JP6018522B2 - 基板処理装置、膜形成装置およびマスクのセット方法 - Google Patents
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Description
2 吸着ステージ
2a 吸着部
3 マスク
3a 端部
5 基板
100 エレクトロスプレー装置(基板処理装置、膜形成装置)
Claims (5)
- 基板の近傍に配置され、所定の開口パターンを有するマスクと、
前記基板の前記マスクとは反対側の表面を吸着する吸着部を有する吸着ステージとを備え、
前記マスクは、前記マスクの端部近傍が支持された状態で、前記マスクの下方への第1撓み変形量が前記基板の下方への第2撓み変形量以下の大きさになるように構成されており、
前記吸着ステージの前記吸着部は、前記基板を前記第2撓み変形量を有するように撓ませた状態で吸着して維持するように構成されている、基板処理装置。 - 前記吸着ステージの前記吸着部の表面は、前記基板の前記第2撓み変形量に対応する撓み形状を有している、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記マスクは、前記マスクの端部近傍が支持された状態で前記基板に密着するように前記基板に対して相対的に移動される際に、前記基板への密着状態が進行するのに伴って、前記第1撓み変形量を有する状態から前記第2撓み変形量を有する状態に変化するように構成されている、請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 溶液材料に所定の電圧を印加した状態で噴霧して上方に位置する撓み変形した基板に薄膜を堆積するノズルと、
前記ノズルと前記基板との間の前記基板の近傍に配置され、所定の開口パターンを有するマスクと、
前記基板の前記マスクとは反対側の表面を吸着する吸着部を有する吸着ステージとを備え、
前記マスクは、前記マスクの端部近傍が支持された状態で、前記マスクの下方への第1撓み変形量が前記基板の下方への第2撓み変形量以下の大きさになるように構成されており、
前記吸着ステージの前記吸着部は、前記基板を前記第2撓み変形量を有するように撓ませた状態で吸着して維持するように構成されている、膜形成装置。 - 所定の開口パターンを有するマスクの下方への第1撓み変形量が、吸着ステージの吸着部により第2撓み変形量を有するように撓ませた状態で吸着して維持されている基板の下方への前記第2撓み変形量以下の大きさになるように、前記マスクの端部近傍を支持するステップと、
前記マスクの端部近傍を支持した状態で前記基板に密着するように前記基板に対して相対的に移動させて、前記第1撓み変形量を有する状態から前記第2撓み変形量を有する状態に前記マスクを変化させるステップとを備える、マスクのセット方法。
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