JP2014161815A - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このエレクトロスプレー装置100(塗布装置)は、撓み変形した状態の基板5に塗布液を塗布するノズル1を備え、ノズル1は、基板5の撓み変形した形状に沿った軌跡で基板5との間隔h1が互いに略等しくなるように基板5に対して相対的に移動して塗布動作を行うように構成されている。
【選択図】図4
Description
2 吸着ステージ
2a 吸着部
5、5a 基板
100、100a、100b、100c エレクトロスプレー装置(塗布装置)
Claims (7)
- 撓み変形した状態の基板に塗布液を塗布するノズルを備え、
前記ノズルは、前記基板の撓み変形した形状に沿った軌跡で前記基板との間隔が互いに略等しくなるように前記基板に対して相対的に移動して塗布動作を行うように構成されている、塗布装置。 - 前記ノズルは、前記基板の撓み変形した形状に沿った軌跡で前記基板に対して略垂直になるように角度を変化させながら、前記基板に対して相対的に移動するように構成されている、請求項1に記載の塗布装置。
- 前記基板の前記塗布液が塗布される側とは反対側の表面を吸着するとともに前記基板を所定の撓み変形形状に維持する吸着部を含む吸着ステージをさらに備え、
前記ノズルは、前記吸着ステージの前記吸着部に前記基板が吸着された状態で、前記基板の撓み変形形状に沿った軌跡で前記吸着ステージに対して相対的に移動して塗布動作を行うように構成されている、請求項1または2に記載の塗布装置。 - 前記吸着ステージの吸着部の表面は、前記基板の所定の撓み変形形状に対応する撓み形状を有し、
前記ノズルは、前記吸着ステージの吸着部に前記基板が吸着された状態で、前記撓み形状に沿った軌跡で前記吸着ステージに対して相対的に移動して塗布動作を行うように構成されている、請求項3に記載の塗布装置。 - 前記吸着ステージが前記ノズルに対して少なくとも水平方向および鉛直方向に移動することにより、前記ノズルが前記吸着ステージに対して相対的に移動するように構成されている、請求項3または4に記載の塗布装置。
- 前記吸着ステージが前記ノズルに対して水平方向および鉛直方向に加えて回転方向にも移動することにより、前記ノズルが前記吸着ステージに対して相対的に移動するように構成されている、請求項3〜5のいずれか1項に記載の塗布装置。
- 撓み変形した状態の基板を支持するステップと、
撓み変形した状態の前記基板にノズルにより塗布液を塗布するステップとを備え、
ノズルにより塗布液を塗布するステップは、前記基板の撓み変形した形状に沿った軌跡で前記基板と前記ノズルとの間隔が互いに略等しくなるように前記基板に対して前記ノズルを相対的に移動して塗布動作を行うステップを含む、塗布方法。
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