terminal
- resin
- optical semiconductor
- terminal portions
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/93—Batch processes
- H01L24/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L24/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/93—Batch processes
- H01L2224/95—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
- H01L2224/97—Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being connected to a common substrate, e.g. interposer, said common substrate being separable into individual assemblies after connecting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
Abstract
【解決手段】リードフレーム10は、表面及び裏面にそれぞれLED端子面11a、12a及び外部端子面11b、12bを設けた複数の端子部11、12を有し、端子部11、12のうち少なくとも一つの表面にLED素子2が接続される光半導体装置1に用いられるリードフレーム10において、各端子部11、12は、その表面の互いに対向する辺の少なくとも一部に、そのLED端子面11a、12aから窪んだ凹部Mを有すること、を特徴とする。
【選択図】図2
Description
しかし、このような光半導体装置は、LED素子の発光や、実装した基板の熱等によって、樹脂層及びリードフレームがそれぞれ伸びてしまう場合がある。ここで、リードフレームの端子部は、銅等の導電材料から形成され、樹脂層は、熱可塑性樹脂等から形成されているので、両者の線膨張係数の差によって、樹脂層がリードフレームの端子部から剥離してしまうことがある。
特に、リードフレームの端子部間は、リードフレームの厚み部分のみで樹脂部と端子部とが接合しており、他の部分に比べ両者の接合面積が狭く接合強度が弱いため、上述の剥離が発生しやすくなる。この端子部間の剥離は、光半導体装置の製造時に透明樹脂を形成する工程で透明樹脂が裏面に漏れ出るほか、光半導体装置がその端子部間で破損したり、剥離した部分から半田に含まれるフラックスや、水分等が浸入し、端子部や樹脂層等を変色させてしまい光半導体装置の光反射特性を劣化させたりする要因になる場合があった。
第2の発明は、第1の発明のリードフレーム(10)において、前記凹部(M)と、前記端子部(11、12)の外周側面とは、連通していること、を特徴とするリードフレームである。
第3の発明は、第1の発明又は第2の発明のリードフレーム(10)において、前記端子部(11、12)は、前記凹部(M)が設けられた面とは反対側の面の外周縁の少なくとも一部に、その端子面から落ち込んだ段部(D)を有すること、を特徴とするリードフレームである。
第4の発明は、第1の発明又は第2の発明のリードフレーム(10)において、前記端子部(11、12)は、前記凹部(M)が設けられた面の外周縁の少なくとも一部に、その端子面から落ち込んだ段部(D)を有すること、を特徴とするリードフレームである。
第6の発明は、第5の発明のリードフレーム(1710)において、前記各端子部(1711、1712)は、その表面又は裏面にその端子面(1711a)から窪んだ凹部(M)を有し、前記凹部と、前記貫通孔(H)とは、連通していること、を特徴とするリードフレームである。
第7の発明は、第5の発明又は第6の発明のリードフレーム(1610)において、前記端子部(1611、1612)は、表面又は裏面の外周縁の少なくとも一部に、その端子面から落ち込んだ段部(D)を有すること、を特徴とするリードフレームである。
第9の発明は、第8の発明の樹脂付きリードフレーム(10)において、前記樹脂層(20)は、前記リードフレームの前記光半導体素子(2)が接続される側の面に突出して形成されるリフレクタ樹脂部(20b)を有すること、を特徴とする樹脂付きリードフレームである。
以下、図面等を参照して、本発明の第1実施形態について説明する。
図1は、第1実施形態の光半導体装置1の全体構成を示す図である。
図1(a)は、光半導体装置1の平面図を示し、図1(b)は、光半導体装置1の側面図を示し、図1(c)は、光半導体装置1の裏面図を示す。図1(d)は、図1(a)のd−d断面図を示す。
図2は、第1実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。
図2(a)、図2(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図2(c)、図2(d)は、それぞれ図2(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
図3は、第1実施形態の光反射樹脂層20が形成された樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの詳細を説明する図である。
図3(a)、図3(b)は、それぞれ、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの平面図、裏面図を示し、図3(c)、図3(d)は、それぞれ図3(a)のc−c断面図と、d−d断面図を示す。
各図において、光半導体装置1の平面図における左右方向をX方向、上下方向をY方向、厚み方向をZ方向とする。
光半導体装置1は、多面付けされたリードフレーム10(リードフレームの多面付け体MS、図2参照)に光反射樹脂層20を形成して樹脂付きリードフレームの多面付け体R(図3参照)を作製し、LED素子2を電気的に接続し、透明樹脂層30を形成して、パッケージ単位に切断(ダイシング)することによって製造される(詳細は後述する)。
LED素子2は、発光層として一般に用いられるLED(発光ダイオード)の素子であり、例えば、GaP、GaAs、GaAlAs、GaAsP、AlInGaP等の化合物半導体単結晶、又は、InGaN等の各種GaN系化合物半導体単結晶からなる材料を適宜選ぶことにより、紫外光から赤外光に渡る発光波長を選択することができる。
端子部11、12は、それぞれ導電性のある材料、例えば、銅、銅合金、42合金(Ni40.5%〜43%のFe合金)等により形成されており、本実施形態では、熱伝導及び強度の観点から銅合金から形成されている。
端子部11、12は、図2に示すように、互いに対向する辺の間に空隙部Sが形成されており、電気的に独立している。端子部11、12は、1枚の金属基板(銅板)をプレス又はエッチング加工することにより形成されるため、両者の厚みは同等である。
端子部12は、その表面にLED素子2のボンディングワイヤ2aが接続されるLED端子面12aが形成され、また、その裏面に外部機器に実装される外部端子面12bが形成される、いわゆるリード側端子部を構成する。
端子部11、12は、その表面及び裏面にめっき層Cが形成されており(図5(e)参照)、表面側のめっき層Cは、LED素子2の発する光を反射する反射層としての機能を有し、裏面側のめっき層Cは、外部機器に実装されるときの半田の溶着性を高める機能を有する。
段部Dは、リードフレーム10の裏面側から見て、各端子部11、12の外周縁に外部端子面11b、12bから落ち込んだ部分、換言すれば、端子部11、12の厚みと比較して1/3〜2/3程度に形成されている部分である。
また、端子部11及び端子部12は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。ここで、辺とは、各端子部の辺上だけでなく、その辺の近傍の領域を含むものをいう。
ここで、端子部11、12は、その外周縁の一部において、表面に形成された凹部Mと、裏面に形成された段部Dとが平面視上重なる。本実施形態では、この凹部Mと段部Dとが平面視上重なる部位は、図2(a)、図2(b)に示すように、各端子部の外周縁を切り欠いた切り欠き部Tとなるが、切り欠き部Tが形成されないように、凹部M及び段部Dの深さを浅くしてもよい。
ここで、平面視とは、リードフレームの多面付け体MSの表面(LED端子面11a、12a)に垂直な方向(Z方向)から、リードフレームの多面付け体MSの表面を視た状態をいい、例えば、図2(a)に示すように、平面図で表されるものをいう。
連結部13は、端子部11、12を形成する各辺のうち、端子部11、12が対向する辺を除いた辺に形成されている。
連結部13cは、端子部12の上側の辺と、上側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の下側の辺とを接続し、また、端子部12の下側の辺と、下側に隣接する他のリードフレーム10の端子部12の上側の辺とを接続する。枠体Fに隣接する端子部12に対しては、連結部13cは、端子部12の上側又は下側の辺と、枠体Fとを接続している。
また、光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の裏面には、図3(b)に示すように、矩形状の外部端子面11b、12bが表出することとなり、光半導体装置1の外観を向上させることができることに加え、半田で基板に実装する場合に、基板側への半田印刷を容易にしたり、半田を均一に塗布したり、リフロー後に半田内へのボイドの発生を抑制したりすることができる。また、光半導体装置1の面内(XY平面内)の中心線に対して線対称であることから、熱応力等に対する信頼性を向上させることができる。
リードフレームの多面付け体MSは、上述のリードフレーム10を枠体F内に多面付けしたものをいう。枠体Fは、多面付けされたリードフレーム10を固定する部材である。
フレーム樹脂部20aは、端子部11、12の外周側面(リードフレーム10の外周や、空隙部S、切り欠き部T)だけでなく、各端子部に設けられた凹部Mや、段部D、連結部13の裏面にも形成される。
また、リードフレーム10は、上述したように表面側にリフレクタ樹脂部20bが形成されることから裏面側に比べ表面側に樹脂が多く形成される。そのため、樹脂付きリードフレームは、上記熱が加わったり、冷えたりすることで、上述の線膨張率の差によって反りが生じたり、その反りが戻ったりして、これが繰り返されると、上記剥離がより発生しやすくなる。
また、製造した光半導体装置1の端子部間においてこの剥離が発生した場合、端子部間で光半導体装置1が折れて破損する可能性がある。更に、光半導体装置1の雰囲気中の水分や、外部端子面に溶着する半田のフラックス等が、剥離した隙間に浸入してしまい、各端子部の表面のめっき層や、光反射樹脂層20、透明樹脂層30等を変色させてしまう可能性がある。
光反射樹脂層20を形成する樹脂は、凹み部分への樹脂充填に関しては、樹脂形成時には流動性が高いことが、凹み部分での接着性に関しては、分子内に反応基を導入しやすいためにリードフレームとの化学接着性を得られることが必要なため、熱硬化性樹脂が望ましい。
例えば、熱可塑性樹脂としては、ポリアミド、ポリフタルアミド、ポリフェニレンサルファイド、液晶ポリマー、ポリエーテルサルホン、ポリブチレンテレフタレート、ポリオレフィン等を用いることができる。
また、熱硬化性樹脂としては、シリコーン、エポキシ、ポリエーテルイミド、ポリウレタン及びポリブチレンアクリレート等を用いることができる。
さらに、これらの樹脂中に光反射材として、二酸化チタン、二酸化ジルコニウム、チタン酸カリウム、窒化アルミニウム及び窒化ホウ素のうちいずれかを添加することによって、光の反射率を増大させることができる。
また、ポリオレフィンなどの熱可塑性樹脂を成形した後に、電子線を照射することで架橋させる方法を用いた、いわゆる電子線硬化樹脂を用いてもよい。
以上より、リードフレームの多面付け体MSに多面付けされるリードフレーム10に光反射樹脂層20を形成する樹脂が充填されることによって、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rが形成される。
透明樹脂層30は、光の取り出し効率を向上させるために、LED素子2の発光波長において光透過率が高く、また、屈折率が高い材料を選択するのが望ましい。例えば、耐熱性、耐光性、及び機械的強度が高いという特性を満たす樹脂として、エポキシ樹脂や、シリコーン樹脂を選択することができる。特に、LED素子2に高輝度LED素子を用いる場合、透明樹脂層30は、強い光にさらされるため、高い耐光性を有するシリコーン樹脂からなることが好ましい。また、波長変換用の蛍光体を使用してもよく、透明樹脂に分散させてもよい。
図4は、第1実施形態の光半導体装置1の他の形態を説明する図である。
図4(a)は、光半導体装置1の平面図を示し、図4(b)は、光半導体装置1の側面図を示し、図4(c)は、光半導体装置1の裏面図を示す。
上述の説明では、凹部Mを設けたリードフレーム10の表面にリフレクタ樹脂部20bが形成される、いわゆるカップ型の光半導体装置1の例で説明したが、図4に示すように、リードフレーム10と光反射樹脂層20との厚みがほぼ同等となる、いわゆるフラット型の光半導体装置1に適用してもよい。
また、上述の説明では、リードフレーム10は、各端子部の表裏面のそれぞれに、凹部M、段部Dを設けるようにしたが、裏面の段部Dを省略してもよい。これにより、上述の各端子部及び光反射樹脂層の剥離抑制の効果を奏しつつ、光半導体装置の裏面に表出する外部端子面の面積を広くすることができる。
図5は、第1実施形態のリードフレーム10の製造過程を説明する図である。
図5(a)は、レジストパターンを形成した金属基板100を示す平面図と、その平面図のa−a断面図とを示す。図5(b)は、エッチング加工されている金属基板100を示す図である。図5(c)は、エッチング加工後の金属基板100を示す図である。図5(d)は、レジストパターンが除去された金属基板100を示す図である。図5(e)は、めっき処理が施された金属基板100を示す図である。
なお、図5においては、1枚のリードフレーム10の製造過程について図示するが、実際には、1枚の金属基板100からリードフレームの多面付け体MSが製造される。
次に、図5(b)に示すように、レジストパターン40a、40bを耐エッチング膜として、金属基板100に腐食液でエッチング処理を施す。腐食液は、使用する金属基板100の材質に応じて適宜選択することができる。本実施形態では、金属基板100として銅板を使用しているため、塩化第二鉄水溶液を使用し、金属基板100の両面からスプレーエッチングすることができる。
エッチング処理により金属基板100には、図5(c)に示すように、凹部Mや段部Dが形成された端子部11、12が形成され、金属基板100上にリードフレーム10が形成される。
そして、図5(e)に示すように、リードフレーム10が形成された金属基板100にめっき処理を行い、端子部11、12にめっき層Cを形成する。めっき処理は、例えば、シアン化銀を主成分とした銀めっき液を用いた電界めっきを施すことにより行われる。
なお、めっき層Cを形成する前に、例えば、電解脱脂工程、酸洗工程、銅ストライク工程を適宜選択し、その後、電解めっき工程を経てめっき層Cを形成してもよい。
以上により、リードフレーム10は、図2に示すように、枠体Fに多面付けされた状態で製造される。なお、図2において、めっき層Cは省略されている。
図6は、第1実施形態の光半導体装置の多面付け体を示す図である。
図7は、第1実施形態の光半導体装置1の製造過程を説明する図である。
図7(a)は、光反射樹脂層20が形成されたリードフレーム10の断面図であり、図7(b)は、LED素子2が電気的に接続されたリードフレーム10の断面図を示す。図7(c)は、透明樹脂層30が形成されたリードフレーム10の断面図を示す。図7(d)は、ダイシングにより個片化された光半導体装置1の断面図を示す。
なお、図7においては、1台の光半導体装置1の製造過程について図示するが、実際には、1枚の金属基板100から複数の光半導体装置1が製造されるものとする。また、図7(a)〜(d)は、それぞれ図5(a)の断面図に基づくものである。
また、これと同時に、リフレクタ樹脂部20bが、リードフレームの表面側に突出して、各端子部11、12のLED端子面11a、12aを囲むようにして形成される。これにより、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rは、その表面及び裏面に、それぞれ、各端子部11、12のLED端子面11a、12aと、外部端子面11b、12bとが表出した状態となる(図3(a)、図3(b)参照)。
以上により、図3に示す樹脂付きのリードフレームの多面付け体Rが形成される。
透明樹脂層30は平坦な形状のほかレンズ形状、屈折率勾配等、光学的な機能を持たせてもよい。以上により、図6に示すように、光半導体装置の多面付け体が製造される。
最後に、図7(d)に示すように、光半導体装置1の外形(図6の破線部参照)に合わせて、光反射樹脂層20及び透明樹脂層30とともに、リードフレーム10の連結部13を切断(ダイシング、パンチング、カッティング等)して、1パッケージに分離(個片化)された光半導体装置1(図1参照)を得る。
図8は、トランスファ成形の概略を説明する図である。図8(a)は、金型の構成を説明する図であり、図8(b)〜図8(i)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rが完成するまでの工程を説明する図である。
図9は、インジェクション成形の概略を説明する図である。図9(a)〜図9(c)は、樹脂付きリードフレームの多面付け体Rが完成するまでの工程を説明する図である。
なお、図8及び図9において、説明を明確にするために、リードフレーム10の単体に対して光反射樹脂層20が成形される図を示すが、実際には、リードフレームの多面付け体MSに対して光反射樹脂層20が形成される。
トランスファ成形は、図8(a)に示すように、上型111及び下型112等から構成される金型110を使用する。
まず、作業者は、上型111及び下型112を加熱した後、図8(b)に示すように、上型111と下型112との間にリードフレームの多面付け体MSを配置するとともに、下型112の設けられたポット部112aに光反射樹脂層20を形成する樹脂を充填する。
そして、図8(c)に示すように、上型111及び下型112を閉じて(型締め)、樹脂を加熱する。樹脂が十分に加熱されたら、図8(d)及び図8(e)に示すように、プランジャー113によって樹脂に圧力をかけて、樹脂を金型110内へと充填(トランスファ)させ、所定の時間その圧力を一定に保持する。
インジェクション成形は、図9(a)に示すように、上から順に、ノズルプレート121、スプループレート122、ランナープレート123(上型)、下型124等から構成される金型120を使用する。
まず、作業者は、ランナープレート123及び下型124間にリードフレームの多面付け体MSを配置して、金型120を閉じる(型締め)。
そして、図9(b)に示すように、ノズル125をノズルプレート121のノズル穴に配置して、光反射樹脂層20を形成する樹脂を金型120内に射出する。ノズル125から射出された樹脂は、スプループレート122のスプルー122aを通過し、ランナープレート123のランナー123a及びゲートスプルー123bを通過した上で、リードフレームの多面付け体MSが配置された金型120内へと樹脂が充填される。
また、各端子部の凹部Mが露出している面側から低加速電圧の電子線を照射した場合、リフレクタ樹脂部20bの内部よりも、この露出した凹部M内に形成されたフレーム樹脂部20aの架橋密度を向上させることができる。そのため、リフレクタ樹脂部20bの性能を損なうことなく、結合部分(凹部M内のフレーム樹脂部20a)の強度をより向上させることができ、好適である。
(1)リードフレーム10は、各端子部11、12の表面の互いに対向する辺の角部に、LED端子面から窪んだ凹部Mを形成しているので、光反射樹脂層20を形成する樹脂が充填された場合に、凹部Mに形成された樹脂が、端子部間の空隙部Sに形成された樹脂を各端子部11、12に対して強固に結合する。そのため、リードフレーム10は、接合強度の弱い端子部間における各端子部と光反射樹脂層20において、結合強度を向上させることができ、各端子部と光反射樹脂層20との剥離の発生を抑制することができる。これにより、端子部間における光半導体装置1の破損や、剥離した部分からの水分等の浸入による各部材の変色の発生を抑制することができる。また、光半導体装置1の製造時における透明樹脂の裏面への漏れ出しを防ぐことができる。
(2)リードフレーム10は、凹部Mが各端子部11、12の外周側面とつながって(連通して)いるので、光反射樹脂層20を形成する樹脂が充填された場合に、樹脂を、凹部M内に各端子部の外周側面から容易に流し込むことができる。
(3)リードフレーム10は、各端子部の表面に凹部Mが形成され、各端子部の裏面に段部Dが形成されているので、厚み方向において、光反射樹脂層20がリードフレーム10から剥離してしまうのを抑制することができる。
次に、本発明の第2実施形態について説明する。
図10は、第2実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図10(a)、図10(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図10(c)、図10(d)は、それぞれ図10(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
図11は、第2実施形態の樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの詳細を説明する図である。図11(a)、図11(b)は、それぞれ樹脂付きリードフレームの多面付け体Rの平面図、裏面図を示し、図11(c)、図11(d)は、それぞれ図11(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
なお、以下の説明及び図面において、前述した第1実施形態と同様の機能を果たす部分には、同一の符号又は末尾に同一の符号を付して、重複する説明を適宜省略する。
また、端子部211及び端子部212は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図10に示すように、端子部211、212の互いに対向する辺の角部に、LED端子面211a、212aから窪んだ円弧状の凹みである。凹部Mは、第1実施形態の凹部Mと相違して、端子部211、212の外周縁とはつながっておらず、各端子部の裏面に設けられた段部Dとは重ならないように形成されている。そのため、端子部211、212の外周縁には、第1実施形態のように切り欠き部が形成されない。
凹部Mは、図11に示すように、リフレクタ樹脂部220bと平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部220bが成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム210は、凹部Mが、各端子部の外周側面とつながっていないので、凹部M内に形成された光反射樹脂層220の各端子部の配列方向(X方向)に対して移動することができず端子部間における光反射樹脂層220の上記剥離発生の抑制効果を更に向上させることができる。
次に、本発明の第3実施形態について説明する。
図12は、第3実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図12(a)、図12(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図12(c)、図12(d)は、それぞれ図12(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
端子部311及び端子部312は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図12に示すように、端子部311、312の互いに対向する辺の角部に、LED端子面311a、312aから窪んだ円弧状の凹みである。凹部Mは、端子部311、312の互いに対向する辺の外周縁ではつながって(連通して)いないが、各端子部の配列方向(X方向)と平行な辺(上辺又は下辺)の外周縁とはつながるように形成されている。そのため、端子部311、312には、その上辺及び下辺の外周縁に切り欠き部Tが形成される。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。また、凹部Mには、フレーム樹脂部が形成される場合に、切り欠き部Tが形成される位置からも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム310は、凹部Mが、各端子部の互いに対向する辺の外周縁ではつながっていないので、上記剥離発生の抑制効果を向上させることができる。
なお、本実施形態のリードフレーム310は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。
次に、本発明の第4実施形態について説明する。
図13は、第4実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図13(a)、図13(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図13(c)、図13(d)は、それぞれ図13(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
端子部411及び端子部412は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図13に示すように、端子部411、412の互いに対向する辺の角部に、LED端子面411a、412aから窪んだ円形状の穴である。凹部Mは、第1実施形態の凹部Mと相違して、端子部411、412の外周縁とはつながっておらず、各端子部の裏面に設けられた段部Dとは重ならないように形成されている。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム410は、凹部Mが、各端子部の外周側面とつながっていないので、凹部M内に形成された光反射樹脂層の各端子部の配列方向(X方向)に対して移動することができず上記剥離発生の抑制効果を向上させることができる。
なお、凹部Mの形状は、円形状に限らず、楕円を含む長円形状や、矩形状等に形成されてもよい。
次に、本発明の第5実施形態について説明する。
図14は、第5実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図14(a)、図14(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図14(c)は、それぞれ図14(a)のc−c断面図を示す。
端子部511及び端子部512は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図14に示すように、端子部511、512の互いに対向する辺の中央部に、LED端子面511a、512aから窪んだ半円状の凹みであり、半円の中心が互いに対向する端子部のある方向に向くように形成されている。凹部Mは、端子部511、512の外周縁とつながっている。そのため、端子部511、512は、その外周縁の一部において、表面に形成された凹部Mと、裏面に形成された段部Dとが重なり、その部分に切り欠き部Tが形成される。
凹部Mには、フレーム樹脂部が形成される場合に、切り欠き部Tが形成される位置から樹脂が流れ込む。
また、LED素子が載置されるリードフレーム510の外形(図14中の破線)の中央部近傍は、LED素子の発光熱等により最も熱の影響を受けやすいが、この中央部近傍に凹部Mが設けられるので、この部位における端子部と光反射樹脂層との剥離を効果的に抑制することができる。
なお、本実施形態のリードフレーム510は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。また、凹部Mの形状は、半円状だけでなく、円や長円の円弧形状や、矩形状の凹みであってもよい。
次に、本発明の第6実施形態について説明する。
図15は、第6実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図15(a)、図15(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図15(c)は、それぞれ図15(a)のc−c断面図を示す。
また、端子部611及び端子部612は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図15に示すように、端子部611、612の互いに対向する辺に沿うようにして、LED端子面611a、612aから窪んだ長円弧状の凹みであり、円弧の中心が互いに対向する端子部のある方向に向くように形成されている。凹部Mは、第1実施形態の凹部Mと相違して、端子部611、612の外周縁とはつながっておらず、各端子部の裏面に設けられた段部Dとは重ならないように形成されている。そのため、端子部611、612の外周縁には、第1実施形態のように切り欠き部が形成されない。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム610は、凹部Mが、各端子部の外周側面とつながっていないので、凹部M内に形成された光反射樹脂層の各端子部の配列方向(X方向)に対して移動することができず上記端子部間の剥離発生の抑制効果を向上させることができる。
更に、LED素子が載置されるリードフレーム610の外形(図15中の破線部)の中央部近傍は、LED素子の発光熱等により最も熱の影響を受けやすいが、この中央部近傍に凹部Mが設けられるので、この部位における端子部と光反射樹脂層との剥離を効果的に抑制することができる。
次に、本発明の第7実施形態について説明する。
図16は、第7実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図16(a)、図16(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図16(c)は、それぞれ図16(a)のc−c断面図を示す。
端子部711及び端子部712は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図16に示すように、端子部711、712の互いに対向する辺に沿うようにして、LED端子面711a、712aから窪んだ直方体状の凹みである。この直方体状の凹み部分は、各端子部の裏面に設けられた段部Dとは重ならない位置に形成されている。また、凹部Mは、直方体状の凹みの中央部に、各端子部の外周縁側につながる凹みが形成されており、端子部711、712の互いに対向する辺の外周縁につながっている。そのため、凹部Mは、この外周縁側につながる凹みが段部Dと平面視上重なることとなり、端子部711、712には、互いに対向する辺に切り欠き部Tが形成される。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。また、凹部Mには、フレーム樹脂部が形成される場合に、切り欠き部Tが形成される位置からも樹脂が流れ込む。
更に、LED素子が載置されるリードフレーム710の外形(図16中の破線部)の中央部近傍は、LED素子の発光熱等により最も熱の影響を受けやすいが、この部位の近傍に凹部Mが設けられるので、この部位における端子部と光反射樹脂層との剥離を効果的に抑制することができる。
なお、本実施形態のリードフレーム710は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。
次に、本発明の第8実施形態について説明する。
図17は、第8実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図17(a)、図17(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図17(c)は、それぞれ図17(a)のc−c断面図、を示す。
端子部811及び端子部812は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図17に示すように、端子部811、812の互いに対向する辺に沿うようにして、LED端子面811a、812aから窪んだ直方体状の凹みである。凹部Mは、その直方体状の凹み一端が、各端子部811、812の上辺又は下辺のいずれかの外周縁につながるように形成されている。具体的には、端子部811の凹部Mは、端子部811の上辺の外周縁につながり、端子部812の凹部Mは、端子部812の下辺の外周縁につながる。そのため、凹部Mは、その外周縁とつながる部分が段部Dと平面視上重なることとなり、端子部811、812には、切り欠き部Tが形成される。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。また、凹部Mには、フレーム樹脂部が形成される場合に、切り欠き部Tが形成される位置からも樹脂が流れ込む。
更に、LED素子が載置されるリードフレーム810の外形(図17中の破線部)の中央部近傍は、LED素子の発光熱等により最も熱の影響を受けやすいが、この部位の近傍に凹部Mが設けられるので、この部位における端子部と光反射樹脂層との剥離を効果的に抑制することができる。
なお、本実施形態のリードフレーム810は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。
次に、本発明の第9実施形態について説明する。
図18は、第9実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図18(a)、図18(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図18(c)は、それぞれ図18(a)のc−c断面図を示す。
また、端子部911及び端子部912は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図18に示すように、端子部911、912の互いに対向する辺に沿うようにして、LED端子面911a、912aから窪んだ円弧状の凹みである。凹部Mは、第6実施形態の凹部M(図15参照)とは円弧の向きが反対向きに、すなわち、円弧の中心が互いに対向する端子部とは反対側の方向に向くように形成されている。凹部Mは、端子部911、912の外周縁とはつながっておらず、各端子部の裏面に設けられた段部Dとは重ならないように形成されている。そのため、端子部911、912の外周縁には、第1実施形態のように切り欠き部が形成されない。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム910は、凹部Mが、各端子部の外周側面とつながっていないので、凹部M内に形成された光反射樹脂層の各端子部の配列方向(X方向)に対して移動することができず上記剥離発生の抑制効果を向上させることができる。
更に、リードフレーム910は、円弧状の凹部Mが、円弧の中心が互いに対向する端子部とは反対側の方向に向くように形成されるので、端子部911に配置されるLED素子の配置位置を、第6実施形態の場合よりもリードフレーム910(光半導体装置)の外形の中央に配置することができる。これにより、製造された光半導体装置の光の出射効率等を向上させることができる。
次に、本発明の第10実施形態について説明する。
図19は、第10実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図19(a)、図19(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図19(c)は、それぞれ図19(a)のc−c断面図を示す。
また、端子部1011及び端子部1012は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図19に示すように、端子部1011、1012の互いに対向する辺の中央部に、LED端子面1011a、1012aから窪んだ円弧状の凹みである。凹部Mは、第5実施形態の凹部M(図14参照)とは円弧の向きが反対向きに、すなわち、円弧の中心が互いに対向する端子部とは反対側の方向に向くように形成されている。凹部Mは、円弧の中央部で各端子部1011、1012の外周縁とつながっており、各端子部の外周縁には、各端子部の裏面に設けられた段部Dと平面視上重なる位置に切り欠き部Tが形成されている。
凹部Mには、フレーム樹脂部が形成される場合に、切り欠き部Tが形成される位置から樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム1010は、円弧状の凹部Mが、円弧の中心が互いに対向する端子部とは反対側の方向に向くように形成されるので、端子部1011に配置されるLED素子の配置位置を、第5実施形態の場合よりもリードフレーム1010(光半導体装置)の外形の中央に配置することができる。これにより、製造された光半導体装置の光の出射効率等を向上させることができる。
次に、本発明の第11実施形態について説明する。
図20は、第11実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図20(a)、図20(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図20(c)、図20(d)は、それぞれ図20(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
端子部1111及び端子部1112は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図20に示すように、端子部1111、1112の互いに対向する辺の角部に、LED端子面1111a、1112aから窪んだ円弧状の凹みであり、各端子部の外周縁とつながっている。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、その内部にも樹脂が流れ込む。
段部Dは、リードフレーム1110の裏面側から見て、各端子部1111、1112の外周縁に外部端子面1111b、1112bから落ち込んだ部分である。段部Dは、各端子部において、凹部Mと対応する位置には形成されていない。そのため、各端子部1111、1112の外周縁には、第1実施形態のように切り欠き部が形成されていない。
なお、本実施形態のリードフレーム1110は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。
次に、本発明の第12実施形態について説明する。
図21は、第12実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図21(a)、図21(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図21(c)、図21(d)は、それぞれ図21(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
端子部1211及び端子部1212は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図21に示すように、端子部1211、1212の互いに対向する辺の角部に、LED端子面1211a、1212aから窪んだ円形状の穴である。この円形状の穴は、各端子部の裏面に設けられた段部Dとは重ならない位置に形成されている。また、凹部Mは、円形状の穴に、各端子部間の外周縁側につながる穴径より小さい幅の凹みが形成されており、各端子部1211、1212の互いに対向する辺の外周縁につながっている。そのため、凹部Mは、この外周縁側につながる凹みが段部Dと平面視上重なることとなり、端子部1211、1212には、互いに対向する辺に切り欠き部Tが形成される。
また、凹部Mは、円形状の穴の底部が、図21(d)に示すように、各端子部の厚み方向(Z方向)において、段部Dの底部よりも裏面側に形成されている。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。また、凹部Mには、フレーム樹脂部が形成される場合に、切り欠き部Tが形成される位置からも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム1210は、円形状の穴の底部が、各端子部の厚み方向において、段部Dの底部よりも裏面側に形成されているので、凹部Mに充填されるフレーム樹脂部が、各端子部と光反射樹脂層とをより強固に結合させることができ、上記剥離発生の抑制効果を向上させることができる。
なお、本実施形態のリードフレーム1210は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。
次に、本発明の第13実施形態について説明する。
図22は、第13実施形態のリードフレームの詳細を説明する図である。図22(a)は、第13実施形態のリードフレーム1310の一の形態を示す図であり、図22(b)は、第13実施形態のリードフレーム1410の別な形態を示す図であり、図22(c)は、第13実施形態のリードフレーム1510の他の形態を示す図である。
端子部1311及び端子部1312は、それぞれの表面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図22(a)に示すように、端子部1311、1312の互いに対向する辺の角部に、LED端子面1311a、1312aから窪んだ直方体状の凹みであり、直方体状の窪みの短辺が、各端子部の互いに対向する辺と平行するように形成されている。凹部Mは、端子部の外周縁とつながっておらず、各端子部の裏面の外周縁に設けられた段部Dとは重ならないように形成されている。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム1310は、凹部Mが、各端子部の外周縁につながっていないので、上記剥離発生の抑制効果を向上させることができる。
この場合、上述のリードフレーム1310に比べ、リードフレーム1410は、凹部Mに充填された光反射樹脂層の凹部M内における対向する端子部側の接触面積を広くすることができる。これにより、リードフレーム1410は、凹部Mに充填されるフレーム樹脂部が、各端子部と光反射樹脂層とをより強固に結合させることができ、上述の剥離発生の抑制効果を更に向上させることができる。
また、凹部Mを、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成し、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込むようにしてもよい。
この場合、リードフレーム1510は、凹部Mが各端子部1511、1512の外周側面とつながっているので、光反射樹脂層を形成する樹脂が充填された場合に、樹脂を、凹部M内に各端子部の外周側面から容易に流し込むことができる。
なお、上述のリードフレーム1510は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。
次に、本発明の第14実施形態について説明する。
図23は、第14実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図23(a)、図23(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図23(c)、図23(d)は、それぞれ図23(a)のc−c断面図、d−d断面図を示す。
端子部1611及び端子部1612は、互いに対向する辺に、表裏面に貫通する貫通孔Hが設けられている。
貫通孔Hは、図23に示すように、端子部1611、1612の互いに対向する辺の角部に設けられた円形状の孔である。貫通孔Hは、各端子部の裏面に設けられた段部Dと平面視上重なる位置に形成されている。
貫通孔Hは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、貫通孔Hの内部にも樹脂が流れ込む。また、貫通孔Hには、フレーム樹脂部が形成される場合に、段部Dからも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム1610は、光反射樹脂層が形成された場合に、貫通孔Hの樹脂が、各端子部の表面のリフレクタ樹脂部及び裏面の段部Dに形成されたフレーム樹脂部と結合する。そのため、各端子部1611、1612は、貫通孔H内に形成された光反射樹脂層によって、各端子部の配列方向(X方向)だけでなく、垂直な厚み方向(Z方向)や、上下方向(Y方向)に対しての移動を規制することができ、上記剥離発生の抑制効果を向上させることができる。
なお、本実施形態のリードフレーム1610は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。また、貫通孔Hの形状は、円形状に限らず、楕円を含む長円形状や、矩形状等に形成されてもよい。さらに、貫通孔Hは、各端子部の互いに対向する辺上に沿って、複数個設けるようにしてもよい。
次に、本発明の第15実施形態について説明する。
図24は、第15実施形態のリードフレームの多面付け体MSの詳細を説明する図である。図24(a)、図24(b)は、それぞれリードフレームの多面付け体MSの平面図、裏面図を示し、図24(c)、図24(d)、図24(e)は、それぞれ図24(a)のc−c断面図、d−d断面図、e−e断面図を示す。
端子部1711及び端子部1712は、互いに対向する辺に、表裏面に貫通する貫通孔Hが設けられている。また、端子部1711、1712は、それぞれの表面側の貫通孔Hの近傍に凹部Mが設けられている。
貫通孔Hは、図24に示すように、端子部1711、1712の互いに対向する辺の角部に設けられた円形状の孔である。貫通孔Hは、各端子部の裏面に設けられた段部Dと平面視上重なる位置に形成されている。
貫通孔Hは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mを介して貫通孔Hの内部にも樹脂が流れ込む。また、貫通孔Hには、フレーム樹脂部が形成される場合に、段部Dからも樹脂が流れ込む。
凹部Mは、リフレクタ樹脂部と平面視上重なる位置に形成されており、リフレクタ樹脂部が成形される場合に、凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。
また、リードフレーム1710は、光反射樹脂層が形成された場合に、貫通孔Hの樹脂が、凹部Mの樹脂及び裏面の段部Dに形成されたフレーム樹脂部と結合する。そのため、各端子部1711、1712は、貫通孔H内に形成された光反射樹脂層によって、各端子部の配列方向(X方向)だけでなく、垂直な厚み方向(Z方向)や、上下方向(Y方向)に対しての移動を規制することができ、上記剥離発生の抑制効果を向上させることができる。
なお、本実施形態のリードフレーム1710は、第1実施形態のリードフレームと同様に、カップ型の光半導体装置だけでなく、フラット型の光半導体装置の製造に適用することができる。また、貫通孔Hの形状は、円形状に限らず、楕円を含む長円形状や、矩形状等に形成されてもよい。さらに、貫通孔Hは、各端子部の互いに対向する辺上に沿って、複数個設けるようにしてもよい。
次に、本発明の第16実施形態について説明する。
図25は、第16実施形態のリードフレームの詳細を説明する図である。図25(a)は、第16実施形態のリードフレーム1810の裏面の一の形態を示す図であり、図25(b)は、第16実施形態のリードフレーム1910の裏面の別な形態を示す図である。また、図25(c)は、第16実施形態のリードフレーム2010の裏面の他の形態を示す図であり、図25(d)は、第16実施形態のリードフレーム2110の裏面のその他の形態を示す図である。
端子部1811及び端子部1812は、それぞれの裏面側の互いに対向する辺に、厚みの薄くなる凹部Mが設けられている。
凹部Mは、図25(a)に示すように、端子部1811、1812の互いに対向する辺に沿って、外部端子面1811b、1812bから窪んだ複数の円形状の穴である。この円形状の穴は、各端子部の裏面に設けられた段部Dとは重ならない位置に形成されている。また、凹部Mは、円形状の穴に、各端子部間の外周縁側につながる穴径より小さい幅の凹みが形成されており、段部Dにつながっている。
凹部Mは、フレーム樹脂部が形成される場合に、段部Dを介して凹部Mの内部にも樹脂が流れ込む。
この場合、上述のリードフレーム1810の効果に加え、リードフレーム1910は、端子部1911に配置されるLED素子の配置位置を、第1実施形態の場合よりもリードフレーム1910(光半導体装置)の外形の中央に配置することができる。これにより、製造された光半導体装置の光の出射効率等を向上させることができる。
この場合も、上述のリードフレーム1810の効果と同様の効果を奏することができる。
この場合も、上述のリードフレーム1810の効果と同様の効果を奏することができる。
(1)各実施形態において、リードフレーム10は、各端子部11、12の裏面に段部Dを設ける例を説明したが、これに限定されるものでない。例えば、各端子部の裏面に段部Dを設けなくてもよい。
(2)第1実施形態から第13実施形態において、リードフレーム10は、各端子部11、12の表面に凹部Mを設ける例を説明したが、これに限定されるものでない。例えば、各端子部の裏面に凹部Mを設けるようにしてもよい。この場合、第16実施形態のように、凹部Mと段部Dとを並存させてもよく、また、段部Dを省略し、凹部Mのみを設けるようにしてもよい。
(5)各実施形態においては、リードフレーム10は、LED素子2等の光半導体素子を接続する光半導体装置1に使用する例を示したが、光半導体素子以外の半導体素子を用いた半導体装置にも使用することができる。
2 LED素子
10 リードフレーム
11 端子部
12 端子部
13 連結部
20 光反射樹脂層
20a フレーム樹脂部
20b リフレクタ樹脂部
30 透明樹脂層
D 段部
F 枠体
M 凹部
MS リードフレームの多面付け体
R 樹脂付きリードフレームの多面付け体
S 空隙部
T 切り欠き部
Claims (13)
- 表面及び裏面に端子面を設けた複数の端子部を有し、前記端子部のうち少なくとも一つに光半導体素子が接続される光半導体装置に用いられるリードフレームにおいて、
前記各端子部は、その表面又は裏面の互いに対向する辺の少なくとも一部に、その端子面から窪んだ凹部を有すること、
を特徴とするリードフレーム。 - 請求項1に記載のリードフレームにおいて、
前記凹部と、前記端子部の外周側面とは、連通していること、
を特徴とするリードフレーム。 - 請求項1又は請求項2に記載のリードフレームにおいて、
前記端子部は、前記凹部が設けられた面とは反対側の面の外周縁の少なくとも一部に、その端子面から落ち込んだ段部を有すること、
を特徴とするリードフレーム。 - 請求項1又は請求項2に記載のリードフレームにおいて、
前記端子部は、前記凹部が設けられた面の外周縁の少なくとも一部に、その端子面から落ち込んだ段部を有すること、
を特徴とするリードフレーム。 - 表面及び裏面に端子面を設けた複数の端子部を有し、前記端子部のうち少なくとも一つに光半導体素子が接続される光半導体装置に用いられるリードフレームにおいて、
前記各端子部は、互いに対向する辺の少なくとも一部に、貫通孔を有すること、
を特徴とするリードフレーム。 - 請求項5に記載のリードフレームにおいて、
前記各端子部は、その表面又は裏面にその端子面から窪んだ凹部を有し、
前記凹部と、前記貫通孔とは、連通していること、
を特徴とするリードフレーム。 - 請求項5又は請求項6に記載のリードフレームにおいて、
前記端子部は、表面又は裏面の外周縁の少なくとも一部に、その端子面から落ち込んだ段部を有すること、
を特徴とするリードフレーム。 - 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載のリードフレームと、
前記リードフレームの前記端子部の外周側面及び前記端子部間に形成されるフレーム樹脂部を有する樹脂層と、
を備える樹脂付きリードフレーム。 - 請求項8に記載の樹脂付きリードフレームにおいて、
前記樹脂層は、前記リードフレームの前記光半導体素子が接続される側の面に突出して形成されるリフレクタ樹脂部を有すること、
を特徴とする樹脂付きリードフレーム。 - 請求項1から請求項7までのいずれか1項に記載のリードフレームが枠体に多面付けされていること、
を特徴とするリードフレームの多面付け体。 - 請求項8又は請求項9に記載の樹脂付きリードフレームが多面付けされていること、
を特徴とする樹脂付きリードフレームの多面付け体。 - 請求項8又は請求項9に記載の樹脂付きリードフレームと、
前記樹脂付きリードフレームの前記端子部のうち少なくとも一つに接続される光半導体素子と、
前記樹脂付きリードフレームの前記光半導体素子が接続される側の面に形成され、前記光半導体素子を覆う透明樹脂層と、
を備える光半導体装置。 - 請求項12に記載の光半導体装置が多面付けされていること、
を特徴とする光半導体装置の多面付け体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013032216A JP6167556B2 (ja) | 2013-02-21 | 2013-02-21 | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013032216A JP6167556B2 (ja) | 2013-02-21 | 2013-02-21 | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014165197A true JP2014165197A (ja) | 2014-09-08 |
JP6167556B2 JP6167556B2 (ja) | 2017-07-26 |
Family
ID=51615578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013032216A Expired - Fee Related JP6167556B2 (ja) | 2013-02-21 | 2013-02-21 | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6167556B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014199873A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 株式会社カネカ | 発光素子実装用リードフレーム、発光素子実装用樹脂成型体及び表面実装型発光装置 |
JP2018152614A (ja) * | 2014-11-20 | 2018-09-27 | 日本精工株式会社 | 電子部品搭載用放熱基板 |
JP2018152611A (ja) * | 2014-11-20 | 2018-09-27 | 日本精工株式会社 | 電子部品搭載用放熱基板 |
JP2019197764A (ja) * | 2018-05-08 | 2019-11-14 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
WO2023095429A1 (ja) * | 2021-11-24 | 2023-06-01 | スタンレー電気株式会社 | 半導体発光装置 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007134376A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Akita Denshi Systems:Kk | 発光ダイオード装置及びその製造方法 |
JP2010123908A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Seoul Semiconductor Co Ltd | 発光装置 |
JP2011119557A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Sony Corp | 発光装置及びその製造方法 |
JP2011159837A (ja) * | 2010-02-01 | 2011-08-18 | Apic Yamada Corp | リードフレーム及びledパッケージ用基板 |
JP2012114286A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Toshiba Corp | Ledパッケージ |
JP2012191233A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | Led素子搭載用リードフレーム、樹脂付リードフレーム、半導体装置の製造方法、および半導体素子搭載用リードフレーム |
JP2012209367A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Toppan Printing Co Ltd | Led素子用リードフレーム基板 |
-
2013
- 2013-02-21 JP JP2013032216A patent/JP6167556B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007134376A (ja) * | 2005-11-08 | 2007-05-31 | Akita Denshi Systems:Kk | 発光ダイオード装置及びその製造方法 |
JP2010123908A (ja) * | 2008-11-18 | 2010-06-03 | Seoul Semiconductor Co Ltd | 発光装置 |
JP2011119557A (ja) * | 2009-12-07 | 2011-06-16 | Sony Corp | 発光装置及びその製造方法 |
JP2011159837A (ja) * | 2010-02-01 | 2011-08-18 | Apic Yamada Corp | リードフレーム及びledパッケージ用基板 |
JP2012191233A (ja) * | 2010-11-02 | 2012-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | Led素子搭載用リードフレーム、樹脂付リードフレーム、半導体装置の製造方法、および半導体素子搭載用リードフレーム |
JP2012114286A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Toshiba Corp | Ledパッケージ |
JP2012209367A (ja) * | 2011-03-29 | 2012-10-25 | Toppan Printing Co Ltd | Led素子用リードフレーム基板 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014199873A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-23 | 株式会社カネカ | 発光素子実装用リードフレーム、発光素子実装用樹脂成型体及び表面実装型発光装置 |
JP2018152614A (ja) * | 2014-11-20 | 2018-09-27 | 日本精工株式会社 | 電子部品搭載用放熱基板 |
JP2018152611A (ja) * | 2014-11-20 | 2018-09-27 | 日本精工株式会社 | 電子部品搭載用放熱基板 |
JP2019009465A (ja) * | 2014-11-20 | 2019-01-17 | 日本精工株式会社 | 電子部品搭載用放熱基板 |
JP2019197764A (ja) * | 2018-05-08 | 2019-11-14 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
US10854789B2 (en) | 2018-05-08 | 2020-12-01 | Nichia Corporation | Light-emitting device |
US11309460B2 (en) | 2018-05-08 | 2022-04-19 | Nichia Corporation | Light-emitting device |
WO2023095429A1 (ja) * | 2021-11-24 | 2023-06-01 | スタンレー電気株式会社 | 半導体発光装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6167556B2 (ja) | 2017-07-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6209826B2 (ja) | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6167556B2 (ja) | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6115671B2 (ja) | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、光半導体装置 | |
JP6197297B2 (ja) | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6349648B2 (ja) | 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6103410B2 (ja) | 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、および光半導体装置 | |
JP6019988B2 (ja) | 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6171360B2 (ja) | 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体、樹脂付きリードフレーム、光半導体装置 | |
JP2017027991A (ja) | 樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体、樹脂付きリードフレーム用金型 | |
JP2015038917A (ja) | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP5884789B2 (ja) | リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6268793B2 (ja) | リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体、リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、光半導体装置 | |
JP2014138088A (ja) | 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6065599B2 (ja) | リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6111683B2 (ja) | 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6115058B2 (ja) | 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6155584B2 (ja) | 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6111628B2 (ja) | 光半導体装置用リードフレーム、樹脂付き光半導体装置用リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6172253B2 (ja) | リードフレーム、リードフレームの多面付け体、樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置 | |
JP6064649B2 (ja) | 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6201335B2 (ja) | 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体 | |
JP6136345B2 (ja) | 樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置の多面付け体 | |
JP2016042545A (ja) | 樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの多面付け体、光半導体装置、光半導体装置の多面付け体 | |
JP2013115343A (ja) | 樹脂成形フレーム及び光半導体装置 | |
JP2016030338A (ja) | 樹脂付きリードフレームの多面付け体の製造方法、それに使用される射出成形用金型、リードフレームの多面付け体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151208 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160810 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160816 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20160928 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161011 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170110 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170301 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170425 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170428 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170530 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170612 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6167556 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |